JPH09197103A - 多層反射防止膜を有するプラスティック製光学物品 - Google Patents
多層反射防止膜を有するプラスティック製光学物品Info
- Publication number
- JPH09197103A JPH09197103A JP8024641A JP2464196A JPH09197103A JP H09197103 A JPH09197103 A JP H09197103A JP 8024641 A JP8024641 A JP 8024641A JP 2464196 A JP2464196 A JP 2464196A JP H09197103 A JPH09197103 A JP H09197103A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- antireflection film
- film
- optical article
- plastic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】可視光線の広い領域で反射率が低く、傷が付き
にくく、汚れにくい多層反射防止膜を有するプラスティ
ック製光学物品提供する。 【解決手段】プラスティック製フィルムまたはシ−ト基
材の片面または両面の表層に、該基材層側から表面に向
かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITOを主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。
にくく、汚れにくい多層反射防止膜を有するプラスティ
ック製光学物品提供する。 【解決手段】プラスティック製フィルムまたはシ−ト基
材の片面または両面の表層に、該基材層側から表面に向
かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITOを主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
(LCD)、テレビ・コンピュ−タ−のブラウン管(C
RT)その他の表示画面などの前面に装着され、それら
装置から発生する電磁波や静電気を効果的にシ−ルドあ
るいは漏洩させ、優れた反射防止性能を有する光学物品
に関する。すなわち、人がそれら装置の前で作業する場
合、電磁波による健康障害を防止し、静電気の帯電によ
るほこりなどの付着を最小限におさえ、しかも作業者の
後ろにある種々の光原からの光が表示画面に反射して作
業者の目に当たるために本来の表示が見にくくなること
を防ぐために充分な反射防止性能を有する傷が付きにく
く、しかも種々の生活周辺物質によって汚れにくいいプ
ラスティック光学物品に関する。
(LCD)、テレビ・コンピュ−タ−のブラウン管(C
RT)その他の表示画面などの前面に装着され、それら
装置から発生する電磁波や静電気を効果的にシ−ルドあ
るいは漏洩させ、優れた反射防止性能を有する光学物品
に関する。すなわち、人がそれら装置の前で作業する場
合、電磁波による健康障害を防止し、静電気の帯電によ
るほこりなどの付着を最小限におさえ、しかも作業者の
後ろにある種々の光原からの光が表示画面に反射して作
業者の目に当たるために本来の表示が見にくくなること
を防ぐために充分な反射防止性能を有する傷が付きにく
く、しかも種々の生活周辺物質によって汚れにくいいプ
ラスティック光学物品に関する。
【0002】さらに詳しくは、可視光線領域の広い範囲
で反射率が小さく、具体的には、反射防止膜面の反射率
が1%以下である可視光線波長域バンドが200nm以
上である高度に反射防止性能の優れた多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品に関する。
で反射率が小さく、具体的には、反射防止膜面の反射率
が1%以下である可視光線波長域バンドが200nm以
上である高度に反射防止性能の優れた多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品に関する。
【0003】
【従来の技術】一般的には液晶表示板(LCD)、テレ
ビ・コンピュ−タ−のブラウン管(CRT)の表示画面
はガラスである場合が多く、従来はそのガラス面に反射
防止能を付与することで背後光源の反射による障害を避
けてきた。しかし数十cm四方の大きさで、しかも曲面
を持つCRTのようなガラス面に、以下に示すような高
真空中で、金属酸化物や誘電体からなる多層膜を蒸着さ
せて反射防止膜つくるというような生産方式は設備的に
大掛かりとなり、経済性の面では好ましくなかった。か
かる状況で、反射防止性能を有するプラスティックフィ
ルムを用意し、それを表示板ガラス面に装着することが
行われた。この場合、プラスティックフィルムであるが
故に、表面に傷が付き易いのを改善し、しかも静電気の
帯電を最小限にするための工夫が必要である。
ビ・コンピュ−タ−のブラウン管(CRT)の表示画面
はガラスである場合が多く、従来はそのガラス面に反射
防止能を付与することで背後光源の反射による障害を避
けてきた。しかし数十cm四方の大きさで、しかも曲面
を持つCRTのようなガラス面に、以下に示すような高
真空中で、金属酸化物や誘電体からなる多層膜を蒸着さ
せて反射防止膜つくるというような生産方式は設備的に
大掛かりとなり、経済性の面では好ましくなかった。か
かる状況で、反射防止性能を有するプラスティックフィ
ルムを用意し、それを表示板ガラス面に装着することが
行われた。この場合、プラスティックフィルムであるが
故に、表面に傷が付き易いのを改善し、しかも静電気の
帯電を最小限にするための工夫が必要である。
【0004】特開昭62-178901 には、プラスティック透
明フィルムの上に耐擦禍性を有するハ−ドコ−ト−層を
設け、その表層に特定の酸化物の4層からなる反射防止
膜を有する光学物品が提案されている。しかし、帯電防
止、電磁波シ−ルドの点からの設計はなされていない。
明フィルムの上に耐擦禍性を有するハ−ドコ−ト−層を
設け、その表層に特定の酸化物の4層からなる反射防止
膜を有する光学物品が提案されている。しかし、帯電防
止、電磁波シ−ルドの点からの設計はなされていない。
【0005】さらに特開昭60-144702 には、合成樹脂基
材の表面に、まず表面硬化被膜を形成させ、その上に多
層反射防止膜を形成させてなえる光学素子において該多
層反射防止膜の最内層が酸化イットリウムと酸化ジルコ
ニウムを有する混合物からなり、最外層が二酸化ケイ素
の膜からなる多層反射防止膜が提案されている。これは
傷のつきにくさと反射防止性能の両立の最適化を目的と
したものである。しかしこの場合も帯電防止、電磁波シ
−ルドの点からの設計はなされていない。
材の表面に、まず表面硬化被膜を形成させ、その上に多
層反射防止膜を形成させてなえる光学素子において該多
層反射防止膜の最内層が酸化イットリウムと酸化ジルコ
ニウムを有する混合物からなり、最外層が二酸化ケイ素
の膜からなる多層反射防止膜が提案されている。これは
傷のつきにくさと反射防止性能の両立の最適化を目的と
したものである。しかしこの場合も帯電防止、電磁波シ
−ルドの点からの設計はなされていない。
【0006】特開昭61-245449 には、プラスティック基
材に、ハ−ドコ−ト−層を設け、その表層に導電層を設
け、さらにその表層に前記導電層の屈折率より低い屈折
率の層を設けた光透過板が提案されている。しかしこの
例においては導電層を含めて3層からなる反射防止膜で
あり、可視光線の中心主波長領域を除いた両側波長領域
での反射率が非常に高く、反射防止膜光学物品としては
