JPH09143735A - 連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの付着防止装置およびその付着防止方法 - Google Patents
連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの付着防止装置およびその付着防止方法Info
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- JPH09143735A JPH09143735A JP30602395A JP30602395A JPH09143735A JP H09143735 A JPH09143735 A JP H09143735A JP 30602395 A JP30602395 A JP 30602395A JP 30602395 A JP30602395 A JP 30602395A JP H09143735 A JPH09143735 A JP H09143735A
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空成膜室で蒸着中にスプラッシュか発生し
た際、基板の下方に配設したスプラッシュ付着防止用シ
ャッタを遮蔽して基板への付着を防止する。 【解決手段】 真空成膜室内を連続走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてるつぼ
から発生して基板に付着するスプラッシュの付着防止装
置であって、るつぼ上方の前記基板との間に基板より幅
広で薄い平板状のスプラッシュ付着防止用シャッタを急
速開閉可能に配設するとともに該スプラッシュ付着防止
用シャッタの下方にスプラッシュ検出器を配設したもの
である。
た際、基板の下方に配設したスプラッシュ付着防止用シ
ャッタを遮蔽して基板への付着を防止する。 【解決手段】 真空成膜室内を連続走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてるつぼ
から発生して基板に付着するスプラッシュの付着防止装
置であって、るつぼ上方の前記基板との間に基板より幅
広で薄い平板状のスプラッシュ付着防止用シャッタを急
速開閉可能に配設するとともに該スプラッシュ付着防止
用シャッタの下方にスプラッシュ検出器を配設したもの
である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続真空蒸着装置
におけるスプラッシュの付着防止装置およびその不着防
止方法に関するものである。
におけるスプラッシュの付着防止装置およびその不着防
止方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】真空蒸着は、真空中で蒸発材料を加熱し
て蒸発させ、蒸発材料を基板の表面に蒸着させて皮膜を
作る成膜プロセスである。
て蒸発させ、蒸発材料を基板の表面に蒸着させて皮膜を
作る成膜プロセスである。
【０００３】この成膜プロセスに使用される連続真空蒸
着装置１は、図３に示すように、電子ビーム１０を放射
する電子銃９と、溶解した蒸発材料１２を収容するるつ
ぼ１１とを備えた真空成膜室２の上流側に、複数のロー
ル５を上下に千鳥状に配設して基板３を蛇行するように
通過させるとともにそれらのロール５を上下に挟むよう
に配設したシールブロック７によりロール５と通過する
基板３との間隙を少なくして真空成膜室２の真空が安定
して保てるようにする入側真空シール装置４と、通過す
る基板３を加熱して基板３の汚染除去と基板３への蒸着
に適した温度まで昇温を行う予備加熱装置８とを有し、
真空成膜室２の下流側にも前記入側真空シール装置４と
同様の構成を有して真空成膜室２の真空が安定して保て
るようにした出側真空シール装置１３を有している。な
お、１４はアンコイラー，１５はリコイラーである。
着装置１は、図３に示すように、電子ビーム１０を放射
する電子銃９と、溶解した蒸発材料１２を収容するるつ
ぼ１１とを備えた真空成膜室２の上流側に、複数のロー
ル５を上下に千鳥状に配設して基板３を蛇行するように
通過させるとともにそれらのロール５を上下に挟むよう
に配設したシールブロック７によりロール５と通過する
基板３との間隙を少なくして真空成膜室２の真空が安定
して保てるようにする入側真空シール装置４と、通過す
る基板３を加熱して基板３の汚染除去と基板３への蒸着
に適した温度まで昇温を行う予備加熱装置８とを有し、
真空成膜室２の下流側にも前記入側真空シール装置４と
同様の構成を有して真空成膜室２の真空が安定して保て
るようにした出側真空シール装置１３を有している。な
お、１４はアンコイラー，１５はリコイラーである。
【０００４】なお、前記真空成膜室２，入側真空シール
