JPH09197101A - プラスチック製光学部品の反射防止膜 - Google Patents
プラスチック製光学部品の反射防止膜Info
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 可視光領域だけでなく、近赤外領域に対して
の光の透過率が高い反射防止膜を形成する。 【解決手段】 光学的膜厚が４７．５ｎｍ±５％のＴｉ
Ｏ2 膜、光学的膜厚が４０ｎｍ±１０％のＳｉＯ2 膜、
光学的膜厚が１９５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜
厚が１６．５ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が８
０ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が１４９ｎｍ±
５％のＳｉＯ2 膜をプラスチック製光学部品の表面に順
に形成して反射防止膜とする。膜数を多くすると共に、
各膜の膜厚を最適化することで近赤外領域の透過率を向
上させる。
の光の透過率が高い反射防止膜を形成する。 【解決手段】 光学的膜厚が４７．５ｎｍ±５％のＴｉ
Ｏ2 膜、光学的膜厚が４０ｎｍ±１０％のＳｉＯ2 膜、
光学的膜厚が１９５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜
厚が１６．５ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が８
０ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が１４９ｎｍ±
５％のＳｉＯ2 膜をプラスチック製光学部品の表面に順
に形成して反射防止膜とする。膜数を多くすると共に、
各膜の膜厚を最適化することで近赤外領域の透過率を向
上させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックから
なる光学部品の表面に設けられた反射防止膜に関し、特
に可視光及び近赤外光領域での透過率の高い反射防止膜
に関する。
なる光学部品の表面に設けられた反射防止膜に関し、特
に可視光及び近赤外光領域での透過率の高い反射防止膜
に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズやミラー、プリズム等の光学部品
の素材として合成樹脂を用いる頻度が高くなっている。
合成樹脂製光学部品はガラス製光学部品に比較して低コ
スト化、軽量化等を図ることができ、且つ複雑な形状の
光学部品においてもガラスよりも加工し易いという利点
を有しているためである。
の素材として合成樹脂を用いる頻度が高くなっている。
合成樹脂製光学部品はガラス製光学部品に比較して低コ
スト化、軽量化等を図ることができ、且つ複雑な形状の
光学部品においてもガラスよりも加工し易いという利点
を有しているためである。
【０００３】このような合成樹脂によって形成される部
品は、ガラスや金属に比して耐摩耗性、耐擦傷性が劣る
ために、表面保護としての保護膜等を形成することがあ
る。特に合成樹脂を光学部品として用いる場合には、表
面保護の目的だけでなく、透過率等の光学性能を向上さ
せるため、光学ガラスの場合と同様に反射防止膜を設け
る場合が多い。この場合において、反射防止膜は生産性
が高い等の理由から通常、真空蒸着法により形成されて
いる。
品は、ガラスや金属に比して耐摩耗性、耐擦傷性が劣る
ために、表面保護としての保護膜等を形成することがあ
る。特に合成樹脂を光学部品として用いる場合には、表
面保護の目的だけでなく、透過率等の光学性能を向上さ
せるため、光学ガラスの場合と同様に反射防止膜を設け
る場合が多い。この場合において、反射防止膜は生産性
が高い等の理由から通常、真空蒸着法により形成されて
いる。
【０００４】かかる膜の形成において、光学ガラスの場
合は、ガラス基板を加熱して光学薄膜を蒸着することが
できるので、ガラス基板と光学薄膜の密着性が高く、ま
た光学薄膜自体の耐擦傷性も良好である。これに対し
て、合成樹脂の場合は耐熱性が低いため、基板を加熱す
ることができない。このため合成樹脂基板に対しては、
光学薄膜の密着性や光学薄膜自体の耐擦傷性が著しく劣
化する問題がある。
合は、ガラス基板を加熱して光学薄膜を蒸着することが
できるので、ガラス基板と光学薄膜の密着性が高く、ま
た光学薄膜自体の耐擦傷性も良好である。これに対し
て、合成樹脂の場合は耐熱性が低いため、基板を加熱す
ることができない。このため合成樹脂基板に対しては、
光学薄膜の密着性や光学薄膜自体の耐擦傷性が著しく劣
化する問題がある。
【０００５】このような問題点を解決するため、従来よ
り数多くの提案がされている。光学薄膜としての反射防
止膜の場合は、特公平６−８７０８１号公報に開示され
ているような反射防止膜がある。この反射防止膜はプラ
スチック製光学部品の表面に、その表面側から光学的膜
厚λ／４（λ＝５５０ｎｍ）の一酸化ケイ素と酸化ジル
コニウムの混合物層を形成し、その上に光学的膜厚λ／
２の酸化ジルコニウム層を形成し、さらにその上に光学
的膜厚λ／４の二酸化ケイ素層を形成することによって
構成されるものである。この反射防止膜は４００〜８８
０ｎｍの波長領域で反射率がほぼ２％以下となっている
特性を有している。
り数多くの提案がされている。光学薄膜としての反射防
止膜の場合は、特公平６−８７０８１号公報に開示され
ているような反射防止膜がある。この反射防止膜はプラ
スチック製光学部品の表面に、その表面側から光学的膜
厚λ／４（λ＝５５０ｎｍ）の一酸化ケイ素と酸化ジル
コニウムの混合物層を形成し、その上に光学的膜厚λ／
２の酸化ジルコニウム層を形成し、さらにその上に光学