極めて不満足である。
材に、ハ−ドコ−ト−層を設け、その表層に導電層を設
け、さらにその表層に前記導電層の屈折率より低い屈折
率の層を設けた光透過板が提案されている。しかしこの
例においては導電層を含めて3層からなる反射防止膜で
あり、可視光線の中心主波長領域を除いた両側波長領域
での反射率が非常に高く、反射防止膜光学物品としては
極めて不満足である。
【0007】特開平6-130204には、耐熱性プラスティッ
ク透明基材上にハ−ドコ−ト−層を設け、その表層に透
明導電層を含む多層反射防止層を設けた光透過板が提案
されており、最外層がハ−ドコ−ト−層よりも低い屈折
率であり、さらに該透明導電層を該反射防止層の内層に
配置された多層反射防止光透過板の製造方法が提案され
ている。すなわち、ここにおいては、該多層反射防止層
のすべてを真空蒸着で製造することが示されており、そ
のために、基材として、耐熱性プラスティックであるこ
とが必要である。耐熱性プラスティックとして、熱変形
温度が120℃以上のものであること、具体的にはポリ
カ−ボネ−トの実施例だけが示されている。本例におい
ても、ハ−ドコ−ト−層の上に設けられる反射防止膜は
3層あるいは4層からなり、特開昭61-245449 における
のと同様、500nm付近の主波長領域の両側の波長領
域での反射率が高く、反射防止膜面の反射率が1%以下
である可視光線波長域バンドはすべての実施例で150
nm程度、最も広い場合でも230nm程度であり、反
射防止膜光学物品としては極めて不満足である。
ク透明基材上にハ−ドコ−ト−層を設け、その表層に透
明導電層を含む多層反射防止層を設けた光透過板が提案
されており、最外層がハ−ドコ−ト−層よりも低い屈折
率であり、さらに該透明導電層を該反射防止層の内層に
配置された多層反射防止光透過板の製造方法が提案され
ている。すなわち、ここにおいては、該多層反射防止層
のすべてを真空蒸着で製造することが示されており、そ
のために、基材として、耐熱性プラスティックであるこ
とが必要である。耐熱性プラスティックとして、熱変形
温度が120℃以上のものであること、具体的にはポリ
カ−ボネ−トの実施例だけが示されている。本例におい
ても、ハ−ドコ−ト−層の上に設けられる反射防止膜は
3層あるいは4層からなり、特開昭61-245449 における
のと同様、500nm付近の主波長領域の両側の波長領
域での反射率が高く、反射防止膜面の反射率が1%以下
である可視光線波長域バンドはすべての実施例で150
nm程度、最も広い場合でも230nm程度であり、反
射防止膜光学物品としては極めて不満足である。
【0008】特開平2-239201には、ガラス、レンズなど
の光学部品の表面上に設けられた、透明導電層を少なく
とも1層含む6層からなる多層反射防止膜において、第
1層が二酸化ケイ素、第2層が酸化アルミニウム、第3
透明導電層層である酸化インジウム・スズ、第4層が酸
化アルミニウム、第5層が酸化ジルコウム、第5層がフ
ッ化マグネスムである特定の構成の多層反射防止膜が提
案されている。この場合、レンズなどにおいて、環境の
変化による結露を防止するために透明導電層層に電流を
供給し、光の反射も合わせて防止することを目的として
いる。十分に高い反射防止性能を得るために、このよう
に6層の構成が必要となり、反射防止膜面の反射率が1
%以下である可視光線波長域バンドが380nm、すな
わち可視光線の波長全域(400〜780)であるもの
が提供されている。しかしながら、このように5種類の
化合物を使い6層あるいはそれ以上の多層膜を形成させ
ることは、カメラレンズのように高度の性能を要求され
る場合に見合うものであり、本発明が目的とするガラス
に直接多層成膜しないで、より経済的な製造方法とし
て、わざわざプラスティックフィルムに反射防止膜を形
成して、これをCRTやLCDなどのガラスなどからな
る装置全面に装着して経済性を追おうとする場合には適
用し難いものであることは言うまでもない。
の光学部品の表面上に設けられた、透明導電層を少なく
とも1層含む6層からなる多層反射防止膜において、第
1層が二酸化ケイ素、第2層が酸化アルミニウム、第3
透明導電層層である酸化インジウム・スズ、第4層が酸
化アルミニウム、第5層が酸化ジルコウム、第5層がフ
ッ化マグネスムである特定の構成の多層反射防止膜が提
案されている。この場合、レンズなどにおいて、環境の
変化による結露を防止するために透明導電層層に電流を
供給し、光の反射も合わせて防止することを目的として
いる。十分に高い反射防止性能を得るために、このよう
に6層の構成が必要となり、反射防止膜面の反射率が1
%以下である可視光線波長域バンドが380nm、すな
わち可視光線の波長全域(400〜780)であるもの
が提供されている。しかしながら、このように5種類の
化合物を使い6層あるいはそれ以上の多層膜を形成させ
ることは、カメラレンズのように高度の性能を要求され
る場合に見合うものであり、本発明が目的とするガラス
に直接多層成膜しないで、より経済的な製造方法とし
て、わざわざプラスティックフィルムに反射防止膜を形
成して、これをCRTやLCDなどのガラスなどからな
る装置全面に装着して経済性を追おうとする場合には適
用し難いものであることは言うまでもない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
種々の従来技術の範囲での性能上、品質上の問題点を解
決し、種々のディスプレイに装着されて使用目的に対し
て必要十分な反射防止性能を持ち、しかも経済的にも装
置全体の製造費用を安価にすることができるプラスティ
ックフィルム光学材料を提供することである。
種々の従来技術の範囲での性能上、品質上の問題点を解
決し、種々のディスプレイに装着されて使用目的に対し
て必要十分な反射防止性能を持ち、しかも経済的にも装
置全体の製造費用を安価にすることができるプラスティ
ックフィルム光学材料を提供することである。
【0010】すなわち、本発明が目的とするプラスティ
ックフィルム光学材料は次の特徴と性能・品質要件を持
つ。 (1)反射防止膜面の反射率が1%以下である可視光線
波長域バンドが広く、250nm以上である。 (2)ある程度の導電性を持ち、ディスプレイが発生す
る電磁波をシ−ルドでき、 また表面に静電気によ
る帯電が小さくほこりなどの蓄積が少ない。 (3)表面に傷が付きにくい。具体的には表面の鉛筆硬
度が2H以上。望ましくは、紅茶、口紅、マジックイン
キなど種々の生活用品に対して汚れにくい
ックフィルム光学材料は次の特徴と性能・品質要件を持
つ。 (1)反射防止膜面の反射率が1%以下である可視光線
波長域バンドが広く、250nm以上である。 (2)ある程度の導電性を持ち、ディスプレイが発生す
る電磁波をシ−ルドでき、 また表面に静電気によ
る帯電が小さくほこりなどの蓄積が少ない。 (3)表面に傷が付きにくい。具体的には表面の鉛筆硬
度が2H以上。望ましくは、紅茶、口紅、マジックイン
キなど種々の生活用品に対して汚れにくい
【0011】。
【課題を解決するための手段】上記の本発明の目的は、
下記の本発明によって工業的に有利に達成された。
下記の本発明によって工業的に有利に達成された。
【0012】[1]プラスティック製フィルムまたはシ
−ト基材の片面または両面の表層に、該基材層側から表
面に向かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITO(In2 O3 ,SnO2
混合物)を主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。
−ト基材の片面または両面の表層に、該基材層側から表
