JPH0920772A - 環状アセタール類及びその製造方法 - Google Patents
環状アセタール類及びその製造方法Info
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- JPH0920772A JPH0920772A JP19245595A JP19245595A JPH0920772A JP H0920772 A JPH0920772 A JP H0920772A JP 19245595 A JP19245595 A JP 19245595A JP 19245595 A JP19245595 A JP 19245595A JP H0920772 A JPH0920772 A JP H0920772A
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- Japan
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- carbon atoms
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- branched alkyl
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ジグリセリンとカルボニル化合物またはその反
応性誘導体であるケタールあるいはアセタールを酸触媒
下に反応させることを特徴とする環状アセタール類の製
造方法、並びに該製造方法により得られる環状アセター
ル類。 【効果】本発明により合成潤滑油として有用な新規環状
アセタール類が安価な原料から簡便な方法により高収
率、高純度で得られる。このものは、室温付近で液状で
あり適度の粘度を有し、極性を有する合成潤滑油として
の利用ができる。また、かかる合成潤滑油とハイドロフ
ルオロカーボンを配合することができ、相溶性の良好な
電気絶縁性、その他の性能に優れた安価な冷凍機作動流
体組成物を提供することができる。
応性誘導体であるケタールあるいはアセタールを酸触媒
下に反応させることを特徴とする環状アセタール類の製
造方法、並びに該製造方法により得られる環状アセター
ル類。 【効果】本発明により合成潤滑油として有用な新規環状
アセタール類が安価な原料から簡便な方法により高収
率、高純度で得られる。このものは、室温付近で液状で
あり適度の粘度を有し、極性を有する合成潤滑油として
の利用ができる。また、かかる合成潤滑油とハイドロフ
ルオロカーボンを配合することができ、相溶性の良好な
電気絶縁性、その他の性能に優れた安価な冷凍機作動流
体組成物を提供することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、極性油、有機溶
剤、潤滑剤、合成潤滑油、冷凍機油等として、又界面活
性剤、有機溶剤、極性油、合成潤滑油、冷凍機油等の製
造中間体として有用な環状アセタール類及びその製造方
法に関する。
剤、潤滑剤、合成潤滑油、冷凍機油等として、又界面活
性剤、有機溶剤、極性油、合成潤滑油、冷凍機油等の製
造中間体として有用な環状アセタール類及びその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、環状アセタール類は主にケトンとしてアセトンを用
いて、糖やポリオールの合成分野で保護基、ポリマー原
料、構造解析のための誘導体、医薬品や化粧品の合成中
間体などとして用いる場合が多かった。また、最近では
ホルムアルデヒドとエチレングリコールより合成される
１，３−ジオキソランが有機溶剤として上市されてい
る。
来、環状アセタール類は主にケトンとしてアセトンを用
いて、糖やポリオールの合成分野で保護基、ポリマー原
料、構造解析のための誘導体、医薬品や化粧品の合成中
間体などとして用いる場合が多かった。また、最近では
ホルムアルデヒドとエチレングリコールより合成される
１，３−ジオキソランが有機溶剤として上市されてい
る。
【０００３】一方、ジグリセリンとホルムアルデヒドよ
り、ジグリセリンジホルマールが合成れさており、この
ものはポリマーの原料として用いられている（特公昭５
１−２４５５９、特公昭５３−３７２７２号公報）。ま
た、２−メチル−２−エチル−４−（グリシジルオキシ
メチル）−１，３−ジオキソランとメチルエチルケト
ン、メチルブチルケトン、又はブタナールから塩化第二
スズを触媒にして３種のジグリセリンジケタールが合成
されている（ソ連特許第２２１６８１号明細書）。
り、ジグリセリンジホルマールが合成れさており、この
ものはポリマーの原料として用いられている（特公昭５
１−２４５５９、特公昭５３−３７２７２号公報）。ま
た、２−メチル−２−エチル−４−（グリシジルオキシ
メチル）−１，３−ジオキソランとメチルエチルケト
ン、メチルブチルケトン、又はブタナールから塩化第二
スズを触媒にして３種のジグリセリンジケタールが合成
されている（ソ連特許第２２１６８１号明細書）。
【０００４】さらに化粧品や界面活性剤の原料として広
く用いられているジグリセリンのなかで、特に直鎖状高
純度ジグリセリンを製造する際の製造中間体として、ア
セタール基を含有するグリシジルエーテル（グリセリン
のアセタール化合物とエピハロヒドリンとを反応させて
得られる）にルイス酸触媒下にカルボニル化合物（メチ
ルイソブチルケトンやアセトン）を反応させて、ジグリ
セリンのアセタール化物などが得られている。しかしな
がら、このものは単離精製されないで、そのまま本来の
目的物である直鎖状ジグリセリンに導かれている（特開
平２−１６９５３４号公報）。
く用いられているジグリセリンのなかで、特に直鎖状高
純度ジグリセリンを製造する際の製造中間体として、ア
セタール基を含有するグリシジルエーテル（グリセリン
のアセタール化合物とエピハロヒドリンとを反応させて
得られる）にルイス酸触媒下にカルボニル化合物（メチ
ルイソブチルケトンやアセトン）を反応させて、ジグリ
セリンのアセタール化物などが得られている。しかしな
がら、このものは単離精製されないで、そのまま本来の
目的物である直鎖状ジグリセリンに導かれている（特開
平２−１６９５３４号公報）。
【０００５】このようにジグリセリンを保護したり、構
造解析を行うことを目的にしたり、医薬品や化粧品の合
成中間体、ポリマー原料として環状アセタール類が合成
されているが、極性油、潤滑油あるいは冷凍機油として
の用途は知られていなかった。このような用途では、製
造後に残存するハロゲン化合物は好ましくない。また、
エポキシ化合物を経由する反応では、どうしてもポリマ
ー成分が生成するため、特にキャピラリーチューブなど
を液が通る構造の冷凍機用の冷凍機油としては好ましく
ない。
造解析を行うことを目的にしたり、医薬品や化粧品の合
成中間体、ポリマー原料として環状アセタール類が合成
されているが、極性油、潤滑油あるいは冷凍機油として
の用途は知られていなかった。このような用途では、製
造後に残存するハロゲン化合物は好ましくない。また、
エポキシ化合物を経由する反応では、どうしてもポリマ
ー成分が生成するため、特にキャピラリーチューブなど
を液が通る構造の冷凍機用の冷凍機油としては好ましく
ない。
【０００６】一方、エチレングリコールのように価数の
低いアルコールを用いた環状アセタール類は粘度が低く
なり、合成潤滑油や冷凍機油のような用途には適してい
なかった。
低いアルコールを用いた環状アセタール類は粘度が低く
なり、合成潤滑油や冷凍機油のような用途には適してい
なかった。
【０００７】したがって、本発明の目的は、特に合成潤
滑油や冷凍機油のような用途に適する、新規な環状アセ
タール類を提供することにある。また、本発明の他の目
的は簡単な方法により高収率で当該環状アセタール類を
得るための製造方法を提供することにある。
滑油や冷凍機油のような用途に適する、新規な環状アセ
タール類を提供することにある。また、本発明の他の目
的は簡単な方法により高収率で当該環状アセタール類を
得るための製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、 （１） 次の一般式（Ｉ）
【０００９】
【化５】
【００１０】（式中、Ｒ1 は水素原子を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。あるいはＲ1 はメチル基を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。またはＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしく
は分岐のアルキル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２
〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。）で表
される環状アセタール類。 （２） 一般式（Ｉ）において、Ｒ1 が水素原子でＲ2
が炭素数３〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基、あ
るいはＲ1 がメチル基でＲ2 が炭素数３〜１２の直鎖も
しくは分岐のアルキル基、またはＲ1 が炭素数２〜１２
の直鎖もしくは分岐のアルキル基でＲ2 が炭素数２〜１
２の直鎖もしくは分岐のアルキル基である上記（１）記
載の環状アセタール類、 （３） 一般式（Ｉ）において、Ｒ1 が水素原子でＲ2
が炭素数３〜１２の分岐のアルキル基、あるいはＲ1 が
メチル基でＲ2 が炭素数５〜１２の直鎖もしくは分岐の
アルキル基、またはＲ1 が炭素数２〜１２の直鎖もしく
は分岐のアルキル基でＲ2 が炭素数２〜１２の直鎖もし
くは分岐のアルキル基である上記（１）記載の環状アセ
タール類、並びに （４） 下記の式（II)
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。あるいはＲ1 はメチル基を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。またはＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしく
は分岐のアルキル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２
〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。）で表
される環状アセタール類。 （２） 一般式（Ｉ）において、Ｒ1 が水素原子でＲ2
が炭素数３〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基、あ
るいはＲ1 がメチル基でＲ2 が炭素数３〜１２の直鎖も
しくは分岐のアルキル基、またはＲ1 が炭素数２〜１２
の直鎖もしくは分岐のアルキル基でＲ2 が炭素数２〜１
２の直鎖もしくは分岐のアルキル基である上記（１）記
載の環状アセタール類、 （３） 一般式（Ｉ）において、Ｒ1 が水素原子でＲ2
が炭素数３〜１２の分岐のアルキル基、あるいはＲ1 が
メチル基でＲ2 が炭素数５〜１２の直鎖もしくは分岐の
アルキル基、またはＲ1 が炭素数２〜１２の直鎖もしく
は分岐のアルキル基でＲ2 が炭素数２〜１２の直鎖もし
くは分岐のアルキル基である上記（１）記載の環状アセ
タール類、並びに （４） 下記の式（II)
【００１１】
【化６】
【００１２】で示されるジグリセリンと一般式(III）
