JPH09204653A - 磁気ディスク及び磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク及び磁気ディスク装置Info
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- JPH09204653A JPH09204653A JP2985396A JP2985396A JPH09204653A JP H09204653 A JPH09204653 A JP H09204653A JP 2985396 A JP2985396 A JP 2985396A JP 2985396 A JP2985396 A JP 2985396A JP H09204653 A JPH09204653 A JP H09204653A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- head slider
- head
- magnetic
- data
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ディスクの表面上におけるヘッドスライ
ダの浮上量が小さくても安定した浮上を保つことができ
る磁気ディスク及びその磁気ディスクを備えた磁気ディ
スク装置を提供すること。 【解決手段】 浮上型のヘッドスライダ6に搭載されて
いる磁気ヘッドによりデータ等が記録再生される磁気デ
ィスク3に対して、前記データ等が記録される凸部と、
前記ヘッドスライダが前記凸部に近接して浮上するのに
必要な動圧を、前記ヘッドスライダに与える凹部とを備
える。
ダの浮上量が小さくても安定した浮上を保つことができ
る磁気ディスク及びその磁気ディスクを備えた磁気ディ
スク装置を提供すること。 【解決手段】 浮上型のヘッドスライダ6に搭載されて
いる磁気ヘッドによりデータ等が記録再生される磁気デ
ィスク3に対して、前記データ等が記録される凸部と、
前記ヘッドスライダが前記凸部に近接して浮上するのに
必要な動圧を、前記ヘッドスライダに与える凹部とを備
える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、浮上型のヘッド
スライダに搭載されている磁気ヘッドにより、データや
プログラムが記録再生される磁気ディスク及びその磁気
ディスクを備えた磁気ディスク装置に関するものであ
る。
スライダに搭載されている磁気ヘッドにより、データや
プログラムが記録再生される磁気ディスク及びその磁気
ディスクを備えた磁気ディスク装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】例えばコンピュータシステムにおいて
は、磁気ディスク装置としてハードディスク装置が用い
られている。このハードディスク装置に内蔵されている
磁気ディスクの両表面には磁性膜が成膜されており、磁
気ディスクの表面上を浮上するヘッドスライダに搭載さ
れている磁気ヘッドにより、磁性膜にデータ等がトラッ
ク状に記録され、また磁性膜にトラック状に記録された
データ等が再生されるようになっている。磁気ヘッドが
搭載された浮上型のヘッドスライダを駆動する機構部
と、磁気ディスクを駆動する駆動部とは、筐体の内部に
予め組み込まれているため、データ等を比較的高密度に
記録することが可能であり、また、記録されたデータ等
に対して高速にアクセスすることが可能である。
は、磁気ディスク装置としてハードディスク装置が用い
られている。このハードディスク装置に内蔵されている
磁気ディスクの両表面には磁性膜が成膜されており、磁
気ディスクの表面上を浮上するヘッドスライダに搭載さ
れている磁気ヘッドにより、磁性膜にデータ等がトラッ
ク状に記録され、また磁性膜にトラック状に記録された
データ等が再生されるようになっている。磁気ヘッドが
搭載された浮上型のヘッドスライダを駆動する機構部
と、磁気ディスクを駆動する駆動部とは、筐体の内部に
予め組み込まれているため、データ等を比較的高密度に
記録することが可能であり、また、記録されたデータ等
に対して高速にアクセスすることが可能である。
【0003】近年、磁気ディスクの高密度化は60%/
年で高まっている。この高密度化は、磁気ヘッドにMR
ヘッドを採用したり、磁気ディスクの材料を改良するこ
とにより達成することができ、また、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの距離を小さくすることによっても達成する
ことができる。この磁気ヘッドと磁気ディスクとの距離
は、磁気ヘッドを搭載しているヘッドスライダの磁気デ
ィスクに対する浮上量に相当する。このヘッドスライダ
の浮上量は、磁気ディスクの回転数、ヘッドスライダが
浮上している磁気ディスク半径位置及びヘッドスライダ
の磁気ディスク回転方向とのなす傾き角(スキュー角)
とにより決定され、これらの値を適正にすることによ
り、ヘッドスライダの浮上量を小さくすることが可能で
ある。
年で高まっている。この高密度化は、磁気ヘッドにMR
ヘッドを採用したり、磁気ディスクの材料を改良するこ
とにより達成することができ、また、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの距離を小さくすることによっても達成する
ことができる。この磁気ヘッドと磁気ディスクとの距離
は、磁気ヘッドを搭載しているヘッドスライダの磁気デ
ィスクに対する浮上量に相当する。このヘッドスライダ
の浮上量は、磁気ディスクの回転数、ヘッドスライダが
浮上している磁気ディスク半径位置及びヘッドスライダ
の磁気ディスク回転方向とのなす傾き角(スキュー角)
とにより決定され、これらの値を適正にすることによ
り、ヘッドスライダの浮上量を小さくすることが可能で
ある。
【0004】ヘッドスライダの浮上量を小さくしたとき
に重要なことは、ヘッドスライダを安定に浮上させるこ
とである。即ち、ヘッドスライダを磁気ディスク上で滑
らかに浮上させることであり、磁気ディスク上の小さな
突起やうねりに追従することなく、真っ直ぐに浮上させ
ることである。このようなヘッドスライダの安定浮上を
実現するには、ヘッドスライダと磁気ディスクとの間に
形成される空気膜のバネ定数を小さくすれば良い。
に重要なことは、ヘッドスライダを安定に浮上させるこ
とである。即ち、ヘッドスライダを磁気ディスク上で滑
らかに浮上させることであり、磁気ディスク上の小さな
突起やうねりに追従することなく、真っ直ぐに浮上させ
ることである。このようなヘッドスライダの安定浮上を
実現するには、ヘッドスライダと磁気ディスクとの間に
形成される空気膜のバネ定数を小さくすれば良い。
【0005】ところが、従来の磁気ディスクは、両表面
は平坦であるため、ヘッドスライダと磁気ディスクとの
間に形成される空気膜のバネ定数(k)は、数1で示す
ように、ヘッドスライダの浮上量が小さくなると大きく
なる。
は平坦であるため、ヘッドスライダと磁気ディスクとの
間に形成される空気膜のバネ定数(k)は、数1で示す
ように、ヘッドスライダの浮上量が小さくなると大きく
なる。
【数1】
【0006】即ち、空気膜のバネ定数が大きい場合のヘ
ッドスライダの浮上変動量は、磁気ディスクから受ける
加速度により、空気膜のバネ定数が小さい場合のヘッド
スライダの浮上変動量に比べて小さくなる。これは、数
2のフックの法則より明らかである。
