JPH0922037A - レーザビーム発生装置 - Google Patents

レーザビーム発生装置

Info

Publication number
JPH0922037A
JPH0922037A JP7168950A JP16895095A JPH0922037A JP H0922037 A JPH0922037 A JP H0922037A JP 7168950 A JP7168950 A JP 7168950A JP 16895095 A JP16895095 A JP 16895095A JP H0922037 A JPH0922037 A JP H0922037A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
fundamental wave
light
crystal
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7168950A
Other languages
English (en)
Inventor
Shiro Shichijo
司朗 七条
Kiyobumi Muro
清文 室
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority to JP7168950A priority Critical patent/JPH0922037A/ja
Publication of JPH0922037A publication Critical patent/JPH0922037A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 出力光の飽和を防止して、高出力の短波長光
源を実現できるレーザビーム発生装置を提供する。 【構成】 レーザビーム発生装置は、ポンピング光26
を出力する半導体レーザ20と、ミキシング光27を出
力する半導体レーザ31と、ポンピング光26を透過し
ミキシング光27を反射させる偏光ビームスプリッタ3
7と、Nd:YVO4 から成るレーザ媒質23と、KN
bO3 から成る非線形光学素子24と、曲面鏡から成る
出力ミラー41などで構成される。非線形光学素子24
として、ビームウォークオフを生ぜしめる結晶方位に切
り出されたオフカットKNbO3 結晶を使用する。レー
ザ発振光の波長1064nmとミキシング光の波長86
0nmという2つの基本波のミキシングによって、波長
478nmの和周波ブルーグリーン光が発生する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえば半導体レーザ
による光ポンピングで固体レーザから第1レーザ光を発
生させるとともに、別の半導体レーザからの第2レーザ
光と和周波混合させて、直接変調可能な短波長レーザ光
を得るように構成されたレーザビーム発生装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】GaAlAs等から成る半導体レーザを
使用してNd:YAG(イットリウム・アルミニウム・
ガーネット)等から成る固体レーザを光ポンピングして
別波長のレーザ光を発生する構成は従来から知られてい
る。ところが、こうした固体レーザの発振波長は、半導
体レーザからのポンピング波長よりも長くなるため、光
ディスク、光磁気ディスク等の光記憶装置や短波長コヒ
ーレント光源を必要とする用途には不向きである。
【0003】そこで、より短波長のレーザ光を得るには
SHG(第2高調波発生)を利用する方法がある。たと
えば、1つの光共振器内に固体レーザ媒質と非線形光学
材料から成るバルク単結晶を配置して、固体レーザが発
振するレーザ光を第2高調波に変換している。固体レー
ザ媒質としてYAG結晶、非線形光学材料としてKTP
(KTiOPO4:燐酸チタニルカリウム)結晶を使用
すると、YAGレーザの発振波長1.064μmを波長
0.532μmというグリーンのレーザ光に変換するこ
とができる。
【0004】また、より短波長のブルーグリーン光を得
るために、YAGレーザの光共振器内に非線形光学材料
としてKNbO3を配置して、YAGレーザの発振波長
0.946μmを第2高調波発生によって波長0.47
3μmのレーザ光に変換できることも報告されている。
【0005】しかしながら、上述のように共振器内に固
体レーザ媒質とSHG結晶を配置する共振器内SHGレ
ーザでは、電気信号による直接変調が困難であるため、
光ディスク等の光記憶装置に応用するには別に外部変調
器を設ける必要がある。