面に向かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITO(In2 O3 ,SnO2
混合物)を主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。
【0013】[2]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d4 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]記載の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d4 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]記載の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。
【0014】「3]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d4 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]記載の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d4 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]記載の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。
【0015】[4]第1層のハ−ドコ−ト層が、鉛筆硬
度2H以上の硬度を有する層であることを特徴とする上
記[1]〜[3]のいずれかに記載の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
度2H以上の硬度を有する層であることを特徴とする上
記[1]〜[3]のいずれかに記載の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
【0016】[5]反射防止膜側で測定される表面抵抗
が3KΩ以下であることを特徴とする上記[1]〜
[4]のいずれかに記載の多層反射防止膜を有するプラ
スティック製光学物品。
が3KΩ以下であることを特徴とする上記[1]〜
[4]のいずれかに記載の多層反射防止膜を有するプラ
スティック製光学物品。
【0017】[6]プラスティックフィルムまたはシ−
トが、ポリエステル系樹脂、系樹脂、メタクリル系樹
脂、弗素系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂の内の一つまた
は複合体からなるフィルムまたはシ−トであることを特
徴とする上記[1]〜[4]のいずれかに記載の多層反
射防止膜を有するプラスティック製光学物品。
トが、ポリエステル系樹脂、系樹脂、メタクリル系樹
脂、弗素系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂の内の一つまた
は複合体からなるフィルムまたはシ−トであることを特
徴とする上記[1]〜[4]のいずれかに記載の多層反
射防止膜を有するプラスティック製光学物品。
【0018】[7]第6層の上に、さらに厚みが1nm
〜20nmの範囲の、水の接触角が60deg以上であ
る撥水性の透明層が設けられていることを特徴とする上
記[1]〜[6]のいずれかに記載の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
〜20nmの範囲の、水の接触角が60deg以上であ
る撥水性の透明層が設けられていることを特徴とする上
記[1]〜[6]のいずれかに記載の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明においてプラスティック製
フィルムまたはシ−ト基材としては、可視光線を透過で
きる透明性があり、その表面に、下記に示すようなハ−
ドコ−ト層と反射防止膜を構成する5層の金属酸化物を
蒸着などの手段で乗せ、またディスプレイ前面に接着す
る工程に耐える程度の熱的、機械的、形態的安定性のあ
るものであれば差支えない。具体的には、厚みが20〜
300μm程度の、ポリオレフィン系樹脂、ポリメタク
リル酸系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト
系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂などからなるフィルムま
たはシ−トが挙げられる。中でも、熱的、機械的、形態
的安定性の面と経済性のバランスの面から、ポリエステ
ル系樹脂、その中でもポリエチレンテレフタレ−トを主
体とする樹脂が好ましく使われる。場合によっては、デ
ィスプレイの使用目的やデザイン設計の点から、これら
のフィルムまたはシ−トは原着や染色によって着色され
たものも可視光線透過率の許容できる範囲で好ましく使
われる。
フィルムまたはシ−ト基材としては、可視光線を透過で
きる透明性があり、その表面に、下記に示すようなハ−
ドコ−ト層と反射防止膜を構成する5層の金属酸化物を
蒸着などの手段で乗せ、またディスプレイ前面に接着す
る工程に耐える程度の熱的、機械的、形態的安定性のあ
るものであれば差支えない。具体的には、厚みが20〜
300μm程度の、ポリオレフィン系樹脂、ポリメタク
リル酸系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト
系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂などからなるフィルムま
たはシ−トが挙げられる。中でも、熱的、機械的、形態
的安定性の面と経済性のバランスの面から、ポリエステ
ル系樹脂、その中でもポリエチレンテレフタレ−トを主
体とする樹脂が好ましく使われる。場合によっては、デ
ィスプレイの使用目的やデザイン設計の点から、これら
のフィルムまたはシ−トは原着や染色によって着色され
たものも可視光線透過率の許容できる範囲で好ましく使
われる。
【0020】また本発明の製品をディスプレイなどに装
着する場合、一般的には片面に反射防止膜を形成し、他
の面とディスプレイを密着させて使用するために、その
結合面の接着性をよくするために何等かの化学的、物理
的表面処理(コ−ティング、コロナ放電処理など)を施
すことも望ましい。
着する場合、一般的には片面に反射防止膜を形成し、他
の面とディスプレイを密着させて使用するために、その
結合面の接着性をよくするために何等かの化学的、物理
的表面処理(コ−ティング、コロナ放電処理など)を施
すことも望ましい。
【0021】ハ−ドコ−ト層は、本発明の製品の表面
を、ディスプレイが使用される状態で、本来的には目的
とはしない物品との接触(鉛筆、シャ−プペンシル先
端、爪など)や、また表面を拭いて清浄化するときの摩
擦による傷の発生を抑えるためのものである。表面硬度
の表現方法は種々あるが、鉛筆硬度が便利に使われ、少
なくとも2H以上の硬度が要求される。本来、以下に説
明する本発明の、各種酸化物で構成される反射防止膜自
体は充分硬いものであるが、以下に示すようにその厚み
は5層全体でも0.5μm以下であり、これの下に上記
に示した一般の硬度の低い20μm以上の厚みのあるプ
ラスティック製フィルムまたはシ−ト基材が存在する場
合、上記の種々の傷発生原因に対してはほとんど効果が
ない。傷防止の効果を発揮するためにかなりの厚みを必
要とするハ−ドコ−ト層を反射防止膜の外側に設けるこ
