JP2002243902A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、従来の反射防止フィルムに設けてい
たハードコート層を必要としない、表面硬度と耐熱性に
優れた、可撓性を有する従来の高分子フィルムとは異な
る基材を使用した反射防止フィルムを提供することを目
的とする。 【解決手段】基材の少なくとも片面に反射防止層を有す
る反射防止フィルムにおいて、該基材がホウケイ酸ガラ
スを主成分としてなることを特徴とする反射防止フィル
ムである。
たハードコート層を必要としない、表面硬度と耐熱性に
優れた、可撓性を有する従来の高分子フィルムとは異な
る基材を使用した反射防止フィルムを提供することを目
的とする。 【解決手段】基材の少なくとも片面に反射防止層を有す
る反射防止フィルムにおいて、該基材がホウケイ酸ガラ
スを主成分としてなることを特徴とする反射防止フィル
ムである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィル
ム、特にディスプレイ用の反射防止フィルムに関わる。
ム、特にディスプレイ用の反射防止フィルムに関わる。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ディスプレーを使用する場所
の多くは蛍光灯や太陽光等の外光が反射して、本来表示
している画面が見にくくなる。近年、このような環境下
でのディスプレー表示画質の向上が要求されている。こ
のような要求に対して、可視光の広範囲において反射防
止の効果をもつ反射防止フィルムをディスプレーの表面
に貼り付けることが行われている。
の多くは蛍光灯や太陽光等の外光が反射して、本来表示
している画面が見にくくなる。近年、このような環境下
でのディスプレー表示画質の向上が要求されている。こ
のような要求に対して、可視光の広範囲において反射防
止の効果をもつ反射防止フィルムをディスプレーの表面
に貼り付けることが行われている。
【０００３】このような反射防止フィルムは、図４に示
すように光透過性の透明基材１上に、ハードコート層
５、反射防止層２、その上に必要に応じて反射防止フィ
ルムに撥水および撥油性を付与する撥水・撥油層３が順
次形成された構造のものが多く用いられている。ここ
で、ハードコート層５は反射防止層の耐擦過性等機械強
度を付与するために形成される。
すように光透過性の透明基材１上に、ハードコート層
５、反射防止層２、その上に必要に応じて反射防止フィ
ルムに撥水および撥油性を付与する撥水・撥油層３が順
次形成された構造のものが多く用いられている。ここ
で、ハードコート層５は反射防止層の耐擦過性等機械強
度を付与するために形成される。
【０００４】ここで、光透過性の透明基材１は、トリア
セチルセルロースフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルアクリ
レートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム
等のプラスチックフィルムが使用されている。
セチルセルロースフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルアクリ
レートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム
等のプラスチックフィルムが使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ディス
プレー用途の上記プラスチックフィルムは高価であり、
またプラスチックフィルムは軟らかく傷が付き易いため
に、反射防止フィルム表面に耐擦過性のハードコート処
理が必要となる。ハードコート層を付与するのには、別
工程が必要となる。さらに、ハードコート層が片面のみ
で、その裏面に傷が付きやすいので、保護フィルムを貼
り付けることもある。こうしたことから、反射防止フィ
ルムの製造コストが高くなってしまっている。
プレー用途の上記プラスチックフィルムは高価であり、
またプラスチックフィルムは軟らかく傷が付き易いため
に、反射防止フィルム表面に耐擦過性のハードコート処
理が必要となる。ハードコート層を付与するのには、別
工程が必要となる。さらに、ハードコート層が片面のみ
で、その裏面に傷が付きやすいので、保護フィルムを貼
り付けることもある。こうしたことから、反射防止フィ
ルムの製造コストが高くなってしまっている。
【０００６】また、基材としてプラスチックフィルムは
熱に弱いため、生産効率に問題があった。特に、基材と
してトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合、ハ
ードコート層を設けるには、フィルム表面を親水化する
ためのケン化処理が必要であるため繁雑であった。
熱に弱いため、生産効率に問題があった。特に、基材と
してトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合、ハ
ードコート層を設けるには、フィルム表面を親水化する
ためのケン化処理が必要であるため繁雑であった。
【０００７】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであって、従来の反射防止フィルムに設けてい
たハードコート層を必要としない、表面硬度と耐熱性に
優れた、可撓性を有する従来の高分子フィルムとは異な
る基材を使用した反射防止フィルムを提供することを目
的とする。
れたものであって、従来の反射防止フィルムに設けてい
たハードコート層を必要としない、表面硬度と耐熱性に
優れた、可撓性を有する従来の高分子フィルムとは異な
る基材を使用した反射防止フィルムを提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る発明は、基材の少なくとも片面に反