【0006】一方、直接変調が可能な固体レーザ装置と
して、レーザ共振器内に固体レーザ媒質と非線形光学結
晶を配置し、発振波長とは異なる波長の光を第2基本波
として外部から導入し、固体レーザ媒質から発振した第
1基本波と第2基本波とを非線形光学結晶内で混合させ
て和周波光を発生する構成が知られている。
【0007】第1基本波を非線形光学結晶の結晶軸以外
の方向に伝搬する場合その伝搬方向と和周波の伝搬方向
とは、一致せず、ある角度ρで交差している。これを臨
界位相整合という。角度ρはビームウォークオフ角度と
呼ばれている。一方、結晶軸方向に基本波を伝搬する場
合は、基本波と和周波の伝搬方向は一致し、これを非臨
界位相整合(90°位相整合)と呼びρ=0になる。さ
らに、非臨界位相整合(ρ=0)の場合は、基本波と高
調波の伝搬方向が完全に一致して、両者の相互作用長が
長くとれるため、臨界位相整合と比べて変換効率が高く
なる。
【0008】臨界位相整合の場合、基本波と高調波の伝
搬方向が一致しないため、両者の相互作用長が短くなっ
て変換効率が減少する。そのため変換効率を優先する場
合、通常、非臨界位相整合を利用する方が有利になる。
【0009】和周波発生の場合には、2つの波長を使用
する関係から波長選択の自由度が増え、一方が固体レー
ザの発振波長として固定されたとしても、第2のミキシ
ング光の波長を適切に選ぶことによって、非臨界位相整
合を満足する可能性がある。
【0010】こうした和周波発生レーザにおいて、非線
形光学結晶としてb軸−KTPを使用した場合、固体レ
ーザをポンピングする半導体レーザの発振波長809n
mと固体レーザの発振波長1064nmとを混合するこ
とによって、非臨界位相整合の下で波長459nmの和
周波光を発生できる構成が知られている(特開昭64−
62621)。しかしながら、KTPは温度許容度、波
長許容度とも高いが、変換定数が低いために、和周波光
の出力は1mW程度が限界である。
【0011】また、別の和周波発生レーザにおいて、非
線形光学結晶としてa軸−KNbO3を使用した場合、
波長1064nmのレーザ光を第1基本波とすると、非
臨界(90度)位相整合が可能な場合が2つ存在する。
1)b軸方位に切り出したa軸−KNbO3において、
第1基本波1064nmと第2基本波910nmとを混
合することによって、波長490nmの和周波光が発生
する。2)a軸方位に切り出したb軸−KNbO3にお
いて、第1基本波1064nmと第2基本波695nm
とを混合することによって、波長420nmの和周波光
が発生する(特願平5−247089)。
【0012】こうした非臨界位相整合では、レーザ媒質
への励起光強度が比較的弱い場合、すなわち共振器内で
の第2基本波の光強度が比較的弱い場合であっても、特
に効率よく和周波発生を行うことが可能である。
【0013】一方共振器を構成しないで、臨界位相整合
で和周波レーザを得た例がOPTICSLETTERS Vol.16,No.7
P449-P451(1991)に示されている。これによるとAr
レーザと半導体レーザをβ−BaB24結晶内でミキシ
ングして、波長369nmで1.4μWの和周波出力を
得ている。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】β−BaB24の和周
波変換効率は低く、高い出力を得るためには和周波変換
効率がβ−BaB24より2桁大きいKNbO3を用い
ることが望ましい。
【0015】しかしながら、非線形光学材料であるKN
bO3結晶は、変換効率は高いものの温度許容度が極め
て狭く(たとえばKNbO3のa軸で0.3℃/c
m)、わずかな温度分布の不均一によって変換効率が低
下してしまう。
【0016】KNbO3結晶の中にブルー光が存在する
と、入射基本波の波長で吸収が増大するBEIRA(Blu
e Enhanced IR Absorption) という現象が発生すること
が知られている(H.Mabuchi,E.S.Polzik,and H.J.Kimbl
e;J.Opt.Soc.Am.B,11,2023(1994))。a軸−KNbO3
用いた第2高調波発生において波長860nmの入力基
本波の強度が増加した場合には、BEIRA現象と狭い
温度許容度のために、波長430nmのブルー光の出力
が飽和することが知られている。
【0017】その原因は次のように考えられている。外
部から基本波を入力すると、第2高調波発生によって発
生するブルー光の伝搬軸方向での強度分布は、非線形光
学結晶内で一様でなく、入射端面からの距離の2乗で増
