JPH09185313A - ホログラム作製法 - Google Patents
ホログラム作製法Info
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- JPH09185313A JPH09185313A JP35306095A JP35306095A JPH09185313A JP H09185313 A JPH09185313 A JP H09185313A JP 35306095 A JP35306095 A JP 35306095A JP 35306095 A JP35306095 A JP 35306095A JP H09185313 A JPH09185313 A JP H09185313A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】界面反射による不所望な干渉縞を低減可能なホ
ログラム作製法を提供する。 【解決手段】ガラス基板４の下に位相差板１１を設け、
ホログラム感光材料３にＳ偏光の入射光１５を入射させ
る。入射光１５が全反射された界面反射光１２は、入射
光１５が位相差板１１を２回通過するのでＰ偏光とな
る。Ｐ偏光の界面反射光１２はＳ偏光である入射光１
３、１５とは干渉せず、不所望な干渉縞は発生しない。
ログラム作製法を提供する。 【解決手段】ガラス基板４の下に位相差板１１を設け、
ホログラム感光材料３にＳ偏光の入射光１５を入射させ
る。入射光１５が全反射された界面反射光１２は、入射
光１５が位相差板１１を２回通過するのでＰ偏光とな
る。Ｐ偏光の界面反射光１２はＳ偏光である入射光１
３、１５とは干渉せず、不所望な干渉縞は発生しない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ホログラム作製法
に関し、特に、露光時の界面反射によるノイズ（不所望
な格子）を低減することができるホログラム作製法に関
するものである。
に関し、特に、露光時の界面反射によるノイズ（不所望
な格子）を低減することができるホログラム作製法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】エッジリット型ホログラムを作製する
際、臨界角以上の入射角で露光する必要があり、そのた
めにプリズム等を用いて露光を行う。図４は、このよう
なエッジリット型ホログラムの従来の作製法を説明する
ための断面図である。２つの入射光のうち、一方の入射
光２はプリズム１を介して入射させ、他方の入射光２’
はプリズム１を介さずホログラム記録材料３に入射させ
る。プリズム１側から入射した入射光２は、未露光のホ
ログラム記録材料３を積層したガラス基板４と空気との
界面で全反射されホログラム材料３中に戻ってしまい、
他の光と干渉して不所望な干渉縞を形成してしまう。こ
うして作製されたホログラムは非常にノイズの多いホロ
グラムとなってしまっていた。不所望な干渉縞の原因と
なる界面反射光５は全反射光であるため、適切な低減法
は従来存在しなかった。
際、臨界角以上の入射角で露光する必要があり、そのた
めにプリズム等を用いて露光を行う。図４は、このよう
なエッジリット型ホログラムの従来の作製法を説明する
ための断面図である。２つの入射光のうち、一方の入射
光２はプリズム１を介して入射させ、他方の入射光２’
はプリズム１を介さずホログラム記録材料３に入射させ
る。プリズム１側から入射した入射光２は、未露光のホ
ログラム記録材料３を積層したガラス基板４と空気との
界面で全反射されホログラム材料３中に戻ってしまい、
他の光と干渉して不所望な干渉縞を形成してしまう。こ
うして作製されたホログラムは非常にノイズの多いホロ
グラムとなってしまっていた。不所望な干渉縞の原因と
なる界面反射光５は全反射光であるため、適切な低減法
は従来存在しなかった。
【０００３】一方、図５は、従来のレプリカ法によるホ
ログラム作製法を説明するための断面図である。このレ
プリカ法では、マスターホログラム６上に未露光のホロ
グラム感光材料３を積層したものに、入射光としての一
光束７を入射させてマスターホログラム６をコピーす
る。この場合、マスターホログラム６の未露光のホログ
ラム感光材料３を積層していない側の空気との界面によ
る反射による不所望な干渉縞を低減するために、従来、
マスターホログラム６は黒い吸収体８の上に積層されて
いた。しかしながら、黒い吸収体８だけでは完全に界面
反射が除けず、マスターホログラム６に比べ、ノイズの
多いレプリカしか得られなかった。
ログラム作製法を説明するための断面図である。このレ
プリカ法では、マスターホログラム６上に未露光のホロ
グラム感光材料３を積層したものに、入射光としての一
光束７を入射させてマスターホログラム６をコピーす
る。この場合、マスターホログラム６の未露光のホログ
ラム感光材料３を積層していない側の空気との界面によ
る反射による不所望な干渉縞を低減するために、従来、
マスターホログラム６は黒い吸収体８の上に積層されて
