JPH09127020A - Ｘ線検査装置 - Google Patents
Ｘ線検査装置Info
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- JPH09127020A JPH09127020A JP7285744A JP28574495A JPH09127020A JP H09127020 A JPH09127020 A JP H09127020A JP 7285744 A JP7285744 A JP 7285744A JP 28574495 A JP28574495 A JP 28574495A JP H09127020 A JPH09127020 A JP H09127020A
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- Japan
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- ray
- rays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定対象物を高精度に検査することのできる
小型のＸ線検査装置。 【解決手段】 本装置Ａ１は，電子ビーム１をターゲッ
ト２に照射して発生させたＸ線３を用いて検査基板４を
検査するに際し，電子ビーム１のターゲット２への照射
位置を偏向電磁石５によって走査し，ターゲット２から
検査基板４を経たＸ線を上記走査に同期してＸｅガス比
例計数管６により検出するように構成されている。上記
構成により，測定対象物を精度良く検査することのでき
る小型の装置を得ることができる。
小型のＸ線検査装置。 【解決手段】 本装置Ａ１は，電子ビーム１をターゲッ
ト２に照射して発生させたＸ線３を用いて検査基板４を
検査するに際し，電子ビーム１のターゲット２への照射
位置を偏向電磁石５によって走査し，ターゲット２から
検査基板４を経たＸ線を上記走査に同期してＸｅガス比
例計数管６により検出するように構成されている。上記
構成により，測定対象物を精度良く検査することのでき
る小型の装置を得ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，Ｘ線検査装置に係
り，詳しくはＸ線の透過画像を撮影することにより各種
の検査を行うＸ線検査装置に関するものである。
り，詳しくはＸ線の透過画像を撮影することにより各種
の検査を行うＸ線検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年，非破壊検査の分野では，Ｘ線によ
る透視がますます重要になると共に，空間分解能や検査
速度に対する要求も厳しいものになってきている。例え
ば，半導体の半田付けの検査分野では，ＩＣピッチの微
細化にともなって要求される空間分解能が従来１００μ
ｍ程度であったものが，その後５０μｍ以下となり，さ
らに数年後には３０μｍもの空間分解能が必要とされる
ようになってきている。さらに，Ｘ線の透過画像におけ
る陰影の形だけでなく，陰影の強度（即ち透過Ｘ線の強
度）から，半田の厚みについての情報を得ることをも求
められるようになってきている。このような要求を満た
すＸ線検査装置として，例えば図５に示すようなマイク
ロフォーカス型の透視装置Ａ０が実用に供されている。
この従来装置Ａ０では，１μｍ以下の小さな焦点を持つ
電子ビーム５１をターゲット５２に照射することにより
発生させたＸ線５３を物体５４に照射し，拡大撮影する
ことによって，数μｍの空間分解能で，物体５４の検査
を行うことができる。
る透視がますます重要になると共に，空間分解能や検査
速度に対する要求も厳しいものになってきている。例え
ば，半導体の半田付けの検査分野では，ＩＣピッチの微
細化にともなって要求される空間分解能が従来１００μ
ｍ程度であったものが，その後５０μｍ以下となり，さ
らに数年後には３０μｍもの空間分解能が必要とされる
ようになってきている。さらに，Ｘ線の透過画像におけ
る陰影の形だけでなく，陰影の強度（即ち透過Ｘ線の強
度）から，半田の厚みについての情報を得ることをも求
められるようになってきている。このような要求を満た
すＸ線検査装置として，例えば図５に示すようなマイク