とは、反射防止の原理から不可能である。したがって、
ハ−ドコ−ト層をフィルムまたはシート基材と反射防止
膜との間に設けることになる。この厚みは、傷の付きに
くい表面硬度を発揮するために最小限の厚みとして一般
には2μm以上必要であり、厚すぎるとフィルム全体と
しての柔軟性をなくしたり、また光学特性の点からも障
害原因となりやすいので15μm以下でなければならな
い。
を、ディスプレイが使用される状態で、本来的には目的
とはしない物品との接触(鉛筆、シャ−プペンシル先
端、爪など)や、また表面を拭いて清浄化するときの摩
擦による傷の発生を抑えるためのものである。表面硬度
の表現方法は種々あるが、鉛筆硬度が便利に使われ、少
なくとも2H以上の硬度が要求される。本来、以下に説
明する本発明の、各種酸化物で構成される反射防止膜自
体は充分硬いものであるが、以下に示すようにその厚み
は5層全体でも0.5μm以下であり、これの下に上記
に示した一般の硬度の低い20μm以上の厚みのあるプ
ラスティック製フィルムまたはシ−ト基材が存在する場
合、上記の種々の傷発生原因に対してはほとんど効果が
ない。傷防止の効果を発揮するためにかなりの厚みを必
要とするハ−ドコ−ト層を反射防止膜の外側に設けるこ
とは、反射防止の原理から不可能である。したがって、
ハ−ドコ−ト層をフィルムまたはシート基材と反射防止
膜との間に設けることになる。この厚みは、傷の付きに
くい表面硬度を発揮するために最小限の厚みとして一般
には2μm以上必要であり、厚すぎるとフィルム全体と
しての柔軟性をなくしたり、また光学特性の点からも障
害原因となりやすいので15μm以下でなければならな
い。
【0022】ハ−ドコ−ト層の化学的組成としては、ポ
リオルガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの無機酸
化物系あるいは有機アクリル系いずれでもよい。またこ
れらのハ−ドコ−ト層の成膜方法としては、真空蒸着方
式も溶液の塗布/乾燥によるいわゆるウヱット・コ−テ
ィング方式など、通常行われているいずれの方式も可能
である。しかし、上記のように一般には2μm以上の厚
みが必要であるので、ウヱット・コ−ティング方式によ
る方が好ましい。その場合は、有機アクリル系が選択し
やすく、メタクリル酸などのアクリル化合物と多官能グ
リコ−ルとのエステル化合物を架橋させて成膜する方法
が好ましく使用される。
リオルガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの無機酸
化物系あるいは有機アクリル系いずれでもよい。またこ
れらのハ−ドコ−ト層の成膜方法としては、真空蒸着方
式も溶液の塗布/乾燥によるいわゆるウヱット・コ−テ
ィング方式など、通常行われているいずれの方式も可能
である。しかし、上記のように一般には2μm以上の厚
みが必要であるので、ウヱット・コ−ティング方式によ
る方が好ましい。その場合は、有機アクリル系が選択し
やすく、メタクリル酸などのアクリル化合物と多官能グ
リコ−ルとのエステル化合物を架橋させて成膜する方法
が好ましく使用される。
【0023】ハ−ドコ−ト層と基材フィルムまたはシー
トとの接着性を高めるために、2μm以下程度の薄いア
ンカ−コ−ト層を設けることも好ましく行われる。その
場合には、アクリル系あるいはポリエステル系樹脂を用
いて、基材フィルムの製造時でのインライン方式または
オフライン方式によるのがが望ましい。
トとの接着性を高めるために、2μm以下程度の薄いア
ンカ−コ−ト層を設けることも好ましく行われる。その
場合には、アクリル系あるいはポリエステル系樹脂を用
いて、基材フィルムの製造時でのインライン方式または
オフライン方式によるのがが望ましい。
【0024】次に多層の反射防止膜の成膜について説明
する。一般的な多層反射防止膜の原理とその成膜方法に
ついてはすでに公知であり、種々の目的に応じて多種多
様の方法と実施例が紹介されている。その余りに多くの
公知技術の例を列挙することは不可能であるが、基本的
には、基材フィルムの、また本発明の場合は、アンカ−
コ−ト層やハ−ドコ−ト層を含めた基材フィルムの屈折
率より、小さい屈折率をもつ透明な化合物と、基材フィ
ルムの屈折率より大きい屈折率をもつ透明な化合物の層
を、全体の反射率を極小に近い値にするように設計され
た光学的膜厚み(屈折率nと絶対厚みdの積)で構成す
ることからなる。そのときに、使用される目的、許容さ
れる生産のための費用、生産のために採用できる成膜の
方法によって、具体的な多層の構成内容が異なってく
る。本発明では、すでに説明したように、その使用目的
から、上記「発明が解決しようとする課題」の(1)〜
(3)に示す要件を必要で且つ十分な条件とした。この
ことから、反射防止膜の要件として、具体的に下記の要
件と技術対応からなる構成を提供するものである。
する。一般的な多層反射防止膜の原理とその成膜方法に
ついてはすでに公知であり、種々の目的に応じて多種多
様の方法と実施例が紹介されている。その余りに多くの
公知技術の例を列挙することは不可能であるが、基本的
には、基材フィルムの、また本発明の場合は、アンカ−
コ−ト層やハ−ドコ−ト層を含めた基材フィルムの屈折
率より、小さい屈折率をもつ透明な化合物と、基材フィ
ルムの屈折率より大きい屈折率をもつ透明な化合物の層
を、全体の反射率を極小に近い値にするように設計され
た光学的膜厚み(屈折率nと絶対厚みdの積)で構成す
ることからなる。そのときに、使用される目的、許容さ
れる生産のための費用、生産のために採用できる成膜の
方法によって、具体的な多層の構成内容が異なってく
る。本発明では、すでに説明したように、その使用目的
から、上記「発明が解決しようとする課題」の(1)〜
(3)に示す要件を必要で且つ十分な条件とした。この
ことから、反射防止膜の要件として、具体的に下記の要
件と技術対応からなる構成を提供するものである。
【0025】[1]プラスティック製フィルムまたはシ
−ト基材の片面または両面の表層に、該基材層側から表
面に向かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITO(In2 O3 ,SnO2
混合物)を主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。
−ト基材の片面または両面の表層に、該基材層側から表
面に向かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITO(In2 O3 ,SnO2
混合物)を主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。
【0026】[2]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d5 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d5 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
【0027】[3]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d5 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d5 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。
【0028】[4]反射防止膜側で測定される表面抵抗
が3KΩ以下である上記[1]〜[3]の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。