射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該基材が
ホウケイ酸ガラスを主成分としてなることを特徴とする
反射防止フィルムである。
に、請求項１に係る発明は、基材の少なくとも片面に反
射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該基材が
ホウケイ酸ガラスを主成分としてなることを特徴とする
反射防止フィルムである。
【０００９】また、請求項２に係る発明は、請求項１記
載の反射防止フィルムにおいて、前記基材が、筒状の巻
き取り芯に巻き取り可能な厚さ１０〜２００μｍのフィ
ルム状の基材であることを特徴とする。
載の反射防止フィルムにおいて、前記基材が、筒状の巻
き取り芯に巻き取り可能な厚さ１０〜２００μｍのフィ
ルム状の基材であることを特徴とする。
【００１０】また、請求項３に係る発明は、請求項１ま
たは２記載の反射防止フィルムにおいて、前記基材が、
ホウケイ酸ガラスを構成する成分以外の無機酸化物を添
加してなるホウケイ酸ガラスを主成分とすることを特徴
とする。
たは２記載の反射防止フィルムにおいて、前記基材が、
ホウケイ酸ガラスを構成する成分以外の無機酸化物を添
加してなるホウケイ酸ガラスを主成分とすることを特徴
とする。
【００１１】また、請求項４に係る発明は、請求項１〜
３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層が、屈折率の異なる酸化物からなる層を
少なくとも２層以上有する。
３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層が、屈折率の異なる酸化物からなる層を
少なくとも２層以上有する。
【００１２】また、請求項５に係る発明は、請求項１〜
４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層を構成する層のうち少なくとも１層が、
光吸収性を有することを特徴とする。
４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層を構成する層のうち少なくとも１層が、
光吸収性を有することを特徴とする。
【００１３】また、請求項６に係る発明は、請求項１〜
５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層の屈折率が、基材の屈折率より小さいこ
とを特徴とする。
５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層の屈折率が、基材の屈折率より小さいこ
とを特徴とする。
【００１４】また、請求項７に係る発明は、請求項１〜
６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層の最上層の上に、撥水性および撥油性を
有する層が少なくとも１層形成されていることを特徴と
する。
６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層の最上層の上に、撥水性および撥油性を
有する層が少なくとも１層形成されていることを特徴と
する。
【００１５】また、請求項８に係る発明は、請求項７記
載の反射防止フィルムにおいて、撥水性および撥油性を
有する層が、パーフルオロシランであることを特徴とす
る。
載の反射防止フィルムにおいて、撥水性および撥油性を
有する層が、パーフルオロシランであることを特徴とす
る。
【００１６】また、請求項９に係る発明は、請求項１〜
８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの反射防止
層と反対側の基材面とプラスチックフィルムとが接着層
を介して貼り合わせたことを特徴とする。
８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの反射防止
層と反対側の基材面とプラスチックフィルムとが接着層
を介して貼り合わせたことを特徴とする。
【００１７】また、請求項１０に係る発明は、偏光フィ
ルムの少なくとも片面に、請求項１〜９のいずれか１項
に記載の反射防止フィルムの反射防止層と反対側の面と
を貼り合わせたことを特徴とする。
ルムの少なくとも片面に、請求項１〜９のいずれか１項
に記載の反射防止フィルムの反射防止層と反対側の面と
を貼り合わせたことを特徴とする。
【００１８】また、請求項１１に係る発明は、請求項１
〜１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの反射
防止層と反対側の面に粘着層を形成し、その上に剥離可
能な保護フィルムが貼り合わされていることを特徴とす
る。
〜１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの反射
防止層と反対側の面に粘着層を形成し、その上に剥離可
能な保護フィルムが貼り合わされていることを特徴とす
る。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図に基づいて、本発明の好
ましい実施形態について詳細に説明する。
ましい実施形態について詳細に説明する。
【００２０】図１は、本発明の反射防止フィルムの構成
の一例を示した断面図である。図１に示すように、本発
明の反射防止フィルムは、ホウケイ酸ガラスを主成分と
する透明基材１の上に、反射防止層２として屈折率が異
なる酸化物からなる高屈折率層（２ｂ）と低屈折率層
（２ａ）とを交互に、かつ最上層に低屈折率層が位置す
るように合計４層を積層したものからなっている。最表
面に、撥水性および撥油性を有し、反射防止層の表面を
保護する撥水・撥油層３が形成されている構成のものを
示した。
