JPH09143721A - 多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置 - Google Patents
多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH09143721A JPH09143721A JP29956895A JP29956895A JPH09143721A JP H09143721 A JPH09143721 A JP H09143721A JP 29956895 A JP29956895 A JP 29956895A JP 29956895 A JP29956895 A JP 29956895A JP H09143721 A JPH09143721 A JP H09143721A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vapor deposition
- shutter
- crucible
- vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 77
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 25
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 18
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 蒸着開始時より多層膜を形成する。
【解決手段】 連続的に走行する基板２に蒸発材料４の
蒸気５を蒸着する成膜室１内に基板２の走行方向に複数
のルツボ３を設け、このルツボ３の上方を基板２に対し
て覆い、基板２の走行方向に開閉するシャッター７を設
け、蒸着開始時に基板２に付着した蒸着膜６の位置に対
応して開放してゆく。
蒸気５を蒸着する成膜室１内に基板２の走行方向に複数
のルツボ３を設け、このルツボ３の上方を基板２に対し
て覆い、基板２の走行方向に開閉するシャッター７を設
け、蒸着開始時に基板２に付着した蒸着膜６の位置に対
応して開放してゆく。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は多層膜を形成するた
め用いる複数のルツボを覆うシャッターを有する連続真
空蒸着装置に関する。
め用いる複数のルツボを覆うシャッターを有する連続真
空蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】連続真空蒸着装置は真空中で金属等の蒸
発材料を加熱して蒸発させ鋼板などの基板の表面に蒸着
させ被膜を形成する。この連続蒸着装置は通常の湿式メ
ッキでは扱えない高融点金属などの蒸着が可能であり、
付着速度が大きい等の利点を有している。
発材料を加熱して蒸発させ鋼板などの基板の表面に蒸着
させ被膜を形成する。この連続蒸着装置は通常の湿式メ
ッキでは扱えない高融点金属などの蒸着が可能であり、
付着速度が大きい等の利点を有している。
【０００３】図３は従来の連続真空蒸着装置の一例を示
す。連続真空蒸着装置は入側と出側の真空シール装置、
予備加熱室、成膜室等からなり、大気圧でアンコイラー
から巻き戻された鋼板等からなるストリップ（基板）を
入側真空シール装置を通して真空状態とし、予備加熱室
で予備加熱した後、成膜室で成膜し、成膜後出側真空シ
ール装置を通し真空状態を解除して大気圧中に取り出
し、リコイラーで巻き取るようになっている。
す。連続真空蒸着装置は入側と出側の真空シール装置、
予備加熱室、成膜室等からなり、大気圧でアンコイラー
から巻き戻された鋼板等からなるストリップ（基板）を
入側真空シール装置を通して真空状態とし、予備加熱室
で予備加熱した後、成膜室で成膜し、成膜後出側真空シ
ール装置を通し真空状態を解除して大気圧中に取り出
し、リコイラーで巻き取るようになっている。
【０００４】成膜室には電子ビーム１２を放射する電子
銃１１と、電子ビーム１２により溶融した蒸発材料を収
容するルツボ１３と、紙面に垂直方向の磁界を発生する
図示しない偏向磁極装置とを備え、電子銃１１より電子
ビーム１２を放射し、磁界によって電子ビーム１２の方
向を曲げてルツボ１３内に照射し、蒸発材料を加熱して
蒸発させ、ルツボ１３の上方を走行する基板１４に蒸着
させ被膜を形成している。
