JPH09208697A - Production of polymeric compound - Google Patents
Production of polymeric compoundInfo
- Publication number
- JPH09208697A JPH09208697A JP1352496A JP1352496A JPH09208697A JP H09208697 A JPH09208697 A JP H09208697A JP 1352496 A JP1352496 A JP 1352496A JP 1352496 A JP1352496 A JP 1352496A JP H09208697 A JPH09208697 A JP H09208697A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- derivative
- uronium
- producing
- polymer compound
- dianhydride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、縮合重合によりポ
リイミド前駆体のような高分子化合物を製造する方法、
縮合重合により光重合性を有する高分子化合物を製造す
る方法に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a polymer compound such as a polyimide precursor by condensation polymerization,
The present invention relates to a method for producing a polymer compound having photopolymerizability by condensation polymerization.
【0002】[0002]
【従来の技術】ポリイミド又はその前駆体であってそれ
自体でフォトパターニング性を兼備しているものは感光
性ポリイミドと呼ばれ、半導体の表面保護膜等に用いら
れる。感光性ポリイミドにはいくつかの感光性付与方式
が知られている。代表的なものには、ポリアミド酸をヒ
ドロキシアクリレートとのエステルとしたもの(特公昭
55−41422号公報参照)や、ポリアミド酸にアミ
ノアクリレートのようなものを配合し感光性基を塩結合
で導入したもの(特開昭54−145794号公報参
照)が知られている。2. Description of the Related Art A polyimide or its precursor, which itself has a photo-patterning property, is called a photosensitive polyimide and is used for a surface protective film of a semiconductor. Several photosensitive methods are known for photosensitive polyimide. Typical examples thereof include those in which polyamic acid is an ester with hydroxy acrylate (see JP-B-55-41422), and those in which polyamic acid such as amino acrylate is blended and a photosensitive group is introduced by a salt bond. There is known one (see JP-A-54-145794).
【0003】ポリイミドは、溶剤に可溶な前駆体高分子
化合物を加熱してイミド化することにより得られる。そ
して、前記の前駆体高分子化合物の製造方法としては、
酸クロライドとジアミノ化合物との縮合重合による方法
(前記特公昭55−41422号公報参照)、芳香族又
は複素環式テトラカルボン酸二無水物とジアミンとをカ
ルボジイミドの存在下に縮合重合させる方法が知られて
いる(特開昭60−228537号公報参照)。Polyimide is obtained by heating a precursor polymer compound soluble in a solvent to imidize it. And, as a method for producing the precursor polymer compound,
Known methods include condensation polymerization of an acid chloride and a diamino compound (see Japanese Patent Publication No. 55-41422), and condensation polymerization of an aromatic or heterocyclic tetracarboxylic dianhydride and a diamine in the presence of carbodiimide. (See JP-A-60-228537).
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、いずれ
の方法も毒性の強い試薬を用いる、収率が低いなどの問
題があった。すなわち、酸クロライドを用いた場合、毒
性の強いガスや高分子量の副生物を生じたり、イオン性
不純物の除去が難しい。また、カルボジイミドを用いた
場合、反応性が低い、副生物の除去が難しく、また、生
成物の光透過性が低い、などそれぞれ問題があった。本
発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされ
たものである。すなわち本発明は、縮合重合により高分
子化合物を高収率で得る方法を提供することを第一の目
的とする。また、本発明の第二の目的は、副生物や不純
物が少なく、光透過性に優れた高分子化合物を安全に高
収率で得る方法を提供することにある。However, each of the methods has problems that a highly toxic reagent is used and the yield is low. That is, when the acid chloride is used, highly toxic gas and high molecular weight by-products are generated, and it is difficult to remove ionic impurities. Moreover, when carbodiimide is used, there are problems such as low reactivity, difficulty in removing by-products, and low light transmittance of the product. The present invention has been made in view of the problems of the conventional techniques as described above. That is, the first object of the present invention is to provide a method for obtaining a polymer compound in high yield by condensation polymerization. A second object of the present invention is to provide a method for safely and high yielding a polymer compound having a small amount of by-products and impurities and excellent in light transmittance.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明第一の目的は、ウ
ロニウム誘導体を縮合剤として、出発物質を縮合重合さ
せることによって達成される。さらに、ウロニウム誘導
体を縮合剤として、不飽和二重結合を有する化合物を含
む出発物質を縮合重合させることにより感光性を付与し
た高分子化合物が得られる。The first object of the present invention is achieved by subjecting a starting material to condensation polymerization using an uronium derivative as a condensing agent. Further, by using a uronium derivative as a condensing agent and subjecting a starting material containing a compound having an unsaturated double bond to condensation polymerization, a polymer compound having photosensitivity can be obtained.
【0006】また、芳香族及び/又は複素環式テトラカ
ルボン酸二無水物と(メタ)アクリル基含有アルコール
及び/又は1級アルコールとを反応させて得られたテト
ラカルボン酸ジエステルと、ジアミノ化合物とを、ウロ
ニウム誘導体を縮合剤として縮合重合させることを特徴
とするポリイミド前駆体高分子化合物が得られる。Further, a tetracarboxylic acid diester obtained by reacting an aromatic and / or heterocyclic tetracarboxylic dianhydride with a (meth) acrylic group-containing alcohol and / or a primary alcohol, and a diamino compound. To obtain a polyimide precursor polymer compound, which is obtained by condensation polymerization using an uronium derivative as a condensing agent.
【0007】ウロニウム誘導体としては下記一般式化3
に示す化合物を用いるのが好ましい。As the uronium derivative, the following general formula 3
It is preferable to use the compound shown in.
【化3】 Embedded image
【0008】また、本発明においては、ウロニウム誘導
体と下記一般式化4に示すベンゾトリアゾール誘導体を
併用するとさらに好ましい結果が得られる。Further, in the present invention, more preferable results can be obtained by using the uronium derivative and the benzotriazole derivative represented by the following general formula 4 in combination.