いた。しかしながら、黒い吸収体８だけでは完全に界面
反射が除けず、マスターホログラム６に比べ、ノイズの
多いレプリカしか得られなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、露光時の界面反射による不所望な格子によるノイズ
を低減することができるホログラム作製法を提供するこ
とにある。
は、露光時の界面反射による不所望な格子によるノイズ
を低減することができるホログラム作製法を提供するこ
とにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題点
を解決すべくなされたものであり、位相差板を用いて、
界面反射による反射光の偏光方向を入射光の偏光方向と
直交させることにより、さらには、ＮＤ板を用いて、界
面での反射光を減衰させることにより、不所望な干渉縞
の発生を抑制することを特徴とする。
を解決すべくなされたものであり、位相差板を用いて、
界面反射による反射光の偏光方向を入射光の偏光方向と
直交させることにより、さらには、ＮＤ板を用いて、界
面での反射光を減衰させることにより、不所望な干渉縞
の発生を抑制することを特徴とする。
【０００６】すなわち、本発明によれば、ホログラム感
光材料の一方の側の面に所定の光学系を用いて臨界角以
上の入射角で第１の入射光を入射させ、前記ホログラム
感光材料のもう一方の側の面に第２の入射光を入射させ
て、前記ホログラム感光材料中にホログラム干渉縞を記
録するホログラム作製法において、前記ホログラム感光
材料における第２の入射光を入射させる面側に位相差板
を配し、該位相差板を介して第２の入射光を前記ホログ
ラム感光材料に入射させることを特徴とするホログラム
作製法が提供される。
光材料の一方の側の面に所定の光学系を用いて臨界角以
上の入射角で第１の入射光を入射させ、前記ホログラム
感光材料のもう一方の側の面に第２の入射光を入射させ
て、前記ホログラム感光材料中にホログラム干渉縞を記
録するホログラム作製法において、前記ホログラム感光
材料における第２の入射光を入射させる面側に位相差板
を配し、該位相差板を介して第２の入射光を前記ホログ
ラム感光材料に入射させることを特徴とするホログラム
作製法が提供される。
【０００７】このように、ホログラム感光材料の臨界角
以上の入射角で第１の入射光を入射させる側の面とは反
対側の面であって第２の入射光を入射させる面側に位相
差板を設けることにより、ホログラム感光材料あるいは
ホログラム感光材料が積層される透明基板と空気との界
面でおきる全反射光を、位相差板を用いて入射光の偏光
方向と直交する偏光に変えることができ、その結果、界
面の全反射光による不所望な干渉縞の発生を低減するこ
とができる。なお、ホログラム感光材料を透明基板に積
層して支持しておく場合、透明基板と位相差板との間に
は好ましくは屈折率整合液を介在させる。
以上の入射角で第１の入射光を入射させる側の面とは反
対側の面であって第２の入射光を入射させる面側に位相
差板を設けることにより、ホログラム感光材料あるいは
ホログラム感光材料が積層される透明基板と空気との界
面でおきる全反射光を、位相差板を用いて入射光の偏光
方向と直交する偏光に変えることができ、その結果、界
面の全反射光による不所望な干渉縞の発生を低減するこ
とができる。なお、ホログラム感光材料を透明基板に積
層して支持しておく場合、透明基板と位相差板との間に
は好ましくは屈折率整合液を介在させる。
【０００８】また、好ましくは、透明基板と位相差板と
の間に、さらにＮＤ板を設けてホログラム感光材料中に
ホログラム干渉縞を記録する。このように、ＮＤ板を用
いることにより、界面での反射光を減衰させることがで
き、その結果、不所望な干渉縞の発生をさらに抑制する
ことができる。
の間に、さらにＮＤ板を設けてホログラム感光材料中に
ホログラム干渉縞を記録する。このように、ＮＤ板を用
いることにより、界面での反射光を減衰させることがで
き、その結果、不所望な干渉縞の発生をさらに抑制する
ことができる。
【０００９】また、本発明によれば、反射型のマスター
ホログラム上に未露光のホログラム感光材料を積層した
ものに、前記未露光のホログラム感光材料側から一光束
を入射させて前記マスターホログラムに記録されている
干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーするホログラ
ム作製法において、前記マスターホログラムの前記未露
光のホログラム感光材料を積層した側とは反対側に位相
差板を設けた状態で前記未露光のホログラム感光材料側
から一光束を入射させて前記マスターホログラムに記録
されている干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーす
ることを特徴とするホログラム作製法が提供される。
ホログラム上に未露光のホログラム感光材料を積層した
ものに、前記未露光のホログラム感光材料側から一光束