銃１１と、電子ビーム１２により溶融した蒸発材料を収
容するルツボ１３と、紙面に垂直方向の磁界を発生する
図示しない偏向磁極装置とを備え、電子銃１１より電子
ビーム１２を放射し、磁界によって電子ビーム１２の方
向を曲げてルツボ１３内に照射し、蒸発材料を加熱して
蒸発させ、ルツボ１３の上方を走行する基板１４に蒸着
させ被膜を形成している。
【０００５】多層膜を連続真空蒸着装置により蒸着する
方法として、膜の層数と同数のルツボを基板の走行方向
に配置し、上流側のルツボにより第１層を蒸着し、以
下、下流側に向かってルツボの配置順に第２，第３層と
順に蒸着してゆく。図４は３層膜を蒸着する方法を説明
する図である。成膜室１内にはルツボ３が基板２の走行
方向に３個配置され、上流側より順に第１ルツボ３ａ，
第２ルツボ３ｂ，第３ルツボ３ｃとする。第１ルツボ３
ａは蒸発金属よりなる第１蒸気５ａを発生し、第１蒸着
膜６ａを基板２に蒸着する。同様に第３ルツボ３ｃは第
３蒸気５ｃを発生し、第３蒸着膜６ｃを蒸着する。この
状態は連続的に蒸着が行われる定常状態を示している。
図５は蒸着を開始したときの状態を示す。この場合各ル
ツボ３ａ，３ｂ，３ｃからの蒸気５ａ，５ｂ，５ｃは直
接基板２に蒸着する。この状態は蒸着開始時の一時的な
現象で短時間の内に図４に示す定常状態となる。
方法として、膜の層数と同数のルツボを基板の走行方向
に配置し、上流側のルツボにより第１層を蒸着し、以
下、下流側に向かってルツボの配置順に第２，第３層と
順に蒸着してゆく。図４は３層膜を蒸着する方法を説明
する図である。成膜室１内にはルツボ３が基板２の走行
方向に３個配置され、上流側より順に第１ルツボ３ａ，
第２ルツボ３ｂ，第３ルツボ３ｃとする。第１ルツボ３
ａは蒸発金属よりなる第１蒸気５ａを発生し、第１蒸着
膜６ａを基板２に蒸着する。同様に第３ルツボ３ｃは第
３蒸気５ｃを発生し、第３蒸着膜６ｃを蒸着する。この
状態は連続的に蒸着が行われる定常状態を示している。
図５は蒸着を開始したときの状態を示す。この場合各ル
ツボ３ａ，３ｂ，３ｃからの蒸気５ａ，５ｂ，５ｃは直
接基板２に蒸着する。この状態は蒸着開始時の一時的な
現象で短時間の内に図４に示す定常状態となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】基板上に耐熱、耐腐食
性等の機能を有する膜の蒸着が行われている。必要な機
能の膜を得るため基板との密着性の悪い蒸発材料による
蒸着の要求が高まっており、これを実現するため、多層
膜の連続蒸着を行う。膜と基板の密着性をよくするため
に第１層は基板と密着性がよく、かつ第２層とも密着性
のよい蒸発材料を用い、第２層は第３層と密着性のよい
蒸発材料を用いる。このようにすることにより、第２層
以上には基板と密着性の悪い蒸発材料を用いることがで
きる。しかし、このようにすると図５で説明した蒸着開
始時、各層の蒸発材料の蒸気が直接基板に蒸着し、剥離
しやすい蒸着膜が形成される。これらの蒸着膜が出側真
空シール装置内で剥離すると、シール機能に支障が生じ
ると共に、後続する図４で示した正常な蒸着膜に損傷を
与える。
性等の機能を有する膜の蒸着が行われている。必要な機
能の膜を得るため基板との密着性の悪い蒸発材料による
蒸着の要求が高まっており、これを実現するため、多層
膜の連続蒸着を行う。膜と基板の密着性をよくするため
に第１層は基板と密着性がよく、かつ第２層とも密着性
のよい蒸発材料を用い、第２層は第３層と密着性のよい
蒸発材料を用いる。このようにすることにより、第２層
以上には基板と密着性の悪い蒸発材料を用いることがで
きる。しかし、このようにすると図５で説明した蒸着開
始時、各層の蒸発材料の蒸気が直接基板に蒸着し、剥離
しやすい蒸着膜が形成される。これらの蒸着膜が出側真
空シール装置内で剥離すると、シール機能に支障が生じ
ると共に、後続する図４で示した正常な蒸着膜に損傷を
与える。
【０００７】本発明は、上述の問題点に鑑みてなされた
もので、蒸着開始時より正常な蒸着膜を形成することの
できる多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置を
提供することを目的とする。
もので、蒸着開始時より正常な蒸着膜を形成することの
できる多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置を
