JPH09148092A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH09148092A JPH09148092A JP7307719A JP30771995A JPH09148092A JP H09148092 A JPH09148092 A JP H09148092A JP 7307719 A JP7307719 A JP 7307719A JP 30771995 A JP30771995 A JP 30771995A JP H09148092 A JPH09148092 A JP H09148092A
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- gas
- plasma
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 飛散粒子制御部材の効果を減ずることなく、
充填した飛散粒子阻止用のガスや飛散粒子阻止部材を効
果的に利用できるようにして、長時間安定して使用でき
るＸ線発生装置を提供する。 【解決手段】 プラズマ４１１から飛散粒子阻止部材４
１２の直前までの第１領域における圧力を相対的に小さ
くし、飛散粒子阻止部材４１２から光学素子４１０まで
の第２領域における圧力を相対的に高くする圧力分離機
構を設け、かつ、第２領域に飛散粒子阻止用のガスを導
入するためのガス導入口４１３を設けた。
充填した飛散粒子阻止用のガスや飛散粒子阻止部材を効
果的に利用できるようにして、長時間安定して使用でき
るＸ線発生装置を提供する。 【解決手段】 プラズマ４１１から飛散粒子阻止部材４
１２の直前までの第１領域における圧力を相対的に小さ
くし、飛散粒子阻止部材４１２から光学素子４１０まで
の第２領域における圧力を相対的に高くする圧力分離機
構を設け、かつ、第２領域に飛散粒子阻止用のガスを導
入するためのガス導入口４１３を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線
分析装置、Ｘ線露光装置などのＸ線装置に用いて好適な
Ｘ線発生装置に関するものである。
分析装置、Ｘ線露光装置などのＸ線装置に用いて好適な
Ｘ線発生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザー光（励起エネルギービームの一
例）を減圧された真空容器内に置かれた標的部材に集光
して照射すると、標的部材は急速にプラズマ化し、この
プラズマから非常に輝度の高いＸ線が輻射（放出）され
る（Ｘ線を発生する）ことが知られている。
例）を減圧された真空容器内に置かれた標的部材に集光
して照射すると、標的部材は急速にプラズマ化し、この
プラズマから非常に輝度の高いＸ線が輻射（放出）され
る（Ｘ線を発生する）ことが知られている。
【０００３】Ｘ線の発生と共に、前記プラズマからは高
速の電子やイオンなどの飛散粒子がまた、前記標的部材
からは部材の飛散粒子（例えば、ガス化した材料、イオ
ン化した材料、材料小片など）が放出されて真空容器内
に飛散する（以下、これらをまとめて飛散粒子と呼
ぶ）。このような飛散粒子は、光学素子の清浄光学表面
（例えば、Ｘ線光学素子面）に衝突して、これらを破損
させたり、あるいは、付着、堆積して機能や特性を低下
させたりするので、大きな問題であった。
速の電子やイオンなどの飛散粒子がまた、前記標的部材
からは部材の飛散粒子（例えば、ガス化した材料、イオ
ン化した材料、材料小片など）が放出されて真空容器内
に飛散する（以下、これらをまとめて飛散粒子と呼
ぶ）。このような飛散粒子は、光学素子の清浄光学表面
（例えば、Ｘ線光学素子面）に衝突して、これらを破損
させたり、あるいは、付着、堆積して機能や特性を低下
させたりするので、大きな問題であった。
【０００４】この問題を解決するために従来の方法で
は、Ｘ線源となるプラズマと光学素子との間にＸ線透過
性の高い物質（例えば、Ｂｅ）からなる薄膜（以下、飛
散粒子阻止用薄膜と呼ぶ）を設置して遮蔽することによ
り、飛散粒子が光学素子に到達しないようにしていた。
その他の方法としては、プラズマまたは標的部材の近傍
に飛散粒子制御部材を設けて、Ｘ線取り出し方向への飛
散粒子放出量の分布を減少させる方法（特願平６−２１
６１３１参照）がある。
は、Ｘ線源となるプラズマと光学素子との間にＸ線透過
性の高い物質（例えば、Ｂｅ）からなる薄膜（以下、飛
散粒子阻止用薄膜と呼ぶ）を設置して遮蔽することによ
り、飛散粒子が光学素子に到達しないようにしていた。