が3KΩ以下である上記[1]〜[3]の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。
【0029】上記の[1]から[4]までの構成は、本
発明の特徴として以下の意味を持つ。 前述のように、
一般的には、多層の層数を増やすことによって、反射率
の小さい波長域バンドを広く、しかも反射率を0に近い
値にすることが可能である。本発明では、使用目的に許
容される反射防止膜構成として、5層構成で、しかも構
成化合物すなわち蒸着物質として3ないし4種類からな
る構成を選択した。蒸着物質の種類の数をできるだけ小
さくすることは、とくに膜の形成をフィルムの走行と同
時に連続的に行うときに大きな利点となる。すなわち、
真空蒸着製膜装置内部に原料フィルムをロ−ルに巻いた
巻き出し系と、多層膜蒸着品の巻取系を設け、その間に
一つないし複数の蒸着工程を設ければ、真空系を常圧に
解放することなく多層の製膜が可能となり合理的であ
る。蒸着工程箇所が一つの場合は、二つのロ−ル間で、
フィルムの走行を最大計5回往と復の走行を行えばよ
い。1回の片道走行(往または復)で、2〜3種類の蒸
着物質による2〜3層の成膜が容易なので、1回の往復
で5層の形成も可能である。
発明の特徴として以下の意味を持つ。 前述のように、
一般的には、多層の層数を増やすことによって、反射率
の小さい波長域バンドを広く、しかも反射率を0に近い
値にすることが可能である。本発明では、使用目的に許
容される反射防止膜構成として、5層構成で、しかも構
成化合物すなわち蒸着物質として3ないし4種類からな
る構成を選択した。蒸着物質の種類の数をできるだけ小
さくすることは、とくに膜の形成をフィルムの走行と同
時に連続的に行うときに大きな利点となる。すなわち、
真空蒸着製膜装置内部に原料フィルムをロ−ルに巻いた
巻き出し系と、多層膜蒸着品の巻取系を設け、その間に
一つないし複数の蒸着工程を設ければ、真空系を常圧に
解放することなく多層の製膜が可能となり合理的であ
る。蒸着工程箇所が一つの場合は、二つのロ−ル間で、
フィルムの走行を最大計5回往と復の走行を行えばよ
い。1回の片道走行(往または復)で、2〜3種類の蒸
着物質による2〜3層の成膜が容易なので、1回の往復
で5層の形成も可能である。
【0030】導電性と低反射率の両立を、経済的で最も
実用的な手段で達成するために、ITOを主成分とする
層を第4層とすることが本発明の重要な構成要件となっ
ている。単に反射率の面からの設計の場合は、必ずしも
その屈折率(ほぼ2.0)の点からITOが選択される
ものではない。ITOとは、酸化スズと酸化インジュウ
ムの混合物であるが、透明生と導電性の兼ね合いから、
一般には酸化スズの含有割合が5〜20%のものを好ま
しく用いることができる。導電性の点からはITO層の
厚みは厚いほど好ましいが、反射率の点からは、対象と
する波長に対して光学的理論から要求される特定の厚み
(必ずしも一つの値ではないが)近辺でなければならな
い。この2つの要件を具体的に満たす条件として、上記
[2]および[3]の要件が選択できる好ましい要件と
なる。
実用的な手段で達成するために、ITOを主成分とする
層を第4層とすることが本発明の重要な構成要件となっ
ている。単に反射率の面からの設計の場合は、必ずしも
その屈折率(ほぼ2.0)の点からITOが選択される
ものではない。ITOとは、酸化スズと酸化インジュウ
ムの混合物であるが、透明生と導電性の兼ね合いから、
一般には酸化スズの含有割合が5〜20%のものを好ま
しく用いることができる。導電性の点からはITO層の
厚みは厚いほど好ましいが、反射率の点からは、対象と
する波長に対して光学的理論から要求される特定の厚み
(必ずしも一つの値ではないが)近辺でなければならな
い。この2つの要件を具体的に満たす条件として、上記
[2]および[3]の要件が選択できる好ましい要件と
なる。
【0031】以上の5層からなる反射防止膜を形成する
方法としては、一般に蒸着法といわれる方法、すなわち
スパッタリング法、電子銃加熱方式による蒸着法、イオ
ンプレ−ティング法などを用いることができる。また電
子銃加熱方式による蒸着法の場合など、各層の密着性を
を高めるために蒸着時にイオンビ−ムによって蒸散化合
物をイオン化など活性化させて蒸着することも好ましく
行い得る。
方法としては、一般に蒸着法といわれる方法、すなわち
スパッタリング法、電子銃加熱方式による蒸着法、イオ
ンプレ−ティング法などを用いることができる。また電
子銃加熱方式による蒸着法の場合など、各層の密着性を
を高めるために蒸着時にイオンビ−ムによって蒸散化合
物をイオン化など活性化させて蒸着することも好ましく
行い得る。
【0032】反射防止膜の製膜においては、その膜厚み
の制御が極めて重要なことはいうまでもないが、実際に
は、製膜時に、オンラインで光学的膜厚み(ni ×
di ,i=2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =第i
層の厚み)を光学式膜厚計を用いてモニタ−しながら、
刻々の測定値を蒸着条件にフィ−ドバックさせながら製
膜するのが好ましい。
の制御が極めて重要なことはいうまでもないが、実際に
は、製膜時に、オンラインで光学的膜厚み(ni ×
di ,i=2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =第i
層の厚み)を光学式膜厚計を用いてモニタ−しながら、
刻々の測定値を蒸着条件にフィ−ドバックさせながら製
膜するのが好ましい。
【0033】本発明において、反射防止膜側で測定され
る表面抵抗が3KΩ以下であることが好ましい。これ
は、高い電磁波シールド性を達成するとともに高い帯電
防止性を達成するためである。前者は、健康障害防止
に、また、後者は、埃付着防止に、有効である。本発明
において、ITO層によってこれらが達成される。
る表面抵抗が3KΩ以下であることが好ましい。これ
は、高い電磁波シールド性を達成するとともに高い帯電
防止性を達成するためである。前者は、健康障害防止
に、また、後者は、埃付着防止に、有効である。本発明
において、ITO層によってこれらが達成される。
【0034】本発明の最も好ましい態様として、さら
に、第6層の上に、厚みが1nm〜20nmの範囲の、
水の接触角が60deg以上である撥水性の透明層が設
けられている多層反射防止膜を有するプラスティック製
光学物品が挙げられる。この目的は、本発明による製品
が、ディスプレイ表面に装着されて使用される場合に、
本来の使用目的ではない、いろいろな使用環境に置かれ
て、表面が汚れ難くするためである。よごれの原因物質
としては、口紅、コ−ヒ−、マジックインキ、マヨネ−
ズ、…… などを想定して撥水性、撥油性の被膜を設け
ることによってもくてきは達成される。この撥水性、撥
油性の被膜の具体的な製膜方法としては、種々の方法が
有り得るが、例えば、特開平6−122776に示され
るようなフルオロアルキルシランなどの表面エネルギ−
の小さい化合物を、反射防止膜層の最外層表面で化学結
合によって高分子化被膜する方法が挙げられる。汚れ防
止性能の尺度として、水の接触角を用いるのが便利であ
り、水の接触角が60deg以上であるときに、上記の
ような汚れ原因に対して効果があり、より好ましくは、
水の接触角が90deg以上であるときに顕著な汚れ防
止効果が発揮できる。より具体的な被膜方法と効果につ
いては、実施例の項で記載する。
に、第6層の上に、厚みが1nm〜20nmの範囲の、
水の接触角が60deg以上である撥水性の透明層が設