的膜厚λ／４の二酸化ケイ素層を形成することによって
構成されるものである。この反射防止膜は４００〜８８
０ｎｍの波長領域で反射率がほぼ２％以下となっている
特性を有している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで近年光学機器
の電子化が進むにつれてＣＣＤなどの撮像デバイスを使
用する光学系に上述のような反射防止膜を有する光学素
子が使用される頻度が高くなってきた。この場合、ＣＣ
Ｄは可視域よりも１μｍ前後の近赤外域の感度がよいこ
とから、４００〜７００ｎｍの可視域だけでなく、近赤
外でも良好な透過率特性を有する光学素子のニーズが高
まってきた。この近赤外域に感度が高いことを要求する
機器としては、ＣＣＤに限らず、他のＳｉを使用した撮
像素子や、同様にＳｉを基板に使用している太陽電池パ
ネルなどがある。
の電子化が進むにつれてＣＣＤなどの撮像デバイスを使
用する光学系に上述のような反射防止膜を有する光学素
子が使用される頻度が高くなってきた。この場合、ＣＣ
Ｄは可視域よりも１μｍ前後の近赤外域の感度がよいこ
とから、４００〜７００ｎｍの可視域だけでなく、近赤
外でも良好な透過率特性を有する光学素子のニーズが高
まってきた。この近赤外域に感度が高いことを要求する
機器としては、ＣＣＤに限らず、他のＳｉを使用した撮
像素子や、同様にＳｉを基板に使用している太陽電池パ
ネルなどがある。
【０００７】しかしながら、反射防止膜を有する従来の
プラスチック製光学部品では、この近赤外領域の反射率
が高く、したがって近赤外域の波長の光を有効に撮像素
子あるいは太陽電池パネルなどに伝えることができない
問題点があった。
プラスチック製光学部品では、この近赤外領域の反射率
が高く、したがって近赤外域の波長の光を有効に撮像素
子あるいは太陽電池パネルなどに伝えることができない
問題点があった。
【０００８】本発明は、このような問題点を考慮してな
されたものであり、可視域だけでなく、１μｍ前後の近
赤外域でも透過率の高い、すなわち反射率の低いプラス
チック製光学部品の反射防止膜を提供することを目的と
している。
されたものであり、可視域だけでなく、１μｍ前後の近
赤外域でも透過率の高い、すなわち反射率の低いプラス
チック製光学部品の反射防止膜を提供することを目的と
している。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、プラスチック製光学部品の表面に６層または８層の
薄膜を形成した反射防止膜において、前記表面から空気
側へ順に、第１層は酸化チタンで、第２層は酸化けい素
からなり、第３層以降はそれらを交互に形成したことを
特徴とするプラスチック製光学部品の反射防止膜であっ
て、請求項１の発明の反射防止膜は、プラスチック製光
学部品の表面に、光学的膜厚が４７．５ｎｍ±５％のＴ
ｉＯ2 膜、光学的膜厚が４０ｎｍ±１０％のＳｉＯ
2 膜、光学的膜厚が１９５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光
学的膜厚が１６．５ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜
厚が８０ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が１４９
ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、が表面側から空気側へ順に積
層されていることを特徴とする。
に、プラスチック製光学部品の表面に６層または８層の
薄膜を形成した反射防止膜において、前記表面から空気
側へ順に、第１層は酸化チタンで、第２層は酸化けい素
からなり、第３層以降はそれらを交互に形成したことを
特徴とするプラスチック製光学部品の反射防止膜であっ
て、請求項１の発明の反射防止膜は、プラスチック製光
学部品の表面に、光学的膜厚が４７．５ｎｍ±５％のＴ
ｉＯ2 膜、光学的膜厚が４０ｎｍ±１０％のＳｉＯ
2 膜、光学的膜厚が１９５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光
学的膜厚が１６．５ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜
厚が８０ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が１４９
ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、が表面側から空気側へ順に積
層されていることを特徴とする。
【００１０】この構成では、従来の３層程度のプラスチ
ック製光学部品の表面上の反射防止膜に比べ、層数を６
層にまで増やし、さらにその各層の膜厚を最適化するこ
とによって可視域だけでなく、近赤外領域へも反射防止
帯域を広げることが可能となっている。
ック製光学部品の表面上の反射防止膜に比べ、層数を６
層にまで増やし、さらにその各層の膜厚を最適化するこ
とによって可視域だけでなく、近赤外領域へも反射防止
帯域を広げることが可能となっている。
【００１１】請求項２の発明の反射防止膜は、プラスチ
ック製光学部品の表面に、光学的膜厚が２４ｎｍ±５％
のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が７８ｎｍ±１０％のＳｉＯ
2 膜、光学的膜厚が７５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学
的膜厚が３４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が２
０５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が２４ｎｍ±