ッドスライダの浮上変動量は、磁気ディスクから受ける
加速度により、空気膜のバネ定数が小さい場合のヘッド
スライダの浮上変動量に比べて小さくなる。これは、数
2のフックの法則より明らかである。
【数2】
【0007】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクが発生さ
せる加速度は、磁気ディスクのうねりや磁気ディスクの
ランナウト等の磁気ディスクの機械的な変形に起因す
る。従って、磁気ディスクから受ける加速度は、ヘッド
スライダの浮上量とは何の相関もない。しかし、ヘッド
スライダの浮上量が小さくなると、空気膜のバネ定数が
大きくなり、ヘッドスライダの浮上変動量は小さくな
る。これにより、ヘッドスライダの浮上は不安定とな
り、場合によっては磁気ディスクと接触して墜落するこ
とになる。従って、従来の磁気ディスクを用いてヘッド
スライダの浮上量を例えば20nm以下と小さくするこ
とは困難であるという問題があった。
せる加速度は、磁気ディスクのうねりや磁気ディスクの
ランナウト等の磁気ディスクの機械的な変形に起因す
る。従って、磁気ディスクから受ける加速度は、ヘッド
スライダの浮上量とは何の相関もない。しかし、ヘッド
スライダの浮上量が小さくなると、空気膜のバネ定数が
大きくなり、ヘッドスライダの浮上変動量は小さくな
る。これにより、ヘッドスライダの浮上は不安定とな
り、場合によっては磁気ディスクと接触して墜落するこ
とになる。従って、従来の磁気ディスクを用いてヘッド
スライダの浮上量を例えば20nm以下と小さくするこ
とは困難であるという問題があった。
【0008】この発明は、以上の点に鑑み、磁気ディス
クの表面上におけるヘッドスライダの浮上量が小さくて
も安定した浮上を保つことができる磁気ディスク及びそ
の磁気ディスクを備えた磁気ディスク装置を提供するこ
とを目的としている。
クの表面上におけるヘッドスライダの浮上量が小さくて
も安定した浮上を保つことができる磁気ディスク及びそ
の磁気ディスクを備えた磁気ディスク装置を提供するこ
とを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的は、この発明に
よれば、浮上型のヘッドスライダに搭載されている磁気
ヘッドによりデータ等が記録再生される磁気ディスクに
おいて、前記データ等が記録される凸部と、前記ヘッド
スライダが前記凸部に近接して浮上するのに必要な動圧
を、前記ヘッドスライダに与える凹部とを備えることに
より達成される。
よれば、浮上型のヘッドスライダに搭載されている磁気
ヘッドによりデータ等が記録再生される磁気ディスクに
おいて、前記データ等が記録される凸部と、前記ヘッド
スライダが前記凸部に近接して浮上するのに必要な動圧
を、前記ヘッドスライダに与える凹部とを備えることに
より達成される。
【0010】上記構成によれば、ヘッドスライダと磁気
ディスクとの間に発生する空気膜のバネ定数が小さくな
るので、磁気ディスクの表面上におけるヘッドスライダ
の浮上量が小さくても安定した浮上を保つことができ
る。
ディスクとの間に発生する空気膜のバネ定数が小さくな
るので、磁気ディスクの表面上におけるヘッドスライダ
の浮上量が小さくても安定した浮上を保つことができ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を添付図を参照しながら詳細に説明する。尚、以下に述
べる実施の形態は、この発明の好適な具体例であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、こ
の発明の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限
定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるも
のではない。
を添付図を参照しながら詳細に説明する。尚、以下に述
べる実施の形態は、この発明の好適な具体例であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、こ
の発明の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限
定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるも
のではない。
【0012】図1は、この発明の磁気ディスク装置の実
施形態であるハードディスク装置の構成例を示す斜視図
である。このハードディスク装置1は、アルミニウム合
金等により形成された筐体2の平面部の裏側にスピンド
ルモータ9が配設されていると共に、このスピンドルモ
ータ9によって角速度一定で回転駆動される磁気ディス
ク3が備えられている。さらに、この筐体2には、アー
ム4が垂直軸4aの周りに揺動可能に取り付けられてい
る。このアーム4の一端には、ボイスコイル5が取り付
けられ、またこのアーム4の他端には、ヘッドスライダ
6が取り付けられている。筐体2上には、ボイスコイル
5を挟持するように、マグネット7a、7bが取り付け
られている。ボイスコイル5及びマグネット7a、7b
により、ボイスコイルモータ7が形成されている。
施形態であるハードディスク装置の構成例を示す斜視図
である。このハードディスク装置1は、アルミニウム合
金等により形成された筐体2の平面部の裏側にスピンド
ルモータ9が配設されていると共に、このスピンドルモ
ータ9によって角速度一定で回転駆動される磁気ディス
ク3が備えられている。さらに、この筐体2には、アー
ム4が垂直軸4aの周りに揺動可能に取り付けられてい
る。このアーム4の一端には、ボイスコイル5が取り付
けられ、またこのアーム4の他端には、ヘッドスライダ
6が取り付けられている。筐体2上には、ボイスコイル
5を挟持するように、マグネット7a、7bが取り付け
られている。ボイスコイル5及びマグネット7a、7b
により、ボイスコイルモータ7が形成されている。
【0013】このような構成において、ボイスコイル5
に外部から電流が供給されると、アーム4は、マグネッ
ト7a、7bの磁界と、このボイスコイル5に流れる電
流とによって生ずる力に基づいて、垂直軸4aの周りを
回動する。これにより、アーム4の他端に取り付けられ
たヘッドスライダ6は、図2にて矢印Xで示すように、
磁気ディスク3の実質的に半径方向に移動する。従っ
て、このヘッドスライダ6に搭載された磁気ヘッド8
(図3参照)は、磁気ディスク3に対してシーク動作
し、磁気ディスク3の所定のデータトラック等に対して
データ等の記録再生を行なう。
に外部から電流が供給されると、アーム4は、マグネッ
ト7a、7bの磁界と、このボイスコイル5に流れる電
流とによって生ずる力に基づいて、垂直軸4aの周りを
回動する。これにより、アーム4の他端に取り付けられ
たヘッドスライダ6は、図2にて矢印Xで示すように、
磁気ディスク3の実質的に半径方向に移動する。従っ
て、このヘッドスライダ6に搭載された磁気ヘッド8
(図3参照)は、磁気ディスク3に対してシーク動作
し、磁気ディスク3の所定のデータトラック等に対して
データ等の記録再生を行なう。
【0014】ここで、ヘッドスライダ6は、図3に示す
ように、その下面の両側にエアベアリングサーフェイス
として作用するレール6a、6bが形成されていると共
に、このレール6a、6bの空気流入端側にはテーパ部