けられている多層反射防止膜を有するプラスティック製
光学物品が挙げられる。この目的は、本発明による製品
が、ディスプレイ表面に装着されて使用される場合に、
本来の使用目的ではない、いろいろな使用環境に置かれ
て、表面が汚れ難くするためである。よごれの原因物質
としては、口紅、コ−ヒ−、マジックインキ、マヨネ−
ズ、…… などを想定して撥水性、撥油性の被膜を設け
ることによってもくてきは達成される。この撥水性、撥
油性の被膜の具体的な製膜方法としては、種々の方法が
有り得るが、例えば、特開平6−122776に示され
るようなフルオロアルキルシランなどの表面エネルギ−
の小さい化合物を、反射防止膜層の最外層表面で化学結
合によって高分子化被膜する方法が挙げられる。汚れ防
止性能の尺度として、水の接触角を用いるのが便利であ
り、水の接触角が60deg以上であるときに、上記の
ような汚れ原因に対して効果があり、より好ましくは、
水の接触角が90deg以上であるときに顕著な汚れ防
止効果が発揮できる。より具体的な被膜方法と効果につ
いては、実施例の項で記載する。
【0035】こうして得られた本発明による光学物品
は、目的とする反射防止性能、好ましい導電性、表面に
傷が尽きにくい適度な表面硬度、さらには撥水性の被膜
を設けた場合には高い汚れ防止性を供えているだけでは
なく、膜物性として実用に耐える密着性、耐候性、耐摩
耗性、耐クラック性なども兼ね備えている。
は、目的とする反射防止性能、好ましい導電性、表面に
傷が尽きにくい適度な表面硬度、さらには撥水性の被膜
を設けた場合には高い汚れ防止性を供えているだけでは
なく、膜物性として実用に耐える密着性、耐候性、耐摩
耗性、耐クラック性なども兼ね備えている。
【0036】
【実施例】以下に本発明の態様を実施例をもって説明す
るが、これによって限定されるものではない。
るが、これによって限定されるものではない。
【0037】実施例全体を通して共通的な製造条件と物
性の測定方法について説明する。
性の測定方法について説明する。
【0038】ベ−スフィルムには、製膜時にオンライン
で、非晶性ポリエステル系樹脂を0.5〜0.8μmの
厚みに塗布した188μmポリエチレンテレフタレ−ト
(以下PETと略称)フィルムを用いた。ハ−ドコ−ト
層は、PETフィルムの片面に多官能アクリレ−ト(エ
リスリト−ル系、ポリエステル系、ヒドロキシプロピル
系の混合物)、表面平滑活剤(ポリシロキサン)、光開
始剤(フェニルケトン化合物)のトルエン、メチルエチ
ルケトン混合溶媒の溶液を塗布し、乾燥後、UV照射に
より架橋反応を完結させることにより、鉛筆硬度3H
の、厚み3.5μmの層を形成させた。
で、非晶性ポリエステル系樹脂を0.5〜0.8μmの
厚みに塗布した188μmポリエチレンテレフタレ−ト
(以下PETと略称)フィルムを用いた。ハ−ドコ−ト
層は、PETフィルムの片面に多官能アクリレ−ト(エ
リスリト−ル系、ポリエステル系、ヒドロキシプロピル
系の混合物)、表面平滑活剤(ポリシロキサン)、光開
始剤(フェニルケトン化合物)のトルエン、メチルエチ
ルケトン混合溶媒の溶液を塗布し、乾燥後、UV照射に
より架橋反応を完結させることにより、鉛筆硬度3H
の、厚み3.5μmの層を形成させた。
【0039】反射防止膜の形成は、5層すべてを、EB
(電子銃)加熱を蒸発エネルギ−源とする連続巻取式真
空蒸着装置を用いて、部分的にRFイオンプレ−ティン
グ方式併用で、各層の膜厚みを光学膜厚(n×d)をオ
ンラインで計測制御しながら製膜した。ITOおよびZ
rO2 は真空度約5×10-5Torrの条件設定後、酸素を
導入して酸素分圧1.1 ×10-4Torr、高周波(13.5
6MHz )1.5KWをかけたプラズマ雰囲気の条件で製
膜した。SiO2 は酸素分圧2.0 ×10-4Torr、高周波
(13.56MHz )0.5KWの条件で、MgF2 は酸
素分圧7.0 ×10-5Torr、高周波(13.56MHz )
0.2KWの条件で製膜した。
(電子銃)加熱を蒸発エネルギ−源とする連続巻取式真
空蒸着装置を用いて、部分的にRFイオンプレ−ティン
グ方式併用で、各層の膜厚みを光学膜厚(n×d)をオ
ンラインで計測制御しながら製膜した。ITOおよびZ
rO2 は真空度約5×10-5Torrの条件設定後、酸素を
導入して酸素分圧1.1 ×10-4Torr、高周波(13.5
6MHz )1.5KWをかけたプラズマ雰囲気の条件で製
膜した。SiO2 は酸素分圧2.0 ×10-4Torr、高周波
(13.56MHz )0.5KWの条件で、MgF2 は酸
素分圧7.0 ×10-5Torr、高周波(13.56MHz )
0.2KWの条件で製膜した。
【0040】撥水層の製膜は、(ヘプタデカフロロ−
1,1,2,2−テトラヒドロデシル)−1−トリメト
キシシランを蒸気として、真空装置内に放電電極に10
0Wの高周波プラズマを発生させた環境に導入し、5層
からなる反射防止膜を成膜した上記フィルム表面上に2
0nmの厚みに反応成膜させることによって行った。得
られた物の接触角は102度から110度の範囲であっ
た。
1,1,2,2−テトラヒドロデシル)−1−トリメト
キシシランを蒸気として、真空装置内に放電電極に10
0Wの高周波プラズマを発生させた環境に導入し、5層
からなる反射防止膜を成膜した上記フィルム表面上に2
0nmの厚みに反応成膜させることによって行った。得
られた物の接触角は102度から110度の範囲であっ
た。
【0041】[実施例1]188μmPETフィルムの
片面に、4μmのハ−ドコ−ト層を設けた連続長尺フィ
ルムに、第2層から第6層まで、下記5層からなる反射
防止膜を上記の方法で成膜した。
片面に、4μmのハ−ドコ−ト層を設けた連続長尺フィ
ルムに、第2層から第6層まで、下記5層からなる反射
防止膜を上記の方法で成膜した。
【0042】 構成物質 光学膜厚(n×d) 第2層 ITO 0.061λ(λ=520nm:設定波長) 第3層 SiO2 0.089λ 第4層 ITO 0.539λ 第5層 MgF2 0.192λ 第6層 SiO2 0.050λ 得られた物の反射防止膜側の表面硬度は、鉛筆硬度で3
Hであった。またこのものの反射防止膜を施さない面で
の反射が観測されないように完全黒色処理を施して、反
射防止膜側の可視光線領域における反射率を測定した結
果、反射率が1%以下である可視光線領域バンドは、4
20nmから710nmの290nmであった。
Hであった。またこのものの反射防止膜を施さない面で
の反射が観測されないように完全黒色処理を施して、反
射防止膜側の可視光線領域における反射率を測定した結
果、反射率が1%以下である可視光線領域バンドは、4
20nmから710nmの290nmであった。
【0043】[実施例2]188μmPETフィルムの
片面に、4μmのハ−ドコ−ト層を設けた連続長尺フィ
ルムに、第2層から第6層まで、下記5層からなる反射
防止膜を上記の方法で成膜した。
片面に、4μmのハ−ドコ−ト層を設けた連続長尺フィ
ルムに、第2層から第6層まで、下記5層からなる反射
防止膜を上記の方法で成膜した。
【0044】 構成物質 光学膜厚(n×d) 第3層 MgF2 0.067λ(λ=520nm:設定波長) 第4層 ITO 0.183λ 第5層 MgF2 0.231λ 第6層 SiO2 0.038λ 得られた物の反射防止膜側の表面硬度は、鉛筆硬度で3
Hであった。さらに、この上に上記の方法で、厚み20
nmの防汚姓の撥水層を成膜した。このものの反射防止
膜を施さない面での反射が観測されないように完全黒色
処理を施して、反射防止膜側の可視光線領域における反
射率を測定した結果、反射率が1%以下である可視光線