装置４，予備加熱装置８および出側真空シール装置１３
は、いずれも真空ポンプ６（符号は共通に使用）により
排気され、成膜室２では１０-3〜１０-5Ｔｏｒｒの真空
に保持されている。
装置４，予備加熱装置８および出側真空シール装置１３
は、いずれも真空ポンプ６（符号は共通に使用）により
排気され、成膜室２では１０-3〜１０-5Ｔｏｒｒの真空
に保持されている。
【０００５】上記のような構成を有する連続真空蒸着装
置１は、真空成膜室２において、るつぼ１１内に、図示
しない供給装置により蒸発材料１２を供給し、この蒸発
材料１２を電子銃９から放射する電子ビーム１０により
溶融・蒸発させて連続走行する帯状の基板３に蒸着す
る。
置１は、真空成膜室２において、るつぼ１１内に、図示
しない供給装置により蒸発材料１２を供給し、この蒸発
材料１２を電子銃９から放射する電子ビーム１０により
溶融・蒸発させて連続走行する帯状の基板３に蒸着す
る。
【０００６】また、るつぼ１１内に供給された蒸発材料
１２を溶解している間、図４に示すように、るつぼ１１
の上方を輻射熱防止用シャツタ１６で遮蔽し、基板３に
対する輻射熱の影響を防止する。そして、溶解が完了す
るとこの輻射熱防止用シャツタ１６を図示しないエアシ
リンダなどのアクチュエータを作動して移動し、るつぼ
１１の上方を開放して基板３への蒸着を開始する。な
お、１７は輻射熱防止用シャツタ１６に横方向の端部に
設けた走行用ローラであり、１８は真空蒸着室２内に固
設した輻射熱防止用シャツタ１６の支持材である。
１２を溶解している間、図４に示すように、るつぼ１１
の上方を輻射熱防止用シャツタ１６で遮蔽し、基板３に
対する輻射熱の影響を防止する。そして、溶解が完了す
るとこの輻射熱防止用シャツタ１６を図示しないエアシ
リンダなどのアクチュエータを作動して移動し、るつぼ
１１の上方を開放して基板３への蒸着を開始する。な
お、１７は輻射熱防止用シャツタ１６に横方向の端部に
設けた走行用ローラであり、１８は真空蒸着室２内に固
設した輻射熱防止用シャツタ１６の支持材である。
【０００７】前記輻射熱防止用シャツタ１６は、水冷等
により冷却されている。
により冷却されている。
【０００８】上記真空成膜室２には、蒸発材料１２を電
子銃９から放射する電子ビーム１０により溶融・蒸発し
て基板３に蒸着する際、るつぼ１１の内部や蒸発材料１
２のペレットに含まれる空気等の不純物が蒸発材料１２
の溶湯に混入してスプラッシュが発生する。スプラッシ
ュは、一度発生すると続けて発生することが多い。な
お、このスプラッシュとは、加熱された蒸発材料などが
蒸発せずに飛び散る現象をいう。
子銃９から放射する電子ビーム１０により溶融・蒸発し
て基板３に蒸着する際、るつぼ１１の内部や蒸発材料１
２のペレットに含まれる空気等の不純物が蒸発材料１２
の溶湯に混入してスプラッシュが発生する。スプラッシ
ュは、一度発生すると続けて発生することが多い。な
お、このスプラッシュとは、加熱された蒸発材料などが
蒸発せずに飛び散る現象をいう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た連続真空蒸着装置１では、基板３に対するスプラッシ
ュの付着防止は行われていなかった。したがって、スプ
ラッシュの付着した基板３は製品とならず、また、基板
３がスプラッシュを付着したまま走行して真空成膜室２
の下流側に設けられた出側真空シール装置１３を通過す
ると、出側真空シール装置１３のシールブロック７とロ
ール５との間の間隙に噛み込んでしまい、板切れをおこ
すことがある。さらに、基板３の巻き取りの際、スプラ
ッシュの無い所まで数１０ｍにわたって圧こんが付き不
良製品ができてしまうという問題があった。
た連続真空蒸着装置１では、基板３に対するスプラッシ
ュの付着防止は行われていなかった。したがって、スプ
ラッシュの付着した基板３は製品とならず、また、基板
３がスプラッシュを付着したまま走行して真空成膜室２
の下流側に設けられた出側真空シール装置１３を通過す
ると、出側真空シール装置１３のシールブロック７とロ
ール５との間の間隙に噛み込んでしまい、板切れをおこ
すことがある。さらに、基板３の巻き取りの際、スプラ
ッシュの無い所まで数１０ｍにわたって圧こんが付き不
良製品ができてしまうという問題があった。
【００１０】なお、輻射熱防止用シャツタ１６をスプラ
ッシュの付着防止用に使用することも考えられるが、輻
射熱防止用シャツタ１６は、重量があり、動きが遅いの
でスプラッシュの付着防止用としては望ましくない。
ッシュの付着防止用に使用することも考えられるが、輻
射熱防止用シャツタ１６は、重量があり、動きが遅いの
でスプラッシュの付着防止用としては望ましくない。
【００１１】本発明は、上記のような課題を解決するた