6c、6dが形成されている。これにより、ヘッドスラ
イダ6が、回転する磁気ディスク3の表面に接近したと
き、磁気ディスク3の回転に伴ってレール6a、6bと
磁気ディスク3の表面との間に流入する空気流により浮
揚力を受ける。この浮揚力によって、ヘッドスライダ6
及び磁気ヘッド8は、図4に示すように、磁気ディスク
3の表面から微小間隔(浮上量)dをもって浮上走行す
るようになっている。
ように、その下面の両側にエアベアリングサーフェイス
として作用するレール6a、6bが形成されていると共
に、このレール6a、6bの空気流入端側にはテーパ部
6c、6dが形成されている。これにより、ヘッドスラ
イダ6が、回転する磁気ディスク3の表面に接近したと
き、磁気ディスク3の回転に伴ってレール6a、6bと
磁気ディスク3の表面との間に流入する空気流により浮
揚力を受ける。この浮揚力によって、ヘッドスライダ6
及び磁気ヘッド8は、図4に示すように、磁気ディスク
3の表面から微小間隔(浮上量)dをもって浮上走行す
るようになっている。
【0015】図5は、図1に示すハードディスク装置の
制御部の構成例を示すブロック図である。この制御部1
0のクロック信号生成部11は、磁気ヘッド8の再生ヘ
ッド8bにより再生された信号からクロック信号を生成
し、トラッキングサーボ部12と再生部13に出力す
る。トラッキングサーボ部12は、クロック信号生成部
11からのクロック信号を参照して、再生ヘッド8bか
らの信号によりトラッキングエラー信号を生成し、これ
に対応してアーム4を駆動する。これにより、記録ヘッ
ド8aと再生ヘッド8bが、磁気ディスク3の所定の半
径位置にトラッキング制御される。記録部14は、図示
しない回路から供給される記録信号を変調し、記録ヘッ
ド8aを介して磁気ディスク3に記録する。再生部13
は、再生ヘッド8bからの記録信号を復調し、上記回路
に出力する。トラッキングサーボ部12は、トラッキン
グエラー信号をモニタし、磁気ディスク装置に大きなシ
ョック等が加わり、記録ヘッド8aがデータトラックか
ら離脱したような場合において、記録部14を制御して
記録動作を停止させる。
制御部の構成例を示すブロック図である。この制御部1
0のクロック信号生成部11は、磁気ヘッド8の再生ヘ
ッド8bにより再生された信号からクロック信号を生成
し、トラッキングサーボ部12と再生部13に出力す
る。トラッキングサーボ部12は、クロック信号生成部
11からのクロック信号を参照して、再生ヘッド8bか
らの信号によりトラッキングエラー信号を生成し、これ
に対応してアーム4を駆動する。これにより、記録ヘッ
ド8aと再生ヘッド8bが、磁気ディスク3の所定の半
径位置にトラッキング制御される。記録部14は、図示
しない回路から供給される記録信号を変調し、記録ヘッ
ド8aを介して磁気ディスク3に記録する。再生部13
は、再生ヘッド8bからの記録信号を復調し、上記回路
に出力する。トラッキングサーボ部12は、トラッキン
グエラー信号をモニタし、磁気ディスク装置に大きなシ
ョック等が加わり、記録ヘッド8aがデータトラックか
ら離脱したような場合において、記録部14を制御して
記録動作を停止させる。
【0016】図6は、この発明の磁気ディスクの実施形
態を示す平面図、図7(A)は半径方向の断面構造図、
同図(B)は円周方向の断面構造図である。この磁気デ
ィスク3の合成樹脂、ガラス、アルミニウム等より成る
基板31には、凹凸部で成るデータ記録領域(データゾ
ーン)と制御信号記録領域(サーボゾーン)とがそれぞ
れ放射状に形成され、その表面に磁性膜32が形成され
ている。即ち、データゾーンには、同心円状であって、
データ等を記録するための(データトラックDTが凸部
となるように形成され、隣接するデータトラックDTを
区分するためのガードバンドGBが凹部となるように形
成されている。また、サーボゾーンには、データトラッ
クDTを特定するためのグレイコード、1周を等間隔に
分割するクロックマーク及び磁気ヘッドをトラッキング
制御するためのウォブルドマーク等のサーボトラックS
Tが凸部となるように形成され、上記コード等を区分す
るためのスペースであるサーボピットSPが凹部となる
ように形成されている。
態を示す平面図、図7(A)は半径方向の断面構造図、
同図(B)は円周方向の断面構造図である。この磁気デ
ィスク3の合成樹脂、ガラス、アルミニウム等より成る
基板31には、凹凸部で成るデータ記録領域(データゾ
ーン)と制御信号記録領域(サーボゾーン)とがそれぞ
れ放射状に形成され、その表面に磁性膜32が形成され
ている。即ち、データゾーンには、同心円状であって、
データ等を記録するための(データトラックDTが凸部
となるように形成され、隣接するデータトラックDTを
区分するためのガードバンドGBが凹部となるように形
成されている。また、サーボゾーンには、データトラッ
クDTを特定するためのグレイコード、1周を等間隔に
分割するクロックマーク及び磁気ヘッドをトラッキング
制御するためのウォブルドマーク等のサーボトラックS
Tが凸部となるように形成され、上記コード等を区分す
るためのスペースであるサーボピットSPが凹部となる
ように形成されている。
【0017】このような磁気ディスク3によれば、磁気
ヘッド8が内周側方向又は外周側方向に移動する場合の
移動軌跡に沿ってサーボゾーンとデータゾーンを形成す
るようにしているので、シーク動作時における等時間間
隔性を保持することができ、クロック生成のためのPL
L回路のロック外れを抑制することができる。また、ア
ジマス損失を抑制することができる。
ヘッド8が内周側方向又は外周側方向に移動する場合の
移動軌跡に沿ってサーボゾーンとデータゾーンを形成す
るようにしているので、シーク動作時における等時間間
隔性を保持することができ、クロック生成のためのPL
L回路のロック外れを抑制することができる。また、ア
ジマス損失を抑制することができる。
【0018】図8は、図6に示す磁気ディスクのさらに
詳細を示す断面構造図である。基板31の両面には、例
えば200nmの段差が形成されており、この基板31
がガラスで構成されるとき、その厚さは0.65mmと
され、合成樹脂で構成されるとき、その厚さは1.2m
mとされる。さらに、基板31の両面には、磁性膜32
が成膜されており、基板31を合成樹脂で構成したとき
は、最初に基板31上に例えばSiO2より成る粒子
(球状シリカ)を1μm当たり0.5個以上100個以
下、好ましくは10個程度の粒子密度とした粒子層32
1が形成される。これは、基板31をガラス、アルミニ
ウムで構成したときは剛性や耐久性をある程度確保する
ことが可能であるが、基板31を合成樹脂で構成したと
きは必ずしも十分な剛性や耐久性を確保することができ
ないからである。また、基板31を合成樹脂で構成した
ときは基板31表面の凹凸が粗いため、磁気ヘッド8を
磁性膜32に接触しない範囲で近接配置することが困難
となるからである。
詳細を示す断面構造図である。基板31の両面には、例
えば200nmの段差が形成されており、この基板31
がガラスで構成されるとき、その厚さは0.65mmと
され、合成樹脂で構成されるとき、その厚さは1.2m
mとされる。さらに、基板31の両面には、磁性膜32
が成膜されており、基板31を合成樹脂で構成したとき
は、最初に基板31上に例えばSiO2より成る粒子
(球状シリカ)を1μm当たり0.5個以上100個以