【００１３】
【化７】
【００１４】（式中、Ｒ1 は水素原子を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。あるいはＲ1 はメチル基を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。またはＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしく
は分岐のアルキル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２
〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。）で表
されるカルボニル化合物またはその反応性誘導体である
ケタールあるいはアセタールを酸触媒下に反応させるこ
とを特徴とする一般式（Ｉ）で表される環状アセタール
類の製造方法、
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。あるいはＲ1 はメチル基を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。またはＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしく
は分岐のアルキル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２
〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。）で表
されるカルボニル化合物またはその反応性誘導体である
ケタールあるいはアセタールを酸触媒下に反応させるこ
とを特徴とする一般式（Ｉ）で表される環状アセタール
類の製造方法、
【００１５】
【化８】
【００１６】（式中、Ｒ1 とＲ2 は上記と同意義を表
す。）に関する。
す。）に関する。
【００１７】
【発明の実施の形態】一般式（Ｉ）においてＲ1 が水素
原子の場合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐
のアルキル基であり、好ましくは炭素数３〜１２の直鎖
もしくは分岐の飽和アルキル基であり、より好ましくは
炭素数３〜１２の分岐の飽和アルキル基である。
原子の場合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐
のアルキル基であり、好ましくは炭素数３〜１２の直鎖
もしくは分岐の飽和アルキル基であり、より好ましくは
炭素数３〜１２の分岐の飽和アルキル基である。
【００１８】また、一般式（Ｉ）においてＲ1 がメチル
基である場合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分
岐のアルキル基であり、好ましくは炭素数３〜１２の直
鎖もしくは分岐の飽和アルキル基である。より好ましく
は炭素数５〜１２の直鎖もしくは分岐の飽和アルキル基
である。
基である場合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分
岐のアルキル基であり、好ましくは炭素数３〜１２の直
鎖もしくは分岐の飽和アルキル基である。より好ましく
は炭素数５〜１２の直鎖もしくは分岐の飽和アルキル基
である。
【００１９】さらに、一般式（Ｉ）においてＲ1 が炭素
数２〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基である場
合、Ｒ2 は炭素数２〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基となる。好ましくはＲ1 が炭素数２〜１２の直鎖も
しくは分岐の飽和アルキル基である場合であり、その場
合、Ｒ2 が炭素数２〜１２の直鎖もしくは分岐の飽和ア
ルキル基であることが好ましい。
数２〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基である場
合、Ｒ2 は炭素数２〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基となる。好ましくはＲ1 が炭素数２〜１２の直鎖も
しくは分岐の飽和アルキル基である場合であり、その場
合、Ｒ2 が炭素数２〜１２の直鎖もしくは分岐の飽和ア
ルキル基であることが好ましい。
【００２０】Ｒ1 およびＲ2 である炭素数２〜２１の直
鎖もしくは分岐のアルキル基としては具体的には以下の
ものが挙げられる。
鎖もしくは分岐のアルキル基としては具体的には以下の
ものが挙げられる。
【００２１】すなわち、直鎖のアルキル基としては、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、ウンデシル
基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、
ノナデシル基、ヘンエイコシル基等が挙げられる。
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、ウンデシル
基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、
ノナデシル基、ヘンエイコシル基等が挙げられる。
【００２２】α−メチル分岐のアルキル基としては、１
−メチルエチル基、１−メチルプロピル基、１−メチル
ブチル基、１−メチルペンチル基、１−メチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、１−メチルオクチル基、１
−メチルノニル基、１−メチルデシル基、１−メチルウ
ンデシル基、１−メチルオクタデシル基等が挙げられ
る。
−メチルエチル基、１−メチルプロピル基、１−メチル
ブチル基、１−メチルペンチル基、１−メチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、１−メチルオクチル基、１
−メチルノニル基、１−メチルデシル基、１−メチルウ
ンデシル基、１−メチルオクタデシル基等が挙げられ
る。
【００２３】その他のα−分岐のアルキル基としては１
−エチルプロピル基、１−エチルブチル基、１−エチル
ペンチル基、１−プロピルブチル基、１−エチルヘキシ
ル基、１−プロピルペンチル基、１−エチルヘプチル
基、１−プロピルヘキシル基、１−ブチルペンチル基、
１−ペンチルヘキシル基、１−ヘキシルヘプチル基、１
−オクチルノニル基、１−ヘキシルウンデシル基、１−
デシルウンデシル基等が挙げられる。
−エチルプロピル基、１−エチルブチル基、１−エチル
ペンチル基、１−プロピルブチル基、１−エチルヘキシ
ル基、１−プロピルペンチル基、１−エチルヘプチル
基、１−プロピルヘキシル基、１−ブチルペンチル基、
１−ペンチルヘキシル基、１−ヘキシルヘプチル基、１
−オクチルノニル基、１−ヘキシルウンデシル基、１−
デシルウンデシル基等が挙げられる。
【００２４】α−位に加えてさらに１個以上の分岐が存
在するような多分岐のアルキル基としては、１，２−ジ
メチルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３
−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル
基、ジイソプロピルメチル基、１，４−ジメチルペンチ
ル基、１−イソプロピルブチル基、１，３，３−トリメ
チルブチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１−エチ
ル−２−メチルペンチル基、１−ブチル−２−メチルプ
ロピル基、１−エチル−３−メチルペンチル基、ジイソ
ブチルメチル基、１，５，９−トリメチルデシル基、１
−（１，３，３−トリメチルブチル）−４，６，６−ト
リメチルヘプチル基等が挙げられる。
在するような多分岐のアルキル基としては、１，２−ジ
メチルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３
−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル
基、ジイソプロピルメチル基、１，４−ジメチルペンチ
ル基、１−イソプロピルブチル基、１，３，３−トリメ
チルブチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１−エチ
ル−２−メチルペンチル基、１−ブチル−２−メチルプ
ロピル基、１−エチル−３−メチルペンチル基、ジイソ
ブチルメチル基、１，５，９−トリメチルデシル基、１
−（１，３，３−トリメチルブチル）−４，６，６−ト
リメチルヘプチル基等が挙げられる。
【００２５】β−分岐のアルキル基としては、２−メチ
ルプロピル基、２−メチルブチル基、２−メチルペンチ
ル基、２−エチルブチル基、２−メチルヘキシル基、２
−エチルペンチル基、２−メチルヘプチル基、２−エチ
ルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、２−ヘキシル
デシル基、２−ヘプチルウンデシル基等が挙げられる。
ルプロピル基、２−メチルブチル基、２−メチルペンチ
ル基、２−エチルブチル基、２−メチルヘキシル基、２
−エチルペンチル基、２−メチルヘプチル基、２−エチ
ルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、２−ヘキシル
デシル基、２−ヘプチルウンデシル基等が挙げられる。
【００２６】β−位に加えてさらに１個以上の分岐が存
在するような多分岐のアルキル基としては、２，３−ジ
メチルブチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、
２−イソプロピル−５−メチルヘキシル基、２，４，
６，８−テトラメチルノニル基、２−（１，３，３−ト
リメチルブチル）−５，７，７−トリメチルオクチル基
等が挙げられる。
在するような多分岐のアルキル基としては、２，３−ジ
メチルブチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、
２−イソプロピル−５−メチルヘキシル基、２，４，
６，８−テトラメチルノニル基、２−（１，３，３−ト
リメチルブチル）−５，７，７−トリメチルオクチル基
等が挙げられる。
【００２７】α−位、β−位以外に１個以上の分岐が存
在するようなその他の分岐のアルキル基としては、３−
メチルブチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペ
ンチル基、３，３−ジメチルブチル基、３−メチルヘキ
シル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル
基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、イソデシル
基、３，７−ジメチルオクチル基、イソヘプタデシル基
等が挙げられる。α−位で環状をなすアルキル基として
は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。１個以上の炭素原子を介する環状のアルキル基とし
ては、シクロヘキシルメチル基、３−（２，２，５−ト
リメチルシクロヘキシル）プロピル基等が挙げられる。
在するようなその他の分岐のアルキル基としては、３−
メチルブチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペ
ンチル基、３，３−ジメチルブチル基、３−メチルヘキ
シル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル
基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、イソデシル
基、３，７−ジメチルオクチル基、イソヘプタデシル基
等が挙げられる。α−位で環状をなすアルキル基として
は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。１個以上の炭素原子を介する環状のアルキル基とし
ては、シクロヘキシルメチル基、３−（２，２，５−ト
リメチルシクロヘキシル）プロピル基等が挙げられる。
【００２８】α−位炭素原子に水素原子が存在せず、α
−位炭素原子が３級炭素であるアルキル基としては、
１，１−ジメチルエチル基、１−メチルシクロプロピル
基、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルシクロブ
チル基、１，１−ジメチルブチル基、１，１，２−トリ
メチルプロピル基、１−メチルシクロペンチル基、１，
１−ジメチルペンチル基、１−メチル−１−エチルブチ
ル基、１，１−ジエチルプロピル基、１，１−ジエチル
ブチル基等が挙げられる。
−位炭素原子が３級炭素であるアルキル基としては、
１，１−ジメチルエチル基、１−メチルシクロプロピル
基、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルシクロブ
チル基、１，１−ジメチルブチル基、１，１，２−トリ
メチルプロピル基、１−メチルシクロペンチル基、１，
１−ジメチルペンチル基、１−メチル−１−エチルブチ
ル基、１，１−ジエチルプロピル基、１，１−ジエチル
ブチル基等が挙げられる。
【００２９】β−位炭素原子に水素原子が存在せず、β
−位炭素原子が３級炭素であるアルキル基としては、
２，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルブチル
基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−
２，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルペンチ
ル基、２，３−ジメチル−２−イソプロピルブチル基等
が挙げられる。
−位炭素原子が３級炭素であるアルキル基としては、
２，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルブチル
基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−
２，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルペンチ
ル基、２，３−ジメチル−２−イソプロピルブチル基等
が挙げられる。
【００３０】α−位、β−位炭素原子に共に水素原子が
存在せず、α−位、β−位炭素原子が共に３級炭素であ
るアルキル基としては、１，１，２，２−テトラメチル
プロピル基、１，１，２，２−テトラメチルブチル基、
１，１，２，２−テトラメチルヘキシル基等が挙げられ
る。
存在せず、α−位、β−位炭素原子が共に３級炭素であ
るアルキル基としては、１，１，２，２−テトラメチル
プロピル基、１，１，２，２−テトラメチルブチル基、
１，１，２，２−テトラメチルヘキシル基等が挙げられ
る。
【００３１】以上のような一般式（Ｉ）で示される環状
アセタール類としては、次のような具体例を例示するこ
とができるが、これらに限定されるものではない。 （１）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−メチル−２−（２−メチルプロピル）−１，３−ジオ
キソラン〕 （２）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス
〔２，２−ジ（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキ
ソラン〕 （３）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−（２，４，４−トリメチルペンチル）−１，３−ジオ
キソラン〕 （４）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス
〔２，２−ジペンチル−１，３−ジオキソラン〕 （５）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−（１−メチルエチル）−１，３−ジオキソラン〕 （６）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−ペンチル−１，３−ジオキソラン〕 （７）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−イソペンタデシル−１，３−ジオキソラン〕 （８）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−（１−エチルヘキシル）−１，３−ジオキソラン〕 （９）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス
〔２，２−ジヘプタデシル−１，３−ジオキソラン〕
アセタール類としては、次のような具体例を例示するこ
とができるが、これらに限定されるものではない。 （１）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−メチル−２−（２−メチルプロピル）−１，３−ジオ
キソラン〕 （２）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス
〔２，２−ジ（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキ
ソラン〕 （３）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−（２，４，４−トリメチルペンチル）−１，３−ジオ
キソラン〕 （４）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス
〔２，２−ジペンチル−１，３−ジオキソラン〕 （５）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−（１−メチルエチル）−１，３−ジオキソラン〕 （６）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−ペンチル−１，３−ジオキソラン〕 （７）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−イソペンタデシル−１，３−ジオキソラン〕 （８）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２
−（１−エチルヘキシル）−１，３−ジオキソラン〕 （９）４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス
〔２，２−ジヘプタデシル−１，３−ジオキソラン〕
【００３２】以上の環状アセタール類は、本発明の製造
方法により、好適に製造することができるが、それに限
定されるものではない。
方法により、好適に製造することができるが、それに限
定されるものではない。
【００３３】また、本発明の環状アセタール類は、極性
油、有機溶剤、潤滑剤、合成潤滑油、冷凍機油等とし
て、又界面活性剤、有機溶剤、極性油、合成潤滑油、冷
凍機油等の製造中間体として有用である。
油、有機溶剤、潤滑剤、合成潤滑油、冷凍機油等とし
て、又界面活性剤、有機溶剤、極性油、合成潤滑油、冷
凍機油等の製造中間体として有用である。
【００３４】次に、本発明の環状アセタール類の製造方
法について説明する。本発明の製造方法は、ジグリセリ
ンとカルボニル化合物（ケトン又はアルデヒド）または
その反応性誘導体であるケタールあるいはアセタールを
酸触媒下に反応させることを特徴とするものである。当
該反応の反応式を示すと次のようになる。
法について説明する。本発明の製造方法は、ジグリセリ
ンとカルボニル化合物（ケトン又はアルデヒド）または
その反応性誘導体であるケタールあるいはアセタールを
酸触媒下に反応させることを特徴とするものである。当
該反応の反応式を示すと次のようになる。
【００３５】
【化９】
【００３６】（式中、Ｒ1 は水素原子を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。あるいはＲ1 はメチル基を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。またはＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしく
は分岐のアルキル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２
〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。また、
Ｒ3 は炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐のアルキル基を
示す。）
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。あるいはＲ1 はメチル基を示し、その場
合、Ｒ2 は炭素数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基を示す。またはＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしく
は分岐のアルキル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２
〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。また、
Ｒ3 は炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐のアルキル基を
示す。）
【００３７】すなわち、式（II) で表されるジグリセリ
ンと一般式(III）で表されるケトンやカルボニル化合
物、あるいはその反応性誘導体から酸触媒を用いて脱水
反応、或いは脱アルコール反応をすることによって、一
般式（Ｉ）の環状アセタール類が得られる。
ンと一般式(III）で表されるケトンやカルボニル化合
物、あるいはその反応性誘導体から酸触媒を用いて脱水
反応、或いは脱アルコール反応をすることによって、一
般式（Ｉ）の環状アセタール類が得られる。
【００３８】本発明の方法に用いられるカルボニル化合
物にはケトン及びアルデヒドがあるが、このうちケトン
は、脂肪酸の高温脱炭酸二量化反応やオレフィンの触媒
酸化反応（ワッカー法）や第２級アルコールの酸化、脱
水素やシクロアルカンの酸化等によって容易に得られ
る。ワッカー法の場合、得られるケトンは分布を持つが
精密蒸留により単品に分離精製することができる。ケト
ンの具体例を挙げると以下のようになるが必ずしもこれ