領域バンドは、430nmから680nmの250nm
であった。表面の接触角は107度であり、マジックペ
ンのインクは極めて乗りにくく、わずかに付着した部分
も薄紙で軽く拭くことで容易にとることができた。
Hであった。さらに、この上に上記の方法で、厚み20
nmの防汚姓の撥水層を成膜した。このものの反射防止
膜を施さない面での反射が観測されないように完全黒色
処理を施して、反射防止膜側の可視光線領域における反
射率を測定した結果、反射率が1%以下である可視光線
領域バンドは、430nmから680nmの250nm
であった。表面の接触角は107度であり、マジックペ
ンのインクは極めて乗りにくく、わずかに付着した部分
も薄紙で軽く拭くことで容易にとることができた。
【0045】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明による光学
物品であるフィルムは、特許請求の範囲を構成を持つこ
とにより、つぎのような優れた効果を発揮することがで
きる。すなわち、各種ディスプレイに装着したときに、
背後から入射する光の反射を極めて少なくすることによ
って、ディスプレイ使用者の目の疲労を防止し、しかも
表面に傷が尽きにくく、しかも手の汗や生活用品による
表面汚れが付きにくく、拭き取りやすい特徴を持つ。ま
た本発明の物品は、フィルム製品であるために、ガラス
など直接には反射防止処理を安価に施しにくい各種ディ
スプレイに装着使用することができ、しかも5層膜構成
という、性能と製造のための費用のバランスの取れた製
品であり、これを使うことによる産業面からの経済効果
の大きい製品である。
物品であるフィルムは、特許請求の範囲を構成を持つこ
とにより、つぎのような優れた効果を発揮することがで
きる。すなわち、各種ディスプレイに装着したときに、
背後から入射する光の反射を極めて少なくすることによ
って、ディスプレイ使用者の目の疲労を防止し、しかも
表面に傷が尽きにくく、しかも手の汗や生活用品による
表面汚れが付きにくく、拭き取りやすい特徴を持つ。ま
た本発明の物品は、フィルム製品であるために、ガラス
など直接には反射防止処理を安価に施しにくい各種ディ
スプレイに装着使用することができ、しかも5層膜構成
という、性能と製造のための費用のバランスの取れた製
品であり、これを使うことによる産業面からの経済効果
の大きい製品である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 5/00 PPQ C09D 5/00 PPQ G02B 1/04 G02B 1/04
Claims (7)
- 【請求項1】プラスティック製フィルムまたはシ−ト基
材の片面または両面の表層に、該基材層側から表面に向
かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITOを主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。 - 【請求項2】第2層から第6層の光学的膜厚(ni ×d
i ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =第i層
の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =450 〜
600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d4 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする請求項1記載の多層反射防止膜
を有するプラスティック製光学物品。 - 【請求項3】第2層から第6層の光学的膜厚(ni ×d
i ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =第i層
の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =450 〜
600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d4 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする請求項1記載の多層反射防止膜
を有するプラスティック製光学物品。 - 【請求項4】第1層のハ−ドコ−ト層が、鉛筆硬度2H
以上の硬度を有する層であることを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載の多層反射防止膜を有するプラス
ティック製光学物品。 - 【請求項5】反射防止膜側で測定される表面抵抗が3K
Ω以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
に記載の多層反射防止膜を有するプラスティック製光学
物品。 - 【請求項6】プラスティックフィルムまたはシ−トが、
ポリエステル系樹脂、系樹脂、メタクリル系樹脂、弗素
系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂の内の一つまたは複合体
からなるフィルムまたはシ−トであることを特徴とする
請求項1〜5のいずれかに記載の多層反射防止膜を有す
るプラスティック製光学物品。 - 【請求項7】第6層の上に、さらに厚みが1nm〜20
nmの範囲の、水の接触角が60deg以上である撥水
性の透明層が設けられていることを特徴とする請求項1
〜6のいずれかに記載の多層反射防止膜を有するプラス
ティック製光学物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8024641A JPH09197103A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | 多層反射防止膜を有するプラスティック製光学物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8024641A JPH09197103A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | 多層反射防止膜を有するプラスティック製光学物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09197103A true JPH09197103A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=12143769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8024641A Pending JPH09197103A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | 多層反射防止膜を有するプラスティック製光学物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09197103A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000039502A (ja) * | 1998-07-23 | 2000-02-08 | Konica Corp | 電磁波低減反射防止膜および該反射防止膜を有する光学部材 |
| JP2002031701A (ja) * | 2000-07-17 | 2002-01-31 | Konica Corp | 光学素子および眼鏡用レンズ |