の一例を示した断面図である。図１に示すように、本発
明の反射防止フィルムは、ホウケイ酸ガラスを主成分と
する透明基材１の上に、反射防止層２として屈折率が異
なる酸化物からなる高屈折率層（２ｂ）と低屈折率層
（２ａ）とを交互に、かつ最上層に低屈折率層が位置す
るように合計４層を積層したものからなっている。最表
面に、撥水性および撥油性を有し、反射防止層の表面を
保護する撥水・撥油層３が形成されている構成のものを
示した。
【００２１】本発明で用いられる透明基材１は、ホウケ
イ酸ガラスを主成分とするものであって、ホウ珪酸ガラ
スはＢ2Ｏ3とＳｉＯ2を主成分とする透明なガラスであ
り、しかも通常の無機ガラスと比較して非常に低融点、
かつ低軟化点を有する。光学的特性も８５％以上の高い
透過率を有する。特に、ガラス自体の加工性の大きな指
標となる軟化点は１０００℃以下であり、更にホウ珪酸
ガラス成分以外の無機化合物を混合することにより低温
化することが可能であり、無機化合物としてＺｎＯ等が
好適である。ホウ珪酸ガラスは、このような特性から厚
みを薄くすることも可能で、１０〜２００μｍ程度まで
薄くすると通常のガラスでは困難な曲げることが可能と
なり、フィルム状で巻き取り可能なフレキシビリティに
富む透明基材を作製することが可能となる。
イ酸ガラスを主成分とするものであって、ホウ珪酸ガラ
スはＢ2Ｏ3とＳｉＯ2を主成分とする透明なガラスであ
り、しかも通常の無機ガラスと比較して非常に低融点、
かつ低軟化点を有する。光学的特性も８５％以上の高い
透過率を有する。特に、ガラス自体の加工性の大きな指
標となる軟化点は１０００℃以下であり、更にホウ珪酸
ガラス成分以外の無機化合物を混合することにより低温
化することが可能であり、無機化合物としてＺｎＯ等が
好適である。ホウ珪酸ガラスは、このような特性から厚
みを薄くすることも可能で、１０〜２００μｍ程度まで
薄くすると通常のガラスでは困難な曲げることが可能と
なり、フィルム状で巻き取り可能なフレキシビリティに
富む透明基材を作製することが可能となる。
【００２２】本発明で用いられるホウ珪酸ガラスを主成
分とする透明基材は、例えば、下記に説明する方法によ
って製造できる。図５は、ホウ珪酸ガラスを主成分とす
る透明基材を製造する方法を示した模式図である。図５
に示すように、ガラス原料導入部１０よりガラス原料を
順次供給する。ガラス原料は徐々に下方へ導かれ溶融炉
１１内で完全に溶融される。溶融されたガラス原料は、
自体の重みで加圧され押出ノズル１２で厚さ１０〜２０
０μｍの範囲で任意の厚みと幅に成形され押し出され
る。フィルム状の溶融状態の透明基材１４は徐冷部１３
へ降下し、徐々に冷却され軟化点より充分降温した後、
ガイドロール１５により導かれ巻き取りロール状の透明
基材１６が作製される。作製された透明基材１６は、プ
ラスチックと同様に巻き取り可能でありフレキシブル性
を有しているが、プラスチックフィルムと比較しガラス
と近い表面硬度を持ち、かつ高いガスバリア性を有す
る。
分とする透明基材は、例えば、下記に説明する方法によ
って製造できる。図５は、ホウ珪酸ガラスを主成分とす
る透明基材を製造する方法を示した模式図である。図５
に示すように、ガラス原料導入部１０よりガラス原料を
順次供給する。ガラス原料は徐々に下方へ導かれ溶融炉
１１内で完全に溶融される。溶融されたガラス原料は、
自体の重みで加圧され押出ノズル１２で厚さ１０〜２０
０μｍの範囲で任意の厚みと幅に成形され押し出され
る。フィルム状の溶融状態の透明基材１４は徐冷部１３
へ降下し、徐々に冷却され軟化点より充分降温した後、
ガイドロール１５により導かれ巻き取りロール状の透明
基材１６が作製される。作製された透明基材１６は、プ
ラスチックと同様に巻き取り可能でありフレキシブル性
を有しているが、プラスチックフィルムと比較しガラス
と近い表面硬度を持ち、かつ高いガスバリア性を有す
る。
【００２３】本発明の反射防止フィルムにおける反射防
止層２は、光の干渉性を利用したもので、一般に、目的
の反射防止特性を得るために所定の光学膜厚ｎｄ（屈折
率ｎ×形状膜厚ｄ）の層から構成され、高屈折率層と低
屈折率層を交互に積層したものから形成する。本発明で
はその積層数は特に限定されるものではない。図１には
積層数が４層の例を示したが、反射防止層を通常は、コ
ストと反射防止効果の面から２層から６層までとするの
が好ましい。
止層２は、光の干渉性を利用したもので、一般に、目的
の反射防止特性を得るために所定の光学膜厚ｎｄ（屈折
率ｎ×形状膜厚ｄ）の層から構成され、高屈折率層と低
屈折率層を交互に積層したものから形成する。本発明で
はその積層数は特に限定されるものではない。図１には
積層数が４層の例を示したが、反射防止層を通常は、コ
ストと反射防止効果の面から２層から６層までとするの
が好ましい。
【００２４】高屈折率層を構成する高屈折率材料として
は、通常、屈折率が１．９を超えるものを使用する。例
えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、
酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化セリウムなどの絶縁
性酸化物を使用することができる。
は、通常、屈折率が１．９を超えるものを使用する。例
えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、
酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化セリウムなどの絶縁
性酸化物を使用することができる。
【００２５】また、この高屈折率層に導電性をもつ透明
膜も使用することができ、透明導電膜に使用するものな
らいかなるものでも良いが、例えば、酸化亜鉛、酸化イ
ンジウム、酸化スズ等の酸化物および混合酸化物、ま