提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明では、連続的に走行する基板に蒸発
材料の蒸気を蒸着する成膜室内に基板の走行方向に複数
のルツボを設けた連続真空蒸着装置において、前記複数
のルツボの上方を前記基板に対して覆い、前記基板の走
行方向に開閉するシャッターを設け、蒸着開始時に基板
に付着した蒸着膜の位置に対応して開放してゆく。
め、請求項１の発明では、連続的に走行する基板に蒸発
材料の蒸気を蒸着する成膜室内に基板の走行方向に複数
のルツボを設けた連続真空蒸着装置において、前記複数
のルツボの上方を前記基板に対して覆い、前記基板の走
行方向に開閉するシャッターを設け、蒸着開始時に基板
に付着した蒸着膜の位置に対応して開放してゆく。
【０００９】かかる構成により蒸着開始と共にまずシャ
ッターを全閉の状態から、基板の上流側のルツボを第１
ルツボとし、以下下流側に順に第２，第３ルツボ……と
したとき、第１ルツボの上方のシャッターを開とし、一
層目の蒸着を行い、この一層目の蒸着膜が第２ルツボの
上方に走行してきたとき、第２ルツボの上方のシャッタ
ーを開とする。以下、対象のるつぼの上方にそのルツボ
に隣接する上流側のルツボによる蒸着膜が走行してきた
とき、そのルツボの上方のシャッターを開とすることに
より、第１層は基板に蒸着され、第２層は第１層の上
に、第３層は第２層の上にというように層順に蒸着され
てゆく。これにより蒸着開始より各層はその下となる基
板や他の層に確実に蒸着されるので、剥離することなく
出側真空シール装置内を通過する。
ッターを全閉の状態から、基板の上流側のルツボを第１
ルツボとし、以下下流側に順に第２，第３ルツボ……と
したとき、第１ルツボの上方のシャッターを開とし、一
層目の蒸着を行い、この一層目の蒸着膜が第２ルツボの
上方に走行してきたとき、第２ルツボの上方のシャッタ
ーを開とする。以下、対象のるつぼの上方にそのルツボ
に隣接する上流側のルツボによる蒸着膜が走行してきた
とき、そのルツボの上方のシャッターを開とすることに
より、第１層は基板に蒸着され、第２層は第１層の上
に、第３層は第２層の上にというように層順に蒸着され
てゆく。これにより蒸着開始より各層はその下となる基
板や他の層に確実に蒸着されるので、剥離することなく
出側真空シール装置内を通過する。
【００１０】請求項２の発明では、連続的に走行する基
板に蒸発材料の蒸気を蒸着する成膜室内に基板の走行方
向に複数のルツボを設けた連続真空蒸着装置において、
前記複数のルツボごとに設けられ、対応するルツボの上
方を前記基板に対して覆いこの基板の幅方向に開閉する
シャッターを設け、蒸着開始時に基板に付着した蒸着膜
の位置に対応して上流側のシャッターから順次開放して
ゆく。
板に蒸発材料の蒸気を蒸着する成膜室内に基板の走行方
向に複数のルツボを設けた連続真空蒸着装置において、
前記複数のルツボごとに設けられ、対応するルツボの上
方を前記基板に対して覆いこの基板の幅方向に開閉する
シャッターを設け、蒸着開始時に基板に付着した蒸着膜
の位置に対応して上流側のシャッターから順次開放して
ゆく。
【００１１】請求項１の発明がシャッターを下流側へ移
動して開放するのに対し、本発明は基板の走行方向と直
角方向である基板の幅方向に各ルツボごとに設けられた
シャッターを移動し開放してゆく。シャッターを開放す
るタイミングも請求項１の発明と同じで、上流側から下
流側に順に第１ルツボ，第２ルツボ……とし、蒸着開始
と共に第１ルツボの第１シャッターを開放し、第１ルツ
ボの蒸気により基板に蒸着を行い、この第１層が第２ル
ツボの上方まで走行してきた時第２ルツボの第２シャッ
ターを開放して第１層の上に第２層を蒸着する。次に第
２層が第３ルツボの上方まで走行してきたとき、第３ル
ツボの第３シャッターを開放する。以下同様にすること
により、各蒸着層は、定められた基板または層に蒸着す
るので剥離することなく出側真空シール装置内を通過す
る。
動して開放するのに対し、本発明は基板の走行方向と直
角方向である基板の幅方向に各ルツボごとに設けられた
シャッターを移動し開放してゆく。シャッターを開放す
るタイミングも請求項１の発明と同じで、上流側から下
流側に順に第１ルツボ，第２ルツボ……とし、蒸着開始
と共に第１ルツボの第１シャッターを開放し、第１ルツ
ボの蒸気により基板に蒸着を行い、この第１層が第２ル