【化4】 Embedded image
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】具体的なウロニウム誘導体として
は以下の化5〜化28に示す化合物が挙げられる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Specific uronium derivatives include the compounds shown in Chemical Formulas 5 to 28 below.
【0010】[0010]
【化5】 Embedded image
【0011】[0011]
【化6】 [Chemical 6]
【0012】[0012]
【化7】 Embedded image
【0013】[0013]
【化8】 Embedded image
【0014】[0014]
【化9】 Embedded image
【0015】[0015]
【化10】 Embedded image
【0016】[0016]
【化11】 Embedded image
【0017】[0017]
【化12】 Embedded image
【0018】[0018]
【化13】 Embedded image
【0019】[0019]
【化14】 Embedded image
【0020】[0020]
【化15】 Embedded image
【0021】[0021]
【化16】 Embedded image
【0022】[0022]
【化17】 Embedded image
【0023】[0023]
【化18】 Embedded image
【0024】[0024]
【化19】 Embedded image
【0025】[0025]
【化20】 Embedded image
【0026】[0026]
【化21】 [Chemical 21]
【0027】[0027]
【化22】 Embedded image
【0028】[0028]
【化23】 Embedded image
【0029】[0029]
【化24】 Embedded image
【0030】[0030]
【化25】 Embedded image
【0031】[0031]
【化26】 Embedded image
【0032】[0032]
【化27】 Embedded image
【0033】[0033]
【化28】 Embedded image
【0034】具体的なベンゾトリアゾール誘導体として
は以下の化29に示す化合物が挙げられる。Specific examples of the benzotriazole derivative include compounds represented by Chemical Formula 29 below.
【0035】[0035]
【化29】 Embedded image
【0036】本発明においては、テトラカルボン酸ジエ
ステルとジアミノ化合物又は少なくとも1つの二重結合
を有するジアミノ化合物とを、ウロニウム誘導体を用い
て縮合重合させ、不飽和二重結合を有する高分子化合物
を製造する。反応は主に溶液中で行われ、テトラカルボ
ン酸ジエステルとジアミノ化合物又は少なくとも1つの
二重結合を有するジアミノ化合物の混合溶液にウロニウ
ム誘導体を含む溶液を滴下する。しかしこの反応は、段
階的に実施することも可能である。すなわち、テトラカ
ルボン酸ジエステル及びウロニウム誘導体からなる付加
生成物を形成させ、次いでこれにジアミノ化合物又は少
なくとも1つの二重結合を有するジアミノ化合物を含む
溶液を滴下する、あるいはテトラカルボン酸ジエステル
を含む溶液にウロニウム誘導体を含む溶液と、ジアミノ
化合物又は少なくとも1つの二重結合を有するジアミノ
化合物を含む溶液を交互に滴下する方法も可能である。
反応溶液を水、又はメタノールなど低級アルコールに滴
下すると、希望した高分子化合物が固体として沈でんす
る。In the present invention, a tetracarboxylic acid diester and a diamino compound or a diamino compound having at least one double bond are subjected to condensation polymerization using an uronium derivative to produce a polymer compound having an unsaturated double bond. To do. The reaction is mainly carried out in a solution, and a solution containing a uronium derivative is added dropwise to a mixed solution of a tetracarboxylic acid diester and a diamino compound or a diamino compound having at least one double bond. However, it is also possible to carry out this reaction in stages. That is, an addition product consisting of a tetracarboxylic acid diester and a uronium derivative is formed, and then a solution containing a diamino compound or a diamino compound having at least one double bond is added dropwise thereto, or a solution containing a tetracarboxylic acid diester is added. A method of alternately dropping a solution containing the uronium derivative and a solution containing the diamino compound or the diamino compound having at least one double bond is also possible.
When the reaction solution is dropped into water or a lower alcohol such as methanol, the desired polymer compound precipitates as a solid.
【0037】ポリイミド前駆体は、テトラカルボン酸二
無水物を(メタ)アクリル基含有アルコールと反応させ
てテトラカルボン酸ジエステルを生じさせ、このテトラ
カルボン酸ジエステルとジアミノ化合物を材料とした縮
合重合によって得られる。又はテトラカルボン酸二無水
物と(メタ)アクリル基を含まないアルコールと反応さ
せてテトラカルボン酸ジエステルを生じさせ、このテト
ラカルボン酸ジエステルと不飽和二重結合を有するジア
ミノ化合物を材料とした縮合重合によって得られる。こ
れらに用いるテトラカルボン酸二無水物としては、例え
ば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸二無水
物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二
無水物、4,4’−スルホニルジフタル酸二無水物、m
−ターフェニル−3,3”,4,4”−テトラカルボン
酸二無水物、p−ターフェニル−3,3”,4,4”−
テトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル
酸二無水物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロ
パン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフ
ェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2’−ビス[4−
(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパ
ン二無水物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2,2’−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル]プロパン二無水物が挙げられる。The polyimide precursor is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a (meth) acryl group-containing alcohol to produce a tetracarboxylic acid diester, which is obtained by condensation polymerization using the tetracarboxylic acid diester and a diamino compound as materials. To be Alternatively, a condensation polymerization using a tetracarboxylic acid dianhydride and an alcohol not containing a (meth) acryl group to produce a tetracarboxylic acid diester, and a tetraamino acid diester and a diamino compound having an unsaturated double bond as a material Obtained by Examples of the tetracarboxylic dianhydride used for these include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′,
4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,
2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6-pyridinetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3, 4,9,10-Perylenetetracarboxylic acid dianhydride, 4,4′-sulfonyldiphthalic acid dianhydride, m
-Terphenyl-3,3 ", 4,4" -tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl-3,3 ", 4,4"-
Tetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride Substance, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1,1,
3,3,3-hexafluoro-2,2'-bis [4-
(2,3-Dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2′-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl ] Propane dianhydride can be mentioned.