加する分布になる。一方、基本波の吸収はブルー光強度
に比例するため、基本波の吸収係数も入射端面からの距
離の2乗で増加する分布になる。このため、非線形光学
結晶内での基本波吸収による発熱は一様分布とはなら
ず、伝搬軸方向に温度分布を生じる(L.E.Busse,L.Goldb
erg,and M.R.Surette and G.Mizell,J.Appl.Phys.75
(2),1102(1994))。この温度分布は通常数℃程度であっ
て、比較的温度許容度の広い非線形光学結晶では問題な
らないが、KNbO3結晶は温度許容度が狭いために変
換効率の低下を招くおそれがある。
【0018】和周波レーザの場合には、こうした現象の
影響は従来明らかでなかった。KNbO3結晶を用いた
和周波レーザにおいて、励起光強度が比較的弱い場合で
あっても効率よくブルー光を発生させることができる。
しかし、より高出力のブルー光を得るために励起レーザ
媒質への励起光強度をより強くすると、変換効率が低下
するという問題が判明した。
【0019】図11は、和周波発生におけるBEIRA
現象による効率低下の例を示すグラフである。ここで
は、光共振器内にレーザ媒質としてNd:YVO4結晶
、非線形光学材料としてa軸−KNbO3結晶を配置
し、第1の半導体レーザでレーザ媒質を励起して第1基
本波(波長1064nm)を発振させ、さらに第2の半
導体レーザからのレーザ光を第2基本波(波長690n
m)として共振器内に導入してミキシングさせることに
よって、波長418nmのブルー光を発生している。そ
の際に、KNbO3結晶はペルチェ素子で温調した。こ
のグラフは、第2基本波の強度を一定(690nm半導
体レーザから得られる最大の17mW)にして、横軸が
レーザ媒質を励起する励起光の出力を示し、縦軸が和周
波光の出力を示す。
【0020】グラフの破線で示すように、本来ならばブ
ルー光の出力は励起光出力に対して直線的に変化するは
ずである。しかし、実際には実線で示すように、励起光
出力400mW近傍で飽和してしまい、それ以上励起光
を強くしても逆に出力が減少している。この原因とし
て、共振器内部で第1基本波(波長1064nm)の強
度が高くなるにつれて、それの吸収量が増えることとブ
ルー光強度の増加によるBEIRA現象による統計の光
吸収量が格段に増加するため、発熱の影響を顕著に受け
るためであると考えられる。したがって、励起光強度を
増大しても和周波出力の高出力化には一定の限界がある
ことが判る。
【0021】他の構成例として、光共振器内にレーザ媒
質としてNd:YVO4結晶 、非線形光学材料としてb
軸−KNbO3結晶を配置して、第1基本波(波長10
64nm)をレーザ発振させ、外部から第2基本波(波
長910nm)として共振器内に導入してミキシングさ
せることによって、波長490nmのブルーグリーン光
を発生させた場合にも、上述と同様に、和周波出力の飽
和が観測された。
【0022】このようにKNbO3を用いた和周波レー
ザにおいて、励起光強度の増強による光出力の飽和は、
次の2つの理由によると考えられる。1)和周波レーザ
において、内部パワー100Wを超えるような光強度の
大きい基本波(波長1064nm)を共振器内に閉じこ
めて使用するため、光吸収係数がわずかに増加しても発
熱量が格段に増加してしまう。2)出力のブルー光は一
方向に出射するため、伝搬軸に沿って大きな温度分布が
発生し易い。
【0023】本発明の目的は、出力光の飽和を防止し
て、高出力の短波長光源を実現できるレーザビーム発生
装置を提供することである。
【0024】
【課題を解決するための手段】本発明は、第1基本波の
ための共振器と、前記共振器内に配置され、前記第1基
本波のレーザ発振を行なうためのレーザ媒質と、前記共
振器内に配置され、前記第1基本波および第2基本波を
混合することによって和周波光を発生させる非線形光学
結晶と、前記第2基本波を前記非線形光学結晶内に導入
するための光導入手段とを備え、前記非線形光学結晶
は、その中を伝搬する前記第1基本波と前記和周波光の
ビームウォークオフが生じるように、その結晶軸の向き
と前記第1基本波の入射方向の関係が定められたことを
特徴とするレーザビーム発生装置である。 また本発明は、前記非線形光学結晶は、KNbO3で形
成されていることを特徴とする。 また本発明は、KNbO3における3つの結晶軸のうち
a軸の屈折率na、b軸の屈折率nbおよびc軸の屈折
率ncがnb>na>ncの関係を満足する場合、c軸
からの頂角をθ、a−b面内のa軸からの角度をφとす
ると、80°≦θ≦110°かつ15°≦φ≦75°の