ツボの上方まで走行してきた時第２ルツボの第２シャッ
ターを開放して第１層の上に第２層を蒸着する。次に第
２層が第３ルツボの上方まで走行してきたとき、第３ル
ツボの第３シャッターを開放する。以下同様にすること
により、各蒸着層は、定められた基板または層に蒸着す
るので剥離することなく出側真空シール装置内を通過す
る。
【００１２】請求項３の発明では、請求項２の発明にお
いて、前記シャッターは対応するルツボに隣接する上流
側のルツボの発生する蒸気内まで伸びた突出部を有して
いる。このような突出部を有するので、該当するルツボ
に隣接する上流側のルツボが、該当するルツボのシャッ
ターが閉じた状態で、蒸着を行っている時、該当するル
ツボの蒸気と隣接する上流側のルツボの蒸気が混じり該
当するルツボの蒸気が基板または隣接する上流側のルツ
ボよりさらに上流側のルツボからの蒸気による膜に蒸着
するのを防止する。これにより各ルツボから発生する蒸
気は定められた層順に蒸着膜を形成する。
いて、前記シャッターは対応するルツボに隣接する上流
側のルツボの発生する蒸気内まで伸びた突出部を有して
いる。このような突出部を有するので、該当するルツボ
に隣接する上流側のルツボが、該当するルツボのシャッ
ターが閉じた状態で、蒸着を行っている時、該当するル
ツボの蒸気と隣接する上流側のルツボの蒸気が混じり該
当するルツボの蒸気が基板または隣接する上流側のルツ
ボよりさらに上流側のルツボからの蒸気による膜に蒸着
するのを防止する。これにより各ルツボから発生する蒸
気は定められた層順に蒸着膜を形成する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１は第１実施の形態を示
す。図１および図２において図４，図５と同一符号は同
一機能を表す部材等を表す。図１において、成膜室１内
は真空（例えば１０ -3〜１０-5torr程度) に保持され基
板2 が一定速度( 例えば２００〜５００ｍ／ｍｉｎ）で
走行している。基板２は通常炭素鋼板またはステンレス
鋼板が用いられ、板厚は０．３〜３．２ｍｍ厚の比較的
薄い鋼板（ストリップ）を用いる。本実施の形態では３
層の蒸着膜の場合について説明する。各層ごとにルツボ
３を設け、基板２に蒸着する層を第１層とし、第１ルツ
ボ３ａ、第２ルツボ３ｂ，第３ルツボ３ｃを基板２の走
行方向上流側から順に配置する。
て図面を参照して説明する。図１は第１実施の形態を示
す。図１および図２において図４，図５と同一符号は同
一機能を表す部材等を表す。図１において、成膜室１内
は真空（例えば１０ -3〜１０-5torr程度) に保持され基
板2 が一定速度( 例えば２００〜５００ｍ／ｍｉｎ）で
走行している。基板２は通常炭素鋼板またはステンレス
鋼板が用いられ、板厚は０．３〜３．２ｍｍ厚の比較的
薄い鋼板（ストリップ）を用いる。本実施の形態では３
層の蒸着膜の場合について説明する。各層ごとにルツボ
３を設け、基板２に蒸着する層を第１層とし、第１ルツ
ボ３ａ、第２ルツボ３ｂ，第３ルツボ３ｃを基板２の走
行方向上流側から順に配置する。
【００１４】蒸着膜は、例えば、第１層は基板２と密着
性のよい材料、第２層は第１層と密着性がよく、かつ次
の第３層とも密着性のよい材料、第３層は目的とする性
能、例えば耐蝕性を有し第２層と密着性のよい材料から
なる。第１ルツボ３ａには第１蒸発材料４ａが用いら
れ、第２ルツボ３ｂ、第３ルツボ３ｃにはそれぞれ第２
蒸発材料４ｂ、第３蒸発材料４ｃが用いられる。
性のよい材料、第２層は第１層と密着性がよく、かつ次
の第３層とも密着性のよい材料、第３層は目的とする性
能、例えば耐蝕性を有し第２層と密着性のよい材料から
なる。第１ルツボ３ａには第１蒸発材料４ａが用いら
れ、第２ルツボ３ｂ、第３ルツボ３ｃにはそれぞれ第２
蒸発材料４ｂ、第３蒸発材料４ｃが用いられる。
【００１５】各ルツボ３では電子ビームにより加熱され
蒸発材料が溶融して蒸気を発生し、蒸着膜を形成する。
第１ルツボ３ａの第１蒸発材料４ａからの蒸気を第１蒸
気５ａ、この蒸着膜を第１蒸着膜６ａとし、以下同様に
各ルツボ３からの蒸気５、蒸着膜６をｂ，ｃを付けて区
別して表す。
蒸発材料が溶融して蒸気を発生し、蒸着膜を形成する。
第１ルツボ３ａの第１蒸発材料４ａからの蒸気を第１蒸
気５ａ、この蒸着膜を第１蒸着膜６ａとし、以下同様に
各ルツボ３からの蒸気５、蒸着膜６をｂ，ｃを付けて区
別して表す。