下、好ましくは10個程度の粒子密度とした粒子層32
1が形成される。これは、基板31をガラス、アルミニ
ウムで構成したときは剛性や耐久性をある程度確保する
ことが可能であるが、基板31を合成樹脂で構成したと
きは必ずしも十分な剛性や耐久性を確保することができ
ないからである。また、基板31を合成樹脂で構成した
ときは基板31表面の凹凸が粗いため、磁気ヘッド8を
磁性膜32に接触しない範囲で近接配置することが困難
となるからである。
【0019】球状シリカの粒子層321の形成方法とし
ては、ディッピング法が用いられる。このときの粒子の
平均径は50nm以下、好ましくは8nm〜10nmと
する。平均径を8nmとすると、粒子径分布は標準偏差
で4.3nmとなる。粒子密度は濃度と引き上げ速度で
決定されるため、これを管理することにより凹凸の制御
が可能となる。例えば、球状シリカをイソプロピルアル
コールに濃度0.01重量%となるように分散し、これ
を引き上げ速度125mm/分で基板の表面に塗布す
る。この粒子層321の上には、約80nmの厚さのク
ロム層322が形成される。このクロム層322は、交
換結合膜として機能し、磁気特性を改善する効果があ
り、特に保磁力を高めることができる。さらに、このク
ロム層322の上には、約40nmの厚さのコバルト白
金層323が形成される。このコバルト白金層323の
上には、約10nmの厚さのSiO2から成る保護膜3
24がスピンコートあるいは塗布により形成される。そ
して、この保護膜324の上には、潤滑剤325が塗布
される。
ては、ディッピング法が用いられる。このときの粒子の
平均径は50nm以下、好ましくは8nm〜10nmと
する。平均径を8nmとすると、粒子径分布は標準偏差
で4.3nmとなる。粒子密度は濃度と引き上げ速度で
決定されるため、これを管理することにより凹凸の制御
が可能となる。例えば、球状シリカをイソプロピルアル
コールに濃度0.01重量%となるように分散し、これ
を引き上げ速度125mm/分で基板の表面に塗布す
る。この粒子層321の上には、約80nmの厚さのク
ロム層322が形成される。このクロム層322は、交
換結合膜として機能し、磁気特性を改善する効果があ
り、特に保磁力を高めることができる。さらに、このク
ロム層322の上には、約40nmの厚さのコバルト白
金層323が形成される。このコバルト白金層323の
上には、約10nmの厚さのSiO2から成る保護膜3
24がスピンコートあるいは塗布により形成される。そ
して、この保護膜324の上には、潤滑剤325が塗布
される。
【0020】このような磁気ディスク3は、その1周が
60セクタに区分され、各セクタは14セグメントによ
り構成されている。従って、1周は840セグメントと
なる。各セグメントはサーボゾーンとデータゾーンとに
区分される。サーボゾーンには、図9に示すように、グ
レイコードGC、クロックマークCM及びウォブルドマ
ークWMが形成される。また、各セクタの先頭セグメン
トには、さらにユニークパターンUPが付加されてい
る。但し、60セクタのうちの1つのセクタにおいて
は、ユニークパターンUPに代えてPGとしての機能を
有するホームインデックスが記録される。
60セクタに区分され、各セクタは14セグメントによ
り構成されている。従って、1周は840セグメントと
なる。各セグメントはサーボゾーンとデータゾーンとに
区分される。サーボゾーンには、図9に示すように、グ
レイコードGC、クロックマークCM及びウォブルドマ
ークWMが形成される。また、各セクタの先頭セグメン
トには、さらにユニークパターンUPが付加されてい
る。但し、60セクタのうちの1つのセクタにおいて
は、ユニークパターンUPに代えてPGとしての機能を
有するホームインデックスが記録される。
【0021】クロックマークCMのトラック方向の幅を
1とするとき、グレーコードGCの幅は20、ユニーク
パターンUPの幅は16とされる。グレーコードGC
は、データトラックDTを特定する絶対アドレス(デー
タトラック番号)を表すコードである。クロックマーク
CMは、記録再生の基準となるクロックを生成するため
のマークであり、再生ヘッド8bは、このクロックマー
クCMを再生したとき、そのエッジに対応してタイミン
グ信号を出力する。クロックマークCMは、図9に示す
ように、磁気ディスク3の半径方向に放射状に連続して
形成されている。
1とするとき、グレーコードGCの幅は20、ユニーク
パターンUPの幅は16とされる。グレーコードGC
は、データトラックDTを特定する絶対アドレス(デー
タトラック番号)を表すコードである。クロックマーク
CMは、記録再生の基準となるクロックを生成するため
のマークであり、再生ヘッド8bは、このクロックマー
クCMを再生したとき、そのエッジに対応してタイミン
グ信号を出力する。クロックマークCMは、図9に示す
ように、磁気ディスク3の半径方向に放射状に連続して
形成されている。
【0022】ウォブルドマークWMは、データトラック
DTの中心線L1を挟んで内周側と外周側にずれるよう
に配置されると共に、トラック方向にも所定の距離だけ
離間して形成されている。再生ヘッド8bが、ウォブル
ドマークWMを再生するとき、そのエッジに対応して位
置パルスを出力する。この位置パルスのレベルが等しく
なるようにトラッキングサーボを掛けることにより、再
生ヘッド8bをデータトラックDTの中心線L1上に配
置することができる。
DTの中心線L1を挟んで内周側と外周側にずれるよう
に配置されると共に、トラック方向にも所定の距離だけ
離間して形成されている。再生ヘッド8bが、ウォブル
ドマークWMを再生するとき、そのエッジに対応して位
置パルスを出力する。この位置パルスのレベルが等しく
なるようにトラッキングサーボを掛けることにより、再
生ヘッド8bをデータトラックDTの中心線L1上に配
置することができる。
【0023】データゾーンの先頭には、ID記録領域I
Zが形成され、本来記録再生されるデータは、このID
記録領域IZに続くデータ記録領域DZに記録される。
ID記録領域IZは、セクタ番号記録領域SZとトラッ
ク番号記録領域TZとに区分されている。このうち、少
なくともセクタ番号記録領域SZは、クロックマークC
Mと同様に、磁気ディスク3の半径方向に放射状に連続
して形成されている。セクタ番号記録領域SZには、セ
クタを特定する8ビットのセクタ番号が記録され、トラ
ック番号記録領域TZには、データトラックDTを特定
する16ビットのトラック番号が2個記録される。この
40ビットのIDデータは、PR(パーシャルレスポン
ス)(−1、0、1)変調されてID記録領域IZに記
録される。再生ヘッド8bは、このID記録領域IZに
記録されているIDデータを再生することによりパルス
列を出力する。
Zが形成され、本来記録再生されるデータは、このID
記録領域IZに続くデータ記録領域DZに記録される。
ID記録領域IZは、セクタ番号記録領域SZとトラッ
ク番号記録領域TZとに区分されている。このうち、少
なくともセクタ番号記録領域SZは、クロックマークC
Mと同様に、磁気ディスク3の半径方向に放射状に連続
して形成されている。セクタ番号記録領域SZには、セ
クタを特定する8ビットのセクタ番号が記録され、トラ
ック番号記録領域TZには、データトラックDTを特定
する16ビットのトラック番号が2個記録される。この
40ビットのIDデータは、PR(パーシャルレスポン
