JPH09186097A - 縦型炉 - Google Patents
縦型炉Info
- Publication number
- JPH09186097A JPH09186097A JP35318095A JP35318095A JPH09186097A JP H09186097 A JPH09186097 A JP H09186097A JP 35318095 A JP35318095 A JP 35318095A JP 35318095 A JP35318095 A JP 35318095A JP H09186097 A JPH09186097 A JP H09186097A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- furnace
- exhaust gas
- exhaust
- flow rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】縦型炉に於いて、単一のヒータを使用して温度
制御性を向上させ構造の簡略化を図り、更に設備費の低
減を図る。 【解決手段】縦型炉のヒータ２内部に連通する排気ライ
ン６を設け、該排気ラインからの排気流量を制御して炉
内からの放熱量を制御するものであり、又使用されるヒ
ータが高温仕様である縦型炉に係り、排気流量を制御し
放熱量を制御することで単一のヒータにより異なる加熱
特性の処理を実現する。
制御性を向上させ構造の簡略化を図り、更に設備費の低
減を図る。 【解決手段】縦型炉のヒータ２内部に連通する排気ライ
ン６を設け、該排気ラインからの排気流量を制御して炉
内からの放熱量を制御するものであり、又使用されるヒ
ータが高温仕様である縦型炉に係り、排気流量を制御し
放熱量を制御することで単一のヒータにより異なる加熱
特性の処理を実現する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造装置の縦
型炉、特にランプアップ特性、リカバリー特性或は降温
特性を改善した縦型炉に関するものである。
型炉、特にランプアップ特性、リカバリー特性或は降温
特性を改善した縦型炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程に、シリコンウェーハに
ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉ
ｔｉｏｎ）による薄膜の生成、或は不純物の拡散等を行
う工程が有り、斯かる工程を行う為の装置として縦型炉
が設備される。
ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉ
ｔｉｏｎ）による薄膜の生成、或は不純物の拡散等を行
う工程が有り、斯かる工程を行う為の装置として縦型炉
が設備される。
【０００３】図２に於いて、従来の縦型炉の概略を説明
する。
する。
【０００４】ベース１に上端が閉塞された筒状のヒータ
２が立設され該ヒータ２の内部に均熱管３、更に該均熱
管３の内部に反応管４が同心に設けられている。
２が立設され該ヒータ２の内部に均熱管３、更に該均熱
管３の内部に反応管４が同心に設けられている。
【０００５】前記均熱管３にはウェーハを水平姿勢で多
段に保持したボート（図示せず）が装入され、更に前記
反応管４内に反応ガスが供給され、前記ヒータ２により
炉内が所定温度に加熱されることでウェーハに所要の処
理がなされる。
段に保持したボート（図示せず）が装入され、更に前記
反応管４内に反応ガスが供給され、前記ヒータ２により
炉内が所定温度に加熱されることでウェーハに所要の処
理がなされる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】縦型炉は処理内容によ
り使用温度が４００℃〜１２００℃と広い。又、ヒータ
の熱容量或は断熱特性はヒータ固有のものであり、この
為、ヒータを製作するに際して高温仕様にするか低温仕
様にするかを選択する必要があり、高温仕様を選択して
製作したヒータでは低温域で使用すると熱容量が大きい
ことや断熱性が良すぎる為、ヒータの熱応答性が悪く、
オーバシュート或はアンダーシュートが大きくなり、制
御性が著しく悪いという問題があり、低温仕様で製作し
たヒータでは断熱性が悪いので高温域の使用で多くの電
力を消費するという問題があった。
り使用温度が４００℃〜１２００℃と広い。又、ヒータ
の熱容量或は断熱特性はヒータ固有のものであり、この
為、ヒータを製作するに際して高温仕様にするか低温仕
様にするかを選択する必要があり、高温仕様を選択して
製作したヒータでは低温域で使用すると熱容量が大きい
ことや断熱性が良すぎる為、ヒータの熱応答性が悪く、
オーバシュート或はアンダーシュートが大きくなり、制
御性が著しく悪いという問題があり、低温仕様で製作し
たヒータでは断熱性が悪いので高温域の使用で多くの電
力を消費するという問題があった。
【０００７】この為、縦型炉によっては高温仕様、中温
仕様、低温仕様の３種類のヒータを装備させ、用途に応
じて使分けているものがあるが、高温仕様、中温仕様、
低温仕様の３種類のヒータを装備した場合、装置が高価
になると共に制御系が複雑になるという問題があった。
仕様、低温仕様の３種類のヒータを装備させ、用途に応
じて使分けているものがあるが、高温仕様、中温仕様、
低温仕様の３種類のヒータを装備した場合、装置が高価
になると共に制御系が複雑になるという問題があった。
【０００８】本発明は斯かる実情に鑑み、単一のヒータ
を使用して温度制御性を向上させ、縦型炉の簡略化、設
備費の低減を図るものである。
を使用して温度制御性を向上させ、縦型炉の簡略化、設
備費の低減を図るものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、縦型炉のヒー
タ内部に連通する排気ラインを設け、該排気ラインから
の排気流量を制御して炉内からの放熱量を制御するもの
であり、又使用されるヒータが高温仕様である縦型炉に
係り、排気流量を制御し放熱量を制御することで単一の
ヒータにより異なる加熱特性の処理を実現する。
タ内部に連通する排気ラインを設け、該排気ラインから
の排気流量を制御して炉内からの放熱量を制御するもの
であり、又使用されるヒータが高温仕様である縦型炉に
係り、排気流量を制御し放熱量を制御することで単一の
ヒータにより異なる加熱特性の処理を実現する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。尚、図１中、図２中で示したも
のと同一のものには同符号を付してある。