ロフォーカス型の透視装置Ａ０が実用に供されている。
この従来装置Ａ０では，１μｍ以下の小さな焦点を持つ
電子ビーム５１をターゲット５２に照射することにより
発生させたＸ線５３を物体５４に照射し，拡大撮影する
ことによって，数μｍの空間分解能で，物体５４の検査
を行うことができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記したような従来の
Ｘ線検査装置Ａ０では，次のような問題点があった。 （１）拡大投影面５５のサイズ制限から大きな領域を同
時に測定することができない。半田付けの検査装置の場
合では，通常３００ｍｍ×２５０ｍｍ程度の領域を検査
する必要がある。従って，例えば１０倍の拡大投影を行
うとすれば，全領域を一度に検査するためには３ｍ×
２．５ｍの大きなスクリーンが必要となり，現実的とは
いえない。また，端部の画像は，物体に対して斜めにＸ
線照射されているため，中央部とは陰影の出来かたが異
なる。従って厳密な検査が難しいという問題も存在す
る。さらには，拡大撮影するために一定の空間が必要で
あり，装置の大型化の問題もある。そこで，実開平６−
２２０７号公報に開示された技術では，半田付け不良検
査を行う場合，基板（物体５４）を支持台５６上に載せ
て上下方向に移動させながら測定する。ところが，半田
付けの不良検査においては，半田付けが行われている位
置情報が重要であることから，拡大率は非常に重要なポ
イントとなる。このため，リアルタイムで拡大率を知ら
せるなどの工夫が必要であった。
Ｘ線検査装置Ａ０では，次のような問題点があった。 （１）拡大投影面５５のサイズ制限から大きな領域を同
時に測定することができない。半田付けの検査装置の場
合では，通常３００ｍｍ×２５０ｍｍ程度の領域を検査
する必要がある。従って，例えば１０倍の拡大投影を行
うとすれば，全領域を一度に検査するためには３ｍ×
２．５ｍの大きなスクリーンが必要となり，現実的とは
いえない。また，端部の画像は，物体に対して斜めにＸ
線照射されているため，中央部とは陰影の出来かたが異
なる。従って厳密な検査が難しいという問題も存在す
る。さらには，拡大撮影するために一定の空間が必要で
あり，装置の大型化の問題もある。そこで，実開平６−
２２０７号公報に開示された技術では，半田付け不良検
査を行う場合，基板（物体５４）を支持台５６上に載せ
て上下方向に移動させながら測定する。ところが，半田
付けの不良検査においては，半田付けが行われている位
置情報が重要であることから，拡大率は非常に重要なポ
イントとなる。このため，リアルタイムで拡大率を知ら
せるなどの工夫が必要であった。
【０００４】（２）また透視の場合，画像はＸ線が撮影
されたスクリーンの蛍光強度を通常ＴＶ画像として測定
するため，Ｘ線強度測定のダイナミックレンジが１：１
００程度と極めて狭い。半田付けの厚みをＸ線の強度と
して測定する場合を考えてみると，Ｘ線として，Ｗター
ゲット，１５０ｋＶ加速電圧のＸ線管球の場合であれ
ば，１００μｍ厚みから１ｍｍ厚みまでの範囲をＸ線の
強度から求めようとすると，１：１０００程度のダイナ
ミックレンジが必要となる。従って，上記従来装置Ａ０
では高精度な検査を行うことができなかった。本発明
は，このような従来の技術における課題を解決するため
に，Ｘ線検査装置を改良し，測定対象物を高精度に検査
することのできる小型のＸ線検査装置を提供することを
目的とするものである。
されたスクリーンの蛍光強度を通常ＴＶ画像として測定
するため，Ｘ線強度測定のダイナミックレンジが１：１
００程度と極めて狭い。半田付けの厚みをＸ線の強度と
して測定する場合を考えてみると，Ｘ線として，Ｗター
ゲット，１５０ｋＶ加速電圧のＸ線管球の場合であれ
ば，１００μｍ厚みから１ｍｍ厚みまでの範囲をＸ線の
強度から求めようとすると，１：１０００程度のダイナ
ミックレンジが必要となる。従って，上記従来装置Ａ０
では高精度な検査を行うことができなかった。本発明
は，このような従来の技術における課題を解決するため
に，Ｘ線検査装置を改良し，測定対象物を高精度に検査
することのできる小型のＸ線検査装置を提供することを