た、さらに添加元素を加えたものが挙げられ、特に高導
電性、化学的安定性、透明性等の点でＩＴＯ(酸化イン
ジウムと酸化スズの混合酸化物)が好ましい。
膜も使用することができ、透明導電膜に使用するものな
らいかなるものでも良いが、例えば、酸化亜鉛、酸化イ
ンジウム、酸化スズ等の酸化物および混合酸化物、ま
た、さらに添加元素を加えたものが挙げられ、特に高導
電性、化学的安定性、透明性等の点でＩＴＯ(酸化イン
ジウムと酸化スズの混合酸化物)が好ましい。
【００２６】このような高屈折率層の形成方法として
は、真空蒸着法、反応蒸着法、イオンビームアシスト蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プ
ラズマＣＶＤ法等の真空成膜プロセスによることができ
るが、いかなる成膜方法であっても良い。
は、真空蒸着法、反応蒸着法、イオンビームアシスト蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プ
ラズマＣＶＤ法等の真空成膜プロセスによることができ
るが、いかなる成膜方法であっても良い。
【００２７】一方、低屈折率層を構成する低屈折率材料
としては、屈折率が１．５以下のものを使用する。この
ような材料として、光学性能や撥水・撥油層を施す場合
のマッチングを考えて、酸化ケイ素を使用することが好
ましい。
としては、屈折率が１．５以下のものを使用する。この
ような材料として、光学性能や撥水・撥油層を施す場合
のマッチングを考えて、酸化ケイ素を使用することが好
ましい。
【００２８】低屈折率層の形成方法としては、高屈折率
層と同様に真空成膜プロセスによることができる。
層と同様に真空成膜プロセスによることができる。
【００２９】図２は、本発明の反射防止フィルムの構成
の他の例を示した断面図である。図２に示すように、反
射防止層が３層からなるものは、高屈折率層と低屈折率
層の中間に当たる屈折率をもつ中屈折率層を用いること
が多い。このときの層構成は、基材側から中屈折率層
（２ｃ）、高屈折率層（２ｂ）、低屈折率層（２ａ）の
順に積層する。
の他の例を示した断面図である。図２に示すように、反
射防止層が３層からなるものは、高屈折率層と低屈折率
層の中間に当たる屈折率をもつ中屈折率層を用いること
が多い。このときの層構成は、基材側から中屈折率層
（２ｃ）、高屈折率層（２ｂ）、低屈折率層（２ａ）の
順に積層する。
【００３０】この中屈折率層は、高屈折率層でもなく低
屈折率層でもない酸化物を用いる。もしくは、その混合
酸化物を用いることで１．８前後の屈折率をもつ層が得
られる。
屈折率層でもない酸化物を用いる。もしくは、その混合
酸化物を用いることで１．８前後の屈折率をもつ層が得
られる。
【００３１】本発明の反射防止フィルムは、反射防止層
を構成する層のうち少なくとも１層が、光吸収性を有す
ることを特徴とするものである。図３は、本発明の反射
防止フィルムの構成のさらに他の例を示した断面図であ
る。図３に示すように、光吸収層４は、反射防止フィル
ムの反射防止層を構成する材料に光吸収性材料を使用す
ることで、高コントラスト表示性能を付加するためのも
のである。さらに、ＣＲＴの場合は画像表示表面が帯電
するため埃等が付着しやすく汚れが目立ちやすいので、
導電性をもたせたフィルムをアースに落とすことで除去
している。その光吸収性材料が導電性を持つことで、高
コントラストと帯電の解決の両方を満たす事ができる。
を構成する層のうち少なくとも１層が、光吸収性を有す
ることを特徴とするものである。図３は、本発明の反射
防止フィルムの構成のさらに他の例を示した断面図であ
る。図３に示すように、光吸収層４は、反射防止フィル
ムの反射防止層を構成する材料に光吸収性材料を使用す
ることで、高コントラスト表示性能を付加するためのも
のである。さらに、ＣＲＴの場合は画像表示表面が帯電
するため埃等が付着しやすく汚れが目立ちやすいので、
導電性をもたせたフィルムをアースに落とすことで除去
している。その光吸収性材料が導電性を持つことで、高
コントラストと帯電の解決の両方を満たす事ができる。
【００３２】また、本発明の反射防止フィルムは、反射
防止層の屈折率が、基材の屈折率より小さいこと特徴と
するものである。フィルム基材の屈折率より低い物質を
形成するためには、フッ素を含む材料により低屈折率化
を図る方法と、膜の表面に微粒子等を堆積させて空孔を
設け、空気の混入により低屈折率化を図る方法とに大別
される。低屈折率層を構成する材料別に分類すると、ア
ルコキシシラン類をゾルゲル法により硬化させる方法、
フッ素系有機材料を用いる方法、低屈折率の微粒子を用
いる方法がある。
防止層の屈折率が、基材の屈折率より小さいこと特徴と
するものである。フィルム基材の屈折率より低い物質を
形成するためには、フッ素を含む材料により低屈折率化
を図る方法と、膜の表面に微粒子等を堆積させて空孔を
設け、空気の混入により低屈折率化を図る方法とに大別
される。低屈折率層を構成する材料別に分類すると、ア
ルコキシシラン類をゾルゲル法により硬化させる方法、
フッ素系有機材料を用いる方法、低屈折率の微粒子を用
いる方法がある。
【００３３】本発明の反射防止フィルムは、反射防止層
の最上層の上に、撥水性および撥油性を有する層が少な
くとも１層形成されていることを特徴とするものである
撥水・撥油層３は、撥水性および撥油性を有することで
反射防止層の表面を保護し、かつ水をはじき、汚れを付
きにくくすることが可能となり、容易に油性インクや指
紋等の汚れを拭き取ることが可能となる。
の最上層の上に、撥水性および撥油性を有する層が少な
くとも１層形成されていることを特徴とするものである
撥水・撥油層３は、撥水性および撥油性を有することで
反射防止層の表面を保護し、かつ水をはじき、汚れを付
きにくくすることが可能となり、容易に油性インクや指
紋等の汚れを拭き取ることが可能となる。