その他の方法としては、プラズマまたは標的部材の近傍
に飛散粒子制御部材を設けて、Ｘ線取り出し方向への飛
散粒子放出量の分布を減少させる方法（特願平６−２１
６１３１参照）がある。
【０００５】プラズマ生成位置の近傍に、例えば図１に
示すような飛散粒子制御部材１０１を設けると、飛散粒
子放出量の角度分布は図２に示す破線のような分布から
実線のような角度分布に変化する。飛散粒子制御部材１
０１は、厚さO.4 ｍｍのステンレス製であり、図に示し
たような開口を有する形状をしている。プラズマ１０５
は、その開口中の端から１ｍｍ程度の所に生成される。
このとき、Ｘ線の取り出し方向を３０度よりも角度の大
きい方向にとれば、Ｘ線取り出し方向に放出される飛散
粒子の量を大幅に減少させることができる。
示すような飛散粒子制御部材１０１を設けると、飛散粒
子放出量の角度分布は図２に示す破線のような分布から
実線のような角度分布に変化する。飛散粒子制御部材１
０１は、厚さO.4 ｍｍのステンレス製であり、図に示し
たような開口を有する形状をしている。プラズマ１０５
は、その開口中の端から１ｍｍ程度の所に生成される。
このとき、Ｘ線の取り出し方向を３０度よりも角度の大
きい方向にとれば、Ｘ線取り出し方向に放出される飛散
粒子の量を大幅に減少させることができる。
【０００６】また、その他、真空容器内にＸ線に対する
透過率の高い低原子番号のガス（例えば、Ｈｅガス）を
充填することにより、あるいは該ガスのガス流を形成す
ることにより、飛散粒子の阻止を図る方法（特開昭６３
−２９２５５３参照）が提案されている。
透過率の高い低原子番号のガス（例えば、Ｈｅガス）を
充填することにより、あるいは該ガスのガス流を形成す
ることにより、飛散粒子の阻止を図る方法（特開昭６３
−２９２５５３参照）が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前記方法は、すべて併
せて用いることができる。その例を図３に示す。プラズ
マ生成部は、図１に示したようになっている。Ｘ線の取
り出し方向は標的部材３０３のレーザー光３０９照射位
置における法線方向から４５度の方向であり、飛散粒子
制御部材３０１がない場合に比べて１０分の１程度に飛
散粒子が減少する。
せて用いることができる。その例を図３に示す。プラズ
マ生成部は、図１に示したようになっている。Ｘ線の取
り出し方向は標的部材３０３のレーザー光３０９照射位
置における法線方向から４５度の方向であり、飛散粒子
制御部材３０１がない場合に比べて１０分の１程度に飛
散粒子が減少する。
【０００８】真空容器内にはＸ線の透過率が高い飛散粒
子阻止用のガスが充填されており、飛散粒子をガス分子
との散乱によって阻止する。プラズマ３１１からＸ線取
り出しフィルター（光学素子の一例）３１０を見込む立
体角範囲を開口が覆うように、開口を有する飛散粒子阻
止部材３０４，３０５，３０６が配置されており、飛散
粒子がガス分子との散乱により回り込んで、Ｘ線取り出
しフィルター３１０に到達することのないようになって
いる。
子阻止用のガスが充填されており、飛散粒子をガス分子
との散乱によって阻止する。プラズマ３１１からＸ線取
り出しフィルター（光学素子の一例）３１０を見込む立
体角範囲を開口が覆うように、開口を有する飛散粒子阻
止部材３０４，３０５，３０６が配置されており、飛散
粒子がガス分子との散乱により回り込んで、Ｘ線取り出
しフィルター３１０に到達することのないようになって
いる。
【０００９】しかし、この場合、飛散粒子は飛散粒子阻
止部材３０４に到達するまでの空間でも充填されたガス
によって散乱される。例えば、Ｋｒガスが0.1 ｔｏｒｒ
充填されている場合、図２中の実線で示された角度分布
は、プラズマから１００ｍｍの位置では、一点鎖線のよ
うな角度分布に変化してしまう。このように、飛散粒子
制御部材３０１によりＸ線取り出し方向への飛散粒子が
少なくなるように制御した角度分布は、飛散粒子が飛散
粒子阻止部材３０４に到達するまでに充填ガスにより散
乱されるため変化してしまい、結果として、飛散粒子制
御部材３０４の効果が打ち消されてしまうという問題点
があった。
止部材３０４に到達するまでの空間でも充填されたガス
によって散乱される。例えば、Ｋｒガスが0.1 ｔｏｒｒ
充填されている場合、図２中の実線で示された角度分布
は、プラズマから１００ｍｍの位置では、一点鎖線のよ
うな角度分布に変化してしまう。このように、飛散粒子
制御部材３０１によりＸ線取り出し方向への飛散粒子が
少なくなるように制御した角度分布は、飛散粒子が飛散