めに創案されたもので、基板上にスプラッシュの付着す
るのを防止する、連続真空蒸着装置におけるスプラッシ
ュの付着防止装置およびその付着防止方法を提供するこ
とを目的とするものである。
めに創案されたもので、基板上にスプラッシュの付着す
るのを防止する、連続真空蒸着装置におけるスプラッシ
ュの付着防止装置およびその付着防止方法を提供するこ
とを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、真空成膜室内を連続走行する帯状
の基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置において
るつぼから発生して基板に付着するスプラッシュの付着
防止装置であって、るつぼ上方の前記基板との間に基板
より幅広で薄い平板状のスプラッシュ付着防止用シャッ
タを急速開閉可能に配設するとともに該スプラッシュ付
着防止用シャッタの下方にスプラッシュ検出器を配設し
たことを特徴とする連続真空蒸着装置におけるスプラッ
シュの付着防止装置が提供される。
め、本発明によれば、真空成膜室内を連続走行する帯状
の基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置において
るつぼから発生して基板に付着するスプラッシュの付着
防止装置であって、るつぼ上方の前記基板との間に基板
より幅広で薄い平板状のスプラッシュ付着防止用シャッ
タを急速開閉可能に配設するとともに該スプラッシュ付
着防止用シャッタの下方にスプラッシュ検出器を配設し
たことを特徴とする連続真空蒸着装置におけるスプラッ
シュの付着防止装置が提供される。
【００１３】また、真空成膜室内を連続走行する帯状の
基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてる
つぼから発生して基板に付着するスプラッシュの付着防
止方法であって、蒸発材料を蒸着中、スプラッシュが発
生すると、スプラッシュ検出器がそれを検知し、スプラ
ッシュ付着防止用シャッタを作動して基板の下面を急速
に遮蔽するようにしたことを特徴とする連続真空蒸着装
置におけるスプラッシュの付着防止方法が提供される。
基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてる
つぼから発生して基板に付着するスプラッシュの付着防
止方法であって、蒸発材料を蒸着中、スプラッシュが発
生すると、スプラッシュ検出器がそれを検知し、スプラ
ッシュ付着防止用シャッタを作動して基板の下面を急速
に遮蔽するようにしたことを特徴とする連続真空蒸着装
置におけるスプラッシュの付着防止方法が提供される。
【００１４】上記本発明の構成によれば、真空成膜室内
のるつぼと基板との間に配設したスプラッシュ付着防止
用シャッタによりスプラッシュが基板上に付着するのを
防止するので、基板を巻き取る際の圧こんがなくなり、
したがって、製品の歩留りを向上させることができる。
のるつぼと基板との間に配設したスプラッシュ付着防止
用シャッタによりスプラッシュが基板上に付着するのを
防止するので、基板を巻き取る際の圧こんがなくなり、
したがって、製品の歩留りを向上させることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図面に基づいて説明する。なお、各図において従来
のものと共通する部分については同じ符号を用いて説明
する。図１および図２は、本発明の一実施形態を示すも
のであり、図１は本発明による連続真空蒸着装置の真空
成膜室の断面図、図２は図１に示すスプラッシュ検出器
の側面図である。
態を図面に基づいて説明する。なお、各図において従来
のものと共通する部分については同じ符号を用いて説明
する。図１および図２は、本発明の一実施形態を示すも
のであり、図１は本発明による連続真空蒸着装置の真空
成膜室の断面図、図２は図１に示すスプラッシュ検出器
の側面図である。
【００１６】図１および図２において、連続走行する帯
状の基板３には、真空成膜室２内で蒸発材料１２が蒸着
する。１０は電子銃９から放射された電子ビームで、る
つぼ１１内に供給された蒸発材料１２を加熱・溶解す
る。１６はるつぼ１１の上方に位置して、基板３の下側
に配設された輻射熱防止用シャッタで、幅方向の端部に
設けられたローラ１７を介して真空成膜室２内に固設し
た輻射熱防止用シャッタ支持材１８に載置し、開閉可能
に配設されている。
状の基板３には、真空成膜室２内で蒸発材料１２が蒸着
する。１０は電子銃９から放射された電子ビームで、る
つぼ１１内に供給された蒸発材料１２を加熱・溶解す
る。１６はるつぼ１１の上方に位置して、基板３の下側
に配設された輻射熱防止用シャッタで、幅方向の端部に