【００３４】撥水・撥油層３の形成材料としては、撥水
・撥油層３に付与する撥水性および撥油性の程度等に応
じて種々の有機化合物を使用することができる。
・撥油層３に付与する撥水性および撥油性の程度等に応
じて種々の有機化合物を使用することができる。
【００３５】撥水性および撥油性を示す好ましい形成材
料として、フッ素含有有機化合物を挙げることができ
る。とくにパーフルオロカーボンの高分子化合物等が好
適である。
料として、フッ素含有有機化合物を挙げることができ
る。とくにパーフルオロカーボンの高分子化合物等が好
適である。
【００３６】撥水・撥油層３の形成方法は、その形成材
料に応じて真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法等の
真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリーン
コート法、ディップコート法等のウェットプロセスの各
種コーティング法を用いることができる。撥水・撥油層
の厚さは、反射防止層の機能を損なわないようにするた
め、形状膜厚１０ｎｍ以下にすることが好ましい。
料に応じて真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法等の
真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリーン
コート法、ディップコート法等のウェットプロセスの各
種コーティング法を用いることができる。撥水・撥油層
の厚さは、反射防止層の機能を損なわないようにするた
め、形状膜厚１０ｎｍ以下にすることが好ましい。
【００３７】ＣＲＴなどの場合、ＣＲＴ画面のガラス破
損時の飛散防止も要求されているため、ホウケイ酸ガラ
スからなる基材にプラスチックフィルムを貼り合わせる
こともできる。そのため、前記基材上に反射防止層を施
し、撥水。撥油層をその上に積層させた反射防止フィル
ムの反射防止層と反対側の面に接着層を介してプラスチ
ックフィルムを貼り合わせる。
損時の飛散防止も要求されているため、ホウケイ酸ガラ
スからなる基材にプラスチックフィルムを貼り合わせる
こともできる。そのため、前記基材上に反射防止層を施
し、撥水。撥油層をその上に積層させた反射防止フィル
ムの反射防止層と反対側の面に接着層を介してプラスチ
ックフィルムを貼り合わせる。
【００３８】また、偏光フィルムのような光学機能性フ
ィルム等と本発明の反射防止フィルムをラミネート等で
貼り合わせることで反射防止機能を有する光学機能性フ
ィルムが得られる。
ィルム等と本発明の反射防止フィルムをラミネート等で
貼り合わせることで反射防止機能を有する光学機能性フ
ィルムが得られる。
【００３９】本発明の反射防止フィルムを他のプラスチ
ックフィルムや偏光フィルム等と貼り合わせることによ
り光学機能フィルム作製すると、これらの反射防止フィ
ルムや光学機能フィルムを液晶、ＣＲＴ、プラズマディ
スプレーを含む種々の表示装置のディスプレイの前面板
に貼り合わせることにより、そのディスプレイに擦過に
よる傷付くことを防止し、表示品質を向上させ、表示画
像をより鮮明に認識できるようになる。
ックフィルムや偏光フィルム等と貼り合わせることによ
り光学機能フィルム作製すると、これらの反射防止フィ
ルムや光学機能フィルムを液晶、ＣＲＴ、プラズマディ
スプレーを含む種々の表示装置のディスプレイの前面板
に貼り合わせることにより、そのディスプレイに擦過に
よる傷付くことを防止し、表示品質を向上させ、表示画
像をより鮮明に認識できるようになる。
【００４０】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例を挙げて詳細
に説明する。
に説明する。
【００４１】＜実施例１＞図１の層構成の反射防止フィ
ルムを次のように作製した。フィルム基材として、厚さ
１００μｍのホウケイ酸ガラス（ＤＥＳＡＧ社(ドイツ)
製、Ｄ２６３、ｎ＝１．５３）に、４層からなる反射防
止膜を形成した。この反射防止膜は基材側から高屈折率
層２ｂとしての酸化チタン（ｎ＝２．１７）、低屈折率
層２ａとしての酸化シリコン（ｎ＝１．４６）、高屈折
率層２ｂとしての酸化チタン（ｎ＝２．１７）、低屈折
率層２ａとしての酸化シリコン（ｎ＝１．４６）とし
た。この、高屈折率層および低屈折率層の各層はプラズ
マアシストＥＢ蒸着法によって成膜した。各層の光学膜
厚（ｎｄ）は、基材側からおおよそ酸化チタン３０ｎ
ｍ、酸化ケイ素５０ｎｍ、酸化チタン２９０ｎｍ、酸化
ケイ素１３０ｎｍとした。また、最表面にはフッ素系の
撥水撥油層３を形成した。
ルムを次のように作製した。フィルム基材として、厚さ
１００μｍのホウケイ酸ガラス（ＤＥＳＡＧ社(ドイツ)
製、Ｄ２６３、ｎ＝１．５３）に、４層からなる反射防
止膜を形成した。この反射防止膜は基材側から高屈折率
層２ｂとしての酸化チタン（ｎ＝２．１７）、低屈折率
層２ａとしての酸化シリコン（ｎ＝１．４６）、高屈折
率層２ｂとしての酸化チタン（ｎ＝２．１７）、低屈折
率層２ａとしての酸化シリコン（ｎ＝１．４６）とし
た。この、高屈折率層および低屈折率層の各層はプラズ
マアシストＥＢ蒸着法によって成膜した。各層の光学膜
厚（ｎｄ）は、基材側からおおよそ酸化チタン３０ｎ
ｍ、酸化ケイ素５０ｎｍ、酸化チタン２９０ｎｍ、酸化
ケイ素１３０ｎｍとした。また、最表面にはフッ素系の
撥水撥油層３を形成した。
【００４２】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達したときに成
膜を止め所定の光学膜厚を得た。
厚モニターにより監視し、目的光量値に達したときに成
膜を止め所定の光学膜厚を得た。
【００４３】得られた反射防止層の絶対反射測定による
分光反射特性を図６に示す。４３０ｎｍ〜７７０ｎｍの
間で絶対反射率が０．６％以下である。これから、広範