５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が８０ｎｍ±５％のＴｉ
Ｏ2 膜、光学的膜厚が１６４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、
が表面側から空気側へ順に積層されていることを特徴と
する。
ック製光学部品の表面に、光学的膜厚が２４ｎｍ±５％
のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が７８ｎｍ±１０％のＳｉＯ
2 膜、光学的膜厚が７５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学
的膜厚が３４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が２
０５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が２４ｎｍ±
５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が８０ｎｍ±５％のＴｉ
Ｏ2 膜、光学的膜厚が１６４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、
が表面側から空気側へ順に積層されていることを特徴と
する。
【００１２】この構成では、従来の３層程度のプラスチ
ック製光学部品の表面上の反射防止膜に比べ、層数を８
層にまで増やし、さらにその各層の膜厚を最適化するこ
とによって可視域だけでなく、近赤外領域へも反射防止
帯域を飛躍的に広げることが可能となっている。
ック製光学部品の表面上の反射防止膜に比べ、層数を８
層にまで増やし、さらにその各層の膜厚を最適化するこ
とによって可視域だけでなく、近赤外領域へも反射防止
帯域を飛躍的に広げることが可能となっている。
【００１３】請求項３の発明の反射防止膜は、プラスチ
ック製光学部品の表面に、光学的膜厚が２６ｎｍ±５％
のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が７４ｎｍ±１０％のＳｉＯ
2 膜、光学的膜厚が７８ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学
的膜厚が３４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が２
０６ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が２０ｎｍ±
５％のＳｉ０2 膜、光学的膜厚が９０ｎｍ±５％のＴｉ
Ｏ2 膜、光学的膜厚が１６０ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、
が表面側から空気側へ順に積層されていることを特徴と
する。
ック製光学部品の表面に、光学的膜厚が２６ｎｍ±５％
のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が７４ｎｍ±１０％のＳｉＯ
2 膜、光学的膜厚が７８ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学
的膜厚が３４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、光学的膜厚が２
０６ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、光学的膜厚が２０ｎｍ±
５％のＳｉ０2 膜、光学的膜厚が９０ｎｍ±５％のＴｉ
Ｏ2 膜、光学的膜厚が１６０ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、
が表面側から空気側へ順に積層されていることを特徴と
する。
【００１４】この構成では、従来の３層程度のプラスチ
ック製光学部品の表面上の反射防止膜に比べて層数を８
層にまで増やし、さらにその各層の膜厚を最適化するこ
とによって可視域だけでなく、近赤外領域へも反射防止
帯域を飛躍的に広げている。この場合、特に可視光領域
の反射率を選択的に低減できる。これにより特に、近赤
外領域よりも可視域での変換効率が高い太陽電池保護パ
ネルなどに使用した場合、より高い発電効果を得ること
ができる。
ック製光学部品の表面上の反射防止膜に比べて層数を８
層にまで増やし、さらにその各層の膜厚を最適化するこ
とによって可視域だけでなく、近赤外領域へも反射防止
帯域を飛躍的に広げている。この場合、特に可視光領域
の反射率を選択的に低減できる。これにより特に、近赤
外領域よりも可視域での変換効率が高い太陽電池保護パ
ネルなどに使用した場合、より高い発電効果を得ること
ができる。
【００１５】
（実施の形態１）射出成形された屈折率１．５７のポリ
カーボネート（ＰＣ）を光学素子用素材として用い、こ
のプラスチック製光学部品の表面に６層の反射防止膜を
設けた。この反射防止膜の形成は、射出成形された光学
部品を真空槽に入れ、１×１０-4Ｐａまで排気した後、
この光学部品の表面に対して、その表面側から空気側に
向かって、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、
ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚４９．４
ｎｍ、３６．９ｎｍ、１９５．３ｎｍ、１７．３ｎｍ、
７８．９ｎｍ、１５１．１ｎｍの厚さで成膜することで
行った。この成膜は電子ビーム蒸着法によって行うもの
である。
カーボネート（ＰＣ）を光学素子用素材として用い、こ
のプラスチック製光学部品の表面に６層の反射防止膜を
設けた。この反射防止膜の形成は、射出成形された光学