粒子阻止部材３０４に到達するまでに充填ガスにより散
乱されるため変化してしまい、結果として、飛散粒子制
御部材３０４の効果が打ち消されてしまうという問題点
があった。
【００１０】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
ものであり、飛散粒子制御部材の効果を減ずることな
く、充填した飛散粒子阻止用のガスや飛散粒子阻止部材
を効果的に利用できるようにして、その結果、長時間安
定して使用できるＸ線発生装置を提供することを目的と
する。
ものであり、飛散粒子制御部材の効果を減ずることな
く、充填した飛散粒子阻止用のガスや飛散粒子阻止部材
を効果的に利用できるようにして、その結果、長時間安
定して使用できるＸ線発生装置を提供することを目的と
する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギー
ビームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマから
Ｘ線を取り出すＸ線発生装置であり、前記標的部材及び
／又は前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の
方向分布を制御して、前記Ｘ線を取り出す方向への飛散
粒子放出量を低減させる飛散粒子制御部材を前記標的部
材に隣接または近接させて設け、かつ、前記真空容器内
に設置された光学素子に前記飛散粒子が衝突、付着また
は堆積するのを防止するための部材であり開口を有する
飛散粒子阻止部材を前記エネルギービームまたは前記Ｘ
線が該開口を通過するように、前記プラズマと前記光学
素子との間に設けたＸ線発生装置において、前記プラズ
マから前記飛散粒子阻止部材の直前までの第１領域にお
ける圧力を相対的に小さくし、前記飛散粒子阻止部材か
ら前記光学素子までの第２領域における圧力を相対的に
高くする圧力分離機構を設け、かつ、前記第２領域に飛
散粒子阻止用のガスを導入するためのガス導入口を設け
たことを特徴とするＸ線発生装置（請求項１）」を提供
する。
に「減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギー
ビームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマから
Ｘ線を取り出すＸ線発生装置であり、前記標的部材及び
／又は前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の
方向分布を制御して、前記Ｘ線を取り出す方向への飛散
粒子放出量を低減させる飛散粒子制御部材を前記標的部
材に隣接または近接させて設け、かつ、前記真空容器内
に設置された光学素子に前記飛散粒子が衝突、付着また
は堆積するのを防止するための部材であり開口を有する
飛散粒子阻止部材を前記エネルギービームまたは前記Ｘ
線が該開口を通過するように、前記プラズマと前記光学
素子との間に設けたＸ線発生装置において、前記プラズ
マから前記飛散粒子阻止部材の直前までの第１領域にお
ける圧力を相対的に小さくし、前記飛散粒子阻止部材か
ら前記光学素子までの第２領域における圧力を相対的に
高くする圧力分離機構を設け、かつ、前記第２領域に飛
散粒子阻止用のガスを導入するためのガス導入口を設け
たことを特徴とするＸ線発生装置（請求項１）」を提供
する。
【００１２】また、本発明は第二に「前記圧力分離機構
は少なくとも、前記第１領域に接続された真空排気機構
と、前記第１領域及び第２領域を分離する部材であり両
領域をつなぐ微少開口を有する分離部材とを備えてお
り、かつ、該微少開口は前記エネルギービームまたは前
記Ｘ線が通過するように配置されていることを特徴とす
る請求項１記載のＸ線発生装置（請求項２）」を提供す
る。
は少なくとも、前記第１領域に接続された真空排気機構
と、前記第１領域及び第２領域を分離する部材であり両
領域をつなぐ微少開口を有する分離部材とを備えてお
り、かつ、該微少開口は前記エネルギービームまたは前
記Ｘ線が通過するように配置されていることを特徴とす
る請求項１記載のＸ線発生装置（請求項２）」を提供す
る。
【００１３】また、本発明は第三に「前記圧力分離機構
は少なくとも、前記第１領域に接続された真空排気機構
と、前記第１領域及び第２領域を分離する部材と、該部
材に接合された前記飛散粒子阻止部材であり前記二つの
領域をつなぐ微少開口を有する飛散粒子阻止部材とを備
えており、かつ、該微少開口は前記エネルギービームま
たは前記Ｘ線が通過するように配置されていることを特