を入射させて前記マスターホログラムに記録されている
干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーするホログラ
ム作製法において、前記マスターホログラムの前記未露
光のホログラム感光材料を積層した側とは反対側に位相
差板を設けた状態で前記未露光のホログラム感光材料側
から一光束を入射させて前記マスターホログラムに記録
されている干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーす
ることを特徴とするホログラム作製法が提供される。
【００１０】このように、反射型マスターホログラムの
未露光のホログラム感光材料を積層した側とは反対側に
位相差板を設けることにより、マスターホログラムと空
気または黒い吸収体との界面で起きる界面反射の偏光方
向を入射光の偏光方向と直交させることができ、その結
果、不所望な干渉縞の発生を低減することができる。な
お、好ましくは、マスターホログラムと位相差板との間
に屈折率整合液を介在させる。
未露光のホログラム感光材料を積層した側とは反対側に
位相差板を設けることにより、マスターホログラムと空
気または黒い吸収体との界面で起きる界面反射の偏光方
向を入射光の偏光方向と直交させることができ、その結
果、不所望な干渉縞の発生を低減することができる。な
お、好ましくは、マスターホログラムと位相差板との間
に屈折率整合液を介在させる。
【００１１】さらに、また、本発明によれば、透過型の
マスターホログラム上に未露光のホログラム感光材料を
積層したものに、前記マスターホログラム側から一光束
を入射させて前記マスターホログラムに記録されている
干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーするホログラ
ム作製法において、前記未露光のホログラム感光材料の
前記マスターホログラムとは反対側に位相差板を設けた
状態で前記マスターホログラム側から一光束を入射させ
て前記マスターホログラムに記録されている干渉縞を前
記ホログラム感光材料にコピーすることを特徴とするホ
ログラム作製法が提供される。
マスターホログラム上に未露光のホログラム感光材料を
積層したものに、前記マスターホログラム側から一光束
を入射させて前記マスターホログラムに記録されている
干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーするホログラ
ム作製法において、前記未露光のホログラム感光材料の
前記マスターホログラムとは反対側に位相差板を設けた
状態で前記マスターホログラム側から一光束を入射させ
て前記マスターホログラムに記録されている干渉縞を前
記ホログラム感光材料にコピーすることを特徴とするホ
ログラム作製法が提供される。
【００１２】このように、未露光のホログラム感光材料
の透過型マスターホログラムとは反対側に位相差板を設
けることにより、未露光のホログラム感光材料と空気ま
たは黒い吸収体との界面で起きる界面反射の偏光方向を
入射光の偏光方向と直交させることができ、その結果、
不所望な干渉縞の発生を低減することができる。なお、
好ましくは、未露光のホログラム感光材料と位相差板と
の間に屈折率整合液を介在させる。
の透過型マスターホログラムとは反対側に位相差板を設
けることにより、未露光のホログラム感光材料と空気ま
たは黒い吸収体との界面で起きる界面反射の偏光方向を
入射光の偏光方向と直交させることができ、その結果、
不所望な干渉縞の発生を低減することができる。なお、
好ましくは、未露光のホログラム感光材料と位相差板と
の間に屈折率整合液を介在させる。
【００１３】以上のように、本発明によるホログラム作
製法を用いれば、ノイズ（不所望な格子）の少ない、非
常に高品質なエッジリット型ホログラムを簡便に作製す
ることが可能である。また、レプリカ法においても、ノ
イズ（不所望な格子）の非常に少ないコピーが可能とな
る。
製法を用いれば、ノイズ（不所望な格子）の少ない、非
常に高品質なエッジリット型ホログラムを簡便に作製す
ることが可能である。また、レプリカ法においても、ノ
イズ（不所望な格子）の非常に少ないコピーが可能とな
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。
に基づき説明する。
【００１５】（第１の実施の形態）図１は、本実施の形
態におけるエッジリット型ホログラム作製法を説明する
ための概念断面図である。ガラス基板４に積層された未
露光ホログラム感光材料３を、６０゜プリズム１０と位
相差板１１とで屈折率整合液をそれぞれ介して挟持し、
プリズム１０側からプリズム１０内で６０゜の第１の入
射光１５をホログラム感光材料３に入射させ、位相差板
１１側からは空気中で５０゜の第２の入射光１３をホロ
グラム感光材料３に入射させてホログラムを記録した。
ホログラム記録に用いた光は、発振波長５５５ｎｍの色