部品を真空槽に入れ、１×１０-4Ｐａまで排気した後、
この光学部品の表面に対して、その表面側から空気側に
向かって、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、
ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚４９．４
ｎｍ、３６．９ｎｍ、１９５．３ｎｍ、１７．３ｎｍ、
７８．９ｎｍ、１５１．１ｎｍの厚さで成膜することで
行った。この成膜は電子ビーム蒸着法によって行うもの
である。
【００１６】以上のようにして作製された反射防止膜の
垂直入射光の３００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性
を測定した結果を図１に示す。同図に示すように、４０
０〜９５０ｎｍの広い波長域の全域で反射率が２％以下
という良好な特性となっていた。
垂直入射光の３００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性
を測定した結果を図１に示す。同図に示すように、４０
０〜９５０ｎｍの広い波長域の全域で反射率が２％以下
という良好な特性となっていた。
【００１７】また、この光学素子を９５％の湿度の条件
下で、−４０℃に１時間放置した後、３０分間で８０℃
として１時間放置し、その後さらに３０分間で−４０℃
として１時間放置するサイクルを繰り返すヒートサイク
ル試験を３日間連続して行った。この試験を行った後、
反射防止膜の外観を光学顕微鏡で観察したところ、クラ
ックの発生などの変化はみられなかった。またこの試験
後に、同様に３００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性
を測定したところ、試験の前後でその特性に変化は見ら
れず４００〜９５０ｎｍの広い波長域の全域で反射率が
２％以下という良好な特性を保っていた。
下で、−４０℃に１時間放置した後、３０分間で８０℃
として１時間放置し、その後さらに３０分間で−４０℃
として１時間放置するサイクルを繰り返すヒートサイク
ル試験を３日間連続して行った。この試験を行った後、
反射防止膜の外観を光学顕微鏡で観察したところ、クラ
ックの発生などの変化はみられなかった。またこの試験
後に、同様に３００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性
を測定したところ、試験の前後でその特性に変化は見ら
れず４００〜９５０ｎｍの広い波長域の全域で反射率が
２％以下という良好な特性を保っていた。
【００１８】（実施の形態２）射出成形された屈折率
１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を光
学素子用素材として用い、このプラスチック製光学部品
の表面に６層の反射防止膜を設けた。反射防止膜は成形
された光学部品を真空槽に入れ、実施の形態１と同様
に、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ
2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚４５．６ｎｍ、
４３．７ｎｍ、１９３．９ｎｍ、１６．０ｎｍ、８０．
８ｎｍ、１４７．５ｎｍの厚さで成膜することによって
設けた。このようにして作製された反射防止膜の３００
〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を図
２に示す。同図に示すように、４００〜９５０ｎｍの広
い波長域での全域で反射率が２％以下という良好な特性
となっている。
１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を光
学素子用素材として用い、このプラスチック製光学部品
の表面に６層の反射防止膜を設けた。反射防止膜は成形
された光学部品を真空槽に入れ、実施の形態１と同様
に、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ
2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚４５．６ｎｍ、
４３．７ｎｍ、１９３．９ｎｍ、１６．０ｎｍ、８０．
８ｎｍ、１４７．５ｎｍの厚さで成膜することによって
設けた。このようにして作製された反射防止膜の３００
〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を図
２に示す。同図に示すように、４００〜９５０ｎｍの広
い波長域での全域で反射率が２％以下という良好な特性
となっている。
【００１９】また、この光学素子を実施の形態１と同様
に、−４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３
日間繰り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止
膜の外観及び特性に変化は見られなかった。
に、−４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３
日間繰り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止
膜の外観及び特性に変化は見られなかった。
【００２０】（実施の形態３）射出成形された屈折率
１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を光
学素子用素材として用い、このプラスチック製光学部品
の表面に８層の反射防止膜を設けた。反射防止膜は光学
素子を真空槽に入れ、実施の形態１と同様に、Ｔｉ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚２