目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は，電子ビームをターゲットに照射して発生さ
せたＸ線を用いて測定対象物を透視検査するＸ線検査装
置において，上記電子ビームのターゲットへの照射位置
を走査する走査部と，上記ターゲットから測定対象物を
経たＸ線を上記走査に同期して検出する検出部とを具備
してなることを特徴とするＸ線検査装置として構成され
ている。さらには，上記ターゲットと検出部との間にＸ
線をコリメートするように複数の細管を介装したことを
特徴とするＸ線検査装置である。さらには，上記各細管
の軸心方向とＸ線の光軸方向とのなす角度を，特性Ｘ線
に対する全反射臨界角よりも大きく，かつ，連続Ｘ線が
ピーク強度となる波長のＸ線に対する全反射臨界角より
も小さくしたことを特徴とするＸ線検査装置である。さ
らには，上記走査部が，上記ターゲットの上流側の電子
軌道内に配備された電磁石を含むＸ線検査装置である。
さらには，上記走査部が，上記電磁石とターゲットとの
間の電子軌道の所定の平面内に配備された同軸１／４・
２重円筒電極をも含むＸ線検査装置である。
に本発明は，電子ビームをターゲットに照射して発生さ
せたＸ線を用いて測定対象物を透視検査するＸ線検査装
置において，上記電子ビームのターゲットへの照射位置
を走査する走査部と，上記ターゲットから測定対象物を
経たＸ線を上記走査に同期して検出する検出部とを具備
してなることを特徴とするＸ線検査装置として構成され
ている。さらには，上記ターゲットと検出部との間にＸ
線をコリメートするように複数の細管を介装したことを
特徴とするＸ線検査装置である。さらには，上記各細管
の軸心方向とＸ線の光軸方向とのなす角度を，特性Ｘ線
に対する全反射臨界角よりも大きく，かつ，連続Ｘ線が
ピーク強度となる波長のＸ線に対する全反射臨界角より
も小さくしたことを特徴とするＸ線検査装置である。さ
らには，上記走査部が，上記ターゲットの上流側の電子
軌道内に配備された電磁石を含むＸ線検査装置である。
さらには，上記走査部が，上記電磁石とターゲットとの
間の電子軌道の所定の平面内に配備された同軸１／４・
２重円筒電極をも含むＸ線検査装置である。
【０００６】
【発明の実施の形態】及び
【実施例】以下添付図面を参照して，本発明の実施の形
態及び実施例につき説明し，本発明の理解に供する。
尚，以下の実施の形態及び実施例は，本発明を具体化し
た一例であって，本発明の技術的範囲を限定するもので
はない。ここに，図１は本発明の第１の実施の形態及び
実施例に係るＸ線検査装置Ａ１の概略構成を示す模式
図，図２は本発明の第２の実施の形態及び実施例に係る
Ｘ線検査装置Ａ２の概略構成を示す模式図，図３はＸ線
検査装置Ａ２におけるＸ線スペクトルを示す説明図，図
４は本発明の第３の実施の形態及び実施例に係るＸ線検
査装置Ａ３の概略構成を示す模式図である。
態及び実施例につき説明し，本発明の理解に供する。
尚，以下の実施の形態及び実施例は，本発明を具体化し
た一例であって，本発明の技術的範囲を限定するもので
はない。ここに，図１は本発明の第１の実施の形態及び
実施例に係るＸ線検査装置Ａ１の概略構成を示す模式
図，図２は本発明の第２の実施の形態及び実施例に係る
Ｘ線検査装置Ａ２の概略構成を示す模式図，図３はＸ線
検査装置Ａ２におけるＸ線スペクトルを示す説明図，図
４は本発明の第３の実施の形態及び実施例に係るＸ線検
査装置Ａ３の概略構成を示す模式図である。
【０００７】図１に示す如く，本発明の第１の実施の形
態及び実施例に係るＸ線検査装置Ａ１は，電子ビーム１
をターゲット２に照射して発生させたＸ線３を用いて検
査基板４（測定対象物に相当）を透視検査する点で従来
例と同様である。しかし，本装置Ａ１では，上記電子ビ
ーム１のターゲット２への照射位置を走査する偏向電磁
石５（走査部の一部に相当）と，ターゲット２から検査
基板４を経たＸ線を上記走査に同期して検出するＸｅガ
ス比例計数管６（検出部に相当）を具備する点で従来例
と異なる。さらに，ターゲット２とＸｅガス比例計数管
６との間にＸ線をコリメートするように複数のガラス細
管７（細管に相当）を介装してもよく，この点でも従来
例と異なる。
態及び実施例に係るＸ線検査装置Ａ１は，電子ビーム１
をターゲット２に照射して発生させたＸ線３を用いて検