徴とする請求項１記載のＸ線発生装置（請求項３）」を
提供する。
は少なくとも、前記第１領域に接続された真空排気機構
と、前記第１領域及び第２領域を分離する部材と、該部
材に接合された前記飛散粒子阻止部材であり前記二つの
領域をつなぐ微少開口を有する飛散粒子阻止部材とを備
えており、かつ、該微少開口は前記エネルギービームま
たは前記Ｘ線が通過するように配置されていることを特
徴とする請求項１記載のＸ線発生装置（請求項３）」を
提供する。
【００１４】また、本発明は第四に「前記飛散粒子阻止
部材は少なくとも、開口を有する複数の板状部材または
複数の開口を有する部材を備えていることを特徴とする
請求項１〜３記載のＸ線発生装置（請求項４）」を提供
する。また、本発明は第五に「前記飛散粒子阻止部材
は、バッフルを有するダクトを備えていることを特徴と
する請求項４記載のＸ線発生装置（請求項５）」を提供
する。
部材は少なくとも、開口を有する複数の板状部材または
複数の開口を有する部材を備えていることを特徴とする
請求項１〜３記載のＸ線発生装置（請求項４）」を提供
する。また、本発明は第五に「前記飛散粒子阻止部材
は、バッフルを有するダクトを備えていることを特徴と
する請求項４記載のＸ線発生装置（請求項５）」を提供
する。
【００１５】また、本発明は第六に「前記ダクトに飛散
粒子阻止用のガスを導入するためのガス導入口を設けた
ことを特徴とする請求項５記載のＸ線発生装置（請求項
６）」を提供する。また、本発明は第七に「前記圧力分
離機構は少なくとも、前記第１領域に接続された真空排
気機構と、バッフル及びガス導入口が設けられたダクト
を有する飛散粒子阻止部材とを備えていることを特徴と
する請求項１記載のＸ線発生装置（請求項７）」を提供
する。
粒子阻止用のガスを導入するためのガス導入口を設けた
ことを特徴とする請求項５記載のＸ線発生装置（請求項
６）」を提供する。また、本発明は第七に「前記圧力分
離機構は少なくとも、前記第１領域に接続された真空排
気機構と、バッフル及びガス導入口が設けられたダクト
を有する飛散粒子阻止部材とを備えていることを特徴と
する請求項１記載のＸ線発生装置（請求項７）」を提供
する。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明のＸ線発生装置（請求項１
〜７）においては、プラズマから飛散粒子阻止部材の直
前までの第１領域における圧力を相対的に小さくし、飛
散粒子阻止部材から光学素子までの第２領域における圧
力を相対的に高くする圧力分離機構を設け、かつ、前記
第２領域に飛散粒子阻止用のガスを導入するためのガス
導入口を設けているので、飛散粒子制御部材の効果を減
ずることなく、充填したガスや飛散粒子阻止部材を効果
的に利用できるようにして、その結果、装置を長時間安
定して使用できるという効果を奏する。
〜７）においては、プラズマから飛散粒子阻止部材の直
前までの第１領域における圧力を相対的に小さくし、飛
散粒子阻止部材から光学素子までの第２領域における圧
力を相対的に高くする圧力分離機構を設け、かつ、前記
第２領域に飛散粒子阻止用のガスを導入するためのガス
導入口を設けているので、飛散粒子制御部材の効果を減
ずることなく、充填したガスや飛散粒子阻止部材を効果
的に利用できるようにして、その結果、装置を長時間安
定して使用できるという効果を奏する。
【００１７】前記飛散粒子制御部材による制御効果を強
化して、装置を長時間安定して使用できるという前記効
果を増大するために、本発明にかかる圧力分離機構とし
ては、例えば、少なくとも、前記第１領域に接続された
真空排気機構と、前記第１領域及び第２領域を分離する
部材であり両領域をつなぐ微少開口を有する分離部材と
を備えた機構が好ましく、かつ、該微少開口を前記エネ
ルギービームまたは前記Ｘ線が通過するように配置する
ことが好ましい（請求項２）。
化して、装置を長時間安定して使用できるという前記効
果を増大するために、本発明にかかる圧力分離機構とし
ては、例えば、少なくとも、前記第１領域に接続された
真空排気機構と、前記第１領域及び第２領域を分離する
部材であり両領域をつなぐ微少開口を有する分離部材と
を備えた機構が好ましく、かつ、該微少開口を前記エネ
ルギービームまたは前記Ｘ線が通過するように配置する
ことが好ましい（請求項２）。
【００１８】或いは、同様に、本発明にかかる圧力分離
機構としては、少なくとも、前記第１領域に接続された
真空排気機構と、前記第１領域及び第２領域を分離する
部材と、該部材に接合された前記飛散粒子阻止部材であ