ス)(−1、0、1)変調されてID記録領域IZに記
録される。再生ヘッド8bは、このID記録領域IZに
記録されているIDデータを再生することによりパルス
列を出力する。
【0024】また、トラック番号記録領域TZは、再生
動作用トラック番号記録領域TZaと記録動作用トラッ
ク番号記録領域TZbとに区分されている。再生動作用
トラック番号記録領域TZaは、その幅方向の中心がデ
ータトラックDTの中心線L1上に位置するように形成
されるが、記録動作用トラック番号記録領域TZbは、
その中心線L2がデータトラックDTの中心線L1と距
離dだけデータトラックDTと垂直な方向(磁気ディス
ク3の半径方向)に離れた位置になるように形成され
る。この距離dは、内周側にいくほど小さい値とされ、
外周側にいくほど大きい値とされる。そして、この再生
動作用トラック番号記録領域TZaと記録動作用トラッ
ク番号記録領域TZbには、同一のトラック番号が記録
される。
動作用トラック番号記録領域TZaと記録動作用トラッ
ク番号記録領域TZbとに区分されている。再生動作用
トラック番号記録領域TZaは、その幅方向の中心がデ
ータトラックDTの中心線L1上に位置するように形成
されるが、記録動作用トラック番号記録領域TZbは、
その中心線L2がデータトラックDTの中心線L1と距
離dだけデータトラックDTと垂直な方向(磁気ディス
ク3の半径方向)に離れた位置になるように形成され
る。この距離dは、内周側にいくほど小さい値とされ、
外周側にいくほど大きい値とされる。そして、この再生
動作用トラック番号記録領域TZaと記録動作用トラッ
ク番号記録領域TZbには、同一のトラック番号が記録
される。
【0025】また、データトラックDTの中心線L1に
対して、再生ヘッド8bを位置決めするためのウォブル
ドマークWMと、記録動作用トラック番号記録領域TZ
bの中心線L2を再生ヘッド8bでトレースする場合の
位置決めのためのウォブルドマークWMがサーボゾーン
に形成されている。従って、再生モード時においては、
ウォブルドマークWMを基準にして再生ヘッド8bをト
ラッキング制御することにより、再生ヘッド8bをデー
タトラックDTの中心線L1に沿って走査させることが
できる。これに対して、記録モード時においては、ウォ
ブルドマークWMを再生ヘッド8bで再生して得られる
トラッキングエラー信号に対応してトラッキング制御す
ることにより、再生ヘッド8bを記録動作用トラック番
号記録領域TZbの中心線L2に沿って走査させること
ができる。このとき、記録ヘッド8aはデータトラック
DTの中心線L1に沿って走行する。このように、セク
タ番号又はトラック番号を記録する領域を予め形成し、
そこにセクタ番号又はトラック番号を記録するようにし
たので、再生ヘッド8bの位置決め状態にかかわらず、
セクタ番号又はトラック番号を確実に再生することがで
きる。
対して、再生ヘッド8bを位置決めするためのウォブル
ドマークWMと、記録動作用トラック番号記録領域TZ
bの中心線L2を再生ヘッド8bでトレースする場合の
位置決めのためのウォブルドマークWMがサーボゾーン
に形成されている。従って、再生モード時においては、
ウォブルドマークWMを基準にして再生ヘッド8bをト
ラッキング制御することにより、再生ヘッド8bをデー
タトラックDTの中心線L1に沿って走査させることが
できる。これに対して、記録モード時においては、ウォ
ブルドマークWMを再生ヘッド8bで再生して得られる
トラッキングエラー信号に対応してトラッキング制御す
ることにより、再生ヘッド8bを記録動作用トラック番
号記録領域TZbの中心線L2に沿って走査させること
ができる。このとき、記録ヘッド8aはデータトラック
DTの中心線L1に沿って走行する。このように、セク
タ番号又はトラック番号を記録する領域を予め形成し、
そこにセクタ番号又はトラック番号を記録するようにし
たので、再生ヘッド8bの位置決め状態にかかわらず、
セクタ番号又はトラック番号を確実に再生することがで
きる。
【0026】上述した磁気ディスク3は、光技術を利用
して製造することができ、その製造方法を図10及び図
11で説明する。先ず、ガラス原盤41の表面に例えば
フォトレジスト42をコーティングする。このフォトレ
ジスト42がコーティングされたガラス原盤41をター
ンテーブル43上に載置して回転させ、例えば凹部を形
成するフォトレジスト42の部分にのみレーザ光44を
照射してパターンカッティングする。レーザ光44を照
射した後、フォトレジスト42を現像してフォトレジス
ト42の露光部分を除去する。フォトレジスト42の露
光部分が除去されたガラス原盤41の表面にニッケル4
5をメッキする。そして、このニッケル45をガラス原
盤41から剥がしてスタンパ46とする。
して製造することができ、その製造方法を図10及び図
11で説明する。先ず、ガラス原盤41の表面に例えば
フォトレジスト42をコーティングする。このフォトレ
ジスト42がコーティングされたガラス原盤41をター
ンテーブル43上に載置して回転させ、例えば凹部を形
成するフォトレジスト42の部分にのみレーザ光44を
照射してパターンカッティングする。レーザ光44を照
射した後、フォトレジスト42を現像してフォトレジス
ト42の露光部分を除去する。フォトレジスト42の露
光部分が除去されたガラス原盤41の表面にニッケル4
5をメッキする。そして、このニッケル45をガラス原
盤41から剥がしてスタンパ46とする。
【0027】次に、スタンパ46を用いて基板31を成
形する。そして、基板31の表面に磁性膜32をスパッ
タリング等により成膜して磁気ディスク3とする。そし
て、この磁気ディスク3を以下の方法により着磁する。
磁気ディスク3を着磁装置48にセットし、図12の矢
印aで示す方向に回転走行させる。そして、図12
(A)に示すように、着磁用磁気ヘッド49に第1の直
流電流を印加しながら、着磁用磁気ヘッド49を磁気デ
ィスク3上の半径方向にトラックピッチで移動させ、磁
気ディスク3の凸部と凹部の磁性膜32を全て同一方向
に一旦磁化する。その後、図12(B)に示すように、
第1の直流電流とは逆極性で、電流値が第1の直流電流
に比べ小さい第2の直流電流を着磁用磁気ヘッド49に
印加しながら、着磁用磁気ヘッド49を磁気ディスク3
上の半径方向にトラックピッチで移動させ、磁気ディス
ク3の凸部の磁性膜32のみを逆向きに磁化し、位置決
め信号(ウォブルドマーク、クロックマーク等)の書き
込みを行う。このように、1つの着磁用磁気ヘッド49
によって位置決め信号を書き込むことができることか
ら、着磁用磁気ヘッド49の交換作業を省略することが
でき、磁気ディスク3の生産性の向上を図ることができ
る。
形する。そして、基板31の表面に磁性膜32をスパッ
タリング等により成膜して磁気ディスク3とする。そし
て、この磁気ディスク3を以下の方法により着磁する。
磁気ディスク3を着磁装置48にセットし、図12の矢
印aで示す方向に回転走行させる。そして、図12
(A)に示すように、着磁用磁気ヘッド49に第1の直
流電流を印加しながら、着磁用磁気ヘッド49を磁気デ
ィスク3上の半径方向にトラックピッチで移動させ、磁
気ディスク3の凸部と凹部の磁性膜32を全て同一方向
に一旦磁化する。その後、図12(B)に示すように、
第1の直流電流とは逆極性で、電流値が第1の直流電流
に比べ小さい第2の直流電流を着磁用磁気ヘッド49に