実施の形態を説明する。尚、図１中、図２中で示したも
のと同一のものには同符号を付してある。
【００１１】ベース１に上端が閉塞された筒状のヒータ
２が立設され該ヒータ２の内部に均熱管３、更に該均熱
管３の内部に反応管４が同心に設けられている。前記ヒ
ータ２は高温仕様のヒータが使用される。前記ヒータ２
の上端部に排気ポート５を設け、該排気ポート５に排気
ライン６を連通する。
２が立設され該ヒータ２の内部に均熱管３、更に該均熱
管３の内部に反応管４が同心に設けられている。前記ヒ
ータ２は高温仕様のヒータが使用される。前記ヒータ２
の上端部に排気ポート５を設け、該排気ポート５に排気
ライン６を連通する。
【００１２】該排気ライン６は前記排気ポート５に接続
された導管７、該導管７の上流側よりダンパ８、放熱器
９、流量調整弁１０が順次設けられ、更に前記導管７は
ブロア１１或は排気ダクト（図示せず）等の排気手段に
連通している。
された導管７、該導管７の上流側よりダンパ８、放熱器
９、流量調整弁１０が順次設けられ、更に前記導管７は
ブロア１１或は排気ダクト（図示せず）等の排気手段に
連通している。
【００１３】前記均熱管３にはウェーハを水平姿勢で多
段に保持したボート（図示せず）が装入され、更に前記
反応管４内に反応ガスが供給され、前記ヒータ２により
炉内が所定温度に加熱されることでウェーハに所要の処
理がなされる。
段に保持したボート（図示せず）が装入され、更に前記
反応管４内に反応ガスが供給され、前記ヒータ２により
炉内が所定温度に加熱されることでウェーハに所要の処
理がなされる。
【００１４】低温処理時には前記流量調整弁１０により
排気流量、即ち放熱量を制御しつつ前記ベース１と前記
均熱管３間の空気を排気し、前記ヒータ２による加熱量
を制御する。尚、前記排気ポート５より排気された空気
は前記放熱器９により排気するに支障ない迄冷却され
る。
排気流量、即ち放熱量を制御しつつ前記ベース１と前記
均熱管３間の空気を排気し、前記ヒータ２による加熱量
を制御する。尚、前記排気ポート５より排気された空気
は前記放熱器９により排気するに支障ない迄冷却され
る。
【００１５】排気による温度制御の一例として、縦型炉
の４００℃使用時には排気流量を５mmＨ2 Ｏ、５００℃
使用時には排気流量を２mmＨ2 Ｏ、６００℃使用時には
排気流量を１mmＨ2 Ｏ等である。
の４００℃使用時には排気流量を５mmＨ2 Ｏ、５００℃
使用時には排気流量を２mmＨ2 Ｏ、６００℃使用時には
排気流量を１mmＨ2 Ｏ等である。
【００１６】更に、ウェーハの処理が完了し、ボートの
挿脱が行われる場合炉内の降温が行われるが、その際に
も前記ブロア１１により前記ヒータ２と前記均熱管３間
の排気を行うことで急冷が可能となる。又、ランプアッ
プ、リカバリー時に於いても前記ヒータ２による加熱と
排気による冷却を組合わせることでオーバシュート或は
アンダーシュートを抑制することができ、良好なランプ
アップ特性、リカバリー特性を実現することができる。
挿脱が行われる場合炉内の降温が行われるが、その際に
も前記ブロア１１により前記ヒータ２と前記均熱管３間
の排気を行うことで急冷が可能となる。又、ランプアッ
プ、リカバリー時に於いても前記ヒータ２による加熱と
排気による冷却を組合わせることでオーバシュート或は
アンダーシュートを抑制することができ、良好なランプ
アップ特性、リカバリー特性を実現することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、単一の
ヒータを使用して構造を簡略化すると共に、ランプアッ
プ特性、リカバリー特性を損なうことなく、又高温使用
時での電力消費量を抑制するという優れた効果を発揮す
る。
ヒータを使用して構造を簡略化すると共に、ランプアッ
プ特性、リカバリー特性を損なうことなく、又高温使用
時での電力消費量を抑制するという優れた効果を発揮す
る。
【図１】本発明の実施の形態を示す概略構成図である。
【図２】従来例を示す概略構成図である。
１ ベース ２ ヒータ ３ 均熱管 ４ 反応管 ５ 排気ポート ６ 排気ライン ７ 導管 ８ ダンパ ９ 放熱器 １０ 流量調整弁 １１ ブロア
Claims (2)
- 【請求項１】 縦型炉のヒータ内部に連通する排気ライ
ンを設け、該排気ラインからの排気流量を制御して炉内
からの放熱量を制御することを特徴とする縦型炉。 - 【請求項２】 使用されるヒータが高温仕様である請求
項１の縦型炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35318095A JPH09186097A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 縦型炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35318095A JPH09186097A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 縦型炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09186097A true JPH09186097A (ja) | 1997-07-15 |
Family
ID=18429104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35318095A Pending JPH09186097A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 縦型炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09186097A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010249507A (ja) * | 2010-06-16 | 2010-11-04 | Tokyo Electron Ltd | 縦型熱処理装置及びその制御方法 |
-
1995
- 1995-12-28 JP JP35318095A patent/JPH09186097A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010249507A (ja) * | 2010-06-16 | 2010-11-04 | Tokyo Electron Ltd | 縦型熱処理装置及びその制御方法 |
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