【0038】ジアミノ化合物としては、例えば、p−フ
ェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−キシ
リレンジアミン、m−キシリレンジアミン、1,5−ジ
アミノナフタレン、ベンジジン、3,3’−ジメチルベ
ンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、4,4’
(又は3,4’−、3,3’−、2,4’−)−ジアミ
ノジフェニルメタン、4,4’(又は3,4’−、3,
3’−、2,4’−)−ジアミノジフェニルエーテル、
4,4’(又は3,4’−、3,3’−、2,4’−)
−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’(又は,
3,4’−、3,3’−、2,4’−)−ジアミノジフ
ェニルスルフィド、4,4’−ベンゾフェノンジアミ
ン、3,3’−ベンゾフェノンジアミン、4,4’−ジ
(4−アミノフェノキシ)フェニルスルフォン、4,
4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,
4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(4−アミ
ノフェニル)プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3−ジメチル
−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’,
5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、4,4’−ジ(3−アミノフェノキシ)フェ
ニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、2,2’−ビス(4−アミノフェニル)プロパン等
の芳香族ジアミン、2,6−ジアミノピリジン、2,4
−ジアミノピリミジン、2,4−ジアミノ−s−トリア
ジン、2,7−ジアミノベンゾフラン、2,7−ジアミ
ノカルバゾール、3,7−ジアミノフェノチアジン、
2,5−ジアミノ−1,3,4−チアジアゾール、2,
4−ジアミノ−6−フェニル−s−トリアジン等の複素
環式ジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレン
ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、2,2−ジメチル
プロピレンジアミン、下記化30に示すジアミノポリシ
ロキサン等の脂肪族ジアミンなどが挙げられる。Examples of the diamino compound include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, benzidine, 3,3'-dimethylbenzidine, 3 , 3'-dimethoxybenzidine, 4,4 '
(Or 3,4'-, 3,3'-, 2,4 '-)-diaminodiphenylmethane, 4,4' (or 3,4'-, 3,
3'-, 2,4 '-)-diaminodiphenyl ether,
4,4 '(or 3,4'-, 3,3'-, 2,4'-)
-Diaminodiphenyl sulfone, 4,4 '(or,
3,4'-, 3,3'-, 2,4 '-)-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-benzophenone diamine, 3,3'-benzophenone diamine, 4,4'-di (4-aminophenoxy ) Phenylsulfone, 4,
4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 1,
4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-
Bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,1,1,
3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 3,3-dimethyl-4,4 ′ -Diaminodiphenylmethane, 3,3 ',
5,5'-Tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-di (3-aminophenoxy) phenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2'-bis (4-amino Aromatic diamines such as phenyl) propane, 2,6-diaminopyridine, 2,4
-Diaminopyrimidine, 2,4-diamino-s-triazine, 2,7-diaminobenzofuran, 2,7-diaminocarbazole, 3,7-diaminophenothiazine,
2,5-diamino-1,3,4-thiadiazole, 2,
Heterocyclic diamines such as 4-diamino-6-phenyl-s-triazine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 2,2-dimethylpropylenediamine, and aliphatic such as diaminopolysiloxane shown in the following Chemical formula 30 Examples include diamines.
【0039】[0039]
【化30】 また、不飽和二重結合を有するジアミノ化合物として
は、メタクリロイルオキシエチル−3,5−ジアミノベ
ンゾエート、メタクリロイルオキシプロピル−3,5−
ジアミノベンゾエート、アクリロイルオキシエチル−
3,5−ジアミノベンゾエート、アクリロイルオキシプ
ロピル−3,5−ジアミノベンゾエートなどが挙げられ
る。Embedded image Moreover, as the diamino compound having an unsaturated double bond, methacryloyloxyethyl-3,5-diaminobenzoate, methacryloyloxypropyl-3,5-
Diaminobenzoate, acryloyloxyethyl-
3,5-diaminobenzoate, acryloyloxypropyl-3,5-diaminobenzoate and the like can be mentioned.
【0040】上記に例示したテトラカルボン酸二無水物
及びジアミノ化合物はそれぞれ単独で用いても二種以上
を組み合わせて用いてもよい。The tetracarboxylic acid dianhydride and the diamino compound exemplified above may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0041】反応に用いられる有機溶剤としては、例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、
トルエン、クロロホルム、メタノール、エタノール、1
−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、
2−ブタノール、t−ブタノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、キシレン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−
ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、
γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシド、エチレン
カーボネート、プロピレンカーボネート、スルホランな
どが挙げられる。Examples of the organic solvent used in the reaction include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone,
Toluene, chloroform, methanol, ethanol, 1
-Propanol, 2-propanol, 1-butanol,
2-butanol, t-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, xylene, tetrahydrofuran,
Dioxane, N, N-dimethylacetamide, N, N-
Dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone,
Examples include γ-butyrolactone, dimethyl sulfoxide, ethylene carbonate, propylene carbonate, sulfolane and the like.
【0042】縮合重合反応に用いられる塩基性触媒の例
としては、ピリジン、トリエチルアミン、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジメチルアミノエタノール、モルホリン、アニリ
ン、シクロヘキシルアミン等が挙げられ、これらは単独
で又は複数を組合せて用いることができる。Examples of the basic catalyst used in the condensation polymerization reaction include pyridine, triethylamine, monoethanolamine, diethanolamine, diisopropylamine, dimethylaminoethanol, morpholine, aniline and cyclohexylamine, which may be used alone or A plurality can be used in combination.
【0043】こうして得られた高分子化合物は、光開始
剤や付加重合性化合物及び各種助剤と組合せ、感光性樹
脂組成物とすることができる。The polymer compound thus obtained can be combined with a photoinitiator, an addition-polymerizable compound and various auxiliaries to form a photosensitive resin composition.