関係を満たす方向に伝搬方向が設定されるようにKNb
3が切り出されていることを特徴する。 また本発明は、波長が実質的に1064nmである第1
基本波と波長が実質的に780nmである第2基本波と
を混合させて、波長が実質的に450nmであるコヒー
レント光ビームを発生することを特徴とする。 また本発明は、波長が実質的に1064nmである第1
基本波と波長が実質的に860nmである第2基本波と
を混合させて、波長が実質的に475nmであるコヒー
レント光ビームを発生することを特徴とする。 また本発明は、波長が実質的に1064nmである第1
基本波と波長が実質的に830nmである第2基本波と
を混合させて、波長が実質的に466nmであるコヒー
レント光ビームを発生することを特徴とする。
【0025】
【作用】本発明に従えば、非線形光学結晶をビームウォ
ークオフが生ずる結晶方位に切り出して、第1および第
2基本波の光ビームと和周波光ビームとの空間的重なり
を小さくすることによって、BEIRA現象による温度
上昇を抑制できる。したがって、レーザ媒質の励起光が
高くなっても和周波出力が飽和しなくなるため、高い変
換効率および高出力化を実現できる。以下詳細に説明す
る。
【0026】図1は、非線形光学結晶における温度分布
とビーム伝搬方向の相違を示す説明図である。図1
(a)はビームウォークオフが無い場合を示し、基本波
の伝搬方向と和周波の伝搬方向とが一致しており、交差
角度ρは0である。図1(b)はビームウォークオフが
有る場合を示し、基本波の伝搬方向と和周波の伝搬方向
とが一定の角度ρで交差している。ここで、zは結晶の
入射端面から光軸に沿ったの位置であり、xは光軸に対
して垂直方向の位置である。
【0027】図1(a)に示すように、光の進行距離が
長くなるにつれて結晶内温度が指数関数的に上昇してお
り、結晶の出射端面付近でかなりの高温度になる。一
方、図1(b)の温度分布に示すように、図1(a)と
比べて温度上昇が大幅に抑制されていることが判る。
【0028】和周波発生において高い変換効率を保ちな
がら、BEIRA現象に起因する効率低下を防止するに
は、次の3つの条件が必要である。
【0029】(A)和周波発生における位相整合条件を
満足する結晶方位であること。
【0030】(B)この方位で和周波発生をもたらす実
効的非線形定数が大きい値を示す結晶材料であること。
【0031】(C)適当なビームウォークオフ角度ρを
有すること。
【0032】ここで、非線形光学結晶としてKNbO3
を使い、第1基本波が波長1064nmである場合を例
にとって具体的に説明する。
【0033】まず(A)の条件に関して、光進行方向お
よび波長の関数である屈折率をnとおくと、下記の式
(1)で位相整合する結晶角度を計算できる。
【0034】
【数1】
【0035】ここで、結晶方位を示す角度θ、φは、図
2に示すように、KNbO3結晶における3つの結晶軸
のうちa軸の屈折率na、b軸の屈折率nbおよびc軸
の屈折率ncがnb>na>ncの関係であり、c軸か
らの頂角をθ、a−b面内のa軸からの角度をφとして
定義している。また、λ1、λ2、λ3は、それぞれ第1
基本波、第2基本波および和周波の波長である。
【0036】図3は、第2基本波の波長変化に対する位
相整合の方位を示すグラフである。ここでは、頂角θ=
90°で固定し、横軸は第2基本波であるミキシング波
長λ2 、縦軸は位相整合の角度φを示す。たとえば、ミ
キシング波長が780nmである場合、位相整合を満た
す結晶の切り出し角度はθ=90°かつφ=42°であ
る。また、ミキシング波長860nmの場合、結晶切り
出し角度はθ=90°かつφ=63°となる。
【0037】以上のように式(1)によって、ミキシン
グ波長が決まると位相整合する結晶方位が一義的に定ま
ることが判る。
【0038】次に条件(B)について検討する。上述の
ように位相整合可能な結晶方位が定まると、その方位に
沿った有効非線形定数が大きいことが要求される。結晶
のa−b面内での有効非線形定数deff は、下記の式
(2)で求まる。ここで、d32、d31は非線形光学定
数、na、nbはa軸およびb軸の屈折率である。
【0039】
【数2】
【0040】たとえば、φ=43°、d32=15pm/
V、d31=18pm/Vを代入するとdeff =16pm
/Vとなり、充分大きな値を有することが判る。
【0041】次に条件(C)について検討する。a−b
面内でのビームウォークオフ角度ρは、下記の式(3)
で求まる。
【0042】
【数3】
【0043】図4は、結晶角φに対するビームウォーク