査基板４（測定対象物に相当）を透視検査する点で従来
例と同様である。しかし，本装置Ａ１では，上記電子ビ
ーム１のターゲット２への照射位置を走査する偏向電磁
石５（走査部の一部に相当）と，ターゲット２から検査
基板４を経たＸ線を上記走査に同期して検出するＸｅガ
ス比例計数管６（検出部に相当）を具備する点で従来例
と異なる。さらに，ターゲット２とＸｅガス比例計数管
６との間にＸ線をコリメートするように複数のガラス細
管７（細管に相当）を介装してもよく，この点でも従来
例と異なる。
【０００８】以下，本装置Ａ１についてさらに具体化す
ると共に，その動作原理について説明する。尚，ここで
は，半田厚み検査の装置構成としている。また，ガラス
細管７は内径６μｍφ，長さ１ｍｍ，開口率６０％のも
のを用いている。さらにターゲット２は薄膜タングステ
ンを用いている。図１に示すように，電子ビーム１は大
気中では走行させられないので，電子ビーム系は真空容
器９の中に収められており，真空ポンプ１０によって１
０-7Ｔｏｒｒ程度の真空度に保たれている。先ず電子銃
８により１００〜１５０ｋＶに加速されて，発射された
電子ビーム１は，偏向電磁石５によって偏向されてター
ゲット２上に収束照射される。電子ビーム１が照射され
た場所でＸ線３が発生する。Ｘ線は図１中に示すように
拡散しながら，ベリリウム窓１１を通過して大気中に引
き出される。拡散したＸ線３はガラス細管７によってコ
リメートされ，検査基板４に対して垂直なＸ線の成分１
２のみが取り出される。そして，検査基板４を通過して
減衰した後この成分１２はＸｅガス比例計数管６により
検出される。
ると共に，その動作原理について説明する。尚，ここで
は，半田厚み検査の装置構成としている。また，ガラス
細管７は内径６μｍφ，長さ１ｍｍ，開口率６０％のも
のを用いている。さらにターゲット２は薄膜タングステ
ンを用いている。図１に示すように，電子ビーム１は大
気中では走行させられないので，電子ビーム系は真空容
器９の中に収められており，真空ポンプ１０によって１
０-7Ｔｏｒｒ程度の真空度に保たれている。先ず電子銃
８により１００〜１５０ｋＶに加速されて，発射された
電子ビーム１は，偏向電磁石５によって偏向されてター
ゲット２上に収束照射される。電子ビーム１が照射され
た場所でＸ線３が発生する。Ｘ線は図１中に示すように
拡散しながら，ベリリウム窓１１を通過して大気中に引
き出される。拡散したＸ線３はガラス細管７によってコ
リメートされ，検査基板４に対して垂直なＸ線の成分１
２のみが取り出される。そして，検査基板４を通過して
減衰した後この成分１２はＸｅガス比例計数管６により
検出される。
【０００９】ここで，検出されたＸ線の強度は電子ビー
ム１の位置情報と共に記録され，Ｘ線強度の画像として
構成される。そして，これより半田の厚みの情報などが
コンピュータ処理によって取り出される。このように，
本装置Ａ１では，電子ビームの走査に同期してＸ線を検
出するため，一度に大面積の画像を得ることができる。
また，Ｘ線の検出にダイナミックレンジの広い計数管等
を用いることができるので，１ｍｍ程度以上の厚い半田
などについても精度良く検査することができる。さら
に，Ｘ線はターゲットから発散状に発散されるが，細管
によってＸ線がコリメートされるので，Ｘ線透過像の空
間分解能が低下することを抑えることができる。また，
細管長は短くてすむため，装置の小型化をも図ることが
できる。ところで，Ｘ線の透過強度から，物質の厚みを
求める際に連続Ｘ線を用いると，厚さと透過強度との関
係が単純な指数関数で表されないが，単色の特性Ｘ線を
用いると，単純な指数関数で表されることが知られてい
る。従って，特性Ｘ線を用いることによりさらに高精度
に検査を行うことができるが，第２の実施の形態及び実
施例に係るＸ線検査装置Ａ２は，このような点に着目し
たものである。
ム１の位置情報と共に記録され，Ｘ線強度の画像として
構成される。そして，これより半田の厚みの情報などが
コンピュータ処理によって取り出される。このように，
本装置Ａ１では，電子ビームの走査に同期してＸ線を検
出するため，一度に大面積の画像を得ることができる。
また，Ｘ線の検出にダイナミックレンジの広い計数管等