【0044】光開始剤の例としては、ミヒラーズケト
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2−t−ブチ
ルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、4,
4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、アセト
フェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−[4
−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−
プロパノン、ベンジル、ジフェニルジスルフィド、フェ
ナンスレンキノン、2−イソプロピルチオキサントン、
リボフラビンテトラブチレート、N−フェニルジエタノ
ールアミン、2−(o−エトキシカルボニル)オキシイ
ミノ−1,3−ジフェニルプロパンジオン、1−フェニ
ル−2−(o−エトキシカルボニル)オキシイミノプロ
パン−1−オン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブ
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、N−(p
−シアノフェニル)グリシン、N−(p−メチルスルホ
ニルフェニル)グリシン等が挙げられる。これらの光開
始剤の使用量については特に制限はない。Examples of photoinitiators include Michler's ketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, 2-t-butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 4,
4'-bis (diethylamino) benzophenone, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, 2,2-
Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl- [4
-(Methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-
Propanone, benzyl, diphenyl disulfide, phenanthrenequinone, 2-isopropylthioxanthone,
Riboflavin tetrabutyrate, N-phenyldiethanolamine, 2- (o-ethoxycarbonyl) oxyimino-1,3-diphenylpropanedione, 1-phenyl-2- (o-ethoxycarbonyl) oxyiminopropan-1-one, 3, 3 ', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, N- (p
-Cyanophenyl) glycine, N- (p-methylsulfonylphenyl) glycine and the like can be mentioned. There is no particular limitation on the amount of these photoinitiators used.
【0045】付加重合性化合物は常圧において100℃
以上の沸点を有するものが用いられる。常圧において沸
点が100℃より低いものでは系内に含有する溶剤を乾
燥等によって除去する際又は活性光線を照射する際、該
付加重合性化合物が揮散して特性上好ましくないからで
ある。また付加重合性化合物は光開始剤等と均一な組成
物とするために、通常用いられる有機溶剤に可溶なもの
が好ましい。The addition-polymerizable compound is 100 ° C. at normal pressure.
Those having the above boiling points are used. This is because when the boiling point is lower than 100 ° C. under normal pressure, the addition-polymerizable compound is volatilized and volatilized undesirably when the solvent contained in the system is removed by drying or irradiated with an actinic ray. Further, the addition-polymerizable compound is preferably soluble in a commonly used organic solvent in order to form a uniform composition with the photoinitiator and the like.
【0046】常圧において100℃以上の沸点を有する
付加重合性化合物としては、多価アルコールとα,β−
不飽和カルボン酸とを縮合して得られる化合物、例えば
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート(ジアクリ
レート又はジメタクリレートの意味、以下同じ)、トリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラン
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、1,2−プロピ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ジ(1,2−
プロピレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、トリ
(1,2−プロピレングリコール)ジ(メタ)アクリレ
ート、テトラ(1,2−プロピレングリコール)ジ(メ
タ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジ
エチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、1,4−
ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラ(メタ)アクリレート、スチレン、ジビニルベ
ンゼン、4−ビニルトルエン、4−ビニルピリジン、N
−ビニルピロリドン、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、1,3−(メタ)アクリロイルオキシ−2
−ヒドロキシプロパン、メチレンビスアクリルアミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチロールアク
リルアミド等が挙げられ、これらは二種以上組み合わせ
てもよい。The addition-polymerizable compound having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure includes polyhydric alcohol and α, β-
A compound obtained by condensation with an unsaturated carboxylic acid, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate (meaning diacrylate or dimethacrylate, the same applies hereinafter), triethylene glycol di (meth) acrylate, tetrane ethylene glycol di (meth) Acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 1,2-propylene glycol di (meth) acrylate, di (1,2-
Propylene glycol) di (meth) acrylate, tri (1,2-propylene glycol) di (meth) acrylate, tetra (1,2-propylene glycol) di (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl ( (Meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate, diethylaminopropyl (meth) acrylate, 1,4-
Butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, styrene, divinylbenzene, 4-vinyltoluene, 4-vinylpyridine , N
-Vinylpyrrolidone, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1,3- (meth) acryloyloxy-2
-Hydroxypropane, methylenebisacrylamide,
N, N-dimethyl acrylamide, N-methylol acrylamide, etc. are mentioned, and these may combine 2 or more types.
【0047】各種助剤としては染料、顔料等の着色物
質、増感色素、感光性樹脂組成物に用いることが知られ
ている他の添加物、例えば可塑剤、接着促進剤、重合禁
止剤等の添加物を含有しても良い。As various auxiliaries, coloring substances such as dyes and pigments, sensitizing dyes, and other additives known to be used in photosensitive resin compositions, such as plasticizers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, etc. The additive may be included.
【0048】着色物質としては、例えば、フクシン、デ
ィスパースレッド、クリスタルバイオレット、メチルオ
レンジ、ナイルブルー2B、ビクトリアピュアブルー、
マラカイトグリーン、ナイトグリーンB、スピロンプル
ー等が挙げられる。Examples of coloring substances include fuchsin, disperse red, crystal violet, methyl orange, Nile blue 2B, Victoria pure blue,
Examples include malachite green, night green B, and spirone proof.
【0049】増感色素としては、例えば7−ジエチルア
ミノクマリン、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチ
ルアミノ)クマリン、3,3’−カルボニルビス(7−
ジメトキシ)クマリン、3−チエニルカルボニル−7−
ジエチルアミノクマリン、3−ベンゾイルクマリン、3
−ベンゾイル−7−メトキシクマリン、3−(4’−メ
トキシベンゾイル)クマリン、3,3’−カルボニルビ
ス−5,7−(ジメトキシ)クマリン、ベンザルアセト
フェノン、4’−ジメチルアミノベンザルアセトフェノ
ン、4’−アセトアミノベンザル−4−メトキシアセト
フェノン等が挙げられる。Examples of the sensitizing dye include 7-diethylaminocoumarin, 3,3'-carbonylbis (7-diethylamino) coumarin, and 3,3'-carbonylbis (7-.
Dimethoxy) coumarin, 3-thienylcarbonyl-7-
Diethylaminocoumarin, 3-benzoylcoumarin, 3
-Benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (4'-methoxybenzoyl) coumarin, 3,3'-carbonylbis-5,7- (dimethoxy) coumarin, benzalacetophenone, 4'-dimethylaminobenzalacetophenone, 4 Examples include'-acetaminobenzal-4-methoxyacetophenone and the like.