オフ角度ρの変化を示すグラフである。ここで、横軸は
結晶角φ、縦軸はビームウォークオフ角度ρを示す。こ
のグラフを見ると、結晶角φ=43°においてビームウ
ォークオフ角度ρがほぼ最大の約0.96°になる。こ
の数値は、後述するようにBEIRA現象による影響も
少なく、しかも上記3つの条件A〜Cを満足する。
【0044】こうして頂角θ=90°の場合を考察した
が、KNbO3は2軸性結晶であるため、θ=90°か
らシフトした方位であっても位相整合の可能性がある
が、有効非線形定数deff は低下する傾向になり、しか
もビームウォークオフ角度ρは大きな値になる。ビーム
ウォークオフ角度ρが必要以上に大きくなると、変換効
率の低下が生じる。したがって、80°≦θ≦110°
の範囲で位相整合を図ることが好ましく、実質的にθ=
90°がより好ましい。
【0045】次に、上記3つの条件A〜CとBEIRA
現象に起因する効率低下との因果関係を説明する。BE
IRA現象による基本波の吸収量は、和周波光と基本波
光との空間的重なり具合に比例する。非線形光学結晶の
結晶軸と一致する方位で位相整合が可能になる非臨界的
な位相整合(90度位相整合)の場合、2つの基本波光
と和周波光は結晶軸に沿って共軸で伝搬するため、空間
的な重なりが大きくなる。伝搬軸上の和周波光の強度分
布は、結晶内の伝搬距離の2乗で上昇する。したがっ
て、結晶内の温度分布は伝搬距離の2乗で上昇し、出射
端面付近で最高温度になる。
【0046】一方、結晶軸からずれた方位で位相整合が
可能な場合には、発生する和周波光は、基本波の伝搬方
位に対してビームウォークオフ角度ρだけずれた方位に
伝搬する。このため両者の空間的重なりが減少するた
め、基本波の伝搬軸に沿った温度分布は低下する。
【0047】次に、ビームウォークオフが存在する場合
のBEIRA現象を定量的に考察する。ここでは簡明化
のために、2つの基本波の波長が等しい場合の和周波発
生を説明する。
【0048】基本波および和周波の空間的電界分布をそ
れぞれE1(x、y)、E2(x、y、z)とおくと、下
記の式(4)(5)で表せる。ここで、W0 は基本波の
モード半径、Lは結晶長、ρはビームウォークオフ角度
である。
【0049】
【数4】
【0050】図5は端面からの結晶内位置zにおける和
周波光の強度分布を示し、図5(a)はビームウォーク
オフ無し、図5(b)はビームウォークオフ有りを示
す。縦軸は和周波光の強度、横軸は基本波の伝搬軸(z
軸)に対して垂直面(x−y面)内の位置である。ここ
では、基本波E1 のモード半径W0 は40μmであり、
結晶入射端面をz=0として、結晶位置z=1、2、
3、4、5mmでの強度分布を示す。また、出力光の強
度は、強度分布をx−y面内で積分した値となる。
【0051】図5(a)は、ビームウォークオフ角度ρ
=0°で非臨界型位相整合の場合を示し、結晶位置zが
1mmから増えるにつれて和周波光の強度が急激に増加
していることが判る。また、基本波の強度分布の中心と
和周波の強度分布の中心は一致している。
【0052】図5(b)は、ビームウォークオフ角度ρ
=0.9°で臨界型位相整合の場合を示し、図5(a)
と同様に、結晶位置zが1mmから増えるにつれて和周
波光の強度が急激に増加していることが判る。また、ビ
ームウォークオフのため、和周波の強度分布の中心は基
本波の強度分布の中心から徐々にシフトしている。さら
に、臨界型位相整合の場合には、ビームウォークオフに
よって、非臨界型位相整合に比べて実質的な変換効率が
減少することは避けられないが、z=5mmでの各グラ
フを比べると、ピーク値こそ少し低下するが全体の積分
値は殆ど低下していないことが判る。
【0053】また、和周波の存在によって増加する基本
波の吸収量は、和周波の強度分布と基本波の強度分布の
重なり積分に比例する。ビームウォークオフ無しの場
合、基本波と和周波の各強度分布は常に重なるため、伝
搬軸に沿った距離zの2乗に比例して吸収量が増加す
る。一方、ビームウォークオフ有りの場合、基本波の伝
搬軸に対して和周波の強度分布は次第にシフトしていく
ため、両者の重なり積分は急速に飽和してしまう。
【0054】図6は、伝搬軸zに沿った赤外吸収係数の
変化を示すグラフである。ρ=0°の場合、結晶位置z
に対して吸収係数が急激に増加しているが、ρ=0.9
°の場合、吸収係数の増加は大幅に抑制されており、伝
搬軸方向の温度分布の発生が約1/4以下に抑えられて
いることが判る。
【0055】ビームウォークオフ角度が大きくなり過ぎ
ると、BEIRAによる温度上昇は抑制されるが、今度