を用いることができるので，１ｍｍ程度以上の厚い半田
などについても精度良く検査することができる。さら
に，Ｘ線はターゲットから発散状に発散されるが，細管
によってＸ線がコリメートされるので，Ｘ線透過像の空
間分解能が低下することを抑えることができる。また，
細管長は短くてすむため，装置の小型化をも図ることが
できる。ところで，Ｘ線の透過強度から，物質の厚みを
求める際に連続Ｘ線を用いると，厚さと透過強度との関
係が単純な指数関数で表されないが，単色の特性Ｘ線を
用いると，単純な指数関数で表されることが知られてい
る。従って，特性Ｘ線を用いることによりさらに高精度
に検査を行うことができるが，第２の実施の形態及び実
施例に係るＸ線検査装置Ａ２は，このような点に着目し
たものである。
【００１０】以下，本装置Ａ２について，図２を参照し
てさらに具体化すると共に，その動作原理についても述
べる。図２に示すごとく，本装置Ａ２はここでは，アル
ミニウムに刻印された細線の深さを測定するように構成
されている。尚，本装置Ａ２も基本的な構成は上記装置
Ａ１と同様であるが，電子銃８による加速は３０ｋＶに
設定されている。また，ターゲット２は銅薄膜を用いて
いる。さらに，ガラス細管７はアルミニウム試料１３
（測定対象物に相当）に対して０．２度だけ傾いて取り
付けられているものとする。
てさらに具体化すると共に，その動作原理についても述
べる。図２に示すごとく，本装置Ａ２はここでは，アル
ミニウムに刻印された細線の深さを測定するように構成
されている。尚，本装置Ａ２も基本的な構成は上記装置
Ａ１と同様であるが，電子銃８による加速は３０ｋＶに
設定されている。また，ターゲット２は銅薄膜を用いて
いる。さらに，ガラス細管７はアルミニウム試料１３
（測定対象物に相当）に対して０．２度だけ傾いて取り
付けられているものとする。
【００１１】この場合，ターゲット２で発生したＸ線の
エネルギスペクトルを図３に示した。同図中において，
Ｘ線のスペクトルは連続Ｘ線１４と特性Ｘ線１５とを含
んでいる。一般に，物質にごく浅い角度でＸ線を入射さ
せると，Ｘ線は全反射を起こすが，ある角度を超えると
全反射を起こさなくなり物質に吸収される。その角度を
全反射臨界角というが，この角度はＸ線のエネルギが高
いほど小さくなる。本装置Ａ２に示すように配置すれ
ば，図２の部分拡大図に示すように，連続Ｘ線１４の殆
どの成分は全反射臨界角よりも大きい角度でガラス細管
７の内面に当たるので，全反射されずにガラス細管７に
吸収される。一方，特性Ｘ線１５は全反射臨界角よりも
小さい角度でガラス細管７の内面に当たるので，全反射
されてそのＸ線はガラス細管７を通過できる。従って，
ガラス細管７を透過した後のＸ線のスペクトルは，上記
図３の符号１６に示すようになり，アルミニウム試料１
３に照射されるＸ線は殆ど特性Ｘ線１５のみになる。こ
のため，測定を単色の特性Ｘ線１５のみで行うことがで
き，アルミニウム試料１３の厚み，ひいては試料１３に
刻印された細線の深さを精度良く求めることができる。
エネルギスペクトルを図３に示した。同図中において，
Ｘ線のスペクトルは連続Ｘ線１４と特性Ｘ線１５とを含
んでいる。一般に，物質にごく浅い角度でＸ線を入射さ
せると，Ｘ線は全反射を起こすが，ある角度を超えると
全反射を起こさなくなり物質に吸収される。その角度を
全反射臨界角というが，この角度はＸ線のエネルギが高
いほど小さくなる。本装置Ａ２に示すように配置すれ
ば，図２の部分拡大図に示すように，連続Ｘ線１４の殆
どの成分は全反射臨界角よりも大きい角度でガラス細管
７の内面に当たるので，全反射されずにガラス細管７に
吸収される。一方，特性Ｘ線１５は全反射臨界角よりも
小さい角度でガラス細管７の内面に当たるので，全反射
されてそのＸ線はガラス細管７を通過できる。従って，
ガラス細管７を透過した後のＸ線のスペクトルは，上記
図３の符号１６に示すようになり，アルミニウム試料１
３に照射されるＸ線は殆ど特性Ｘ線１５のみになる。こ
のため，測定を単色の特性Ｘ線１５のみで行うことがで
き，アルミニウム試料１３の厚み，ひいては試料１３に
刻印された細線の深さを精度良く求めることができる。
【００１２】さらに，装置の小型化を図るべく，以下の