【0050】本発明によって得られた高分子化合物にこ
れらの成分を配合した組成物は、浸漬法、スプレー法、
スクリーン印刷法、回転塗布法等によってシリコーンウ
エーハ、金属基板、ガラス基板、セラミック基板等の基
材上に塗布され、溶剤の大部分を加熱乾燥することによ
り、粘着性のない塗膜とすることができる。この塗膜上
に、所望のパターンが描かれたマスクを通して活性光線
又は化学線を照射する。照射する活性光線又は化学線と
しては、紫外線、遠紫外線、可視光、電子線、X線など
がある。次いで、未照射部を適当な現像液で溶解除去す
ることにより所望のレリーフパターンを得る。現像液と
しては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどの
良溶媒やこれらと低級アルコール、水、芳香族炭化水素
等の貧溶媒との混合溶媒が用いられる。現像に先立ち、
この塗膜をオーブンあるいはホットプレート等を用いて
加熱処理を行ってもよい。現像後は必要に応じて、貧溶
媒等でリンスを行い、100℃前後で乾燥しパターンを
安定なものとする。The composition obtained by blending these components with the polymer compound obtained by the present invention can be prepared by the dipping method, the spray method,
It is applied on a substrate such as a silicon wafer, a metal substrate, a glass substrate, or a ceramic substrate by a screen printing method, a spin coating method or the like, and most of the solvent is dried by heating to form a non-adhesive coating film. it can. The coating film is irradiated with actinic rays or actinic rays through a mask on which a desired pattern is drawn. Examples of the actinic rays or actinic rays to be applied include ultraviolet rays, far ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays. Then, a desired relief pattern is obtained by dissolving and removing the unirradiated portion with an appropriate developing solution. As the developing solution, a good solvent such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, or N-methyl-2-pyrrolidone, or a mixed solvent thereof with a poor solvent such as lower alcohol, water, or aromatic hydrocarbon is used. Is used. Prior to development
You may heat-process this coating film using an oven or a hot plate. After development, if necessary, rinse with a poor solvent or the like and dry at about 100 ° C. to stabilize the pattern.
【0051】[0051]
【実施例】以下に本発明を実施例を用いて更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって制限される
ものではない。The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0052】実施例1 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物1当量に2−ヒドロキシエチルメタクリレート2当
量を反応させ、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラ
カルボン酸ジ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)
エステルを得た。得られた3,3’,4,4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸ジ(2−ヒドロキシエチルメタク
リレート)エステル0.10モルと4,4’−ジアミノ
ジフェニルエーテル0.10モル及びイソプロピルエチ
ルアミン0.25モルのN,Nジメチルホルムアミド溶
液に、o−(7−アゾベンゾトリアゾール−1−イル)
1,1,3,3−テトラメチルウロニウムヘキサフルオ
ロホスフェート0.20モルの50重量%N,Nジメチ
ルホルムアミド溶液を滴下し、室温で24時間撹拌した
後、大過剰の水/メタノール混合液にこの反応溶液を滴
下したところ、生成物が沈でんとして得られた。GPC
による重量平均分子量は41,000、収率は98%で
あった。得られた高分子化合物を溶媒に溶解し、ガラス
基板上にスピンコートした後、乾燥させて得られたこの
ポリマーの膜厚20μmのフィルムの365nm及び4
35nmにおける光透過率は、それぞれ3.5%及び9
2.0%であった。Example 1 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was reacted with 2 equivalents of 2-hydroxyethyl methacrylate to give 1 equivalent of 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid. Acid di (2-hydroxyethyl methacrylate)
The ester was obtained. 0.10 mol of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid di (2-hydroxyethyl methacrylate) ester thus obtained, 0.10 mol of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 0.25 mol of isopropylethylamine. In N, N dimethylformamide solution, o- (7-azobenzotriazol-1-yl)
A solution of 0.20 mol of 1,1,3,3-tetramethyluronium hexafluorophosphate in 50% by weight of N, N dimethylformamide was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours and then added to a large excess of water / methanol mixture. When the reaction solution was added dropwise, the product was obtained as a precipitate. GPC
The weight average molecular weight was 41,000 and the yield was 98%. The obtained polymer compound was dissolved in a solvent, spin-coated on a glass substrate, and dried to obtain a polymer having a thickness of 20 μm and having a thickness of 365 nm and 4
The light transmittances at 35 nm are 3.5% and 9 respectively.
2.0%.
【0053】実施例2 4,4’−オキシジフタル酸二無水物1当量に2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート2当量を反応させ、4,
4’−オキシジフタル酸ジ(2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート)エステルを得た。得られた4,4’−オキ
シジフタル酸ジ(2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト)エステル0.10モルと4,4’−ジアミノジフェ
ニルエーテル0.10モル及びイソプロピルエチルアミ
ン0.25モルのN,Nジメチルホルムアミド溶液にo
−(7−アゾベンゾトリアゾール−1−イル)1,1,
3,3−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフ
ェート0.20モル溶液を滴下し、室温で24時間撹拌
した後、大過剰の水/メタノール混合液にこの反応溶液
を滴下したところ、生成物が沈でんとして得られた。G
PCによる重量平均分子量は44,000、収率は98
%であった。得られた高分子化合物を溶媒に溶かし、ガ
ラス基板上にスピンコートした後、乾燥させて得られた
このポリマーの膜厚20μmのフィルムの365nm及
び435nmにおける光透過率は、それぞれ20.0%
及び92.8%であった。Example 2 1 equivalent of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride was reacted with 2 equivalents of 2-hydroxyethyl methacrylate to give 4,
4'-oxydiphthalic acid di (2-hydroxyethyl methacrylate) ester was obtained. A solution of the obtained 4,4'-oxydiphthalic acid di (2-hydroxyethyl methacrylate) ester (0.10 mol), 4,4'-diaminodiphenyl ether (0.10 mol) and isopropylethylamine (0.25 mol) in N, N dimethylformamide was added. o
-(7-azobenzotriazol-1-yl) 1,1,
After a 0.20 molar solution of 3,3-tetramethyluronium hexafluorophosphate was added dropwise and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours, the reaction solution was added dropwise to a large excess of water / methanol mixture, and the product was found to precipitate. Was obtained. G
Weight average molecular weight by PC is 44,000, yield is 98.