らに限定されるものではない。
物にはケトン及びアルデヒドがあるが、このうちケトン
は、脂肪酸の高温脱炭酸二量化反応やオレフィンの触媒
酸化反応（ワッカー法）や第２級アルコールの酸化、脱
水素やシクロアルカンの酸化等によって容易に得られ
る。ワッカー法の場合、得られるケトンは分布を持つが
精密蒸留により単品に分離精製することができる。ケト
ンの具体例を挙げると以下のようになるが必ずしもこれ
らに限定されるものではない。
【００３９】例えば、メチルアルキルケトンとして、メ
チルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルアミ
ルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルヘプチルケト
ン、メチルオクチルケトン、メチルノニルケトン、メチ
ルウンデシルケトン、メチルヘプタデシルケトン等が挙
げられる。
チルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルアミ
ルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルヘプチルケト
ン、メチルオクチルケトン、メチルノニルケトン、メチ
ルウンデシルケトン、メチルヘプタデシルケトン等が挙
げられる。
【００４０】ジアルキルケトンとして、ジエチルケト
ン、エチルプロピルケトン、エチルブチルケトン、ジプ
ロピルケトン、エチルペンチルケトン、エチルヘキシル
ケトン、ジブチルケトン、ジペンチルケトン、ジヘキシ
ルケトン、ジウンデシルケトン、ジヘプタデシルケトン
等が挙げられる。
ン、エチルプロピルケトン、エチルブチルケトン、ジプ
ロピルケトン、エチルペンチルケトン、エチルヘキシル
ケトン、ジブチルケトン、ジペンチルケトン、ジヘキシ
ルケトン、ジウンデシルケトン、ジヘプタデシルケトン
等が挙げられる。
【００４１】多分岐ケトンとして、メチルイソプロピル
ケトン、メチル−ｓｅｃ−ブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、エチルイソプロピルケトン、メチル−ｔｅ
ｒｔ−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイ
ソアミルケトン、イソプロピルプロピルケトン、メチル
ネオペンチルケトン、エチル−ｔｅｒｔ−ブチルケト
ン、６−メチル−２−ヘプタノン、４−メチル−３−ヘ
プタノン、２−メチル−３−ヘプタノン、５−メチル−
３−ヘプタノン、メチルシクロヘキシルケトン、５−
（２，２，５−トリメチルシクロヘキシル）−２−ペン
タノン、６，１０，１４−トリメチル−２−ペンタデカ
ノン、ジイソブチルケトン、６，10−ジメチル−２−ウ
ンデカノン等が挙げられる。
ケトン、メチル−ｓｅｃ−ブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、エチルイソプロピルケトン、メチル−ｔｅ
ｒｔ−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイ
ソアミルケトン、イソプロピルプロピルケトン、メチル
ネオペンチルケトン、エチル−ｔｅｒｔ−ブチルケト
ン、６−メチル−２−ヘプタノン、４−メチル−３−ヘ
プタノン、２−メチル−３−ヘプタノン、５−メチル−
３−ヘプタノン、メチルシクロヘキシルケトン、５−
（２，２，５−トリメチルシクロヘキシル）−２−ペン
タノン、６，１０，１４−トリメチル−２−ペンタデカ
ノン、ジイソブチルケトン、６，10−ジメチル−２−ウ
ンデカノン等が挙げられる。
【００４２】また、用いられるアルデヒドは、例えば脂
肪アルコールの脱水素反応、オレフィンのヒドロホルミ
ル化反応（オキソ法）、脂肪酸クロライドのローゼムン
ト還元や脂肪酸よりの直接水添等によって容易に得られ
る。オキソ法の場合、直鎖体と分岐体が生成するが精密
蒸留により単品に分離精製することができる。当該アル
キルアルデヒドの具体例を挙げると以下のようになる
が、必ずしもこれらに限定されるものではない。
肪アルコールの脱水素反応、オレフィンのヒドロホルミ
ル化反応（オキソ法）、脂肪酸クロライドのローゼムン
ト還元や脂肪酸よりの直接水添等によって容易に得られ
る。オキソ法の場合、直鎖体と分岐体が生成するが精密
蒸留により単品に分離精製することができる。当該アル
キルアルデヒドの具体例を挙げると以下のようになる
が、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００４３】例えば、直鎖アルキルアルデヒドとして、
ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、カプロアルデヒ
ド、ヘプタナール、オクタナール、デシルアルデヒド、
ドデカナール、テトラデカナール、オクタデカナール、
ベヘニンアルデヒド等が挙げられる。
ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、カプロアルデヒ
ド、ヘプタナール、オクタナール、デシルアルデヒド、
ドデカナール、テトラデカナール、オクタデカナール、
ベヘニンアルデヒド等が挙げられる。
【００４４】α−分岐アルキルアルデヒドとして、イソ
ブチルアルデヒド、２−メチルブチルアルデヒド、２−
メチルペンタナール、２−エチルブタナール、２−メチ
ルヘキサナール、２−エチルペンタナール、２−メチル
ヘプタナール、２−エチルヘキサナール、２−プロピル
ペンタナール、２−メチルオクタデカナール等が挙げら
れる。
ブチルアルデヒド、２−メチルブチルアルデヒド、２−
メチルペンタナール、２−エチルブタナール、２−メチ
ルヘキサナール、２−エチルペンタナール、２−メチル
ヘプタナール、２−エチルヘキサナール、２−プロピル
ペンタナール、２−メチルオクタデカナール等が挙げら
れる。
【００４５】α−位に加えてさらに１個以上の分岐が存
在するような多分岐のアルキル基としては２，３−ジメ
チルブタナール、２，４，４−トリメチルペンタナー
ル、２−イソプロピル−５−メチルヘキサナール等が挙
げられる。
在するような多分岐のアルキル基としては２，３−ジメ
チルブタナール、２，４，４−トリメチルペンタナー
ル、２−イソプロピル−５−メチルヘキサナール等が挙
げられる。
【００４６】α−分岐以外に１個以上の分岐が存在する
ような、その他の分岐アルキルアルデヒドとしては、イ
ソバレルアルデヒド、３−メチルペンタナール、４−メ
チルペンタナール、３，３−ジメチルブタナール、３−
メチルヘキサナール、４−メチルヘキサナール、５−メ
チルヘキサナール、３，５，５−トリメチルヘキサナー
ル、イソデシルアルデヒド、３，７−ジメチルオクタナ
ール、イソオクタデカナール等が挙げられる。
ような、その他の分岐アルキルアルデヒドとしては、イ
ソバレルアルデヒド、３−メチルペンタナール、４−メ
チルペンタナール、３，３−ジメチルブタナール、３−
メチルヘキサナール、４−メチルヘキサナール、５−メ
チルヘキサナール、３，５，５−トリメチルヘキサナー
ル、イソデシルアルデヒド、３，７−ジメチルオクタナ
ール、イソオクタデカナール等が挙げられる。
【００４７】また、本発明に用いられるカルボニル化合
物の反応性誘導体としては、上記に述べたケトン、アル
デヒドと炭素数１〜６の低級アルコールから酸触媒によ
って容易に合成される一般式(III')で示されるケタール
と、アセタールがある。Ｒ3残基を与える、炭素数１〜
６の低級アルコールの具体例としては、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−
ブタノール、アミルアルコール、イソアミルアルコー
ル、ネオペンチルアルコール、１−メチルブタノール、
１，１−ジメチルプロパノール、１−エチルプロパノー
ル、ヘキサノール、イソヘキサノール、２−エチルブタ
ノール、１−メチルアミルアルコール、１，３−ジメチ
ルブタノール、１−エチルブタノール等が挙げられる。
物の反応性誘導体としては、上記に述べたケトン、アル
デヒドと炭素数１〜６の低級アルコールから酸触媒によ
って容易に合成される一般式(III')で示されるケタール
と、アセタールがある。Ｒ3残基を与える、炭素数１〜
６の低級アルコールの具体例としては、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−
ブタノール、アミルアルコール、イソアミルアルコー
ル、ネオペンチルアルコール、１−メチルブタノール、
１，１−ジメチルプロパノール、１−エチルプロパノー
ル、ヘキサノール、イソヘキサノール、２−エチルブタ
ノール、１−メチルアミルアルコール、１，３−ジメチ
ルブタノール、１−エチルブタノール等が挙げられる。
【００４８】本発明において、式（II）で示されるジグ
リセリンとケトンとの反応はケタール化反応であり、式
（II）で示されるジグリセリンに対するケトンのモル比
は１．０〜１０、好ましくは１．８〜５．０である。こ
の反応は、触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタン
スルホン酸、硫酸などの酸触媒を式（II）で示されるジ
グリセリンに対して０．０５〜１０モル％、好ましくは
０．１〜７モル％、さらに好ましくは０．５〜５モル％
用いて行う。
リセリンとケトンとの反応はケタール化反応であり、式
（II）で示されるジグリセリンに対するケトンのモル比
は１．０〜１０、好ましくは１．８〜５．０である。こ
の反応は、触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタン
スルホン酸、硫酸などの酸触媒を式（II）で示されるジ
グリセリンに対して０．０５〜１０モル％、好ましくは
０．１〜７モル％、さらに好ましくは０．５〜５モル％
用いて行う。
【００４９】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケトンの沸点にもよるが４０〜１６０
℃、好ましくは６０〜１００℃の温度にて生成する水を
除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で
反応を行うことも有効である。温度がこれより低いと反
応が進行せず、高いと着色が激しく副反応が生じ好まし
くない。また窒素流通条件下、窒素雰囲気下及び乾燥空
気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間は種々の条件に
よって変わりうるが通常５〜２００時間が好ましい。得
られた環状ケタール（Ｉ）は中和したのち濾過、洗浄等
の前処理を行ったのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操
作によって精製することができる。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケトンの沸点にもよるが４０〜１６０
℃、好ましくは６０〜１００℃の温度にて生成する水を
除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で
反応を行うことも有効である。温度がこれより低いと反
応が進行せず、高いと着色が激しく副反応が生じ好まし
くない。また窒素流通条件下、窒素雰囲気下及び乾燥空
気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間は種々の条件に