素レーザー光であった。
態におけるエッジリット型ホログラム作製法を説明する
ための概念断面図である。ガラス基板４に積層された未
露光ホログラム感光材料３を、６０゜プリズム１０と位
相差板１１とで屈折率整合液をそれぞれ介して挟持し、
プリズム１０側からプリズム１０内で６０゜の第１の入
射光１５をホログラム感光材料３に入射させ、位相差板
１１側からは空気中で５０゜の第２の入射光１３をホロ
グラム感光材料３に入射させてホログラムを記録した。
ホログラム記録に用いた光は、発振波長５５５ｎｍの色
素レーザー光であった。
【００１６】プリズム側からの第１の入射光１５はＳ偏
光の光とした。この第１の入射光１５が位相差板１１と
空気との界面で全反射されて界面反射光１２を生じる
が、界面反射光１２は、Ｓ偏光の第１の入射光１５が結
晶軸を偏光方向に対し４５゜回転させた位相差板１１を
２回通過することで生じるから、Ｐ偏光となる。一方、
５０゜側からの第２の入射光１３は、位相差板１１を１
回通過後にＳ偏光になるよう予め波長板１４で偏光状態
を変えて入射させている。
光の光とした。この第１の入射光１５が位相差板１１と
空気との界面で全反射されて界面反射光１２を生じる
が、界面反射光１２は、Ｓ偏光の第１の入射光１５が結
晶軸を偏光方向に対し４５゜回転させた位相差板１１を
２回通過することで生じるから、Ｐ偏光となる。一方、
５０゜側からの第２の入射光１３は、位相差板１１を１
回通過後にＳ偏光になるよう予め波長板１４で偏光状態
を変えて入射させている。
【００１７】この場合、ホログラム感光材料３に入射す
る第１の入射光１５および第２の入射光１３は、共にＳ
偏光であるので、これらの第２の入射光１３および第１
の入射光１５によってホログラム感光材料３にホログラ
ムが記録される。一方、界面反射光１２はＰ偏光である
ため、Ｓ偏光である第２の入射光１３や第１の入射光１
５とは干渉せず、不所望な干渉縞は発生しない。
る第１の入射光１５および第２の入射光１３は、共にＳ
偏光であるので、これらの第２の入射光１３および第１
の入射光１５によってホログラム感光材料３にホログラ
ムが記録される。一方、界面反射光１２はＰ偏光である
ため、Ｓ偏光である第２の入射光１３や第１の入射光１
５とは干渉せず、不所望な干渉縞は発生しない。
【００１８】ここで、使用する位相差板１１は、６０゜
入射光に関して、２回通過してπ／２の位相差が生まれ
る様なリタデーション値（本実施例の場合５５５ｎｍ／
４＝１３９ｎｍ）を持たなくてはならず、そのような位
相差板１１は、次式を満足する。
入射光に関して、２回通過してπ／２の位相差が生まれ
る様なリタデーション値（本実施例の場合５５５ｎｍ／
４＝１３９ｎｍ）を持たなくてはならず、そのような位
相差板１１は、次式を満足する。
【００１９】 Ｒｄθ＝１３９ｎｍ＝ｄ（Ｘ1−Ｘ2）／cosθ （１） sin2θcos2φ／（Ｘ-2−ｎx ー2）＋sin2θcos2φ／（Ｘ-2−ｎy ー2） ＋cos2θ／（Ｘ-2−ｎz ー2）＝０ （２） ここで、Ｒｄθはθ＝６０゜入射時のリタデーション、
ｄは位相差板１１の厚さで６０μｍ、Ｘ1、Ｘ2は（２）
式の解で６０゜入射時の位相差板１１の光学軸に平行な
屈折率と垂直な屈折率、θは入射角でθ＝６０゜、φは
入射偏光に対する位相差板１１の結晶軸の回転角でφ＝
４５゜である。ｎx 、ｎy 、ｎz は垂直入射時の位相差
板１１の光学軸に平行な屈折率と垂直な屈折率と厚み方
向の屈折率である。
ｄは位相差板１１の厚さで６０μｍ、Ｘ1、Ｘ2は（２）
式の解で６０゜入射時の位相差板１１の光学軸に平行な
屈折率と垂直な屈折率、θは入射角でθ＝６０゜、φは
入射偏光に対する位相差板１１の結晶軸の回転角でφ＝
４５゜である。ｎx 、ｎy 、ｎz は垂直入射時の位相差
板１１の光学軸に平行な屈折率と垂直な屈折率と厚み方
向の屈折率である。
【００２０】本実施の形態で使用した位相差板１１は日
合フィルム（株）製のＴＡＣ（トリアセチルセルロー
ス）保護シート付きＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フ
ィルムであり、その特性として（３）、（４）式の特徴
がある。
合フィルム（株）製のＴＡＣ（トリアセチルセルロー
ス）保護シート付きＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フ
ィルムであり、その特性として（３）、（４）式の特徴
がある。
【００２１】 ｎz／ｎy＝０．９９７８ （３） ｎ＝（ｎx＋ｎy＋ｎz）／３＝１．５５６０ （４） ここで、ｎは位相差板１１の平均屈折率である。この位
相差板１１の垂直入射時のリタデーション値Ｒｄ0は、
（１）、（２）、（３）、（４）式より得られ、 Ｒｄ0＝ｄ（ｎx−ｎy）＝１８０ｎｍ である。
相差板１１の垂直入射時のリタデーション値Ｒｄ0は、
（１）、（２）、（３）、（４）式より得られ、 Ｒｄ0＝ｄ（ｎx−ｎy）＝１８０ｎｍ である。