%Met. The polymer compound thus obtained was dissolved in a solvent, spin-coated on a glass substrate, and dried to obtain a film having a thickness of 20 μm and having a light transmittance of 20.0% at 365 nm and 435 nm, respectively.
And 92.8%.
【0054】実施例3 実施例1と同様にして得られた3,3’4,4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸ジ(2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート)エステル0.05モルと、3,3’4,
4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物1当量にメ
タノール2当量を反応させた3,3’4,4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸ジメチルエステル0.05モル
と、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル0.10モ
ル及びイソプロピルエチルアミン0.25モルのN,−
メチル−2−ピロリドン溶液に、o−(ベンゾトリアゾ
ール−1−イル)1,1,3,3−テトラメチルウロニ
ウムテトラフルオロボレート0.20モルと1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール0.20モルの混合物の50重
量%N−メチル−2−ピロリドン溶液を実施例1と同様
にして加えて高分子化合物を得た。GPCによる重量平
均分子量は39,000、収率は98%であった。得ら
れたポリマーの膜厚20μmのフィルムの365nm及
び435nmにおける光透過率は、それぞれ4.1%及
び91.7%であった。Example 3 0.05 mol of 3,3'4,4'-biphenyltetracarboxylic acid di (2-hydroxyethyl methacrylate) ester obtained in the same manner as in Example 1 was added to 3,3'4.
0.05 mol of 3,3'4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dimethyl ester prepared by reacting 1 equivalent of 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride with 2 equivalents of methanol, and 4,4'-diaminodiphenyl ether. 10 mol and 0.25 mol of isopropylethylamine N,-
To a methyl-2-pyrrolidone solution, a mixture of 0.20 mol of o- (benzotriazol-1-yl) 1,1,3,3-tetramethyluronium tetrafluoroborate and 0.20 mol of 1-hydroxybenzotriazole was added. A 50 wt% N-methyl-2-pyrrolidone solution was added in the same manner as in Example 1 to obtain a polymer compound. The weight average molecular weight by GPC was 39,000 and the yield was 98%. The light transmittance of the obtained polymer having a film thickness of 20 μm at 365 nm and 435 nm was 4.1% and 91.7%, respectively.
【0055】実施例4 実施例2と同様にして得られた4,4’−オキシジフタ
ル酸ジ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)エステ
ル0.25モルと、4,4’−オキシジフタル酸二無水
物1当量にメタノール2当量を反応させた4,4’−オ
キシジフタル酸ジメチルエステル0.05モルと、4,
4’−ジアミノジフェニルエーテル0.10モル及びイ
ソプロピルエチルアミン0.20モルのN,−メチル−
2−ピロリドン溶液に、o−(ベンゾトリアゾール−1
−イル)1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテト
ラフルオロボレート0.20モルと1−ヒドロキシ−7
−アゾベンゾトリアゾール0.20モルの混合物の50
重量%N−メチル−2−ピロリドン溶液を実施例1と同
様にして加えて高分子化合物を得た。GPCによる重量
平均分子量は40,000、収率は99%であった。得
られたポリマーの膜厚20μmのフィルムの365nm
及び435nmにおける光透過率は、それぞれ27.0
%及び92.8%であった。Example 4 0.25 mol of 4,4'-oxydiphthalic acid di (2-hydroxyethyl methacrylate) ester obtained in the same manner as in Example 2 and 1 equivalent of 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride 0.05 mol of 4,4'-oxydiphthalic acid dimethyl ester obtained by reacting 2 equivalents of methanol with 4,
0.10 mol of 4'-diaminodiphenyl ether and 0.20 mol of isopropylethylamine N, -methyl-
In a 2-pyrrolidone solution, o- (benzotriazole-1
-Yl) 0.20 mol of 1,1,3,3-tetramethyluronium tetrafluoroborate and 1-hydroxy-7
50 of a mixture of 0.20 mol of azobenzotriazole
A weight% N-methyl-2-pyrrolidone solution was added in the same manner as in Example 1 to obtain a polymer compound. The weight average molecular weight by GPC was 40,000 and the yield was 99%. The film thickness of the obtained polymer is 365 μm with a film thickness of 20 μm.
And the light transmittances at 435 nm are 27.0 respectively.
% And 92.8%.
【0056】実施例1〜4で得られた高分子化合物のN
−メチル−2−ピロリドン溶液10g(固形分20重量
%)、テトラ(1,2−プロピレングリコール)ジアク
リレート0.50g及びミヒラーズケトンを配合した
後、撹拌混合し感光材料とした。フィルタで濾過した
後、シリコンウエハ上に回転塗布した後、ホットプレー
ト上100℃で200秒加熱して溶剤を乾燥させて感光
性塗膜とした。乾燥後の膜厚は20μmであった。塗膜
上にフォトマスクを介し超高圧水銀灯を光源とするミラ
ープロジェクション露光機でパターン露光を行った。こ
のときの露光量は100mJ/cm2であった。このあ
とN−メチル−2−ピロリドンとメチルアルコールの混
合溶液(容積比4/1)で浸漬現像を行った後、エタノ
ールでリンスした。現像後のパターン形状を測定、観察
し、得られた残膜率(膜厚を初期の膜厚で割った値)と
最小開口スルーホール径(開口径)を表1に示した。N of the polymer compounds obtained in Examples 1 to 4
-Methyl-2-pyrrolidone solution (10 g, solid content 20% by weight), tetra (1,2-propylene glycol) diacrylate (0.50 g) and Michler's ketone were blended, and then mixed with stirring to obtain a light-sensitive material. After filtering with a filter, spin coating was performed on a silicon wafer, followed by heating at 100 ° C. for 200 seconds on a hot plate to dry the solvent, thereby forming a photosensitive coating film. The film thickness after drying was 20 μm. Pattern exposure was performed on the coating film via a photomask with a mirror projection exposure machine using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source. The exposure amount at this time was 100 mJ / cm 2 . After that, immersion development was performed with a mixed solution of N-methyl-2-pyrrolidone and methyl alcohol (volume ratio 4/1), and then rinsed with ethanol. The pattern shape after development was measured and observed, and the obtained residual film ratio (value obtained by dividing the film thickness by the initial film thickness) and the minimum opening through hole diameter (opening diameter) are shown in Table 1.