印加しながら、着磁用磁気ヘッド49を磁気ディスク3
上の半径方向にトラックピッチで移動させ、磁気ディス
ク3の凸部の磁性膜32のみを逆向きに磁化し、位置決
め信号(ウォブルドマーク、クロックマーク等)の書き
込みを行う。このように、1つの着磁用磁気ヘッド49
によって位置決め信号を書き込むことができることか
ら、着磁用磁気ヘッド49の交換作業を省略することが
でき、磁気ディスク3の生産性の向上を図ることができ
る。
【0028】以上説明したような構成の磁気ディスク3
を備えた磁気ディスク装置1において、ヘッドスライダ
6の浮上量を設計する場合には、ヘッドスライダ6を磁
気ディスク装置1に組み込む際の種々の機械精度による
ヘッドスライダ6の浮上量のばらつきを考慮する必要が
ある。例えば、ヘッドスライダ6の浮上量を50nmと
する場合、以下に示すような、各項目に対するヘッドス
ライダ6の浮上変動量の許容値が一般的に規定されてい
る。即ち、ヘッドスライダ6の加工精度のばらつきに対
しては±10%、ヘッドスライダ6の荷重のばらつきに
対しては±20%、Z−heightのばらつきに対し
ては±10%、基板31のうねりに対しては±10%、
基板31のそりに対しては±10%、シーク時は±10
%、気圧変動に対しては±10%、サーボゾーンに対し
ては±10%、マージンに対しては−5%、グライドハ
イトに対しては35nmである。
を備えた磁気ディスク装置1において、ヘッドスライダ
6の浮上量を設計する場合には、ヘッドスライダ6を磁
気ディスク装置1に組み込む際の種々の機械精度による
ヘッドスライダ6の浮上量のばらつきを考慮する必要が
ある。例えば、ヘッドスライダ6の浮上量を50nmと
する場合、以下に示すような、各項目に対するヘッドス
ライダ6の浮上変動量の許容値が一般的に規定されてい
る。即ち、ヘッドスライダ6の加工精度のばらつきに対
しては±10%、ヘッドスライダ6の荷重のばらつきに
対しては±20%、Z−heightのばらつきに対し
ては±10%、基板31のうねりに対しては±10%、
基板31のそりに対しては±10%、シーク時は±10
%、気圧変動に対しては±10%、サーボゾーンに対し
ては±10%、マージンに対しては−5%、グライドハ
イトに対しては35nmである。
【0029】ところで、上記各項目のうちヘッドスライ
ダ6の荷重は浮上変動量に対して敏感であるため、その
許容値は他のものに比べて大きく規定されている。とこ
ろが、近年、ヘッドスライダ6に荷重を与えるサスペン
ションの加工技術が向上したため、ヘッドスライダ6の
荷重のばらつきに対するヘッドスライダ6の浮上変動量
の許容値が±10%に修正されてきている。そして、こ
の修正により、サーボゾーンに対するヘッドスライダ6
の浮上変動量の許容値も±20%に修正可能である。従
って、ヘッドスライダ6の浮上量を50nmとする場合
には、サーボゾーンに対するヘッドスライダ6の浮上変
動量を20nm p−p、望ましくは10nm p−p
とすれば良いことになる。
ダ6の荷重は浮上変動量に対して敏感であるため、その
許容値は他のものに比べて大きく規定されている。とこ
ろが、近年、ヘッドスライダ6に荷重を与えるサスペン
ションの加工技術が向上したため、ヘッドスライダ6の
荷重のばらつきに対するヘッドスライダ6の浮上変動量
の許容値が±10%に修正されてきている。そして、こ
の修正により、サーボゾーンに対するヘッドスライダ6
の浮上変動量の許容値も±20%に修正可能である。従
って、ヘッドスライダ6の浮上量を50nmとする場合
には、サーボゾーンに対するヘッドスライダ6の浮上変
動量を20nm p−p、望ましくは10nm p−p
とすれば良いことになる。
【0030】ここで、上述した磁気ディスク3において
は、ヘッドスライダ6は磁気ディスク3の凸部と凹部と
で支えられている。例えば2本レールテーパフラットス
ライダのように、ヘッドスライダ6に加わる磁気ディス
ク3からの圧力が、ヘッドスライダ6の進行方向に対し
て鉛直方向では一定であると考えると、磁気ディスク3
の凸部と凹部とに加わるヘッドスライダ6からの圧力
は、磁気ディスク3の凸部の面積と凹部の面積の比率に
支配される。ここで、磁気ディスク3の凸部の面積と凹
部の面積の比率を、数3及び数4のように定義する。
尚、LR+GR=1である。
は、ヘッドスライダ6は磁気ディスク3の凸部と凹部と
で支えられている。例えば2本レールテーパフラットス
ライダのように、ヘッドスライダ6に加わる磁気ディス
ク3からの圧力が、ヘッドスライダ6の進行方向に対し
て鉛直方向では一定であると考えると、磁気ディスク3
の凸部と凹部とに加わるヘッドスライダ6からの圧力
は、磁気ディスク3の凸部の面積と凹部の面積の比率に
支配される。ここで、磁気ディスク3の凸部の面積と凹
部の面積の比率を、数3及び数4のように定義する。
尚、LR+GR=1である。
【数3】
【数4】
【0031】また、磁気ディスク3の凸部と凹部の段差
をdとすれば、ヘッドスライダ6と凸部及び凹部との間
に形成される空気膜のバネ定数は、数1より数5で表さ
れる。
をdとすれば、ヘッドスライダ6と凸部及び凹部との間
に形成される空気膜のバネ定数は、数1より数5で表さ
れる。
【数5】
【0032】また、磁気ディスク3とヘッドスライダ6
との間に形成される空気膜のバネ定数を求めるために、
図13に示すようなモデルを考える。ヘッドスライダ6
は、磁気ディスク3の凸部との間で形成される空気膜
と、磁気ディスク3の凹部との間で形成される空気膜と
によって支えられている。この2つのバネは、一体とな
って同時に伸縮するものとし、また、ヘッドスライダ6
に対する各バネの寄与率は、磁気ディスク3の凸部と凹
部の比率に依存するものとする。従って、従来の磁気デ
ィスクでは、GR=0、LR=1.0となる。
との間に形成される空気膜のバネ定数を求めるために、
図13に示すようなモデルを考える。ヘッドスライダ6
は、磁気ディスク3の凸部との間で形成される空気膜
と、磁気ディスク3の凹部との間で形成される空気膜と
によって支えられている。この2つのバネは、一体とな
って同時に伸縮するものとし、また、ヘッドスライダ6
に対する各バネの寄与率は、磁気ディスク3の凸部と凹
部の比率に依存するものとする。従って、従来の磁気デ
ィスクでは、GR=0、LR=1.0となる。
【0033】図13に示すモデルを用いて数6から2つ
のバネの合成バネ定数kCを数7のように求める。
のバネの合成バネ定数kCを数7のように求める。
【数6】
【数7】
【0034】磁気ディスク3上でのヘッドスライダ6の
浮上量と同一にした従来の磁気ディスクとヘッドスライ
ダ6の間に形成される空気膜のバネ定数はkLであるの
で、kLとkCの差を取って両者の大きさを比較した。
浮上量と同一にした従来の磁気ディスクとヘッドスライ
ダ6の間に形成される空気膜のバネ定数はkLであるの
で、kLとkCの差を取って両者の大きさを比較した。
【数8】
【0035】よって、数4及び数5より、数9であるこ
とが分かる。
とが分かる。
【数9】
【0036】数9において、GR=0となるのは、凹部
の比率が0のとき、即ち従来の磁気ディスクのときであ
る。また、kL−kG=0となるのは、凸部と凹部の段
差が0のとき、即ち従来の磁気ディスクのときである。
従って、従来の磁気ディスクとヘッドスライダ6との間
に形成される空気膜のバネ定数に比べて、磁気ディスク