よって変わりうるが通常５〜２００時間が好ましい。得
られた環状ケタール（Ｉ）は中和したのち濾過、洗浄等
の前処理を行ったのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操
作によって精製することができる。
【００５０】また、式（II）で示されるジグリセリンと
アルデヒドとの反応はアセタール化反応であり、式（I
I）で示されるジグリセリンに対するアルデヒドのモル
比は１．０〜４、好ましくは１．８〜２．５である。こ
の反応は触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、硫酸などの酸触媒を式（II）で示されるジグ
リセリンに対して０．０１〜５モル％、好ましくは０．
０５〜３モル％、さらに好ましくは０．１〜２モル％用
いて行う。
アルデヒドとの反応はアセタール化反応であり、式（I
I）で示されるジグリセリンに対するアルデヒドのモル
比は１．０〜４、好ましくは１．８〜２．５である。こ
の反応は触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、硫酸などの酸触媒を式（II）で示されるジグ
リセリンに対して０．０１〜５モル％、好ましくは０．
０５〜３モル％、さらに好ましくは０．１〜２モル％用
いて行う。
【００５１】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアルデヒドの沸点にもよるが２
０〜１３０℃、好ましくは４０〜１００℃の温度にて生
成する水を除去しながら行うのが好ましい。場合によ
り、減圧下で反応を行うことも有効である。温度がこれ
より低いと反応が進行せず、高いと着色が激しく副反応
が生じ好ましくない。また、窒素流通条件下、窒素雰囲
気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間
は、種々の条件によって変わりうるが通常１〜３０時間
が好ましい。得られた環状アセタール（Ｉ）は中和した
のち濾過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着処理、晶
析、蒸留などの操作によって精製できる。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアルデヒドの沸点にもよるが２
０〜１３０℃、好ましくは４０〜１００℃の温度にて生
成する水を除去しながら行うのが好ましい。場合によ
り、減圧下で反応を行うことも有効である。温度がこれ
より低いと反応が進行せず、高いと着色が激しく副反応
が生じ好ましくない。また、窒素流通条件下、窒素雰囲
気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間
は、種々の条件によって変わりうるが通常１〜３０時間
が好ましい。得られた環状アセタール（Ｉ）は中和した
のち濾過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着処理、晶
析、蒸留などの操作によって精製できる。
【００５２】また、式（II) で示されるジグリセリンと
ケトンの反応性誘導体であるケタール(III')との反応は
トランスケタール化反応であって、式（II) で示される
ジグリセリンに対するケタール(III')のモル比は１．０
〜１０、好ましくは１．８〜５．０である。この反応は
触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、硫酸などの酸触媒を式（II) で示されるジグリセリ
ンに対して０．０５〜１０モル％、好ましくは０．１〜
７モル％、さらに好ましくは０．５〜５モル％用いて行
う。
ケトンの反応性誘導体であるケタール(III')との反応は
トランスケタール化反応であって、式（II) で示される
ジグリセリンに対するケタール(III')のモル比は１．０
〜１０、好ましくは１．８〜５．０である。この反応は
触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、硫酸などの酸触媒を式（II) で示されるジグリセリ
ンに対して０．０５〜１０モル％、好ましくは０．１〜
７モル％、さらに好ましくは０．５〜５モル％用いて行
う。
【００５３】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケタール(III')及び生成する低級アル
コールの沸点にもよるが４０〜１６０℃、好ましくは６
０〜１３０℃の温度にて生成する低級アルコールを除去
しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で反応
を行うことも有効である。温度がこれより低いと反応が
進行せず、高いと着色が激しく副反応が生じ好ましくな
い。また窒素流通条件下、窒素雰囲気下及び乾燥空気雰
囲気下のいずれでもよい。反応時間は、種々の条件によ
って変わりうるが通常５〜２００時間が好ましい。得ら
れた環状ケタール（Ｉ）は中和したのち濾過、洗浄等の
前処理を行ったのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操作
によって精製することができる。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケタール(III')及び生成する低級アル
コールの沸点にもよるが４０〜１６０℃、好ましくは６
０〜１３０℃の温度にて生成する低級アルコールを除去
しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で反応
を行うことも有効である。温度がこれより低いと反応が
進行せず、高いと着色が激しく副反応が生じ好ましくな
い。また窒素流通条件下、窒素雰囲気下及び乾燥空気雰
囲気下のいずれでもよい。反応時間は、種々の条件によ
って変わりうるが通常５〜２００時間が好ましい。得ら
れた環状ケタール（Ｉ）は中和したのち濾過、洗浄等の
前処理を行ったのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操作
によって精製することができる。
【００５４】また、式（II) で示されるジグリセリンと
アルデヒドの反応性誘導体であるアセタール(III')との
反応はトランスアセタール化反応であって、式（II) で
示されるジグリセリンに対するアセタール(III')のモル
比は１．０〜４、好ましくは１．８〜２．５である。こ
の反応は触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、硫酸などの酸触媒を式（II) で示されるジグ
リセリンに対して０．０１〜５モル％、好ましくは０．
０５〜３モル％、さらに好ましくは０．１〜２モル％用
いて行う。
アルデヒドの反応性誘導体であるアセタール(III')との
反応はトランスアセタール化反応であって、式（II) で
示されるジグリセリンに対するアセタール(III')のモル
比は１．０〜４、好ましくは１．８〜２．５である。こ
の反応は触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、硫酸などの酸触媒を式（II) で示されるジグ
リセリンに対して０．０１〜５モル％、好ましくは０．
０５〜３モル％、さらに好ましくは０．１〜２モル％用
いて行う。
【００５５】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアセタール(III')及び生成する
低級アルコールの沸点にもよるが２０〜１３０℃、好ま
しくは４０〜１００℃の温度にて生成する低級アルコー
ルを除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧
下で反応を行うことも有効である。温度がこれより低い
と反応が進行せず、高いと着色が激しく副反応が生じ好
ましくない。また窒素流通条件下、窒素雰囲気下及び乾
燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間は、種々の
条件によって変わりうるが通常１〜３０時間が好まし
い。得られた環状アセタール（Ｉ）は中和したのち濾
過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着処理、晶析、蒸
留などの操作によって精製できる。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアセタール(III')及び生成する
低級アルコールの沸点にもよるが２０〜１３０℃、好ま
しくは４０〜１００℃の温度にて生成する低級アルコー
ルを除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧
下で反応を行うことも有効である。温度がこれより低い
と反応が進行せず、高いと着色が激しく副反応が生じ好
ましくない。また窒素流通条件下、窒素雰囲気下及び乾
燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間は、種々の
条件によって変わりうるが通常１〜３０時間が好まし
い。得られた環状アセタール（Ｉ）は中和したのち濾
過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着処理、晶析、蒸
留などの操作によって精製できる。
【００５６】本発明の製造方法によると、簡単な方法に
より高収率で前述の環状アセタール類を得ることができ
る。
より高収率で前述の環状アセタール類を得ることができ
る。
【００５７】
【実施例】以下、実施例および参考例により本発明をさ
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例等によ
り何ら限定されるものではない。
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例等によ
り何ら限定されるものではない。
【００５８】実施例１ ４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２−メチ
ル−２−（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキソラ
ン〕（１）の合成：１リットルの４つ口フラスコに攪拌
機、温度計、窒素吹き込み管、及び冷却器付きの脱水管
を取り付けた。ジグリセリン１００．０ｇ（０．６０２
ｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン１８０．８ｇ（１．
８１ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１水和物２．２
９ｇ（０．０１２ｍｏｌ）、及びトルエン３００ｍｌを
前記フラスコに取った。窒素雰囲気下常圧で１１０〜１
１９℃で５５時間反応を行い水を留去した。反応終了
後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリウム２．５４ｇ（０．
０２４ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の２倍当量）を
加えて中和し、６０℃で３０分間攪拌した。水１００ｇ
を加えて、６０℃で３０分間攪拌し静置して分層した。
下層を除いた後、飽和食塩水５０ｇで洗浄し、トルエン