設けられたローラ１７を介して真空成膜室２内に固設し
た輻射熱防止用シャッタ支持材１８に載置し、開閉可能
に配設されている。
【００１７】１９は前記輻射熱防止用シャッタ１６の下
側に配設されたスプラッシュ付着防止用シャッタであ
り、輻射熱防止用シャッタ１６と同様に、図示しないエ
アシリンダなどのアクチュエータを作動して開閉可能に
なっている。また、このスプラッシュ防止用シャッタ１
９は、前記基板３より幅広で薄い平板状のもので、例え
ば、カーボン繊維を固めた、軽量で耐熱性に優れた部材
で構成されている。２０はこのスプラッシュ付着防止用
シャッタを案内するガイド部材である。
側に配設されたスプラッシュ付着防止用シャッタであ
り、輻射熱防止用シャッタ１６と同様に、図示しないエ
アシリンダなどのアクチュエータを作動して開閉可能に
なっている。また、このスプラッシュ防止用シャッタ１
９は、前記基板３より幅広で薄い平板状のもので、例え
ば、カーボン繊維を固めた、軽量で耐熱性に優れた部材
で構成されている。２０はこのスプラッシュ付着防止用
シャッタを案内するガイド部材である。
【００１８】２１は光電管などのスプラッシュ検出器
で、発信器２１ａと受信器２１ｂで構成され、図２に示
すようにるつぼ１１の上方に、るつぼ１１の外側面より
外側に、図示しない支持材により支持されている。２１
ｃは発信器２１ａから発信された光線２１ｃで、蒸着中
に蒸発材料１２の溶湯からスプラッシュ２２が発生する
と、スプラッシュ２２はこの光線２１ｃをさえぎるよう
に構成されている。なお、真空成膜室２内は、るつぼ１
１の上方は溶湯の輝きによりほのかに明るくなっている
がその周りは暗いので、スプラッシュ検出器２１は光電
管の指向性を高めることが望ましい。
で、発信器２１ａと受信器２１ｂで構成され、図２に示
すようにるつぼ１１の上方に、るつぼ１１の外側面より
外側に、図示しない支持材により支持されている。２１
ｃは発信器２１ａから発信された光線２１ｃで、蒸着中
に蒸発材料１２の溶湯からスプラッシュ２２が発生する
と、スプラッシュ２２はこの光線２１ｃをさえぎるよう
に構成されている。なお、真空成膜室２内は、るつぼ１
１の上方は溶湯の輝きによりほのかに明るくなっている
がその周りは暗いので、スプラッシュ検出器２１は光電
管の指向性を高めることが望ましい。
【００１９】次に実施の形態に基づく作用について説明
する。るつぼ１１内に供給された蒸発材料１２を溶解し
ている間、るつぼ１１の上方を輻射熱防止用シャツタ１
６で遮蔽する。溶解が完了するとこの輻射熱防止用シャ
ッタ１６をアクチュエータにより作動してるつぼ１１の
上方を開放し、基板３への蒸着を連続して行う。蒸着中
にスプラッシュ２２が発生すると、蒸着中、常時発光さ
れている光線は、スプラッシュ２２によってさえぎられ
る。すると、スプラッシュ検出器２１は、ただちに、ア
クチュエータに指令を送り、輻射熱防止用シャッタ１６
を急速に閉めて基板３の下を遮蔽する。基板３は輻射熱
防止用シャッタ１６によって遮蔽されている間も、停止
することなく出側真空シール装置１３に向かって進行す
る。
する。るつぼ１１内に供給された蒸発材料１２を溶解し
ている間、るつぼ１１の上方を輻射熱防止用シャツタ１
６で遮蔽する。溶解が完了するとこの輻射熱防止用シャ
ッタ１６をアクチュエータにより作動してるつぼ１１の
上方を開放し、基板３への蒸着を連続して行う。蒸着中
にスプラッシュ２２が発生すると、蒸着中、常時発光さ
れている光線は、スプラッシュ２２によってさえぎられ
る。すると、スプラッシュ検出器２１は、ただちに、ア
クチュエータに指令を送り、輻射熱防止用シャッタ１６
を急速に閉めて基板３の下を遮蔽する。基板３は輻射熱
防止用シャッタ１６によって遮蔽されている間も、停止
することなく出側真空シール装置１３に向かって進行す
る。
【００２０】本発明は、上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更
し得ることは勿論である。
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更
し得ることは勿論である。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、連
続真空蒸着装置において蒸着中にるつぼからスプラッシ
ュが発生しても、スプラッシュ付着防止用シャッタによ
り基板への付着を防止する。したがって、基板の巻き取
りの際、圧こんがスプラッシュの無い所まで付いてしま
うことがないので製品の歩留りを向上させることができ
るなど優れた効果を奏する。
続真空蒸着装置において蒸着中にるつぼからスプラッシ
ュが発生しても、スプラッシュ付着防止用シャッタによ
り基板への付着を防止する。したがって、基板の巻き取