り前記二つの領域をつなぐ微少開口を有する飛散粒子阻
止部材とを備えた機構が好ましく、かつ、該微少開口を
前記エネルギービームまたは前記Ｘ線が通過するように
配置することが好ましい（請求項３）。
機構としては、少なくとも、前記第１領域に接続された
真空排気機構と、前記第１領域及び第２領域を分離する
部材と、該部材に接合された前記飛散粒子阻止部材であ
り前記二つの領域をつなぐ微少開口を有する飛散粒子阻
止部材とを備えた機構が好ましく、かつ、該微少開口を
前記エネルギービームまたは前記Ｘ線が通過するように
配置することが好ましい（請求項３）。
【００１９】飛散粒子阻止効果を増大するために、本発
明にかかる飛散粒子阻止部材としては、少なくとも、開
口を有する複数の板状部材または複数の開口を有する部
材を備えたものが好ましい（請求項４）。或いは、同様
に、本発明にかかる飛散粒子阻止部材としては、バッフ
ルを有するダクトを備えたものが好ましい（請求項
５）。
明にかかる飛散粒子阻止部材としては、少なくとも、開
口を有する複数の板状部材または複数の開口を有する部
材を備えたものが好ましい（請求項４）。或いは、同様
に、本発明にかかる飛散粒子阻止部材としては、バッフ
ルを有するダクトを備えたものが好ましい（請求項
５）。
【００２０】また、前記飛散粒子制御部材による制御効
果及び前記飛散粒子阻止効果を増大するために、本発明
にかかるダクトに飛散粒子阻止用のガスを導入するため
のガス導入口を設けることが好ましい（請求項６）。ま
た、前記飛散粒子制御部材による制御効果を強化して、
装置を長時間安定して使用できるという前記効果を増大
するために、本発明にかかる圧力分離機構としては、例
えば、少なくとも、前記第１領域に接続された真空排気
機構と、バッフル及びガス導入口が設けられたダクトを
有する飛散粒子阻止部材とを備えたものが好ましい（請
求項７）。
果及び前記飛散粒子阻止効果を増大するために、本発明
にかかるダクトに飛散粒子阻止用のガスを導入するため
のガス導入口を設けることが好ましい（請求項６）。ま
た、前記飛散粒子制御部材による制御効果を強化して、
装置を長時間安定して使用できるという前記効果を増大
するために、本発明にかかる圧力分離機構としては、例
えば、少なくとも、前記第１領域に接続された真空排気
機構と、バッフル及びガス導入口が設けられたダクトを
有する飛散粒子阻止部材とを備えたものが好ましい（請
求項７）。
【００２１】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００２２】
【実施例】図４は、本実施例のＸ線発生装置の主要部を
示す概略部分構成図である。ＹＡＧレーザー光（励起エ
ネルギービームの一例）４０９が集光レンズ４０８によ
り、テープ状のタンタルターゲット（標的部材の一例）
４０３の表面に集光される。
示す概略部分構成図である。ＹＡＧレーザー光（励起エ
ネルギービームの一例）４０９が集光レンズ４０８によ
り、テープ状のタンタルターゲット（標的部材の一例）
４０３の表面に集光される。
【００２３】タンタルターゲット４０３は、厚さ１５μ
ｍのテープ形状であり、テープ上の同じ位置にレーザー
光が繰り返し集光されることのないように、プラズマ発
生時には、駆動手段（例えば、モーター、不図示）によ
りリールＬを回転させて、タンタルテープを巻き取るこ
とにより、レーザーの集光位置を変化させている。タン
タルテープの移動速度は、一つのプラズマが生成されて
から次のプラズマを生成するためのレーザー光が入射す
るまでに、プラズマの発生によりタンタルテープに生ず
る孔の直径分以上の距離だけテープが移動する速度であ
る。
ｍのテープ形状であり、テープ上の同じ位置にレーザー
光が繰り返し集光されることのないように、プラズマ発
生時には、駆動手段（例えば、モーター、不図示）によ
りリールＬを回転させて、タンタルテープを巻き取るこ
とにより、レーザーの集光位置を変化させている。タン
タルテープの移動速度は、一つのプラズマが生成されて
から次のプラズマを生成するためのレーザー光が入射す
るまでに、プラズマの発生によりタンタルテープに生ず
る孔の直径分以上の距離だけテープが移動する速度であ
る。
【００２４】タンタルテープが移動しても、Ｘ線源とな
るプラズマの位置が変化しないように、本実施例では、
タンタルテープはターゲット保持部材４０２と飛散粒子
制御部材４０１の間に挟み込まれている。ここで飛散粒
子制御部材４０１は固定されており、ターゲット保持部
材４０２は、バネ材（不図示）によりタンタルテープを
飛散粒子制御部材４０１に押さえつけている。これらの