【００１６】３個のルツボ３を覆うシャッター７が設け
られ、下流側方向に移動することにより開放し、上流側
方向に移動することにより閉鎖する。開閉動作は図示し
ない駆動装置により、基板２やその上の蒸着膜の位置に
対応して行われる。
られ、下流側方向に移動することにより開放し、上流側
方向に移動することにより閉鎖する。開閉動作は図示し
ない駆動装置により、基板２やその上の蒸着膜の位置に
対応して行われる。
【００１７】次に動作について説明する。各ルツボ３は
所定温度に加熱され蒸発材料４から蒸気５が発生してい
る。シャッター７は蒸気５を遮断して基板２に蒸着しな
いようにしている。基板２は所定速度で走行している。
この状態を図１（Ａ）は表し、この状態で蒸着を開始す
るためシャッター７を（Ｂ）に示す位置まで開放する。
なお、矢印は基板２の走行方向を示す。（Ｂ）は第１ル
ツボ３ａ用にシャッター７を開放した状態で、第１蒸着
膜６ａが形成され、第２ルツボ３ｂの上方まで走行して
きた状態を示す。この状態で（Ｃ）に示す位置までシャ
ッター７を開放する。（Ｃ）は第２蒸着膜６ｂが第１蒸
着６ａの上に形成され第３ルツボ３ｃの上方まで走行し
てきた状態を示す。この状態で（Ｄ）に示す位置までシ
ャッター７を開放する。（Ｄ）は第３蒸着膜６ｃが第２
蒸着膜６ｂの上に形成された状態を示し、この状態より
定常状態に入ったことを表している。
所定温度に加熱され蒸発材料４から蒸気５が発生してい
る。シャッター７は蒸気５を遮断して基板２に蒸着しな
いようにしている。基板２は所定速度で走行している。
この状態を図１（Ａ）は表し、この状態で蒸着を開始す
るためシャッター７を（Ｂ）に示す位置まで開放する。
なお、矢印は基板２の走行方向を示す。（Ｂ）は第１ル
ツボ３ａ用にシャッター７を開放した状態で、第１蒸着
膜６ａが形成され、第２ルツボ３ｂの上方まで走行して
きた状態を示す。この状態で（Ｃ）に示す位置までシャ
ッター７を開放する。（Ｃ）は第２蒸着膜６ｂが第１蒸
着６ａの上に形成され第３ルツボ３ｃの上方まで走行し
てきた状態を示す。この状態で（Ｄ）に示す位置までシ
ャッター７を開放する。（Ｄ）は第３蒸着膜６ｃが第２
蒸着膜６ｂの上に形成された状態を示し、この状態より
定常状態に入ったことを表している。
【００１８】このようにシャッター７の開放は、該当す
るルツボ３の上方が隣接する上流側のルツボ３による蒸
着膜で覆われたとき該当するルツボ３の上方のシャッタ
ーを開とする。このようなシャッターの開放制御は、基
板２が一定速度で走行しており、各ルツボ３の位置と大
きさおよびルツボ３と基板２の位置関係が決まっている
ので、蒸着開始からの時間を計測することにより、容易
に行うことができる。
るルツボ３の上方が隣接する上流側のルツボ３による蒸
着膜で覆われたとき該当するルツボ３の上方のシャッタ
ーを開とする。このようなシャッターの開放制御は、基
板２が一定速度で走行しており、各ルツボ３の位置と大
きさおよびルツボ３と基板２の位置関係が決まっている
ので、蒸着開始からの時間を計測することにより、容易
に行うことができる。
【００１９】図２は第２実施の形態を示す。本実施の形
態ではシャッターを各ルツボごとに設け、開閉方向を基
板２の幅方向としたものであり、他は第１実施の形態と
同じである。シャッター８は、第１ルツボ３ａ用の第１
シャッター８ａ、第２ルツボ３ｂ用の第２シャッター８
ｂ、第３ルツボ３ｃ用の第３シャッター８ｃよりなり、
第２シャッター８ｂと第３シャッター８ｃには隣接する
上流側のルツボ３の上方まで伸びたツバ９が第２ツバ９
ｂ，第３ツバ９ｃとして設けられている。これにより該
当するルツボ３の上方に隣接する上流側のルツボ３から
の蒸気５による蒸着膜が走行してこない間に、該当する
ルツボ３の蒸気５が隣接する上流側のルツボ３の蒸気５
と混じり、蒸着すべき層より下の層または基板２に蒸着
するのを防止する。例えば、図２（Ｂ）において、第１
蒸着膜６ａが第２ルツボ３ｂの上方まで走行してこない
ときに、第２蒸気５ｂが基板２に直接付着するのを防止
する。
態ではシャッターを各ルツボごとに設け、開閉方向を基
板２の幅方向としたものであり、他は第１実施の形態と
同じである。シャッター８は、第１ルツボ３ａ用の第１
シャッター８ａ、第２ルツボ３ｂ用の第２シャッター８
ｂ、第３ルツボ３ｃ用の第３シャッター８ｃよりなり、
第２シャッター８ｂと第３シャッター８ｃには隣接する