【0057】[0057]
【表1】 [Table 1]
【0058】次に、現像後のウエハについて、窒素雰囲
気下で100℃で15分、200℃で20分、350℃
で60分加熱し最終硬化膜としたところ、最終硬化膜厚
10μmの良好なポリイミドパターンが得られた。実施
例に示したように本発明の高分子化合物から調製された
感光性樹脂組成物は比較例1の組成物に比べて感光特性
に優れたものであることがわかる。Next, with respect to the wafer after development, under a nitrogen atmosphere, 100 ° C. for 15 minutes, 200 ° C. for 20 minutes, 350 ° C.
When the final cured film was heated at 60 ° C. for 60 minutes, a good polyimide pattern having a final cured film thickness of 10 μm was obtained. As shown in the examples, it can be seen that the photosensitive resin composition prepared from the polymer compound of the present invention has excellent photosensitivity as compared with the composition of Comparative Example 1.
【0059】比較例1 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ジ
(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)エステル0.
50モルのγ−ブチロラクトン溶液にジシクロヘキシル
カルボジイミド1.10モルのγ−ブチロラクトン溶液
を滴下した後、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
0.50モルを反応させた。反応溶液を濾過し、副生物
を除去した後、大過剰のメタノールに滴下したところ、
生成物が沈殿として得られた。GPCによる重量平均分
子量は21,000、収率は75%であった。得られた
高分子化合物を溶媒に溶かし、ガラス基板上に回転塗布
した後、乾燥させて得られたポリマーの膜厚20μmの
フィルムの365nm及び435nmにおける光透過率
は、それぞれ0.1%及び68.6%であった。 以下
実施例1〜4と同様の評価を行ったところ、露光量10
0mJ/cm2 では露光部も現像液に溶解してしまい
(残膜率=0)、パターンは得られなかった。Comparative Example 1 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid di (2-hydroxyethyl methacrylate) ester
To a 50 mol γ-butyrolactone solution was added dropwise 1.10 mol γ-butyrolactone solution of dicyclohexylcarbodiimide, and then 0.50 mol of 4,4′-diaminodiphenyl ether was reacted. After filtering the reaction solution and removing the by-product, it was added dropwise to a large excess of methanol,
The product was obtained as a precipitate. The weight average molecular weight by GPC was 21,000 and the yield was 75%. The polymer compound obtained was dissolved in a solvent, spin-coated on a glass substrate, and dried to obtain a polymer having a film thickness of 20 μm. The light transmittances at 365 nm and 435 nm were 0.1% and 68, respectively. It was 0.6%. When the same evaluation as in Examples 1 to 4 was performed below, an exposure amount of 10
At 0 mJ / cm 2 , the exposed portion was also dissolved in the developing solution (residual film rate = 0), and no pattern was obtained.
【0060】比較例2 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ジ
(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)エステル0.
50モルに塩化チオニル1.50モルを反応させ、過剰
分を除去した後、4,4’−ジアミノジフェニルエーテ
ル0.50モルを反応させたところ、ゲル化した。Comparative Example 2 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid di (2-hydroxyethyl methacrylate) ester
When 50 mol was reacted with 1.50 mol of thionyl chloride to remove an excess amount, 0.50 mol of 4,4′-diaminodiphenyl ether was reacted, and gelation occurred.
【0061】[0061]
【発明の効果】本発明によれば、ウロニウム誘導体を縮
合剤とすることにより縮合重合の収率を向上できる。ま
た、ウロニウム誘導体を縮合剤として得たポリイミド前
駆体高分子化合物は、同一波長で比較したときの光透過
性に優れ、これをを用いた感光材料により感度、耐熱
性、形状等の特性が良好なパターンを製造することがで
きる。According to the present invention, the yield of condensation polymerization can be improved by using a uronium derivative as a condensing agent. Further, a polyimide precursor polymer compound obtained by using a uronium derivative as a condensing agent is excellent in light transmittance when compared at the same wavelength, and a photosensitive material using this has excellent properties such as sensitivity, heat resistance, and shape. The pattern can be manufactured.
Claims (9)
和二重結合を有する化合物を含む出発物質を縮合重合さ
せることを特徴とする高分子化合物の製造方法。1. A process for producing a polymer compound, which comprises subjecting a starting material containing a compound having an unsaturated double bond to condensation polymerization using a uronium derivative as a condensing agent.
ン酸二無水物と(メタ)アクリル基含有アルコールとを
反応させて得られたテトラカルボン酸ジエステルと、ジ
アミノ化合物とを、ウロニウム誘導体を縮合剤として縮
合重合させることを特徴とするポリイミド前駆体の製造
方法。2. A tetracarboxylic acid diester obtained by reacting an aromatic and / or heterocyclic tetracarboxylic dianhydride with a (meth) acrylic group-containing alcohol, and a diamino compound are condensed with a uronium derivative. A method for producing a polyimide precursor, which comprises performing condensation polymerization as an agent.
ン酸二無水物と1級アルコールとを反応させて得られた
テトラカルボン酸ジエステルと、不飽和二重結合を有す
るジアミノ化合物とを、ウロニウム誘導体を縮合剤とし
て縮合重合させることを特徴とするポリイミド前駆体の
製造方法。3. A tetracarboxylic acid diester obtained by reacting an aromatic and / or heterocyclic tetracarboxylic acid dianhydride with a primary alcohol, and a diamino compound having an unsaturated double bond are treated with uronium. A method for producing a polyimide precursor, which comprises subjecting a derivative to condensation polymerization as a condensing agent.