及び過剰のメチルイソブチルケトンをロータリーエバポ
レーターを用いて減圧下で除去し、粗標記化合物（１）
１８６．１５ｇを得た（粗収率９３．５％）。さらにビ
グリュー管（１０ｃｍ×２ｃｍφ）を用いた減圧蒸留に
より、部分的に精製された標記化合物（１）１４４．５
１ｇを得た。
ル−２−（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキソラ
ン〕（１）の合成：１リットルの４つ口フラスコに攪拌
機、温度計、窒素吹き込み管、及び冷却器付きの脱水管
を取り付けた。ジグリセリン１００．０ｇ（０．６０２
ｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン１８０．８ｇ（１．
８１ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１水和物２．２
９ｇ（０．０１２ｍｏｌ）、及びトルエン３００ｍｌを
前記フラスコに取った。窒素雰囲気下常圧で１１０〜１
１９℃で５５時間反応を行い水を留去した。反応終了
後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリウム２．５４ｇ（０．
０２４ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の２倍当量）を
加えて中和し、６０℃で３０分間攪拌した。水１００ｇ
を加えて、６０℃で３０分間攪拌し静置して分層した。
下層を除いた後、飽和食塩水５０ｇで洗浄し、トルエン
及び過剰のメチルイソブチルケトンをロータリーエバポ
レーターを用いて減圧下で除去し、粗標記化合物（１）
１８６．１５ｇを得た（粗収率９３．５％）。さらにビ
グリュー管（１０ｃｍ×２ｃｍφ）を用いた減圧蒸留に
より、部分的に精製された標記化合物（１）１４４．５
１ｇを得た。
【００５９】収率７２．６％、b.p.１４３〜１４５℃／
０．３mmHg、ガスクロマトグラフィー純度９２．１％、
水酸基価２６．２（理論値０）。４０℃粘度９．０８mm
2/ｓ、１００℃粘度２．３５mm2/ｓ。このものを、さら
にシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し
て（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物
（１）を得た。
０．３mmHg、ガスクロマトグラフィー純度９２．１％、
水酸基価２６．２（理論値０）。４０℃粘度９．０８mm
2/ｓ、１００℃粘度２．３５mm2/ｓ。このものを、さら
にシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し
て（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物
（１）を得た。
【００６０】ガスクロマトグラフィー純度９９．３％、
水酸基価１．６（理論値０）。 ＩＲ（NEAT、cm-1）：２９８６、２９５６、２８７８
（Ｃ−Ｈ伸縮）、１４７０、１３７７（Ｃ−Ｈ変角）、
１２６３、１２４５、１１８８、１１４６、１０９５、
１０５０（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．９７（12Ｈ、２重線、J=8.8Hz 、-CH2 CH (CH3 )2 ) １．３５（ 6Ｈ、２重線、J=13.2Hz、(-O-)2 C(CH3 )-) １．５７（ 4Ｈ、２重２重線、J=9.6Hz,10.5Hz、-CH2 CH (CH3)2 ) １．６６〜２．００（２Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3)2 ) ３．３９〜４．４０（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -)
水酸基価１．６（理論値０）。 ＩＲ（NEAT、cm-1）：２９８６、２９５６、２８７８
（Ｃ−Ｈ伸縮）、１４７０、１３７７（Ｃ−Ｈ変角）、
１２６３、１２４５、１１８８、１１４６、１０９５、
１０５０（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．９７（12Ｈ、２重線、J=8.8Hz 、-CH2 CH (CH3 )2 ) １．３５（ 6Ｈ、２重線、J=13.2Hz、(-O-)2 C(CH3 )-) １．５７（ 4Ｈ、２重２重線、J=9.6Hz,10.5Hz、-CH2 CH (CH3)2 ) １．６６〜２．００（２Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3)2 ) ３．３９〜４．４０（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -)
【００６１】実施例２ ４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２，２−
ジ（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキソラン〕
（２）の合成：３リットルの４つ口フラスコに攪拌機、
温度計、塩化カルシウム管、及び冷却器付きの脱水管を
取り付けた。ジグリセリン３３２．４ｇ（２．００ｍｏ
ｌ）、ジイソブチルケトン８５３．４ｇ（６．００ｍｏ
ｌ）、パラトルエンスルホン酸１水和物７．６１ｇ
（０．０４０ｍｏｌ）、及びヘキサン５００ｍｌを前記
フラスコに取った。乾燥空気気流下常圧で９６〜９７℃
で１２３時間反応を行い水を留去した。反応終了後、６
０℃に冷却し、炭酸ナトリウム８．４８ｇ（０．０８０
ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の２倍当量）を加えて
中和し、６０℃で３０分間攪拌した。水１００ｇを加え
て、６０℃で３０分間攪拌し静置して分層した。下層を
除いた後、飽和食塩水１００ｇで洗浄し、ヘキサンをロ
ータリーエバポレーターを用いて減圧下で除去し、さら
に減圧蒸留により、ジイソブチルケトンを除去した。得
られた粗ケタール６６６．７ｇに、ヘキサン４００ｍｌ
を加え、活性白土を通して濾過を行った後、ヘキサンを
ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で除去し、標
記化合物（１）６６３．５ｇを得た。
ジ（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキソラン〕
（２）の合成：３リットルの４つ口フラスコに攪拌機、
温度計、塩化カルシウム管、及び冷却器付きの脱水管を
取り付けた。ジグリセリン３３２．４ｇ（２．００ｍｏ
ｌ）、ジイソブチルケトン８５３．４ｇ（６．００ｍｏ
ｌ）、パラトルエンスルホン酸１水和物７．６１ｇ
（０．０４０ｍｏｌ）、及びヘキサン５００ｍｌを前記
フラスコに取った。乾燥空気気流下常圧で９６〜９７℃
で１２３時間反応を行い水を留去した。反応終了後、６
０℃に冷却し、炭酸ナトリウム８．４８ｇ（０．０８０
ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の２倍当量）を加えて
中和し、６０℃で３０分間攪拌した。水１００ｇを加え
て、６０℃で３０分間攪拌し静置して分層した。下層を
除いた後、飽和食塩水１００ｇで洗浄し、ヘキサンをロ
ータリーエバポレーターを用いて減圧下で除去し、さら
に減圧蒸留により、ジイソブチルケトンを除去した。得
られた粗ケタール６６６．７ｇに、ヘキサン４００ｍｌ
を加え、活性白土を通して濾過を行った後、ヘキサンを
ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で除去し、標
記化合物（１）６６３．５ｇを得た。
【００６２】収率８０．０％、ガスクロマトグラフィー
純度８７．５％、水酸基価４．０（理論値０）。ＩＲ
（NEAT、cm-1）：２９５６、２８７８（Ｃ−Ｈ伸縮）、
１４７０、１３６８（Ｃ−Ｈ変角）、１１６７、１１４
６、１０９５（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．６７〜１．１１（24Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3 )2 ) １．２０〜１．６１（ 8Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3)2 ) １．６１〜１．９３（ 4Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3)2 ) ３．４２〜４．３７（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -)
純度８７．５％、水酸基価４．０（理論値０）。ＩＲ
（NEAT、cm-1）：２９５６、２８７８（Ｃ−Ｈ伸縮）、
１４７０、１３６８（Ｃ−Ｈ変角）、１１６７、１１４
６、１０９５（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．６７〜１．１１（24Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3 )2 ) １．２０〜１．６１（ 8Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3)2 ) １．６１〜１．９３（ 4Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3)2 ) ３．４２〜４．３７（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -)
【００６３】実施例３ ４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２−
（２，４，４−トリメチルペンチル）−１，３−ジオキ
ソラン〕（３）の合成：１リットルの４つ口フラスコに
攪拌機、温度計、窒素吹き込み管、及び冷却器付きの脱
水管を取り付けた。ジグリセリン１６６．０ｇ（１．０
０ｍｏｌ）、3,5,５−トリメチルヘキサナール２８９．
７ｇ（２．０４ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１水
和物１．９０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、及びヘキサン１
５０ｍｌを前記フラスコに取った。窒素気流下常圧で７
５〜９２℃で８時間反応を行い水を留去した。反応終了
後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリウム２．１２ｇ（０．
０２０ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の２倍当量）を
加えて中和し、６０℃で３０分間攪拌した。水１００ｇ
を加えて、６０℃で３０分間攪拌し静置して分層した。
下層を除いた後、飽和食塩水１００ｇで洗浄し、ヘキサ
ンをロータリーエバポレーターを用いて減圧下で除去
し、さらに低沸点分を減圧蒸留により除去した。得られ
た粗アセタール４０５．５ｇに、活性アルミナ１．２ｇ
を加え、５０℃で３０分間攪拌した。濾過を行った後、
粗標記化合物（３）４０５．５ｇを得た（粗収率９７．
０％、水酸基価２３．１）。このものを、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して（ヘキ