上流側のルツボ３の上方まで伸びたツバ９が第２ツバ９
ｂ，第３ツバ９ｃとして設けられている。これにより該
当するルツボ３の上方に隣接する上流側のルツボ３から
の蒸気５による蒸着膜が走行してこない間に、該当する
ルツボ３の蒸気５が隣接する上流側のルツボ３の蒸気５
と混じり、蒸着すべき層より下の層または基板２に蒸着
するのを防止する。例えば、図２（Ｂ）において、第１
蒸着膜６ａが第２ルツボ３ｂの上方まで走行してこない
ときに、第２蒸気５ｂが基板２に直接付着するのを防止
する。
【００２０】図２において（Ａ）は蒸着開始前の状態を
示す。この状態で各ルツボ３は所定温度に加熱され、蒸
発材料４からの蒸気５が発生し、シャッター８によって
基板２に蒸着するのを遮断されている。この状態で第１
シャッター８ａを（Ｂ）に示すように開放する。（Ｂ）
は第１シャッター８ａを開放し、第１蒸着膜６ａが形成
され第２ルツボ３ｂの上方まで走行してきた状態を示
す。この状態で（Ｃ）に示すように第２シャッター８ｂ
を開放する。（Ｃ）は第２シャッター８ｂを開放し、第
２蒸着膜６ｂが第１蒸着膜６ａの上に形成され、第３ル
ツボ３ｃの上方まで走行してきた状態を示す。この状態
で（Ｄ）に示すように第３シャッター８ｃを開放する。
（Ｄ）は第３シャッター８ｃを開放し、第３蒸着膜６ｃ
が第２蒸着膜６ｂの上に形成された状態を示す。この状
態より定常状態に入る。
示す。この状態で各ルツボ３は所定温度に加熱され、蒸
発材料４からの蒸気５が発生し、シャッター８によって
基板２に蒸着するのを遮断されている。この状態で第１
シャッター８ａを（Ｂ）に示すように開放する。（Ｂ）
は第１シャッター８ａを開放し、第１蒸着膜６ａが形成
され第２ルツボ３ｂの上方まで走行してきた状態を示
す。この状態で（Ｃ）に示すように第２シャッター８ｂ
を開放する。（Ｃ）は第２シャッター８ｂを開放し、第
２蒸着膜６ｂが第１蒸着膜６ａの上に形成され、第３ル
ツボ３ｃの上方まで走行してきた状態を示す。この状態
で（Ｄ）に示すように第３シャッター８ｃを開放する。
（Ｄ）は第３シャッター８ｃを開放し、第３蒸着膜６ｃ
が第２蒸着膜６ｂの上に形成された状態を示す。この状
態より定常状態に入る。
【００２１】以上の実施の形態では蒸着層を３層として
説明したが、複数層の場合に本発明を同様に適用するこ
とができる。
説明したが、複数層の場合に本発明を同様に適用するこ
とができる。
【００２２】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
は、成膜室内に基板の走行方向に複数のルツボを設け、
その上方にシャッターを配置し、蒸着開始時、基板に付
着した蒸着膜の位置に応じてシャッターを開放してゆく
ことにより、多層膜の蒸着を定められた層順に行い各膜
の剥離を防止するようにしたので、出側真空シール装置
の閉塞や正常な多層膜の損傷を防止することができる。
は、成膜室内に基板の走行方向に複数のルツボを設け、
その上方にシャッターを配置し、蒸着開始時、基板に付
着した蒸着膜の位置に応じてシャッターを開放してゆく
ことにより、多層膜の蒸着を定められた層順に行い各膜
の剥離を防止するようにしたので、出側真空シール装置
の閉塞や正常な多層膜の損傷を防止することができる。
【図１】第１実施の形態の構成とシャッターの開閉を示
す図である。
す図である。
【図２】第２実施の形態の構成とシャッターの開閉を示
す図である。
す図である。
【図３】連続真空蒸着装置の構成を示す図である。
【図４】３層膜を形成する方法を説明する図である。
【図５】従来の蒸着開始時の状態を説明する図である。
１ 成膜室 ２ 基板 ３ ルツボ ３ａ 第１ルツボ ３ｂ 第２ルツボ ３ｃ 第３ルツボ ４ 蒸発材料 ４ａ 第１蒸発材料 ４ｂ 第２蒸発材料 ４ｃ 第３蒸発材料 ５ 蒸気 ５ａ 第１蒸気 ５ｂ 第２蒸気 ５ｃ 第３蒸気 ６ 蒸着膜 ６ａ 第１蒸着膜 ６ｂ 第２蒸着膜 ６ｃ 第３蒸着膜 ７，８ シャッター ９ ツバ ９ｂ 第２ツバ ９ｃ 第３ツバ １１ 電子銃 １２ 電子ビーム １３ ルツボ １４ 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 毛利 元治 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内 (72)発明者 松田 至康 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内