囲に渡る反射防止効果がある。
分光反射特性を図６に示す。４３０ｎｍ〜７７０ｎｍの
間で絶対反射率が０．６％以下である。これから、広範
囲に渡る反射防止効果がある。
【００４４】スチールウール（ボンスターＮｏ．０００
０、日本スチールウール株式会社製）より２５０ｇ／ｃ
ｍ2の荷重で耐擦過試験を行った。その結果、傷は無く
非常に優れた耐擦過性を有することが分かった。
０、日本スチールウール株式会社製）より２５０ｇ／ｃ
ｍ2の荷重で耐擦過試験を行った。その結果、傷は無く
非常に優れた耐擦過性を有することが分かった。
【００４５】＜実施例２＞図２の層構成の反射防止フィ
ルムを次のように作製した。フィルム基材として、厚さ
１００μｍのホウケイ酸ガラス（ＤＥＳＡＧ社(ドイツ
国)製Ｄ２６３、ｎ＝１．５３）に、３層からなる反射
防止膜を形成した。この反射防止膜は基材側から中屈折
率層２ｃとしての酸化ランタンー酸化アルミニウムの複
合層（ｎ＝１．７７）、高屈折率層２ｂとしての酸化チ
タン（ｎ＝２．１７）、低屈折率層２ａとしての酸化シ
リコン（ｎ＝１．４６）とした。この各層はプラズマア
シストＥＢ蒸着法によって成膜した。各層の光学膜厚
（ｎｄ）は中屈折率層２ｃでおおよそ９５ｎｍ、高屈折
率層２ｂではおおよそ２３０ｎｍ、低屈折率層２ａでは
おおよそ１３０ｎｍとした。また、最表面にはフッ素系
の撥水撥油層３を形成した。
ルムを次のように作製した。フィルム基材として、厚さ
１００μｍのホウケイ酸ガラス（ＤＥＳＡＧ社(ドイツ
国)製Ｄ２６３、ｎ＝１．５３）に、３層からなる反射
防止膜を形成した。この反射防止膜は基材側から中屈折
率層２ｃとしての酸化ランタンー酸化アルミニウムの複
合層（ｎ＝１．７７）、高屈折率層２ｂとしての酸化チ
タン（ｎ＝２．１７）、低屈折率層２ａとしての酸化シ
リコン（ｎ＝１．４６）とした。この各層はプラズマア
シストＥＢ蒸着法によって成膜した。各層の光学膜厚
（ｎｄ）は中屈折率層２ｃでおおよそ９５ｎｍ、高屈折
率層２ｂではおおよそ２３０ｎｍ、低屈折率層２ａでは
おおよそ１３０ｎｍとした。また、最表面にはフッ素系
の撥水撥油層３を形成した。
【００４６】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達したときに成
膜を止め所定の光学膜厚を得た。
厚モニターにより監視し、目的光量値に達したときに成
膜を止め所定の光学膜厚を得た。
【００４７】得られた反射防止層の絶対反射測定による
分光反射特性を図７に示す。４５０ｎｍ〜７００ｎｍの
間で絶対反射率が０．４％以下である。これから、良好
な反射防止効果がある。
分光反射特性を図７に示す。４５０ｎｍ〜７００ｎｍの
間で絶対反射率が０．４％以下である。これから、良好
な反射防止効果がある。
【００４８】スチールウール（ボンスターＮｏ．０００
０、日本スチールウール株式会社製）より２５０ｇ／ｃ
ｍ2の荷重で耐擦過試験を行った。その結果、傷は無く
非常に優れた耐擦過性を有することが分かった。
０、日本スチールウール株式会社製）より２５０ｇ／ｃ
ｍ2の荷重で耐擦過試験を行った。その結果、傷は無く
非常に優れた耐擦過性を有することが分かった。
【００４９】＜実施例３＞図３の層構成の反射防止フィ
ルムを次のように作製した。フィルム基材として、厚さ
１００μｍのホウケイ酸ガラス（ＤＥＳＡＧ社(ドイツ
国)製、Ｄ２６３、ｎ＝１．５３）に、２層からなる反
射防止膜を形成した。この反射防止膜は基材側から光吸
収性層４、低屈折率層２と積層し、低屈折率層２として
の酸化シリコン（ｎ＝１．４６）、光吸収性層４として
の窒化チタンとした。この各層は、低屈折率層はプラズ
マアシストＥＢ蒸着法によって、光吸収性層は窒素ガス
を導入したチタンターゲットを反応性スパッタリング法
によって成膜した。光学膜厚（ｎｄ）は低屈折率層では
おおよそ１２５ｎｍ、光吸収性層では形成膜厚１４ｎｍ
とした。この窒化チタンの光学特性は測定波長によって
変化してしまうが、波長λ＝４５０ｎｍのときｎ＝１．
７５、吸光率ｋ＝０．８６、λ＝５５０ｎｍのときｎ＝
１．２６、ｋ＝１．２６、λ＝６５０ｎｍのときｎ＝
１．１５、ｋ＝１．６５である。また、最表面にはフッ
素系の撥水撥油層３を形成した。
ルムを次のように作製した。フィルム基材として、厚さ
１００μｍのホウケイ酸ガラス（ＤＥＳＡＧ社(ドイツ
国)製、Ｄ２６３、ｎ＝１．５３）に、２層からなる反
射防止膜を形成した。この反射防止膜は基材側から光吸
収性層４、低屈折率層２と積層し、低屈折率層２として
の酸化シリコン（ｎ＝１．４６）、光吸収性層４として
の窒化チタンとした。この各層は、低屈折率層はプラズ
マアシストＥＢ蒸着法によって、光吸収性層は窒素ガス
を導入したチタンターゲットを反応性スパッタリング法
によって成膜した。光学膜厚（ｎｄ）は低屈折率層では
おおよそ１２５ｎｍ、光吸収性層では形成膜厚１４ｎｍ
とした。この窒化チタンの光学特性は測定波長によって
変化してしまうが、波長λ＝４５０ｎｍのときｎ＝１．
７５、吸光率ｋ＝０．８６、λ＝５５０ｎｍのときｎ＝
１．２６、ｋ＝１．２６、λ＝６５０ｎｍのときｎ＝
１．１５、ｋ＝１．６５である。また、最表面にはフッ
素系の撥水撥油層３を形成した。
【００５０】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達したときに成
膜を止め所定の光学膜厚を得た。
厚モニターにより監視し、目的光量値に達したときに成
膜を止め所定の光学膜厚を得た。
【００５１】得られた反射防止フィルムの平均反射率は
波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの間で０．３３％、平均透
過率は同範囲で６８．２％であった。
波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの間で０．３３％、平均透