サン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物（３）を
得た。ガスクロマトグラフィー純度９５．５％、水酸基
価２．７（理論値０）。 ＩＲ（NEAT、cm-1）：２９５６、２８７８（Ｃ−Ｈ伸
縮）、１４７６、１３６８（Ｃ−Ｈ変角）、１２４５、
１１３１、１０４１（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．８２〜１．４０（28Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3 )CH2 C(CH3 )3) １．４０〜１．９９（6H、多重線、-CH2 CH(CH3)CH2C(CH3)3) ３．２７〜４．４８（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -) ４．８２〜５．００（２Ｈ、多重線、(-O-)2 CH-)
（２，４，４−トリメチルペンチル）−１，３−ジオキ
ソラン〕（３）の合成：１リットルの４つ口フラスコに
攪拌機、温度計、窒素吹き込み管、及び冷却器付きの脱
水管を取り付けた。ジグリセリン１６６．０ｇ（１．０
０ｍｏｌ）、3,5,５−トリメチルヘキサナール２８９．
７ｇ（２．０４ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１水
和物１．９０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、及びヘキサン１
５０ｍｌを前記フラスコに取った。窒素気流下常圧で７
５〜９２℃で８時間反応を行い水を留去した。反応終了
後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリウム２．１２ｇ（０．
０２０ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の２倍当量）を
加えて中和し、６０℃で３０分間攪拌した。水１００ｇ
を加えて、６０℃で３０分間攪拌し静置して分層した。
下層を除いた後、飽和食塩水１００ｇで洗浄し、ヘキサ
ンをロータリーエバポレーターを用いて減圧下で除去
し、さらに低沸点分を減圧蒸留により除去した。得られ
た粗アセタール４０５．５ｇに、活性アルミナ１．２ｇ
を加え、５０℃で３０分間攪拌した。濾過を行った後、
粗標記化合物（３）４０５．５ｇを得た（粗収率９７．
０％、水酸基価２３．１）。このものを、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して（ヘキ
サン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物（３）を
得た。ガスクロマトグラフィー純度９５．５％、水酸基
価２．７（理論値０）。 ＩＲ（NEAT、cm-1）：２９５６、２８７８（Ｃ−Ｈ伸
縮）、１４７６、１３６８（Ｃ−Ｈ変角）、１２４５、
１１３１、１０４１（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．８２〜１．４０（28Ｈ、多重線、-CH2 CH (CH3 )CH2 C(CH3 )3) １．４０〜１．９９（6H、多重線、-CH2 CH(CH3)CH2C(CH3)3) ３．２７〜４．４８（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -) ４．８２〜５．００（２Ｈ、多重線、(-O-)2 CH-)
【００６４】実施例４ ４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２，２−
ジペンチル−１，３−ジオキソラン〕（４）の合成：１
リットルの４つ口フラスコに攪拌機、温度計、窒素吹き
込み管、及び冷却器付きの脱水管を取り付けた。ジグリ
セリン１００．０ｇ（０．６０２ｍｏｌ）、６−ウンデ
カノン２０５．０ｇ（１．２０ｍｏｌ）、パラトルエン
スルホン酸１水和物２．２９ｇ（０．０１２ｍｏｌ）、
及びトルエン３００ｍｌを前記フラスコに取った。窒素
気流下常圧で１２２〜１２４℃で４８時間反応を行い水
を留去した。反応終了後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリ
ウム２．５４ｇ（０．０２４ｍｏｌ、パラトルエンスル
ホン酸の２倍当量）を加えて中和し、６０℃で３０分間
攪拌した。水１００ｇを加えて、６０℃で３０分間攪拌
し静置して分層した。下層を除いた後、飽和食塩水５０
ｇで洗浄し、トルエンをロータリーエバポレーターを用
いて減圧下で除去し、粗標記化合物（４）２８０．０５
ｇを得た（粗収率９８．８％）。さらに減圧蒸留を行っ
て、部分的に精製された標記化合物（４）１９６．９６
ｇを得た。
ジペンチル−１，３−ジオキソラン〕（４）の合成：１
リットルの４つ口フラスコに攪拌機、温度計、窒素吹き
込み管、及び冷却器付きの脱水管を取り付けた。ジグリ
セリン１００．０ｇ（０．６０２ｍｏｌ）、６−ウンデ
カノン２０５．０ｇ（１．２０ｍｏｌ）、パラトルエン
スルホン酸１水和物２．２９ｇ（０．０１２ｍｏｌ）、
及びトルエン３００ｍｌを前記フラスコに取った。窒素
気流下常圧で１２２〜１２４℃で４８時間反応を行い水
を留去した。反応終了後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリ
ウム２．５４ｇ（０．０２４ｍｏｌ、パラトルエンスル
ホン酸の２倍当量）を加えて中和し、６０℃で３０分間
攪拌した。水１００ｇを加えて、６０℃で３０分間攪拌
し静置して分層した。下層を除いた後、飽和食塩水５０
ｇで洗浄し、トルエンをロータリーエバポレーターを用
いて減圧下で除去し、粗標記化合物（４）２８０．０５
ｇを得た（粗収率９８．８％）。さらに減圧蒸留を行っ
て、部分的に精製された標記化合物（４）１９６．９６
ｇを得た。
【００６５】収率６９．５％、b.p.２１０〜２１３℃／
０．４mmHg、ガスクロマトグラフィー純度９６．１％、
水酸基価１３．２（理論値０）。４０℃粘度３２．７mm
2/ｓ、１００℃粘度５．１６mm2/ｓ。このものを、さら
にシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し
て（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物
（４）を得た。
０．４mmHg、ガスクロマトグラフィー純度９６．１％、
水酸基価１３．２（理論値０）。４０℃粘度３２．７mm
2/ｓ、１００℃粘度５．１６mm2/ｓ。このものを、さら
にシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し
て（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物
（４）を得た。
【００６６】ガスクロマトグラフィー純度９７．９％、
水酸基価０．９（理論値０）。 ＩＲ（NEAT、cm-1）：２９５０、２８７２（Ｃ−Ｈ伸
縮）、１４７０、１３８０（Ｃ−Ｈ変角）、１２４５、
１２０６、１１５２、１１０１（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．６０〜０．９７（12Ｈ、多重線、-CH3 ) ０．９７〜１．５０（32Ｈ、多重線、-CH2 CH2 CH2 CH2 CH2 CH3 ) １．５０〜１．７０（ 8Ｈ、多重線、-CH2 CH2 CH2 CH2 CH2 CH3 ) ３．３５〜４．３５（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -)
水酸基価０．９（理論値０）。 ＩＲ（NEAT、cm-1）：２９５０、２８７２（Ｃ−Ｈ伸
縮）、１４７０、１３８０（Ｃ−Ｈ変角）、１２４５、
１２０６、１１５２、１１０１（Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮） 1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δppm)： ０．６０〜０．９７（12Ｈ、多重線、-CH3 ) ０．９７〜１．５０（32Ｈ、多重線、-CH2 CH2 CH2 CH2 CH2 CH3 ) １．５０〜１．７０（ 8Ｈ、多重線、-CH2 CH2 CH2 CH2 CH2 CH3 ) ３．３５〜４．３５（10Ｈ、多重線、-CH2 CH CH2 O CH2 CH CH2 -)
【００６７】実施例５ ４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２−メチ
ル−２−（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキソラ
ン〕（１）の合成：１リットルの４つ口フラスコに攪拌
機、温度計、窒素吹き込み管、及び蒸留装置を取り付け
た。ジグリセリン１００．０ｇ（０．６０２ｍｏｌ）、
メチルイソブチルケトンジメチルケタール３５２．１ｇ
（２．４０８ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１水和
物１．１４ｇ（０．００６ｍｏｌ）、及びトルエン３０
０ｍｌを前記フラスコに取った。窒素雰囲気下常圧で９
０〜１００℃で２０時間反応を行いメタノールを留去し
た。反応終了後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリウム１．
２７ｇ（０．０１２ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の
２倍当量）を加えて中和し、６０℃で３０分間攪拌し
た。水１００ｇを加えて、６０℃で３０分間攪拌し静置
して分層した。下層を除いた後、飽和食塩水５０ｇで洗
浄し、トルエン及び過剰のメチルイソブチルケトンジメ
チルケタールをロータリーエバポレーターを用いて減圧
下で除去し、粗標記化合物（１）１８９．５ｇを得た
（粗収率９５．３％）。さらにビグリュー管（１０ｃｍ
×２ｃｍφ）を用いた減圧蒸留により、部分的に精製さ
れた標記化合物（１）１６８．７ｇを得た。
ル−２−（２−メチルプロピル）−１，３−ジオキソラ
ン〕（１）の合成：１リットルの４つ口フラスコに攪拌
機、温度計、窒素吹き込み管、及び蒸留装置を取り付け
た。ジグリセリン１００．０ｇ（０．６０２ｍｏｌ）、
メチルイソブチルケトンジメチルケタール３５２．１ｇ
（２．４０８ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１水和
物１．１４ｇ（０．００６ｍｏｌ）、及びトルエン３０
０ｍｌを前記フラスコに取った。窒素雰囲気下常圧で９
０〜１００℃で２０時間反応を行いメタノールを留去し
た。反応終了後、６０℃に冷却し、炭酸ナトリウム１．
２７ｇ（０．０１２ｍｏｌ、パラトルエンスルホン酸の
２倍当量）を加えて中和し、６０℃で３０分間攪拌し
た。水１００ｇを加えて、６０℃で３０分間攪拌し静置
して分層した。下層を除いた後、飽和食塩水５０ｇで洗
浄し、トルエン及び過剰のメチルイソブチルケトンジメ
チルケタールをロータリーエバポレーターを用いて減圧
下で除去し、粗標記化合物（１）１８９．５ｇを得た
（粗収率９５．３％）。さらにビグリュー管（１０ｃｍ
×２ｃｍφ）を用いた減圧蒸留により、部分的に精製さ
れた標記化合物（１）１６８．７ｇを得た。