3とヘッドスライダ6との間に形成される空気膜のバネ
定数を小さくすることができる。また、数7より、凹部
の比率を大きくした方が磁気ディスク3とヘッドスライ
ダ6との間に形成される空気膜のバネ定数を小さくする
ことができる。従って、凹部の比率を最も大きくするこ
とができる凸部の幅をトラック幅と等しくすれば、記録
密度を劣化させることなく、磁気ディスク3とヘッドス
ライダ6との間に形成される空気膜のバネ定数を最も小
さくすることができる。即ち、凹部は、ヘッドスライダ
6が凸部に近接して浮上するのに必要な動圧を、ヘッド
スライダ6に与えることになる。
の比率が0のとき、即ち従来の磁気ディスクのときであ
る。また、kL−kG=0となるのは、凸部と凹部の段
差が0のとき、即ち従来の磁気ディスクのときである。
従って、従来の磁気ディスクとヘッドスライダ6との間
に形成される空気膜のバネ定数に比べて、磁気ディスク
3とヘッドスライダ6との間に形成される空気膜のバネ
定数を小さくすることができる。また、数7より、凹部
の比率を大きくした方が磁気ディスク3とヘッドスライ
ダ6との間に形成される空気膜のバネ定数を小さくする
ことができる。従って、凹部の比率を最も大きくするこ
とができる凸部の幅をトラック幅と等しくすれば、記録
密度を劣化させることなく、磁気ディスク3とヘッドス
ライダ6との間に形成される空気膜のバネ定数を最も小
さくすることができる。即ち、凹部は、ヘッドスライダ
6が凸部に近接して浮上するのに必要な動圧を、ヘッド
スライダ6に与えることになる。
【0037】そこで、ヘッドスライダ6の浮上量につい
て、以下の測定用ディスクを作製して調べた。測定用の
ディスクは、ガラス製であって、凸部と凹部が規則正し
く同心円状に設けられている。このガラスディスクに対
する凸部と凹部のパターンは、実際の磁気ディスク3と
同様の方法で形成した。先ず、ガラスディスク表面にレ
ジストを塗布し、このレジスト上にカッティングデータ
を基に凸部と凹部のパターンを露光する。そして、この
露光後、例えばRIE(反応性イオンエッチング)によ
り現像して凸部と凹部のパターンを形成する。
て、以下の測定用ディスクを作製して調べた。測定用の
ディスクは、ガラス製であって、凸部と凹部が規則正し
く同心円状に設けられている。このガラスディスクに対
する凸部と凹部のパターンは、実際の磁気ディスク3と
同様の方法で形成した。先ず、ガラスディスク表面にレ
ジストを塗布し、このレジスト上にカッティングデータ
を基に凸部と凹部のパターンを露光する。そして、この
露光後、例えばRIE(反応性イオンエッチング)によ
り現像して凸部と凹部のパターンを形成する。
【0038】図14に示すように、凸部の幅は3.2μ
m、凹部の幅は1.6μmである。凸部と凹部の同心円
状のパターンは、ガラスディスクの半径15.5mm〜
20.5mmの間で形成されており、パターンの中央付
近には浮上量測定用のフラットな領域が幅0.4mmで
形成されている。また、ヘッドスライダ6は一般的な2
本レールのテーパフラットのナノスライダであり、スラ
イダ長は2.0mm、スライダ幅は1.6mm、レール
幅は200μm、荷重は3.5gfである。また、レー
ルとレールの間、即ちヘッドスライダ6の中心線上に、
幅50μmの測定用のレールを設けた。このレールは2
本のレールに比べて十分細いため、ヘッドスライダ6の
浮上には影響しない。先ず、ヘッドスライダ6が十分浮
上する回転数でガラスディスクを回転させ、その後、ガ
ラスディスクの回転数を徐々に下げてヘッドスライダ6
とガラスディスクが接触するまでの浮上量を浮上量測定
機により測定した。
m、凹部の幅は1.6μmである。凸部と凹部の同心円
状のパターンは、ガラスディスクの半径15.5mm〜
20.5mmの間で形成されており、パターンの中央付
近には浮上量測定用のフラットな領域が幅0.4mmで
形成されている。また、ヘッドスライダ6は一般的な2
本レールのテーパフラットのナノスライダであり、スラ
イダ長は2.0mm、スライダ幅は1.6mm、レール
幅は200μm、荷重は3.5gfである。また、レー
ルとレールの間、即ちヘッドスライダ6の中心線上に、
幅50μmの測定用のレールを設けた。このレールは2
本のレールに比べて十分細いため、ヘッドスライダ6の
浮上には影響しない。先ず、ヘッドスライダ6が十分浮
上する回転数でガラスディスクを回転させ、その後、ガ
ラスディスクの回転数を徐々に下げてヘッドスライダ6
とガラスディスクが接触するまでの浮上量を浮上量測定
機により測定した。
【0039】図15(A)は、平面上におけるヘッドス
ライダ6の浮上量と、ガラスディスクとヘッドスライダ
6の相対速度との関係を示す図、同図(B)は、凹凸部
上におけるヘッドスライダ6の浮上量と、ガラスディス
クとヘッドスライダ6の相対速度との関係を示す図であ
る。平面上におけるヘッドスライダ6の浮上量は、相対
速度が1.5m/s程度で乱れ、ヘッドスライダ6とガ
ラスディスクが接触している。その接触する寸前のヘッ
ドスライダ6の浮上量は21.7nmである。これに対
し、凹凸部上におけるヘッドスライダ6の浮上量は、相
対速度が12.1m/sにおいても乱れることはなく、
小さくなっている。このときのヘッドスライダ6の浮上
量は15.6nmである。
ライダ6の浮上量と、ガラスディスクとヘッドスライダ
6の相対速度との関係を示す図、同図(B)は、凹凸部
上におけるヘッドスライダ6の浮上量と、ガラスディス
クとヘッドスライダ6の相対速度との関係を示す図であ
る。平面上におけるヘッドスライダ6の浮上量は、相対
速度が1.5m/s程度で乱れ、ヘッドスライダ6とガ
ラスディスクが接触している。その接触する寸前のヘッ
ドスライダ6の浮上量は21.7nmである。これに対
し、凹凸部上におけるヘッドスライダ6の浮上量は、相
対速度が12.1m/sにおいても乱れることはなく、
小さくなっている。このときのヘッドスライダ6の浮上
量は15.6nmである。
【0040】以上より、同一のヘッドスライダ6を用い
ても、平面上におけるヘッドスライダ6の浮上量より
も、凹凸部上におけるヘッドスライダ6の浮上量の方が
より小さい値となり、かつ平面上におけるヘッドスライ
ダ6の浮上よりも、凹凸部上におけるヘッドスライダ6
の浮上の方がより安定した浮上を保つことができる。
尚、ヘッドスライダ6の形状や凹凸部の形状は、上述し
た実施形態に限定されるものではない。
ても、平面上におけるヘッドスライダ6の浮上量より
も、凹凸部上におけるヘッドスライダ6の浮上量の方が
より小さい値となり、かつ平面上におけるヘッドスライ
ダ6の浮上よりも、凹凸部上におけるヘッドスライダ6
の浮上の方がより安定した浮上を保つことができる。
尚、ヘッドスライダ6の形状や凹凸部の形状は、上述し
た実施形態に限定されるものではない。
【0041】
【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
磁気ディスク上における磁気ヘッドの浮上量が小さくて
も安定した浮上を維持できるので、磁気ヘッドによるデ
ータ等の記録再生を安定に行うことができると共に、記
録密度を高めることができる。
磁気ディスク上における磁気ヘッドの浮上量が小さくて
も安定した浮上を維持できるので、磁気ヘッドによるデ
ータ等の記録再生を安定に行うことができると共に、記
録密度を高めることができる。
【図1】この発明の磁気ディスク装置の実施形態である