３．８ｎｍ、８３．１ｎｍ、７５．１ｎｍ、３３．９ｎ
ｍ、２０６．７ｎｍ、２４．９ｎｍ７８．９ｎｍ、１６
５．６ｎｍの厚さで成膜することにより設けた。
１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を光
学素子用素材として用い、このプラスチック製光学部品
の表面に８層の反射防止膜を設けた。反射防止膜は光学
素子を真空槽に入れ、実施の形態１と同様に、Ｔｉ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚２
３．８ｎｍ、８３．１ｎｍ、７５．１ｎｍ、３３．９ｎ
ｍ、２０６．７ｎｍ、２４．９ｎｍ７８．９ｎｍ、１６
５．６ｎｍの厚さで成膜することにより設けた。
【００２１】図３はこのようにして作製した反射防止膜
の４００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した
結果を示す。同図に示すように、４１０〜１１２０ｎｍ
の非常に広い波長域での全域で反射率が２％以下であ
り、４３０〜１０５０ｎｍの波長領域では反射率が１％
以下という良好な特性となっている。
の４００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した
結果を示す。同図に示すように、４１０〜１１２０ｎｍ
の非常に広い波長域での全域で反射率が２％以下であ
り、４３０〜１０５０ｎｍの波長領域では反射率が１％
以下という良好な特性となっている。
【００２２】また、この光学素子を実施の形態１と同様
に、−４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３
日間繰り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止
膜の外観及び特性に変化は見られなかった。
に、−４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３
日間繰り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止
膜の外観及び特性に変化は見られなかった。
【００２３】（実施の形態４）射出成形された屈折率
１．５７のポリカーボネート（ＰＣ）を光学素子用素材
として用い、このプラスチック製光学部品の表面に８層
の反射防止膜を設けた。すなわち、この光学素子を真空
槽に入れ、実施の形態１と同様に、ＴｉＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｔｉ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚２４．２ｎ
ｍ、７２．９ｎｍ、７５．６ｎｍ、３４．５ｎｍ、２０
４．４ｎｍ、２３．０ｎｍ、８１．３ｎｍ、１６３．５
ｎｍの厚さで成膜する。
１．５７のポリカーボネート（ＰＣ）を光学素子用素材
として用い、このプラスチック製光学部品の表面に８層
の反射防止膜を設けた。すなわち、この光学素子を真空
槽に入れ、実施の形態１と同様に、ＴｉＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｔｉ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚２４．２ｎ
ｍ、７２．９ｎｍ、７５．６ｎｍ、３４．５ｎｍ、２０
４．４ｎｍ、２３．０ｎｍ、８１．３ｎｍ、１６３．５
ｎｍの厚さで成膜する。
【００２４】このようにして作製した反射防止膜の垂直
入射光の４００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測
定した結果を図４に示す。同図に示すように、４２０〜
１０７０ｎｍの非常に広い波長域の全域で反射率が２％
以下であり、４３０〜１０００ｎｍの波長域では、反射
率が１％以下という良好な特性となっている。
入射光の４００〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測
定した結果を図４に示す。同図に示すように、４２０〜
１０７０ｎｍの非常に広い波長域の全域で反射率が２％
以下であり、４３０〜１０００ｎｍの波長域では、反射
率が１％以下という良好な特性となっている。
【００２５】また、この光学素子を実施の形態１と同様
に、−４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３
日間繰り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止
膜の外観及び特性に変化は見られなかった。
に、−４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３
日間繰り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止
膜の外観及び特性に変化は見られなかった。
【００２６】（実施の形態５）射出成形された屈折率
１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を光
学素子用素材として用い、このプラスチック製光学部品
の表面に８層の反射防止膜を設けた。反射防止膜は光学
素子を真空槽に入れ、実施の形態１と同様にＴｉＯ2 、
ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、
ＴｉＯ2 、ＳｉＯ 2 の順にそれぞれ光学的膜厚２６．６
ｎｍ、７８．７ｎｍ、７７．９ｎｍ、３２．６ｎｍ、２
１１．０ｎｍ、２０．５ｎｍ、９０．３ｎｍ、１６４．
１ｎｍの厚さで成膜することにより設けた。