【００２２】一方、５０゜側からの第２の入射光１３
は、上記の位相差板１１を一回通過後、Ｓ偏光になるよ
う、予め波長板（本実施の形態ではλ＝５１５ｎｍ用λ
／２板）１４で楕円偏光にしてから入射させている。
は、上記の位相差板１１を一回通過後、Ｓ偏光になるよ
う、予め波長板（本実施の形態ではλ＝５１５ｎｍ用λ
／２板）１４で楕円偏光にしてから入射させている。
【００２３】（第２の実施の形態）図２は、本実施の形
態におけるエッジリット型ホログラム作製法を説明する
ための概念断面図である。
態におけるエッジリット型ホログラム作製法を説明する
ための概念断面図である。
【００２４】本実施の形態では、界面反射光１７に起因
する不所望な干渉縞をさらに低減する為に、位相差板１
１と未露光ホログラム感光材料３を積層したガラス基板
４との間にキシレン等の屈折率整合液を介してＮＤ板１
６（本実施例では透過率７０％のブロンズガラス）を挿
入した。界面反射光１７は、ＮＤ板１６を２回通過した
第１の入射光１５であるため、第１の入射光１５に比べ
７０％×７０％＝４９％の強度しかなく、界面反射光１
７による不所望な干渉縞をさらに低減できる。
する不所望な干渉縞をさらに低減する為に、位相差板１
１と未露光ホログラム感光材料３を積層したガラス基板
４との間にキシレン等の屈折率整合液を介してＮＤ板１
６（本実施例では透過率７０％のブロンズガラス）を挿
入した。界面反射光１７は、ＮＤ板１６を２回通過した
第１の入射光１５であるため、第１の入射光１５に比べ
７０％×７０％＝４９％の強度しかなく、界面反射光１
７による不所望な干渉縞をさらに低減できる。
【００２５】本発明の第１および第２の実施の形態なら
びに従来技術における、界面反射光に起因する不所望な
干渉縞の回折効率と所望の干渉縞の回折効率を表１に示
す。
びに従来技術における、界面反射光に起因する不所望な
干渉縞の回折効率と所望の干渉縞の回折効率を表１に示
す。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１からも明らかなように、本発明によ
り、所望の干渉縞を損なうことなく不所望な干渉縞を、
第１の実施の形態では従来の約１／４に低減することが
でき、第２の実施の形態では従来の約１／８に低減する
ことができた。
り、所望の干渉縞を損なうことなく不所望な干渉縞を、
第１の実施の形態では従来の約１／４に低減することが
でき、第２の実施の形態では従来の約１／８に低減する
ことができた。
【００２８】（第３の実施の形態）図３（Ａ）は、本実
施の形態におけるレプリカ法による反射型ホログラム作
製法を説明するための概念断面図である。
施の形態におけるレプリカ法による反射型ホログラム作
製法を説明するための概念断面図である。
【００２９】本実施の形態は、反射型のマスターホログ
ラム上に未露光のホログラム感光材料を積層したもの
に、一光束を入射させてマスターホログラムをコピーす
るレプリカ法において、界面反射による不所望な干渉縞
の低減を行ったものである。本実施の形態で使用した反
射型のマスターホログラム６ａは、４５゜入射、６０゜
入射の２つの平行光の干渉縞を波長５４５ｎｍで記録し
たものである。黒吸収体８、位相差板１８、マスターホ
ログラム６ａ、未露光ホログラム感光材料３、ＡＲコー
トガラス９の順に屈折率整合液をそれぞれ介して積層し
たものに、ＡＲコートガラス９側から４５゜入射の平行
光７でコピーを行う。
ラム上に未露光のホログラム感光材料を積層したもの
に、一光束を入射させてマスターホログラムをコピーす
るレプリカ法において、界面反射による不所望な干渉縞
の低減を行ったものである。本実施の形態で使用した反
射型のマスターホログラム６ａは、４５゜入射、６０゜
入射の２つの平行光の干渉縞を波長５４５ｎｍで記録し
たものである。黒吸収体８、位相差板１８、マスターホ
ログラム６ａ、未露光ホログラム感光材料３、ＡＲコー
トガラス９の順に屈折率整合液をそれぞれ介して積層し
たものに、ＡＲコートガラス９側から４５゜入射の平行
光７でコピーを行う。
【００３０】ここで、４５゜入射の平行光７はＳ偏光で
ある。４５゜入射光７はマスターホログラム６ａで６０
゜回折され回折光１９ａとなり、４５゜入射光７の一部
７ａと未露光ホログラム感光材料３中で干渉しマスター
ホログラム６ａと同じ干渉縞が未露光ホログラム感光材
料３中に記録される。
ある。４５゜入射光７はマスターホログラム６ａで６０
゜回折され回折光１９ａとなり、４５゜入射光７の一部
７ａと未露光ホログラム感光材料３中で干渉しマスター
ホログラム６ａと同じ干渉縞が未露光ホログラム感光材
料３中に記録される。
【００３１】不所望な干渉縞の原因となるマスターホロ
グラム６ａで回折されず通り抜けた光は、位相差板１８
を透過後、黒吸収体８で反射されて界面反射光２０ａと
なり未露光ホログラム感光材料３中に入射する。しかし
ながら、この界面反射光２０ａは位相差板１８を２回透
過してＰ偏光に偏光方向を変えられているからＳ偏光の