は和周波の発生効率が極端に低下するため、高出力化に
は不利となる。たとえば、ビームウォークオフ角度ρ=
4°の場合を計算すると、格段に出力が低くなる。した
がって、KNbO3においては、a−b面内のa軸から
の角度φは15°<φ<75°の関係を満たすことによ
って、温度分布および変換効率の観点で適切なビームウ
ォークオフ角度に設定できる。
【0056】このように和周波出力がさほど低下せず、
しかもBEIRA現象に起因する基本波吸収による温度
上昇を抑制するには、非線形光学結晶の種類に応じて適
切なビームウォークオフ角度に設定する手法が極めて効
果的であることが判る。
【0057】具体的には、半導体レーザやレーザ媒質、
非線形光学結晶などの入手性を考慮すると下記表の構成
例が好ましく、高出力で短波長の光源を容易に実現する
ことができる。
【0058】
【表1】
【0059】
【実施例】
(実施例1)図7は、本発明の第1実施例を示す構成図
である。本実施例では、波長1064nmと波長860
nmという2つの基本波のミキシングによって、波長4
75nmの和周波ブルーグリーン光を発生させる例を示
す。このレーザビーム発生装置は、レーザ媒質23を励
起する波長809nmのポンピング光26を出力する半
導体レーザ20(出力1W)と、ポンピング光26を集
光するコリメータレンズ21aと、波長860nmのミ
キシング光27を出力する半導体レーザ31(出力20
0mW)と、ミキシング光27を集光するコリメータレ
ンズ33と、ポンピング光26を透過し、ミキシング光
27を反射させる偏光ビームスプリッタ37と、ポンピ
ング光26よびミキシング光27を集束する集光レンズ
21bと、Ndが1%程度ドープされたNd:YVO4
から成るレーザ媒質23と、KNbO3から成る非線形
光学素子24と、曲面鏡から成る出力ミラー41などで
構成される。
【0060】レーザ媒質23の光入射側の表面23aと
出力ミラー41とで光共振器25を構成している。な
お、レーザ媒質23の表面23bと非線形光学素子24
の表面24aとは互いに接している。また、ポンピング
用の半導体レーザ20は、ペルチェ温度調節回路(不図
示)によって所定温度に制御されている。
【0061】レーザ媒質23の表面23aには、レーザ
媒質23の発振波長である波長1064nmに対して反
射率が99.9%であって、かつポンピング光26の波
長809nmに対して透過率が95%以上となるコーテ
ィングが施されている。レーザ媒質23の表面23bに
は、波長1064nmに対して透過率が99.9%以上
となるコーテイングが施されている。
【0062】半導体レーザ20から放射されるポンピン
グ光26の偏光方向は、光軸29の垂直上方30と一致
しているため、偏光ビームスプリッタ37をそのまま通
過する。このポンピング光26が集光レンズ21bによ
って集光されてレーザ媒質23に入射すると、レーザ媒
質23中に反転分布が形成される。レーザ媒質23はN
d:YVO4で形成されており、光共振器25の中で波
長1064nmのレーザ発振が起こる。
【0063】非線形光学素子24はKNbO3結晶で形
成されており、結晶方位は、図8に示すように、c軸に
対して角度θ=90°かつa軸に対してφ=62°の方
向に一致しており、この結晶方位に沿って切り出したい
わゆるa−b軸カット結晶を使用しており、結晶厚みは
7mmである。なお、3つの結晶軸は、a軸の屈折率n
a、b軸の屈折率nbおよびc軸の屈折率ncがnb>
na>ncの関係となるように規定される。非線形光学
素子24のレーザ媒質23側の表面24aには、波長1
064nmに対して透過率99.9%で、かつ波長86
0nmに対して透過率95%となる光学コーティングが
施されている。
【0064】一方、半導体レーザ31から放射されるミ
キシング光27の偏光方向は、図7紙面の垂直方向と一
致しているため、偏光ビームスプリッタ37によって右
方に反射される。このミキシング光27が集光レンズ2
1bによって集光されてレーザ媒質23を通過し、非線
形光学素子24の表面24a上にビームウエストを形成
するように入射する。第1基本波(波長1064nm)
となるレーザ発振光および第2基本波(波長860n
m)となるミキシング光27の各偏光方向は、非線形光
学素子24であるKNbO3結晶のa−b面に平行とな
るように配置される。すると、非線形光学素子24の非
線形光学効果によって、第1基本波と第2基本波との和
周波(波長478nm)が発生し、c軸に平行な偏光方
向を持つコヒーレントな出力ビーム29が出力ミラー4
1から放射される。