１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を光
学素子用素材として用い、このプラスチック製光学部品
の表面に８層の反射防止膜を設けた。反射防止膜は光学
素子を真空槽に入れ、実施の形態１と同様にＴｉＯ2 、
ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、
ＴｉＯ2 、ＳｉＯ 2 の順にそれぞれ光学的膜厚２６．６
ｎｍ、７８．７ｎｍ、７７．９ｎｍ、３２．６ｎｍ、２
１１．０ｎｍ、２０．５ｎｍ、９０．３ｎｍ、１６４．
１ｎｍの厚さで成膜することにより設けた。
【００２７】このようにして作製した反射防止膜の４０
０〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を
図５に示す。同図のように４３０〜１１２０ｎｍの非常
に広い波長域での全域で反射率が２％以下であり、しか
も４８０〜７６０ｎｍの範囲の波長領域では１％以下
で、特に５００〜７００ｎｍでの平均反射率は０．５２
％という良好な特性となっている。
０〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を
図５に示す。同図のように４３０〜１１２０ｎｍの非常
に広い波長域での全域で反射率が２％以下であり、しか
も４８０〜７６０ｎｍの範囲の波長領域では１％以下
で、特に５００〜７００ｎｍでの平均反射率は０．５２
％という良好な特性となっている。
【００２８】この光学素子を実施の形態１と同様に、−
４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３日間繰
り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止膜の外
観及び特性に変化は見られなかった。
４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３日間繰
り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止膜の外
観及び特性に変化は見られなかった。
【００２９】（実施の形態６）押し出しによって成形さ
れた屈折率１．５２の非晶質ポリオレフィンを光学素子
用素材として用い、このプラスチック製光学部品の表面
に８層の反射防止膜を設けた。この反射防止膜は光学素
子を真空槽に入れ、実施の形態１と同様にＴｉＯ2 、Ｓ
ｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｔ
ｉＯ2 、ＳｉＯ 2 の順にそれぞれ光学的膜厚２６．６ｎ
ｍ、７６．７ｎｍ、７８．９ｎｍ、３３．５ｎｍ、２１
１．０ｎｍ、２０．３ｎｍ、９０．３ｎｍ、１６４．３
ｎｍの厚さで成膜することで設けた。
れた屈折率１．５２の非晶質ポリオレフィンを光学素子
用素材として用い、このプラスチック製光学部品の表面
に８層の反射防止膜を設けた。この反射防止膜は光学素
子を真空槽に入れ、実施の形態１と同様にＴｉＯ2 、Ｓ
ｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｔ
ｉＯ2 、ＳｉＯ 2 の順にそれぞれ光学的膜厚２６．６ｎ
ｍ、７６．７ｎｍ、７８．９ｎｍ、３３．５ｎｍ、２１
１．０ｎｍ、２０．３ｎｍ、９０．３ｎｍ、１６４．３
ｎｍの厚さで成膜することで設けた。
【００３０】このようにして作製した反射防止膜の４０
０〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を
図６に示す。同ずに示すように、４３０〜１１００ｎｍ
の非常に広い波長域での全域で反射率が２％以下であ
り、しかも４５０〜７７０ｎｍの波長領域では１％以
下、特に５００〜７００ｎｍの波長領域での平均反射率
は０．５４％という良好な特性となっている。
０〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を
図６に示す。同ずに示すように、４３０〜１１００ｎｍ
の非常に広い波長域での全域で反射率が２％以下であ
り、しかも４５０〜７７０ｎｍの波長領域では１％以
下、特に５００〜７００ｎｍの波長領域での平均反射率
は０．５４％という良好な特性となっている。
【００３１】この光学素子を実施の形態１と同様に、−
４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３日間繰
り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止膜の外
観及び特性に変化は見られなかった。
４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３日間繰
り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止膜の外
観及び特性に変化は見られなかった。
【００３２】（実施の形態７）射出成形された屈折率
１．５７のポリカーボネイト（ＰＣ）を光学素子用素材
として用い、このプラスチック製光学部品の表面に８層
の反射防止膜を設けた。この反射防止膜は光学素子を真
空槽に入れ、実施の形態１と同様にＴｉＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｔｉ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚２６．１ｎ
ｍ、７１．６ｎｍ、７７．５ｎｍ、３５．４ｎｍ、２０
０．６ｎｍ、１９．４ｎｍ、８８．４ｎｍ、１５６．７
ｎｍの厚さで成膜することで設けた。
１．５７のポリカーボネイト（ＰＣ）を光学素子用素材
として用い、このプラスチック製光学部品の表面に８層