部材４０１、４０２により、発生するプラズマ４１１の
位置は変化することがない。
るプラズマの位置が変化しないように、本実施例では、
タンタルテープはターゲット保持部材４０２と飛散粒子
制御部材４０１の間に挟み込まれている。ここで飛散粒
子制御部材４０１は固定されており、ターゲット保持部
材４０２は、バネ材（不図示）によりタンタルテープを
飛散粒子制御部材４０１に押さえつけている。これらの
部材４０１、４０２により、発生するプラズマ４１１の
位置は変化することがない。
【００２５】タンタルターゲット上にＹＡＧレーザー４
０９は４５度の入射角で入射、集光され、生成したプラ
ズマ４１１から発生したＸ線は、ＹＡＧレーザー４０９
とは反対側の４５度の方向に設けられたＸ線取り出しフ
ィルタ（光学素子の一例）４１０からＸ線光学系へと導
かれる。プラズマ４１１とＸ線取り出しフィルタ４１０
の間には、バッフル４０４、４０５、４０６、４０７及
びガス導入口が設けられた（ガス導入管４１３が接続さ
れた）ダクト（飛散粒子阻止部材の一例）４１２が設け
られている。
０９は４５度の入射角で入射、集光され、生成したプラ
ズマ４１１から発生したＸ線は、ＹＡＧレーザー４０９
とは反対側の４５度の方向に設けられたＸ線取り出しフ
ィルタ（光学素子の一例）４１０からＸ線光学系へと導
かれる。プラズマ４１１とＸ線取り出しフィルタ４１０
の間には、バッフル４０４、４０５、４０６、４０７及
びガス導入口が設けられた（ガス導入管４１３が接続さ
れた）ダクト（飛散粒子阻止部材の一例）４１２が設け
られている。
【００２６】ダクト４１２内部に設けられたバッフル４
０４、４０５、４０６、４０７は、プラズマ４１１から
Ｘ線取り出しフィルタ４１０を見込む立体角を遮らない
ように、その開口がそれぞれ構成及び配置されている。
前記プラズマ４１１から前記ダクト４１２の直前までの
第１領域に設けられた真空ポンプ（真空排気機構の一
例、不図示）によって真空容器４２０の内部のうち、第
１領域は0.01ｔｏｒｒ以下の圧力に排気されている。
０４、４０５、４０６、４０７は、プラズマ４１１から
Ｘ線取り出しフィルタ４１０を見込む立体角を遮らない
ように、その開口がそれぞれ構成及び配置されている。
前記プラズマ４１１から前記ダクト４１２の直前までの
第１領域に設けられた真空ポンプ（真空排気機構の一
例、不図示）によって真空容器４２０の内部のうち、第
１領域は0.01ｔｏｒｒ以下の圧力に排気されている。
【００２７】そのため、プラズマ４１１からダクト４１
２までの空間が、飛散粒子がＨｅガスによってほとんど
散乱の効果を受けない圧力に保たれており、飛散粒子制
御部材４０１のＸ線取り出しフィルタ４１０方向に対す
る飛散粒子の低減効果は、ダクト（飛散粒子阻止部材）
４１２のバッフル４０４の開口に達するまで保持され
る。
２までの空間が、飛散粒子がＨｅガスによってほとんど
散乱の効果を受けない圧力に保たれており、飛散粒子制
御部材４０１のＸ線取り出しフィルタ４１０方向に対す
る飛散粒子の低減効果は、ダクト（飛散粒子阻止部材）
４１２のバッフル４０４の開口に達するまで保持され
る。
【００２８】また、真空容器４２０の内部のうち、ダク
ト４１２の内部、即ちダクト４１２からＸ線取り出しフ
ィルタ４１０までの第２領域には、ガス導入管４１３か
らＨｅガスが導入されており、Ｈｅガスの導入量を調節
することによって、ダクト４１２内部（第２領域）の圧
力を飛散粒子を阻止するには十分で、しかもＸ線が十分
に透過できる圧力（例えば、0.1 〜1.0torr ）に保持し
ている。
ト４１２の内部、即ちダクト４１２からＸ線取り出しフ
ィルタ４１０までの第２領域には、ガス導入管４１３か
らＨｅガスが導入されており、Ｈｅガスの導入量を調節
することによって、ダクト４１２内部（第２領域）の圧
力を飛散粒子を阻止するには十分で、しかもＸ線が十分
に透過できる圧力（例えば、0.1 〜1.0torr ）に保持し
ている。
【００２９】できるだけ少ないＨｅガスの導入（流量）
により飛散粒子阻止効果を得るためには、ダクト４１２
のバッフル４０４の開口を極力小さくし、バッフル４０
４をプラズマ４１１によりダメージを受けない程度にプ
ラズマ４１１に極力近づければよい。その場合、Ｈｅガ
スの流量を少なくすることができるだけでなく、バッフ
ル４０４をプラズマ４１１に近づけた分だけ、バッフル
４０４からＸ線取り出しフィルタ４１０までの距離が長
くなり、Ｈｅガス雰囲気中を飛散粒子が通過する距離が
長くなるので、より低い圧力で飛散粒子が阻止できるよ