Claims (3)
- 【請求項１】 連続的に走行する基板に蒸発材料の蒸気
を蒸着する成膜室内に基板の走行方向に複数のルツボを
設けた連続真空蒸着装置において、前記複数のルツボの
上方を前記基板に対して覆い、前記基板の走行方向に開
閉するシャッターを設け、蒸着開始時に基板に付着した
蒸着膜の位置に対応して開放してゆくことを特徴とする
多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置。 - 【請求項２】 連続的に走行する基板に蒸発材料の蒸気
を蒸着する成膜室内に基板の走行方向に複数のルツボを
設けた連続真空蒸着装置において、前記複数のルツボご
とに設けられ、対応するルツボの上方を前記基板に対し
て覆いこの基板の幅方向に開閉するシャッターを設け、
蒸着開始時に基板に付着した蒸着膜の位置に対応して上
流側のシャッターから順次開放してゆくことを特徴とす
る多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置。 - 【請求項３】 前記シャッターは、対応するルツボに隣
接する上流側のルツボの発生する蒸気内まで伸びた突出
部を有していることを特徴とする請求項２記載の多層膜
用シャッターを有する連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29956895A JPH09143721A (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29956895A JPH09143721A (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143721A true JPH09143721A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=17874318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29956895A Pending JPH09143721A (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09143721A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100777719B1 (ko) * | 2001-09-24 | 2007-11-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기능성 막의 제조장치 |
| KR100795063B1 (ko) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | 한국전기연구원 | 경사형 다층박막 증착 장치 및 그 다층박막의 제조방법 |
| WO2015087505A1 (ja) * | 2013-12-12 | 2015-06-18 | 株式会社アルバック | インライン式成膜装置の成膜準備方法及びインライン式成膜装置並びにキャリア |
| CN114150273A (zh) * | 2021-12-06 | 2022-03-08 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
-
1995
- 1995-11-17 JP JP29956895A patent/JPH09143721A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100777719B1 (ko) * | 2001-09-24 | 2007-11-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기능성 막의 제조장치 |
| KR100795063B1 (ko) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | 한국전기연구원 | 경사형 다층박막 증착 장치 및 그 다층박막의 제조방법 |
| WO2015087505A1 (ja) * | 2013-12-12 | 2015-06-18 | 株式会社アルバック | インライン式成膜装置の成膜準備方法及びインライン式成膜装置並びにキャリア |