の反射防止膜を設けた。この反射防止膜は光学素子を真
空槽に入れ、実施の形態１と同様にＴｉＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｔｉ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 の順にそれぞれ光学的膜厚２６．１ｎ
ｍ、７１．６ｎｍ、７７．５ｎｍ、３５．４ｎｍ、２０
０．６ｎｍ、１９．４ｎｍ、８８．４ｎｍ、１５６．７
ｎｍの厚さで成膜することで設けた。
【００３３】このようにして作製した反射防止膜の４０
０〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を
図７に示す。同ずに示すように、４２０〜１０２０ｎｍ
の非常に広い波長域での全域で反射率が２％以下であ
り、しかも４２０〜７８０ｎｍの波長領域では１％以
下、特に４２０〜７００ｎｍの波長領域での平均反射率
は０．５７％という良好な特性となっている。
０〜１２００ｎｍでの分光反射率特性を測定した結果を
図７に示す。同ずに示すように、４２０〜１０２０ｎｍ
の非常に広い波長域での全域で反射率が２％以下であ
り、しかも４２０〜７８０ｎｍの波長領域では１％以
下、特に４２０〜７００ｎｍの波長領域での平均反射率
は０．５７％という良好な特性となっている。
【００３４】この光学素子を実施の形態１と同様に、−
４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３日間繰
り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止膜の外
観及び特性に変化は見られなかった。
４０〜８０℃の温度、９５％の湿度の条件下で３日間繰
り返すヒートサイクル試験を行ったが、反射防止膜の外
観及び特性に変化は見られなかった。
【００３５】
【発明の効果】請求項１の発明は、３層程度のプラスチ
ック製光学部品の表面上の従来の反射防止膜に比べて層
数が６層にまで増加していると共に、さらに各層の膜厚
を最適化しているため、反射防止帯域を可視域だけでな
く、近赤外領域へより広げることが可能となっている。
ック製光学部品の表面上の従来の反射防止膜に比べて層
数が６層にまで増加していると共に、さらに各層の膜厚
を最適化しているため、反射防止帯域を可視域だけでな
く、近赤外領域へより広げることが可能となっている。
【００３６】請求項２の発明は、３層程度のプラスチッ
ク製光学部品の表面上の従来の反射防止膜に比べて層数
が８層にまで増加していると共に、さらに各層の膜厚を
最適化しているため、反射防止帯域を可視域だけでな
く、近赤外領域へ飛躍的に広げることが可能となってい
る。
ク製光学部品の表面上の従来の反射防止膜に比べて層数
が８層にまで増加していると共に、さらに各層の膜厚を
最適化しているため、反射防止帯域を可視域だけでな
く、近赤外領域へ飛躍的に広げることが可能となってい
る。
【００３７】請求項３の発明は、３層程度のプラスチッ
ク製光学部品の表面上の従来の反射防止膜に比べて層数
が８層にまで増加していると共に、さらに各層の膜厚を
最適化することによって反射防止帯域を可視域だけでな
く、近赤外領域へ飛躍的に広げ、特に可視光領域の反射
率を選択的に低減できることが可能となっている。これ
により近赤外領域よりも可視域での変換効率の高い太陽
電池の保護パネルなどに使用した場合に、より高い発電
効果を得ることができる。
ク製光学部品の表面上の従来の反射防止膜に比べて層数
が８層にまで増加していると共に、さらに各層の膜厚を
最適化することによって反射防止帯域を可視域だけでな
く、近赤外領域へ飛躍的に広げ、特に可視光領域の反射
率を選択的に低減できることが可能となっている。これ
により近赤外領域よりも可視域での変換効率の高い太陽
電池の保護パネルなどに使用した場合に、より高い発電
効果を得ることができる。
【図１】実施の形態１の反射防止膜の分光反射率特性図
である。
である。
【図２】実施の形態２の反射防止膜の分光反射率特性図
である。
である。
【図３】実施の形態３の反射防止膜の分光反射率特性図
である。
である。
【図４】実施の形態４の反射防止膜の分光反射率特性図
である。
である。
【図５】実施の形態５の反射防止膜の分光反射率特性図
である。
である。
【図６】実施の形態６の反射防止膜の分光反射率特性図
である。
である。
【図７】実施の形態７の反射防止膜の分光反射率特性図
である。
である。
Claims (3)
- 【請求項１】 プラスチック製光学部品の表面に、 光学的膜厚が４７．５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が４０ｎｍ±１０％のＳｉＯ2 膜、 光学的膜厚が１９５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が１６．５ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、 光学的膜厚が８０ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が１４９ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、が表面側
から空気側へ順に積層されていることを特徴とするプラ