入射光７と干渉せず、従って、ホログラム感光材料３中
に不所望な干渉縞を発生させることはない。
グラム６ａで回折されず通り抜けた光は、位相差板１８
を透過後、黒吸収体８で反射されて界面反射光２０ａと
なり未露光ホログラム感光材料３中に入射する。しかし
ながら、この界面反射光２０ａは位相差板１８を２回透
過してＰ偏光に偏光方向を変えられているからＳ偏光の
入射光７と干渉せず、従って、ホログラム感光材料３中
に不所望な干渉縞を発生させることはない。
【００３２】なお、本実施の形態で使用した位相差板１
８は、前記第１および第２の実施の形態と同様、日合フ
ィルム（株）製のＴＡＣ（トリアセチルセルロース）保
護シート付きＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フィルム
で、その垂直入射時のリタデーションＲｄ0は（１）、
（２）式のθに４５゜を代入して（３）、（４）式から
得られる。この方法により、従来よりもノイズの少ない
高品質なコピーが得られた。
８は、前記第１および第２の実施の形態と同様、日合フ
ィルム（株）製のＴＡＣ（トリアセチルセルロース）保
護シート付きＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フィルム
で、その垂直入射時のリタデーションＲｄ0は（１）、
（２）式のθに４５゜を代入して（３）、（４）式から
得られる。この方法により、従来よりもノイズの少ない
高品質なコピーが得られた。
【００３３】（第４の実施の形態）図３（Ｂ）は、透過
型ホログラムについての、レプリカ法による反射型ホロ
グラム作製法を説明するための概念断面図である。
型ホログラムについての、レプリカ法による反射型ホロ
グラム作製法を説明するための概念断面図である。
【００３４】黒吸収体８、位相差板１８、未露光ホログ
ラム感光材料３、マスターホログラム６ｂ、ＡＲコート
ガラス９の順に屈折率整合液をそれぞれ介して積層した
ものに、ＡＲコートガラス９側から平行光７でコピーを
行う。
ラム感光材料３、マスターホログラム６ｂ、ＡＲコート
ガラス９の順に屈折率整合液をそれぞれ介して積層した
ものに、ＡＲコートガラス９側から平行光７でコピーを
行う。
【００３５】ここで、平行光７を例えばＳ偏光とする。
入射光７はマスターホログラム６ｂで回折され回折光１
９ｂとなり、入射光７の一部７ｂと未露光ホログラム感
光材料３中で干渉しマスターホログラム６ｂと同じ干渉
縞が未露光ホログラム感光材料３中に記録される。
入射光７はマスターホログラム６ｂで回折され回折光１
９ｂとなり、入射光７の一部７ｂと未露光ホログラム感
光材料３中で干渉しマスターホログラム６ｂと同じ干渉
縞が未露光ホログラム感光材料３中に記録される。
【００３６】透過型については、４種類の不所望な干渉
縞が考えられる。このうちの１つを例示すると、マスタ
ーホログラム６ｂで回折されず直接透過した光は、位相
差板１８を透過後、黒吸収体８で反射されて界面反射光
２０ｂとなり未露光ホログラム感光材料３中に入射す
る。ほかに界面反射光としては、回折光１９ｂの黒吸収
体８での反射等がある。しかしながら、この界面反射光
２０ｂは位相差板１８を２回透過してＰ偏光に偏光方向
を変えられているからＳ偏光の入射光７と干渉せず、従
って、ホログラム感光材料３中に不所望な干渉縞を発生
させることはない。
縞が考えられる。このうちの１つを例示すると、マスタ
ーホログラム６ｂで回折されず直接透過した光は、位相
差板１８を透過後、黒吸収体８で反射されて界面反射光
２０ｂとなり未露光ホログラム感光材料３中に入射す
る。ほかに界面反射光としては、回折光１９ｂの黒吸収
体８での反射等がある。しかしながら、この界面反射光
２０ｂは位相差板１８を２回透過してＰ偏光に偏光方向
を変えられているからＳ偏光の入射光７と干渉せず、従
って、ホログラム感光材料３中に不所望な干渉縞を発生
させることはない。
【００３７】
【発明の効果】本発明によるホログラム作製法を用いれ
ば、ノイズ（不所望な格子）の少ない、非常に高品質な
エッジリット型ホログラムを簡便に作製することが可能
である。また、従来、困難であった大型化も可能であ
る。
ば、ノイズ（不所望な格子）の少ない、非常に高品質な
エッジリット型ホログラムを簡便に作製することが可能
である。また、従来、困難であった大型化も可能であ
る。
【００３８】更に、レプリカ法においては、ノイズ（不
所望な格子）の非常に少ないコピーが可能となる。
所望な格子）の非常に少ないコピーが可能となる。
【図１】本発明の第１の実施の形態におけるエッジリッ
ト型ホログラム作製法を説明するための断面図である。
ト型ホログラム作製法を説明するための断面図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態におけるエッジリッ
ト型ホログラム作製法を説明するための断面図である。
ト型ホログラム作製法を説明するための断面図である。
【図３】本発明の第３および第４の実施の形態における