りの際、圧こんがスプラッシュの無い所まで付いてしま
うことがないので製品の歩留りを向上させることができ
るなど優れた効果を奏する。
【図１】本発明の連続真空蒸着装置の真空成膜室の断面
図である。
図である。
【図２】図１に示すスクレーパの拡大図である。
【図３】従来の連続真空蒸着装置を示した全体構成図で
ある。
ある。
【図４】図３の一部拡大図である。
１ 連続真空蒸着装置 ２ 成膜室 ３ 基板 ４ 入側真空装置 ５ ロール ６ ポンプ ７ シールブロック ８ 予備加熱装置 ９ 電子銃 １０ 電子ビーム １１ るつぼ １２ 蒸発材料 １３ 出側真空装置 １４ アンコイラー １５ リコイラー １６ 輻射熱防止用シャッタ １７ ローラ １８ 輻射熱防止用シャッタ支持材 １９ スプラッシュ付着防止用シャッタ ２０ スプラッシュ付着防止用シャッタガイド ２１ スプラッシュ検出器 ２１ａ 発信器 ２１ｂ 受信器 ２１ｃ 光線 ２２ スプラッシュ
フロントページの続き (72)発明者 毛利 元治 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内 (72)発明者 松田 至康 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内
Claims (2)
- 【請求項１】 真空成膜室内を連続走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてるつぼ
から発生して基板に付着するスプラッシュの付着防止装
置であって、るつぼ上方の前記基板との間に基板より幅
広で薄い平板状のスプラッシュ付着防止用シャッタを急
速開閉可能に配設するとともに該スプラッシュ付着防止
用シャッタの下方にスプラッシュ検出器を配設したこと
を特徴とする連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの
付着防止装置。 - 【請求項２】 真空成膜室内を連続走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてるつぼ
から発生して基板に付着するスプラッシュの付着防止方
法であって、蒸発材料を蒸着中、スプラッシュが発生す
ると、スプラッシュ検出器がそれを検知し、スプラッシ
ュ付着防止用シャッタを作動して基板の下面を急速に遮
蔽するようにしたことを特徴とする連続真空蒸着装置に
おけるスプラッシュの付着防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30602395A JPH09143735A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの付着防止装置およびその付着防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30602395A JPH09143735A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの付着防止装置およびその付着防止方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143735A true JPH09143735A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=17952152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30602395A Pending JPH09143735A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの付着防止装置およびその付着防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09143735A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115612990A (zh) * | 2022-10-28 | 2023-01-17 | 光洋新材料科技(昆山)有限公司 | 一种蒸镀坩埚的防黏处理方法 |
-
1995
- 1995-11-24 JP JP30602395A patent/JPH09143735A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115612990A (zh) * | 2022-10-28 | 2023-01-17 | 光洋新材料科技(昆山)有限公司 | 一种蒸镀坩埚的防黏处理方法 |
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