過率は同範囲で６８．２％であった。
【００５２】Ａ４サイズの対角で内部抵抗を測定したと
ころ、１．５４ｋΩであった。
ころ、１．５４ｋΩであった。
【００５３】＜比較例１＞ハードコート層として、多官
能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法により形成した厚
さ８０μｍのトリアセチルセルロースを透明基材として
用いて、その上に４層からなる反射防止膜を形成した。
基材側のほうから高屈折率層に酸化チタン（ｎ＝２．１
７）、低屈折率層に酸化ケイ素（ｎ＝１．４６）、高屈
折率層に酸化チタン（ｎ＝２．１７）、低屈折率層に酸
化ケイ素（ｎ＝１．４６）を使用し、合計４層積層した
反射防止層を形成した。この、高屈折率層および低屈折
率層の各層はプラズマアシストＥＢ蒸着法によって成膜
した。各層の光学膜厚（ｎｄ）は、基材側からおよそ酸
化チタン６０ｎｍ、酸化ケイ素４０ｎｍ、酸化チタン１
００ｎｍ、酸化ケイ素１４０ｎｍとした。また、最表面
にはフッ素系の撥水撥油層３を形成した。
能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法により形成した厚
さ８０μｍのトリアセチルセルロースを透明基材として
用いて、その上に４層からなる反射防止膜を形成した。
基材側のほうから高屈折率層に酸化チタン（ｎ＝２．１
７）、低屈折率層に酸化ケイ素（ｎ＝１．４６）、高屈
折率層に酸化チタン（ｎ＝２．１７）、低屈折率層に酸
化ケイ素（ｎ＝１．４６）を使用し、合計４層積層した
反射防止層を形成した。この、高屈折率層および低屈折
率層の各層はプラズマアシストＥＢ蒸着法によって成膜
した。各層の光学膜厚（ｎｄ）は、基材側からおよそ酸
化チタン６０ｎｍ、酸化ケイ素４０ｎｍ、酸化チタン１
００ｎｍ、酸化ケイ素１４０ｎｍとした。また、最表面
にはフッ素系の撥水撥油層３を形成した。
【００５４】得られた反射防止層の絶対反射測定による
分光反射特性を図８に示す。４１０ｎｍ〜６５０ｎｍの
間で絶対反射率が０．６％以下である。
分光反射特性を図８に示す。４１０ｎｍ〜６５０ｎｍの
間で絶対反射率が０．６％以下である。
【００５５】スチールウール（ボンスターＮｏ．０００
０、日本スチールウール株式会社製）より２５０ｇ／ｃ
ｍ2の荷重で耐擦過試験を行った。その結果、傷は殆ど
なく十分な耐擦過性を有することが分かった。
０、日本スチールウール株式会社製）より２５０ｇ／ｃ
ｍ2の荷重で耐擦過試験を行った。その結果、傷は殆ど
なく十分な耐擦過性を有することが分かった。
【００５６】
【発明の効果】本発明により、反射防止フィルムの基材
に、従来の高分子フィルムとは異なるホウケイ酸ガラス
を主成分とする基材を用いることで、従来反射防止フィ
ルムに設けていたハードコート層を必要としない、耐擦
過性等機械強度と耐熱性に優れた、可撓性を有する反射
防止フィルムを提供することが可能となった。本発明の
反射防止フィルムは、ハードコート層を形成する工程が
なくなり、また基材が耐熱性に優れていることから生産
効率を改善でき、信頼性高い製品を大量に製造できるま
た、本発明の反射防止フィルムを他のプラスチックフィ
ルムや偏光フィルム等と貼り合わせることにより光学機
能フィルム作製すると、これらの反射防止フィルムや光
学機能フィルムを表示装置のディスプレイの前面板に貼
り合わせることにより、そのディスプレイに擦過による
傷付くことを防止し、表示品質を向上させ、表示画像を
より鮮明に認識できるようになる。
に、従来の高分子フィルムとは異なるホウケイ酸ガラス
を主成分とする基材を用いることで、従来反射防止フィ
ルムに設けていたハードコート層を必要としない、耐擦
過性等機械強度と耐熱性に優れた、可撓性を有する反射
防止フィルムを提供することが可能となった。本発明の
反射防止フィルムは、ハードコート層を形成する工程が
なくなり、また基材が耐熱性に優れていることから生産
効率を改善でき、信頼性高い製品を大量に製造できるま
た、本発明の反射防止フィルムを他のプラスチックフィ
ルムや偏光フィルム等と貼り合わせることにより光学機
能フィルム作製すると、これらの反射防止フィルムや光
学機能フィルムを表示装置のディスプレイの前面板に貼
り合わせることにより、そのディスプレイに擦過による
傷付くことを防止し、表示品質を向上させ、表示画像を
より鮮明に認識できるようになる。
【図１】本発明の一例としての反射防止フィルムの層構
成を示した断面図である。
成を示した断面図である。
【図２】本発明の一例としての反射防止フィルムの層構
成を示した断面図である。
成を示した断面図である。
【図３】本発明の一例としての反射防止フィルムの層構
成を示した断面図である。
成を示した断面図である。
【図４】従来の反射防止フィルムの層構成の一例を示し
た断面図である。
た断面図である。
【図５】本発明の反射防止フィルムにおける透明基材を
製造する方法を示した説明図である。
製造する方法を示した説明図である。
【図６】実施例１で得られた反射防止フィルムの分光反
射特性図である。
射特性図である。
【図７】実施例２で得られた反射防止フィルムの分光反
射特性図である。
射特性図である。
【図８】比較例１で得られた反射防止フィルムの分光反
射特性図である。
射特性図である。
１、１６…透明基材 ２…反射防止層 ３…撥水・撥油層 ４…光吸収層 ５…ハードコート層 １０…ガラス原料導入部 １１…溶融炉 １２…押出ノズル １３…除冷部 １４…溶融状態のフィルム状ガラス １５…ガイドロール