ロニウム誘導体であることを特徴とする請求項1、2又
は3に記載の高分子化合物の製造方法。 【化1】 4. The method for producing a polymer compound according to claim 1, 2 or 3, wherein the uronium derivative is the uronium derivative represented by Chemical formula 1. Embedded image
れるベンゾトリアゾ−ル誘導体を縮合剤とすることを特
徴とする請求項1、2、3又は4に記載の高分子化合物
の製造方法。 【化2】 5. The method for producing a polymer compound according to claim 1, wherein the benzotriazole derivative represented by Chemical formula 2 is used as a condensing agent in addition to the uronium derivative. Embedded image
ベンゾトリアゾール−1−イル)−1,1,3,3−テ
トラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェートを用
いることを特徴とする請求項4又は5に記載の高分子化
合物の製造方法。6. O- (7azobenzotriazol-1-yl) -1,1,3,3-tetramethyluronium hexafluorophosphate is used as the uronium derivative, according to claim 4 or 5. A method for producing the polymer compound described.
ベンゾトリアゾール−1−イル)−1,1,3,3−テ
トラメチルヘキサフルオロボレートを用い、さらにベン
ゾトリアゾ−ル誘導体として、1−ヒドロキシベンゾト
リアゾールを組み合わせて用いることを特徴とする請求
項5に記載の高分子化合物の製造方法。7. O- (7azobenzotriazol-1-yl) -1,1,3,3-tetramethylhexafluoroborate is used as the uronium derivative, and 1-hydroxybenzotriazole is used as the benzotriazole derivative. 6. The method for producing a polymer compound according to claim 5, wherein the polymer compounds are used in combination.
ベンゾトリアゾール−1−イル)−1,1,3,3−テ
トラメチルヘキサフルオロボレートを用い、さらにベン
ゾトリアゾ−ル誘導体として、1−ヒドロキシ−7−ア
ゾベンゾトリアゾールを組み合わせて用いることを特徴
とする請求項5に記載の高分子化合物の製造方法。8. O- (7azobenzotriazol-1-yl) -1,1,3,3-tetramethylhexafluoroborate is used as the uronium derivative, and 1-hydroxy-7 is used as the benzotriazole derivative. -The method for producing a polymer compound according to claim 5, wherein azobenzotriazole is used in combination.
とを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の高分子
化合物の製造方法。9. The method for producing a polymer compound according to claim 1, wherein the condensation polymerization is carried out in the presence of a basic catalyst.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1352496A JPH09208697A (en) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | Production of polymeric compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1352496A JPH09208697A (en) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | Production of polymeric compound |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09208697A true JPH09208697A (en) | 1997-08-12 |
Family
ID=11835551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1352496A Pending JPH09208697A (en) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | Production of polymeric compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09208697A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023106101A1 (en) * | 2021-12-09 | 2023-06-15 | 日産化学株式会社 | Resin composition |
| JP2024004837A (en) * | 2022-06-29 | 2024-01-17 | 東京応化工業株式会社 | Manufacturing method of polyamide resin |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP1352496A patent/JPH09208697A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023106101A1 (en) * | 2021-12-09 | 2023-06-15 | 日産化学株式会社 | Resin composition |
| JP2024004837A (en) * | 2022-06-29 | 2024-01-17 | 東京応化工業株式会社 | Manufacturing method of polyamide resin |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3424085B2 (en) | Method for producing relief structure by i-ray irradiation | |
| EP1405139B1 (en) | Photosensitive polyimide precursor compositions | |
| JPH04288365A (en) | Photopolymer material | |
| JP3446909B2 (en) | Photoinitiator, photosensitive composition, photosensitive material and method for producing pattern | |
| JPH1124257A (en) | Photosensitive polyimide precursor composition and pattern forming method by using same | |
| JPH07278214A (en) | Photopolymerization initiator, photosensitive composition, photosensitive material, and production of pattern | |
| EP0636939B1 (en) | Photoinitiator compositions and photosensitive materials using the same | |
| JP2001516074A (en) | Negative-working photoresist composition based on polyimide precursor | |
| JP3168909B2 (en) | Photosensitive resin composition, method for producing polyimide pattern, and method for producing semiconductor element | |
| JPH09208697A (en) | Production of polymeric compound | |
| JP2000247958A (en) | Hexaarylbiimidazole compound, method for producing photosensitive composition and pattern using the same, and electronic component | |
| JP3748086B2 (en) | Photosensitive material, relief pattern manufacturing method and polyimide pattern manufacturing method | |
| JPH07330814A (en) | Photoinitiator, photosensitive composition, photosensitive material and production of relief pattern | |
| JPH09208696A (en) | Production of polymeric compound | |
| JPH1138619A (en) | Photosensitive polyimide precursor composition and pattern forming method by using the same | |
| JPH09325479A (en) | Manufacture of photosensitive composition, photosensitive material, relief pattern, and polyimide pattern | |
| JP3651615B2 (en) | Photoinitiator, photosensitive composition, photosensitive material and method for producing pattern | |
| JPH05224419A (en) | Forming method for polyimide fine pattern | |
| JPH08292573A (en) | Production of photo-initiator, photosensitive composition, photosensitive material and relief pattern | |
| JP2000019727A (en) | Photosensitive polyimide precursor composition and manufacture of pattern using it | |
| JP2001159818A (en) | Photosensitive polyimide precursor composition | |
| JPH11316459A (en) | Photosensitive composition, photosensitive material, method for producing relief pattern and method for producing polyimide pattern | |
| JPH10228108A (en) | Photosensitive composition, photosensitive material, production of relief pattern and production of polyimide pattern | |
| JP2002328471A (en) | Photosensitive composition, photosensitive material, method for producing relief pattern and method for producing polyimide pattern | |
| JPH08123024A (en) | Composition and production of photosensitive composition, photosensitive material and relief pattern using same |