スチック製光学部品の反射防止膜。 - 【請求項２】 プラスチック製光学部品の表面に、 光学的膜厚が２４ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が７８ｎｍ±１０％のＳｉＯ2 膜、 光学的膜厚が７５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が３４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、 光学的膜厚が２０５ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が２４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、 光学的膜厚が８０ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が１６４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、が表面側
から空気側へ順に積層されていることを特徴とするプラ
スチック製光学部品の反射防止膜。 - 【請求項３】 プラスチック製光学部品の表面に、 光学的膜厚が２６ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が７４ｎｍ±１０％のＳｉＯ2 膜、 光学的膜厚が７８ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が３４ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、 光学的膜厚が２０６ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が２０ｎｍ±５％のＳｉ０2 膜、 光学的膜厚が９０ｎｍ±５％のＴｉＯ2 膜、 光学的膜厚が１６０ｎｍ±５％のＳｉＯ2 膜、が表面側
から空気側へ順に積層されていることを特徴とするプラ
スチック製光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8010226A JPH09197101A (ja) | 1996-01-24 | 1996-01-24 | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8010226A JPH09197101A (ja) | 1996-01-24 | 1996-01-24 | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09197101A true JPH09197101A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=11744375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8010226A Withdrawn JPH09197101A (ja) | 1996-01-24 | 1996-01-24 | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09197101A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003536097A (ja) * | 2000-06-07 | 2003-12-02 | サン−ゴバン グラス フランス | 反射防止コーティングを有する透明基材 |
| CN106650585A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-05-10 | 浙江星星科技股份有限公司 | 一种用于活体指纹识别的玻璃面板 |
| JP2023523851A (ja) * | 2020-05-07 | 2023-06-07 | エシロール アンテルナショナル | 可視領域及び近赤外領域において非常に低い反射率を有する光学物品 |
| CN117286465A (zh) * | 2023-09-21 | 2023-12-26 | 天津津航技术物理研究所 | 一种高性能中波红外光学薄膜元件制备方法 |
-
1996
- 1996-01-24 JP JP8010226A patent/JPH09197101A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003536097A (ja) * | 2000-06-07 | 2003-12-02 | サン−ゴバン グラス フランス | 反射防止コーティングを有する透明基材 |
| JP4824254B2 (ja) * | 2000-06-07 | 2011-11-30 | サン−ゴバン グラス フランス | 反射防止コーティングを有する透明基材 |
| US8372513B2 (en) | 2000-06-07 | 2013-02-12 | Saint-Gobain Glass France | Transparent substrate comprising an antireflection coating |
| CN106650585A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-05-10 | 浙江星星科技股份有限公司 | 一种用于活体指纹识别的玻璃面板 |
| CN106650585B (zh) * | 2016-09-30 | 2019-10-08 | 浙江星星科技股份有限公司 | 一种用于活体指纹识别的玻璃面板 |
| JP2023523851A (ja) * | 2020-05-07 | 2023-06-07 | エシロール アンテルナショナル | 可視領域及び近赤外領域において非常に低い反射率を有する光学物品 |
| CN117286465A (zh) * | 2023-09-21 | 2023-12-26 | 天津津航技术物理研究所 | 一种高性能中波红外光学薄膜元件制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030401 |