| JP2002329598A (ja) * | 2001-05-01 | 2002-11-15 | Toyo Metallizing Co Ltd | 帯電防止性ハードコートフィルム |
| WO2003091762A1 (en) * | 2002-04-23 | 2003-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Retroreflective articles comprising thin homogeneous hardcoat |
| WO2011096309A1 (ja) * | 2010-02-03 | 2011-08-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー |
| WO2012043606A1 (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 |
| US20160025901A1 (en) * | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Seiko Epson Corporation | Electrooptical device, and electronic apparatus |
-
1996
- 1996-01-18 JP JP8024641A patent/JPH09197103A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000039502A (ja) * | 1998-07-23 | 2000-02-08 | Konica Corp | 電磁波低減反射防止膜および該反射防止膜を有する光学部材 |
| JP2002031701A (ja) * | 2000-07-17 | 2002-01-31 | Konica Corp | 光学素子および眼鏡用レンズ |
| JP2002329598A (ja) * | 2001-05-01 | 2002-11-15 | Toyo Metallizing Co Ltd | 帯電防止性ハードコートフィルム |
| WO2003091762A1 (en) * | 2002-04-23 | 2003-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Retroreflective articles comprising thin homogeneous hardcoat |
| WO2011096309A1 (ja) * | 2010-02-03 | 2011-08-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー |
| JP5742726B2 (ja) * | 2010-02-03 | 2015-07-01 | コニカミノルタ株式会社 | フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー |
| WO2012043606A1 (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 |
| JPWO2012043606A1 (ja) * | 2010-10-01 | 2014-02-24 | コニカミノルタ株式会社 | 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 |
| US20160025901A1 (en) * | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Seiko Epson Corporation | Electrooptical device, and electronic apparatus |
| JP2016029432A (ja) * | 2014-07-25 | 2016-03-03 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、及び電子機器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6441964B1 (en) | Anti-reflection high conductivity multi-layer coating for flat CRT products | |
| US20020155265A1 (en) | Antireflection film | |
| Szczyrbowski et al. | Antireflective coatings on large scale substrates produced by reactive twin-magnetron sputtering | |
| TW201346675A (zh) | 透明導電性薄膜、觸控面板及顯示裝置 | |
| US6337771B1 (en) | Anti-reflection high conductivity multi-layer coating on CRT surface made by vacuum sputtering and wet coating | |
| JP7089610B2 (ja) | 光学積層体の製造方法 | |
| JP7089609B2 (ja) | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 | |
| JPH0746570B2 (ja) | 電磁波シ−ルド性を有する光透過板 | |
| JPH09197102A (ja) | 多層反射防止膜を有するプラスティック製光学物品 | |
| JPH09197103A (ja) | 多層反射防止膜を有するプラスティック製光学物品 | |
| WO2022014701A1 (ja) | 光学積層体の製造方法 | |
| JP2003098306A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP6425598B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
| JP3218682B2 (ja) | 超微粒子膜の形成方法、透明板並びに画像表示板 | |
| US6478932B1 (en) | Combination process of vacuum sputtering and wet coating for high conductivity and light attenuation anti-reflection coating on CRT surface | |
| JPH0961604A (ja) | プラスティック反射防止フィルム | |
| KR19980703086A (ko) | 다층 반사 방지 필름을 가진 플라스틱 광학 물품 | |
| JPS6082660A (ja) | 酸化物層の形成装置 | |
| JPS62178901A (ja) | 多層反射防止膜を有する光学物品 | |
| JP4023142B2 (ja) | 反射防止材料およびその製造方法 | |
| JP2001141903A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP2002243902A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP3541606B2 (ja) | 低反射樹脂基材 | |
| JP2004029126A (ja) | 帯電防止性反射防止フィルム | |
| JPH0637361Y2 (ja) | 除電性を有する多層反射防止光透過板 |