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2K009 AA06 AA07 BB02 CC03 CC26 CC42 DD02 DD03 DD04 DD07 EE00 EE03 4F100 AA17A AA17B AA17C AA17D AA17E AA20 AA21 AG00A AK52E AR00B AR00C AR00D AR00E BA02 BA03 BA05 BA06 BA10B BA10C CA23A EH662 JB04E JJ03 JK01 JK06 JL11E JL14 JN06B JN06C JN06D JN06E JN18B JN18C JN18D JN18E 4G059 AA20 AC04 AC30 EA01 EA03 EA04 EA05 EB03 EB04 FA07 FB01 FB03 GA02 GA04 GA12 GA16 5C058 AA01 AB05 BA08 BA30
Claims (11)
- 【請求項１】基材の少なくとも片面に反射防止層を有す
る反射防止フィルムにおいて、該基材がホウケイ酸ガラ
スを主成分としてなることを特徴とする反射防止フィル
ム。 - 【請求項２】前記基材が、巻き取り可能な厚さ１０〜２
００μｍのフィルム状の基材であることを特徴とする請
求項１記載の反射防止フィルム。 - 【請求項３】前記基材が、ホウケイ酸ガラス成分以外の
無機酸化物を添加してなるホウケイ酸ガラスを主成分と
することを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
フィルム。 - 【請求項４】前記反射防止層が、屈折率の異なる酸化物
からなる層を少なくとも２層以上有する請求項１〜３の
いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 - 【請求項５】前記反射防止層を構成する層のうち少なく
とも１層が、光吸収性を有することを特徴とする請求項
１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。 - 【請求項６】前記反射防止層の屈折率が、基材の屈折率
より小さいことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１
項に記載の反射防止フィルム。 - 【請求項７】前記反射防止層の最上層の上に、撥水性お
よび撥油性を有する層が少なくとも１層形成されている
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の
反射防止フィルム。 - 【請求項８】請求項７記載の反射防止フィルムにおい
て、撥水性および撥油性を有する層が、パーフルオロシ
ランであることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項９】請求項１〜８のいずれか１項に記載の反射
防止フィルムの反射防止層と反対側の基材面とプラスチ
ックフィルムとが接着層を介して貼り合わせたことを特
徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項１０】偏光フィルムの少なくとも片面に、請求
項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの反
射防止層と反対側の面とを貼り合わせたことを特徴とす
る反射防止フィルム。 - 【請求項１１】請求項１〜１０のいずれか１項に記載の
反射防止フィルムの反射防止層と反対側の面に粘着層を
形成し、その上に剥離可能な保護フィルムが貼り合わさ
れていることを特徴とする反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001034942A JP2002243902A (ja) | 2001-02-13 | 2001-02-13 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001034942A JP2002243902A (ja) | 2001-02-13 | 2001-02-13 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002243902A true JP2002243902A (ja) | 2002-08-28 |
Family
ID=18898457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001034942A Pending JP2002243902A (ja) | 2001-02-13 | 2001-02-13 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002243902A (ja) |
Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
| JP2005274327A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Citizen Watch Co Ltd | 時計用風防ガラスおよび時計 |
| JP2009288406A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Canon Inc | 光学素子及び光学機器 |
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| JP2012054006A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Gunze Ltd | 透明導電性ガスバリヤフィルム及びその製造方法 |
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-
2001
- 2001-02-13 JP JP2001034942A patent/JP2002243902A/ja active Pending
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