うになる。この理由により、さらにＨｅガスの流量を少
なくできる。
により飛散粒子阻止効果を得るためには、ダクト４１２
のバッフル４０４の開口を極力小さくし、バッフル４０
４をプラズマ４１１によりダメージを受けない程度にプ
ラズマ４１１に極力近づければよい。その場合、Ｈｅガ
スの流量を少なくすることができるだけでなく、バッフ
ル４０４をプラズマ４１１に近づけた分だけ、バッフル
４０４からＸ線取り出しフィルタ４１０までの距離が長
くなり、Ｈｅガス雰囲気中を飛散粒子が通過する距離が
長くなるので、より低い圧力で飛散粒子が阻止できるよ
うになる。この理由により、さらにＨｅガスの流量を少
なくできる。
【００３０】本実施例では、前記第１領域における圧力
を相対的に小さくし、前記第２領域における圧力を相対
的に高くする圧力分離機構として、前記第１領域に接続
された真空排気ポンプと、バッフル及びガス導入口が設
けられたダクト（飛散粒子阻止部材と兼用）４１２を用
いている。本実施例のＸ線発生装置によれば、飛散粒子
制御部材４０１のＸ線取り出し方向への飛散粒子量を減
少させる効果と、真空容器内にＨｅガスを導入・充填さ
せて飛散粒子量を減少させる効果と、飛散粒子阻止部材
によって、Ｈｅとの散乱により新たにＸ線取り出し方向
に到達する飛散粒子を減少させる効果を併せて奏するの
で、長時間安定してＸ線発生装置として利用できる。
を相対的に小さくし、前記第２領域における圧力を相対
的に高くする圧力分離機構として、前記第１領域に接続
された真空排気ポンプと、バッフル及びガス導入口が設
けられたダクト（飛散粒子阻止部材と兼用）４１２を用
いている。本実施例のＸ線発生装置によれば、飛散粒子
制御部材４０１のＸ線取り出し方向への飛散粒子量を減
少させる効果と、真空容器内にＨｅガスを導入・充填さ
せて飛散粒子量を減少させる効果と、飛散粒子阻止部材
によって、Ｈｅとの散乱により新たにＸ線取り出し方向
に到達する飛散粒子を減少させる効果を併せて奏するの
で、長時間安定してＸ線発生装置として利用できる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のＸ線発生
装置によれば、飛散粒子制御部材のＸ線取り出し方向へ
の飛散粒子量を減少させる効果と、真空容器内に飛散粒
子阻止用のガスを導入・充填させて飛散粒子量を減少さ
せる効果と、飛散粒子阻止部材によって、前記ガスとの
散乱により新たにＸ線取り出し方向に到達する飛散粒子
を減少させる効果を併せて奏するので、長時間安定して
Ｘ線発生装置として利用できる。
装置によれば、飛散粒子制御部材のＸ線取り出し方向へ
の飛散粒子量を減少させる効果と、真空容器内に飛散粒
子阻止用のガスを導入・充填させて飛散粒子量を減少さ
せる効果と、飛散粒子阻止部材によって、前記ガスとの
散乱により新たにＸ線取り出し方向に到達する飛散粒子
を減少させる効果を併せて奏するので、長時間安定して
Ｘ線発生装置として利用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】は、飛散粒子制御部材１０１をＴａターゲット
（標的部材）１０３に隣接して設けた例を示す斜視図で
ある。
（標的部材）１０３に隣接して設けた例を示す斜視図で
ある。
【図２】は、飛散粒子放出量の角度分布例を示すデータ
図である。
図である。
【図３】は、従来のＸ線発生装置（一例）の概略構成図
である。
である。
【図４】は、実施例のＸ線発生装置の概略構成図であ
る。
る。
１０１，３０１，４０１ 飛散粒子制御部材 １０２，２０２，３０２ 標的部材保持部材 １０３，２０３，３０３ 標的部材 １０４，３０９，４０９ ＹＡＧレーザー光（励起エネ
ルギービームの一例） ３０４，３０５，３０６，３０７ 飛散粒子阻止部材 ４０４，４０５，４０６，４０７ バッフル ３０８，４０８ 集光レンズ ３１０，４１０ Ｘ線取り出しフィルター（光学素子の
一例） ３１１，４１１ プラズマ ４１２ ダクト（飛散粒子阻止部材の一例） ４１３ ガス導入管またはガス導入口 Ｌ リール 以上
ルギービームの一例） ３０４，３０５，３０６，３０７ 飛散粒子阻止部材 ４０４，４０５，４０６，４０７ バッフル ３０８，４０８ 集光レンズ ３１０，４１０ Ｘ線取り出しフィルター（光学素子の
一例） ３１１，４１１ プラズマ ４１２ ダクト（飛散粒子阻止部材の一例） ４１３ ガス導入管またはガス導入口 Ｌ リール 以上
Claims (7)
- 【請求項１】 減圧された真空容器内の標的部材に励起
エネルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プ