【００６８】収率８４．８％、b.p.１４３〜１４５℃／
０．３mmHg、ガスクロマトグラフィー純度９３．５％、
水酸基価２０．６（理論値）。このものを、さらにシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して（ヘ
キサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物（１）
を得た。ガスクロマトグラフィー純度９６．５％、水酸
基価１．２（理論値０）。
０．３mmHg、ガスクロマトグラフィー純度９３．５％、
水酸基価２０．６（理論値）。このものを、さらにシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して（ヘ
キサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物（１）
を得た。ガスクロマトグラフィー純度９６．５％、水酸
基価１．２（理論値０）。
【００６９】実施例６ ４，４’−〔オキシビス（メチレン）〕ビス〔２−
（２，４，４−トリメチルペンチル）−１，３−ジオキ
ソラン〕（３）の合成：１リットルの４つ口フラスコに
攪拌機、温度計、窒素吹き込み管、及び蒸留装置を取り
付けた。ジグリセリン１６６．０ｇ（１．００ｍｏ
ｌ）、３，５，５−トリメチルヘキサナールジメチルア
セタール３８４．２ｇ（２．０４ｍｏｌ）、パラトルエ
ンスルホン酸１水和物０．９５ｇ（０．００５ｍｏ
ｌ）、及びトルエン１５０ｍｌを前記フラスコに取っ
た。窒素気流下常圧で８０℃で６時間反応を行いメタノ
ールを留去した。反応終了後、６０℃に冷却し、炭酸ナ
トリウム１．０６ｇ（０．０１０ｍｏｌ、パラトルエン
スルホン酸の２倍当量）を加えて中和し、６０℃で３０
分間攪拌した。水１００ｇを加えて、６０℃で３０分間
攪拌し静置して分層した。下層を除いた後、飽和食塩水
１００ｇで洗浄し、トルエンをロータリーエバポレータ
ーを用いて減圧下で除去し、さらに低沸点分を減圧蒸留
により除去して粗標記化合物４０６．４ｇを得た（粗収
率９８．０％、水酸基価２２．０）。このものを、さら
にシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し
て（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物
（３）を得た。ガスクロマトグラフィー純度９６．５
％、水酸基価２．０（理論値０）。
（２，４，４−トリメチルペンチル）−１，３−ジオキ
ソラン〕（３）の合成：１リットルの４つ口フラスコに
攪拌機、温度計、窒素吹き込み管、及び蒸留装置を取り
付けた。ジグリセリン１６６．０ｇ（１．００ｍｏ
ｌ）、３，５，５−トリメチルヘキサナールジメチルア
セタール３８４．２ｇ（２．０４ｍｏｌ）、パラトルエ
ンスルホン酸１水和物０．９５ｇ（０．００５ｍｏ
ｌ）、及びトルエン１５０ｍｌを前記フラスコに取っ
た。窒素気流下常圧で８０℃で６時間反応を行いメタノ
ールを留去した。反応終了後、６０℃に冷却し、炭酸ナ
トリウム１．０６ｇ（０．０１０ｍｏｌ、パラトルエン
スルホン酸の２倍当量）を加えて中和し、６０℃で３０
分間攪拌した。水１００ｇを加えて、６０℃で３０分間
攪拌し静置して分層した。下層を除いた後、飽和食塩水
１００ｇで洗浄し、トルエンをロータリーエバポレータ
ーを用いて減圧下で除去し、さらに低沸点分を減圧蒸留
により除去して粗標記化合物４０６．４ｇを得た（粗収
率９８．０％、水酸基価２２．０）。このものを、さら
にシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し
て（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２で溶出）標記化合物
（３）を得た。ガスクロマトグラフィー純度９６．５
％、水酸基価２．０（理論値０）。
【００７０】参考例１ 実施例で得られた本発明の環状アセタール類の４０℃お
よび１００℃における動粘度（ＪＩＳ Ｋ−２２８
３）、流動点（ＪＩＳ Ｋ−２２６９）を測定した。そ
の結果を表１に示す。
よび１００℃における動粘度（ＪＩＳ Ｋ−２２８
３）、流動点（ＪＩＳ Ｋ−２２６９）を測定した。そ
の結果を表１に示す。
【００７１】
【表１】
【００７２】表１から明らかなように、本発明品は適度
な粘度と流動点を有していた。
な粘度と流動点を有していた。
【００７３】参考例２ 実施例で得られた本発明の環状アセタール類および比較
品と１，１，１，２−テトラフルオロエタン（ＨＦＣ１
３４ａ）との相溶性を測定した。すなわち、１，１，
１，２−テトラフルオロエタンに対する油濃度１０Ｖｏ
ｌ％における低温での二相分離温度を測定した。その結
果を表２に示す。
品と１，１，１，２−テトラフルオロエタン（ＨＦＣ１
３４ａ）との相溶性を測定した。すなわち、１，１，
１，２−テトラフルオロエタンに対する油濃度１０Ｖｏ
ｌ％における低温での二相分離温度を測定した。その結
果を表２に示す。
【００７４】
【表２】
【００７５】表２から明らかなように、本発明品は比較
品に比べてＨＦＣ１３４ａとの相溶性に優れていた。
品に比べてＨＦＣ１３４ａとの相溶性に優れていた。
【００７６】参考例３ 実施例で得られた本発明の環状アセタール類および比較
品の２５℃における体積抵抗率（ＪＩＳ Ｃ−２１０１
に基づいて測定）を測定した。その結果を表３に示す。
品の２５℃における体積抵抗率（ＪＩＳ Ｃ−２１０１
に基づいて測定）を測定した。その結果を表３に示す。
【００７７】
【表３】
【００７８】表３から明らかなように、本発明品は比較
品に比べて体積抵抗率に優れていた。
品に比べて体積抵抗率に優れていた。
【００７９】
【発明の効果】本発明により合成潤滑油として有用な新
規環状アセタール類が安価な原料から簡便な方法により
高収率、高純度で得られる。このものは、室温付近で液
状であり適度の粘度を有し、極性を有する合成潤滑油と
しての利用ができる。また、かかる合成潤滑油とハイド
ロフルオロカーボンを配合することができ、相溶性の良
好な電気絶縁性、その他の性能に優れた安価な冷凍機作
動流体組成物を提供することができる。
規環状アセタール類が安価な原料から簡便な方法により
高収率、高純度で得られる。このものは、室温付近で液
状であり適度の粘度を有し、極性を有する合成潤滑油と
しての利用ができる。また、かかる合成潤滑油とハイド
ロフルオロカーボンを配合することができ、相溶性の良
好な電気絶縁性、その他の性能に優れた安価な冷凍機作
動流体組成物を提供することができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 次の一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子を示し、その場合、Ｒ2 は炭素
数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。あ
るいはＲ1 はメチル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数
３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。また
はＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル
基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２〜２１の直鎖もし
くは分岐のアルキル基を示す。）で表される環状アセタ
ール類。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ）において、Ｒ1 が水素原子
でＲ2 が炭素数３〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル
基、あるいはＲ1 がメチル基でＲ2 が炭素数３〜１２の
直鎖もしくは分岐のアルキル基、またはＲ1 が炭素数２
〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基でＲ2 が炭素数
２〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基である請求項
１記載の環状アセタール類。 - 【請求項３】 一般式（Ｉ）において、Ｒ1 が水素原子
でＲ2 が炭素数３〜１２の分岐のアルキル基、あるいは
Ｒ1 がメチル基でＲ2 が炭素数５〜１２の直鎖もしくは
分岐のアルキル基、またはＲ1 が炭素数２〜１２の直鎖
もしくは分岐のアルキル基でＲ2 が炭素数２〜１２の直
鎖もしくは分岐のアルキル基である請求項１記載の環状
アセタール類。 - 【請求項４】 下記の式（II) 【化２】 で示されるジグリセリンと一般式(III） 【化３】 （式中、Ｒ1 は水素原子を示し、その場合、Ｒ2 は炭素
数３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。あ
るいはＲ1 はメチル基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数
３〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。また
はＲ1 は炭素数２〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル
基を示し、その場合、Ｒ2 は炭素数２〜２１の直鎖もし
くは分岐のアルキル基を示す。）で表されるカルボニル
化合物またはその反応性誘導体であるケタールあるいは
アセタールを酸触媒下に反応させることを特徴とする一
般式（Ｉ）で表される環状アセタール類の製造方法。 【化４】 （式中、Ｒ1 とＲ2 は上記と同意義を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19245595A JPH0920772A (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 環状アセタール類及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19245595A JPH0920772A (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 環状アセタール類及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0920772A true JPH0920772A (ja) | 1997-01-21 |
Family
ID=16291593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19245595A Pending JPH0920772A (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 環状アセタール類及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0920772A (ja) |
-
1995
- 1995-07-04 JP JP19245595A patent/JPH0920772A/ja active Pending
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