【0065】図9は、860nmのミキシング光強度を
120mWで一定にし、ポンピング光26の出力変化に
対する和周波の出力を示すグラフである。実線で示すよ
うに、和周波出力はポンピング光強度に対して直線的に
変化し、ポンピング光を1Wまで上げると約30mWの
和周波出力が安定に得られていることが判る。また、図
11に示した非臨界型位相整合である1064nmと6
90nmとの組合せによって418nmの和周波を発生
する場合と比較すると、図9ではポンピング光強度の変
化に対する和周波出力の飽和や減少が観測されていな
い。また、両者のミキシング光強度は一致しないが、ミ
キシング光出力が大きくなるほど和周波出力が大きくな
って、BEIRA現象の影響を強く受けると考えられ
る。しかしながら、本実施例のミキシング光出力は12
0mWという大きい数値にもかかわらず和周波光出力は
格段に増加しており、この点からもBEIRA現象の改
善効果は明らかである。
【0066】このようにオフカットのKNbO3結晶を
用いて臨界型位相整合をとることによって、和周波の大
出力化が実現する。
【0067】(実施例2)図10は、本発明の第2実施
例を示す構成図である。本実施例では、波長1064n
mと波長780nmという2つの基本波のミキシングに
よって、波長450nmの和周波ブルー光を発生させる
例を示す。このレーザビーム発生装置は、図7に示す構
成とほぼ同様であるが、レーザ媒質23と非線形光学素
子24との間に、ミキシング光を共振器25内に導入す
るためのダイクロイックミラー40が介在している点、
レーザ媒質23の光入射面に微小球面23cが形成され
ている点などが相違する。
【0068】レーザビーム発生装置は、レーザ媒質23
を励起する波長809nmのポンピング光26を出力す
る半導体レーザ20と、ポンピング光26を集光するコ
リメータレンズ21a、21bと、Ndが1%程度ドー
プされたNd:YVO4から成るレーザ媒質23と、波
長780nmのミキシング光27を出力する半導体レー
ザ31(型番SDL−5401)と、ミキシング光27
を集光するコリメータレンズ33aと、ミキシング光2
7のビーム形状を整形するアナモルフィックプリズムペ
ア32と、ビーム整形されたミキシング光27を集光す
る焦点調整用の集光レンズ33bと、レーザ媒質23で
増幅される波長1064nmのレーザ発振光を反射し、
かつ波長780nmのミキシング光27を透過するダイ
クロイックミラー40と、KNbO3から成る非線形光
学素子24と、曲面鏡から成る出力ミラー41などで構
成される。
【0069】レーザ媒質23の光入射側の表面23aに
は、フォトリソグラフィ技術によって微小球面23cが
形成されており、この微小球面23cと出力ミラー41
とで光共振器25を構成している。レーザ媒質23の表
面23aには、レーザ媒質23の発振波長である波長1
064nmに対して反射率が99.9%コーティングが
施されている。レーザ媒質23の表面23bには、波長
1064nmに対して透過率が99.9%以上となるコ
ーテイングが施されている。
【0070】半導体レーザ20から放射されるポンピン
グ光26が集光レンズ21bによって集光されてレーザ
媒質23に入射すると、レーザ媒質23中に反転分布が
形成される。レーザ媒質23はNd:YVO4で形成さ
れており、光共振器25の中で波長1064nmのレー
ザ発振が起こる。また、ポンピング用の半導体レーザ2
0は、ペルチェ温度調節回路(不図示)によって所定温
度に制御される。
【0071】非線形光学素子24はKNbO3結晶で形
成されており、結晶方位は、図8を参照して、c軸に対
して角度θ=90°かつa軸に対してφ=42°の方向
に一致しており、この結晶方位に沿って切り出したいわ
ゆるa−b軸カット結晶を使用しており、結晶厚みは5
mmである。非線形光学素子24のレーザ媒質23側の
表面24aには、波長1064nmに対して透過率9
9.9%で、かつ波長450nmに対して透過率95%
となる光学コーティングが施されている。非線形光学素
子24は、ペルチェ温度調節回路(不図示)によって所
定温度に制御され、温度チューニングによって位相整合
を達成している。
【0072】一方、半導体レーザ31から放射されるミ
キシング光27が集光レンズ33bによって集光され、
ダイクロイックミラー40を通過してレーザ発振光と共
軸になる。ミキシング光27は非線形光学素子24の表
面24a上にビームウエストを形成するように入射す
る。第1基本波(波長1064nm)となるレーザ発振
光および第2基本波(波長780nm)となるミキシン