第３の実施の形態及び実施例に係るＸ線検査装置Ａ３を
考案した。即ち，本装置Ａ３では，図４に示すごとく，
電子ビーム１を同図紙面に垂直方向に偏向電磁石によっ
て走査している。また，同軸１／４・２重円筒電極１８
（走査部の一部に相当）の，外部電極には負電圧が，内
部電極には正電圧がそれぞれ偏向電極電源１７より供給
されている。従って，電子ビーム１は同図下向きに９０
度だけ偏向されて，ターゲット２に照射される。本装置
Ａ３では，電子ビーム１の走査は線状に行い，紙面左右
の走査は検査基板４の移動によって行うようにしてい
る。このように構成することによって，装置の高さを最
小限に抑えることができ，一層小型の検査装置を構成す
ることができる。尚，図中真空ポンプは便宜上省略し
た。その結果，測定対象物を高精度に検査することので
きる小型のＸ線検査装置を得ることができた。
第３の実施の形態及び実施例に係るＸ線検査装置Ａ３を
考案した。即ち，本装置Ａ３では，図４に示すごとく，
電子ビーム１を同図紙面に垂直方向に偏向電磁石によっ
て走査している。また，同軸１／４・２重円筒電極１８
（走査部の一部に相当）の，外部電極には負電圧が，内
部電極には正電圧がそれぞれ偏向電極電源１７より供給
されている。従って，電子ビーム１は同図下向きに９０
度だけ偏向されて，ターゲット２に照射される。本装置
Ａ３では，電子ビーム１の走査は線状に行い，紙面左右
の走査は検査基板４の移動によって行うようにしてい
る。このように構成することによって，装置の高さを最
小限に抑えることができ，一層小型の検査装置を構成す
ることができる。尚，図中真空ポンプは便宜上省略し
た。その結果，測定対象物を高精度に検査することので
きる小型のＸ線検査装置を得ることができた。
【００１３】
【発明の効果】本発明に係るＸ線検査装置は，上記した
ように構成されているため，次の様な効果を奏する。 （１）電子ビームの操作に同期してＸ線を検出すること
により，一度に大面積の画像を得ることができる。ま
た，Ｘ線の検出にダイナミックレンジの広い計数管等を
用いることができるので，１ｍｍ程度以上の厚い半田な
どについても精度良く検査することができる。 （２）Ｘ線はターゲットから発散状に発散されるが，細
管によってＸ線をコリメートすれば，Ｘ線透過像の空間
分解能が低下することを抑えることができる。また，上
記細管を傾斜させれば，特性Ｘ線のみによる測定を行う
ことができるので，測定対象物の厚み等を精度良く求め
ることができる。さらに細管長は短くてすむため，装置
の小型化をも図ることができる。 （３）偏向電磁石と同軸１／４・２重円筒電極とにより
電子ビームを走査すれば，装置を一層小型化することも
可能である。その結果，測定対象物を高精度に検査する
ことのできる小型のＸ線検出装置を得ることができる。
ように構成されているため，次の様な効果を奏する。 （１）電子ビームの操作に同期してＸ線を検出すること
により，一度に大面積の画像を得ることができる。ま
た，Ｘ線の検出にダイナミックレンジの広い計数管等を
用いることができるので，１ｍｍ程度以上の厚い半田な
どについても精度良く検査することができる。 （２）Ｘ線はターゲットから発散状に発散されるが，細
管によってＸ線をコリメートすれば，Ｘ線透過像の空間
分解能が低下することを抑えることができる。また，上
記細管を傾斜させれば，特性Ｘ線のみによる測定を行う
ことができるので，測定対象物の厚み等を精度良く求め
ることができる。さらに細管長は短くてすむため，装置
の小型化をも図ることができる。 （３）偏向電磁石と同軸１／４・２重円筒電極とにより
電子ビームを走査すれば，装置を一層小型化することも
可能である。その結果，測定対象物を高精度に検査する
ことのできる小型のＸ線検出装置を得ることができる。
【図１】 本発明の第１の実施の形態及び実施例に係る
Ｘ線検査装置Ａ１の概略構成を示す模式図。
Ｘ線検査装置Ａ１の概略構成を示す模式図。
【図２】 本発明の第２の実施の形態及び実施例に係る
Ｘ線検査装置Ａ２の概略構成を示す模式図。
Ｘ線検査装置Ａ２の概略構成を示す模式図。
【図３】 Ｘ線検査装置Ａ２におけるＸ線スペクトルを
示す説明図。
示す説明図。
【図４】 本発明の第３の実施の形態及び実施例に係る
Ｘ線検査装置Ａ３の概略構成を示す模式図。