ラズマからＸ線を取り出すＸ線発生装置であり、前記標
的部材及び／又は前記プラズマから放出される飛散粒子
の放出量の方向分布を制御して、前記Ｘ線を取り出す方
向への飛散粒子放出量を低減させる飛散粒子制御部材を
前記標的部材に隣接または近接させて設け、かつ、前記
真空容器内に設置された光学素子に前記飛散粒子が衝
突、付着または堆積するのを防止するための部材であり
開口を有する飛散粒子阻止部材を前記エネルギービーム
または前記Ｘ線が該開口を通過するように、前記プラズ
マと前記光学素子との間に設けたＸ線発生装置におい
て、 前記プラズマから前記飛散粒子阻止部材の直前までの第
１領域における圧力を相対的に小さくし、前記飛散粒子
阻止部材から前記清浄光学面までの第２領域における圧
力を相対的に高くする圧力分離機構を設け、かつ、前記
第２領域に飛散粒子阻止用のガスを導入するためのガス
導入口を設けたことを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】 前記圧力分離機構は少なくとも、前記第
１領域に接続された真空排気機構と、前記第１領域及び
第２領域を分離する部材であり両領域をつなぐ微少開口
を有する分離部材とを備えており、かつ、該微少開口は
前記エネルギービームまたは前記Ｘ線が通過するように
配置されていることを特徴とする請求項１記載のＸ線発
生装置。 - 【請求項３】 前記圧力分離機構は少なくとも、前記第
１領域に接続された真空排気機構と、前記第１領域及び
第２領域を分離する部材と、該部材に接合された前記飛
散粒子阻止部材であり前記二つの領域をつなぐ微少開口
を有する飛散粒子阻止部材とを備えており、かつ、該微
少開口は前記エネルギービームまたは前記Ｘ線が通過す
るように配置されていることを特徴とする請求項１記載
のＸ線発生装置。 - 【請求項４】 前記飛散粒子阻止部材は少なくとも、開
口を有する複数の板状部材または複数の開口を有する部
材を備えていることを特徴とする請求項１〜３記載のＸ
線発生装置。 - 【請求項５】 前記飛散粒子阻止部材は、バッフルを有
するダクトを備えていることを特徴とする請求項４記載
のＸ線発生装置。 - 【請求項６】 前記ダクトに飛散粒子阻止用のガスを導
入するためのガス導入口を設けたことを特徴とする請求
項５記載のＸ線発生装置。 - 【請求項７】 前記圧力分離機構は少なくとも、前記第
１領域に接続された真空排気機構と、バッフル及びガス
導入口が設けられたダクトを有する飛散粒子阻止部材と
を備えていることを特徴とする請求項１記載のＸ線発生
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7307719A JPH09148092A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7307719A JPH09148092A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09148092A true JPH09148092A (ja) | 1997-06-06 |
Family
ID=17972430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7307719A Pending JPH09148092A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09148092A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007194590A (ja) * | 2005-11-23 | 2007-08-02 | Asml Netherlands Bv | 放射システムおよびリソグラフィ装置 |
-
1995
- 1995-11-27 JP JP7307719A patent/JPH09148092A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007194590A (ja) * | 2005-11-23 | 2007-08-02 | Asml Netherlands Bv | 放射システムおよびリソグラフィ装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050222 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050621 |