レプリカ法によるホログラム作製法を説明するための断
面図である。
レプリカ法によるホログラム作製法を説明するための断
面図である。
【図４】従来のエッジリット型ホログラム作製法を説明
するための断面図である。
するための断面図である。
【図５】従来のレプリカ法によるホログラム作製法を説
明するための断面図である。
明するための断面図である。
１…プリズム ２…プリズム側入射光 ３…未露光ホログラム記録材料 ４…ガラス基板 ５…界面反射光 ６…マスターホログラム ７…入射光（一光束） ７ａ… 入射光の一部 ８…黒吸収体 ９…ＡＲコートガラス １０…６０゜プリズム １１…位相差板 １２…界面反射光 １３…５０゜側の第２の入射光 １４…波長板 １５…プリズム側の第１の入射光 １６…ＮＤ板 １７…界面反射光 １８…位相差板 １９…６０゜回折光 ２０…界面反射光
Claims (3)
- 【請求項１】ホログラム感光材料の一方の側の面に所定
の光学系を用いて臨界角以上の入射角で第１の入射光を
入射させ、前記ホログラム感光材料のもう一方の側の面
に第２の入射光を入射させて、前記ホログラム感光材料
中にホログラム干渉縞を記録するホログラム作製法にお
いて、 前記ホログラム感光材料における第２の入射光を入射さ
せる面側に位相差板を配し、該位相差板を介して第２の
入射光を前記ホログラム感光材料に入射させることを特
徴とするホログラム作製法。 - 【請求項２】反射型のマスターホログラム上に未露光の
ホログラム感光材料を積層したものに、前記未露光のホ
ログラム感光材料側から一光束を入射させて前記マスタ
ーホログラムに記録されている干渉縞を前記ホログラム
感光材料にコピーするホログラム作製法において、 前記マスターホログラムの前記未露光のホログラム感光
材料を積層した側とは反対側に位相差板を設けた状態で
前記未露光のホログラム感光材料側から一光束を入射さ
せて前記マスターホログラムに記録されている干渉縞を
前記ホログラム感光材料にコピーすることを特徴とする
ホログラム作製法。 - 【請求項３】透過型のマスターホログラム上に未露光の
ホログラム感光材料を積層したものに、前記マスターホ
ログラム側から一光束を入射させて前記マスターホログ
ラムに記録されている干渉縞を前記ホログラム感光材料
にコピーするホログラム作製法において、 前記未露光のホログラム感光材料の前記マスターホログ
ラムとは反対側に位相差板を設けた状態で前記マスター
ホログラム側から一光束を入射させて前記マスターホロ
グラムに記録されている干渉縞を前記ホログラム感光材
料にコピーすることを特徴とするホログラム作製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35306095A JPH09185313A (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | ホログラム作製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35306095A JPH09185313A (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | ホログラム作製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09185313A true JPH09185313A (ja) | 1997-07-15 |
Family
ID=18428296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35306095A Withdrawn JPH09185313A (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | ホログラム作製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09185313A (ja) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000049467A1 (en) * | 1999-02-16 | 2000-08-24 | Zebra Imaging, Inc. | System and method for producing and displaying a one-step, edge-lit hologram |
| WO2012042793A1 (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-05 | パナソニック株式会社 | シースルーディスプレイ装置及びシースルーディスプレイ装置を搭載した車両 |
| KR20220035852A (ko) * | 2020-09-14 | 2022-03-22 | 주식회사 엘지화학 | 홀로그래픽 광학 소자 및 그의 제조방법 |