ハードディスク装置の構成例を示す斜視図。
ハードディスク装置の構成例を示す斜視図。
【図2】図1に示すハードディスク装置のヘッドスライ
ダの動作例を示す斜視図。
ダの動作例を示す斜視図。
【図3】図1に示すハードディスク装置のヘッドスライ
ダの詳細例を示す斜視図。
ダの詳細例を示す斜視図。
【図4】図1に示すハードディスク装置のヘッドスライ
ダの動作例を示す側面図。
ダの動作例を示す側面図。
【図5】図1に示すハードディスク装置の制御部の構成
例を示すブロック図。
例を示すブロック図。
【図6】この発明の磁気ディスクの実施形態を示す平面
図。
図。
【図7】図6に示す磁気ディスクの半径方向の断面構造
図及び円周方向の断面構造図。
図及び円周方向の断面構造図。
【図8】図6に示す磁気ディスクのさらに詳細を示す断
面構造図。
面構造図。
【図9】図6に示す磁気ディスクの表面の詳細を示す平
面図。
面図。
【図10】図6に示す磁気ディスクの製造方法を説明す
るための第1の図。
るための第1の図。
【図11】図6に示す磁気ディスクの製造方法を説明す
るための第2の図。
るための第2の図。
【図12】図6に示す磁気ディスクの製造方法を説明す
るための第3の図。
るための第3の図。
【図13】磁気ディスクとヘッドスライダとの間に形成
される空気膜のバネ定数を求めるためのモデル図。
される空気膜のバネ定数を求めるためのモデル図。
【図14】ガラスディスクの凹凸部のパターンを示す平
面図。
面図。
【図15】平面上及び凹凸部上におけるヘッドスライダ
の浮上量と、ガラスディスクとヘッドスライダの相対速
度との関係を示す図。
の浮上量と、ガラスディスクとヘッドスライダの相対速
度との関係を示す図。
1・・・ハードディスク装置、2・・・筐体、3・・・
磁気ディスク、4・・・アーム、4a・・・垂直軸、5
・・・ボイスコイル、6・・・ヘッドスライダ、6a・
・・レール、6b・・・レール、6c・・・テーパ部、
6d・・・テーパ部、7・・・ボイスコイルモータ、7
a・・・マグネット、7b・・・マグネット、8・・・
磁気ヘッド、9・・・モータ、10・・・制御部、11
・・・クロック信号生成部、12・・・トラッキングサ
ーボ部、13・・・再生部、14・・・記録部、31・
・・基板、32・・・磁性膜、41・・・ガラス原盤、
42・・・フォトレジスト、43・・・ターンテーブ
ル、44・・・レーザ光、45・・・ニッケル、46・
・・スタンパ、47・・・着磁装置、48・・・着磁用
磁気ヘッド
磁気ディスク、4・・・アーム、4a・・・垂直軸、5
・・・ボイスコイル、6・・・ヘッドスライダ、6a・
・・レール、6b・・・レール、6c・・・テーパ部、
6d・・・テーパ部、7・・・ボイスコイルモータ、7
a・・・マグネット、7b・・・マグネット、8・・・
磁気ヘッド、9・・・モータ、10・・・制御部、11
・・・クロック信号生成部、12・・・トラッキングサ
ーボ部、13・・・再生部、14・・・記録部、31・
・・基板、32・・・磁性膜、41・・・ガラス原盤、
42・・・フォトレジスト、43・・・ターンテーブ
ル、44・・・レーザ光、45・・・ニッケル、46・
・・スタンパ、47・・・着磁装置、48・・・着磁用
磁気ヘッド
Claims (2)
- 【請求項1】 浮上型のヘッドスライダに搭載されてい
る磁気ヘッドによりデータ等が記録再生される磁気ディ
スクにおいて、 前記データ等が記録される凸部と、 前記ヘッドスライダが前記凸部に近接して浮上するのに
必要な動圧を、前記ヘッドスライダに与える凹部とを備
えたことを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項2】 データ等が記録再生される磁気ディスク
と、 前記磁気ディスクの表面上で浮上して前記磁気ディスク
の半径方向へ移動するヘッドスライダと、 前記ヘッドスライダに搭載され、前記磁気ディスクに対
して前記データ等を記録再生する磁気ヘッドとを備えた
磁気ディスク装置において、 前記磁気ディスクの表面に、前記データ等が記録される
凸部と、前記ヘッドスライダが前記凸部に近接して浮上
するのに必要な動圧を、前記ヘッドスライダに与える凹
部とを設けたことを特徴とする磁気ディスク装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2985396A JPH09204653A (ja) | 1996-01-24 | 1996-01-24 | 磁気ディスク及び磁気ディスク装置 |
| US08/786,912 US5828536A (en) | 1996-01-24 | 1997-01-22 | Magnetic disk and magnetic disk device in which control data section of disk has structural relationship to slider and/or data section |
| KR1019970002022A KR100423215B1 (ko) | 1996-01-24 | 1997-01-24 | 자기디스크및자기디스크장치 |
| CN97110924A CN1169005A (zh) | 1996-01-24 | 1997-01-24 | 磁盘和磁盘装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2985396A JPH09204653A (ja) | 1996-01-24 | 1996-01-24 | 磁気ディスク及び磁気ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09204653A true JPH09204653A (ja) | 1997-08-05 |
Family
ID=12287532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2985396A Pending JPH09204653A (ja) | 1996-01-24 | 1996-01-24 | 磁気ディスク及び磁気ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09204653A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008307630A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Ebara Corp | 研磨装置の研磨面加熱、冷却装置 |
-
1996
- 1996-01-24 JP JP2985396A patent/JPH09204653A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008307630A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Ebara Corp | 研磨装置の研磨面加熱、冷却装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040227 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040309 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040629 |