Ｘ線検査装置Ａ３の概略構成を示す模式図。
【図５】 従来のＸ線検査装置Ａ０の一例における概略
構成を示す模式図。
構成を示す模式図。
Ａ１〜Ａ３…Ｘ線検査装置 １…電子ビーム ２…ターゲット ３…Ｘ線 ４…検査基板（測定対象物に相当） ５…偏向電磁石（走査部の一部に相当） ６…Ｘｅガス比例計数管（検出部に相当） ７…ガラス細管（細管に相当） １３…アルミニウム試料（測定対象物に相当） １８…同軸１／４・２重円筒電極（走査部の一部に相
当）
当）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 浩司 兵庫県神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内 (72)発明者 足立 成人 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内 (72)発明者 沖本 忠雄 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内
Claims (5)
- 【請求項１】 電子ビームをターゲットに照射して発生
させたＸ線を用いて測定対象物を透視検査するＸ線検査
装置において，上記電子ビームのターゲットへの照射位
置を走査する走査部と，上記ターゲットから測定対象物
を経たＸ線を上記走査に同期して検出する検出部とを具
備してなることを特徴とするＸ線検査装置。 - 【請求項２】上記ターゲットと検出部との間にＸ線をコ
リメートするように複数の細管を介装したことを特徴と
する請求項１記載のＸ線検査装置。 - 【請求項３】 上記各細管の軸心方向とＸ線の光軸方向
とのなす角度を，特性Ｘ線に対する全反射臨界角よりも
大きく，かつ，連続Ｘ線がピーク強度となる波長のＸ線
に対する全反射臨界角よりも小さくしたことを特徴とす
る請求項２記載のＸ線検査装置。 - 【請求項４】 上記走査部が，上記ターゲットの上流側
の電子軌道内に配備された電磁石を含む請求項１〜３の
いずれかに記載のＸ線検査装置。 - 【請求項５】 上記走査部が，上記電磁石とターゲット
との間の電子軌道の所定の平面内に配備された同軸１／
４・２重円筒電極をも含む請求項４記載のＸ線検査装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7285744A JPH09127020A (ja) | 1995-11-02 | 1995-11-02 | Ｘ線検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7285744A JPH09127020A (ja) | 1995-11-02 | 1995-11-02 | Ｘ線検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09127020A true JPH09127020A (ja) | 1997-05-16 |
Family
ID=17695496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7285744A Pending JPH09127020A (ja) | 1995-11-02 | 1995-11-02 | Ｘ線検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09127020A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022539611A (ja) * | 2019-07-12 | 2022-09-12 | エクシルム・エービー | 試料の撮像方法 |
-
1995
- 1995-11-02 JP JP7285744A patent/JPH09127020A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022539611A (ja) * | 2019-07-12 | 2022-09-12 | エクシルム・エービー | 試料の撮像方法 |
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