| KR20220035760A (ko) * | 2020-09-14 | 2022-03-22 | 주식회사 엘지화학 | 홀로그래픽 광학 소자 및 그의 제조방법 |
| US11703799B2 (en) | 2018-01-08 | 2023-07-18 | Digilens Inc. | Systems and methods for high-throughput recording of holographic gratings in waveguide cells |
| US12092914B2 (en) | 2018-01-08 | 2024-09-17 | Digilens Inc. | Systems and methods for manufacturing waveguide cells |
| US12140764B2 (en) | 2019-02-15 | 2024-11-12 | Digilens Inc. | Wide angle waveguide display |
| US12210153B2 (en) | 2019-01-14 | 2025-01-28 | Digilens Inc. | Holographic waveguide display with light control layer |
| US12248150B2 (en) | 2017-01-05 | 2025-03-11 | Digilens Inc. | Wearable heads up displays |
| US12271035B2 (en) | 2019-06-07 | 2025-04-08 | Digilens Inc. | Waveguides incorporating transmissive and reflective gratings and related methods of manufacturing |
| US12298513B2 (en) | 2016-12-02 | 2025-05-13 | Digilens Inc. | Waveguide device with uniform output illumination |
| US12306585B2 (en) | 2018-01-08 | 2025-05-20 | Digilens Inc. | Methods for fabricating optical waveguides |
| US12379547B2 (en) | 2015-02-12 | 2025-08-05 | Digilens Inc. | Waveguide grating device |
| US12399326B2 (en) | 2021-01-07 | 2025-08-26 | Digilens Inc. | Grating structures for color waveguides |
| US12397477B2 (en) | 2019-02-05 | 2025-08-26 | Digilens Inc. | Methods for compensating for optical surface nonuniformity |
| US12405471B2 (en) | 2015-10-05 | 2025-09-02 | Digilens Inc. | Apparatus for providing waveguide displays with two-dimensional pupil expansion |
| US12405507B2 (en) | 2012-11-16 | 2025-09-02 | Digilens Inc. | Transparent waveguide display with grating lamina that both couple and extract modulated light |
| US12596218B2 (en) | 2012-04-25 | 2026-04-07 | Digilens Inc. | Holographic wide angle display |
-
1995
- 1995-12-27 JP JP35306095A patent/JPH09185313A/ja not_active Withdrawn
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| EP4119994A4 (en) * | 2020-09-14 | 2023-12-20 | Lg Chem, Ltd. | HOLOGRAPHIC OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING THEREOF |
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|---|---|---|---|
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