| CN105874098A (zh) * | 2013-12-12 | 2016-08-17 | 株式会社爱发科 | 连续式成膜装置的成膜准备方法和连续式成膜装置以及搬运器 |
| TWI573886B (zh) * | 2013-12-12 | 2017-03-11 | Ulvac Inc | A film preparation method for continuous film forming apparatus, a continuous film forming apparatus, and a carrier |
| JPWO2015087505A1 (ja) * | 2013-12-12 | 2017-03-16 | 株式会社アルバック | インライン式成膜装置の成膜準備方法及びインライン式成膜装置並びにキャリア |
| CN114150273A (zh) * | 2021-12-06 | 2022-03-08 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4763601A (en) | Continuous composite coating apparatus for coating strip | |
| JPH09143721A (ja) | 多層膜用シャッターを有する連続真空蒸着装置 | |
| JP3407281B2 (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
| JPH06136537A (ja) | 連続帯状物用真空蒸着装置 | |
| JPH1136064A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH02247371A (ja) | イオンビーム照射前処理を施すことを特徴とする金属帯への連続真空蒸着またはイオンプレーテイング方法 | |
| JPS6046182B2 (ja) | 真空内被膜形成方法ならびに装置 | |
| US12618137B2 (en) | Coating method and device | |
| JPS6157905B2 (ja) | ||
| JP3281707B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0610335B2 (ja) | 耐熱性に優れたアルミニウムめつき鋼板 | |
| JPH09143673A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0673543A (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
| US20230243028A1 (en) | Coating method and device | |
| JPH05339706A (ja) | 真空蒸着めっき設備 | |
| JPH09324261A (ja) | 真空蒸着装置とその膜厚制御方法 | |
| JPH0488163A (ja) | 真空蒸着亜鉛めっき装置 | |
| JPH09143735A (ja) | 連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの付着防止装置およびその付着防止方法 | |
| JPH0757260A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPH11200023A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0754287Y2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| US3761302A (en) | Reducing re evaporation of vacuum vapor deposited coatings | |
| KR100198050B1 (ko) | 내면에 알루미늄 진공증착층을 갖는 내식성이 우수한 스테인레스강관 | |
| JPH0559549A (ja) | 薄膜の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 | |
| JPH09143688A (ja) | 真空蒸着用ルツボ |