グ光27の各偏光方向は、非線形光学素子24であるK
NbO3 結晶のa−b面に平行となるように配置され
る。すると、非線形光学素子24の非線形光学効果によ
って、第1基本波と第2基本波との和周波(波長450
nm)が発生し、c軸に平行な偏光方向を持つコヒーレ
ントな出力ビーム35が出力ミラー41から放射され
る。
【0073】本実施例では、たとえばポンピング用の半
導体レーザ20の出力を1W、ミキシング用の半導体レ
ーザ31の出力を70mWに設定した場合、出力12m
Wで波長450nmの和周波ブルー光を得ることができ
た。
【0074】このようにオフカットのKNbO3結晶を
用いて臨界型位相整合をとることによって、和周波の大
出力化が実現する。
【0075】
【発明の効果】以上詳説したように本発明によれば、非
線形光学結晶としてビームウォークオフが生ずる結晶方
位に切り出した材料、たとえばオフカットKNbO3
晶を使用することによって、第1および第2基本波の光
ビームと和周波光ビームとの空間的重なりが小さくな
り、BEIRA現象による温度上昇および不安定性を抑
制できる。したがって、レーザ媒質の励起光が高くなっ
ても和周波出力が飽和しなくなるため、高い変換効率お
よび高出力化の短波長光源を容易に実現できる。
【0076】また、第2基本波を変調することにより、
外部変調器を用いなくとも和周波光の変調が可能にな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】非線形光学結晶における温度分布とビーム伝搬
方向の相違を示す説明図であり、図1(a)はビームウ
ォークオフ無し、図1(b)はビームウォークオフ有り
を示す。
【図2】KNbO3結晶における結晶方位を示す角度
θ、φを定義する図である。
【図3】第2基本波の波長変化に対する位相整合の方位
を示すグラフである。
【図4】結晶角φに対するビームウォークオフ角度ρの
変化を示すグラフである。
【図5】端面からの結晶位置zにおける和周波光の強度
分布を示し、図5(a)はビームウォークオフ無し、図
5(b)はビームウォークオフ有りを示す。
【図6】伝搬軸zに沿った赤外吸収係数の変化を示すグ
ラフである。
【図7】本発明の第1実施例を示す構成図である。
【図8】KNbO3結晶の切り出し方位を示す図であ
る。
【図9】ポンピング光26の出力変化に対する和周波の
出力を示すグラフである。
【図10】本発明の第2実施例を示す構成図である。
【図11】和周波発生におけるBEIRA現象による効
率低下の例を示すグラフである。
【符号の説明】
20 ポンピング用の半導体レーザ 21a、33、33a コリメータレンズ 21b、33b 集光レンズ 23 レーザ媒質 24 非線形光学素子 25 光共振器 26 ポンピング光 27 ミキシング光 29、35 出力ビーム 32 アナモルフィックプリズムペア 40 ダイクロイックミラー 41 出力ミラー
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年11月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図8】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図10】
【図7】
【図9】
【図11】

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基本波のための共振器と、 前記共振器内に配置され、前記第1基本波のレーザ発振
    を行なうためのレーザ媒質と、 前記共振器内に配置され、前記第1基本波および第2基
    本波を混合することによって和周波光を発生させる非線
    形光学結晶と、 前記第2基本波を前記非線形光学結晶内に導入するため
    の光導入手段とを備え、 前記非線形光学結晶は、その中を伝搬する前記第1基本
    波と前記和周波光のビームウォークオフが生じるよう
    に、その結晶軸の向きと前記第1基本波の入射方向の関
    係が定められたことを特徴とするレーザビーム発生装
    置。
  2. 【請求項2】 前記非線形光学結晶は、KNbO3で形
    成されていることを特徴とする請求項1記載のレーザビ
    ーム発生装置。
  3. 【請求項3】 KNbO3における3つの結晶軸のうち
    a軸の屈折率na、b軸の屈折率nbおよびc軸の屈折
    率ncがnb>na>ncの関係を満足する場合、c軸
    からの頂角をθ、a−b面内のa軸からの角度をφとす
    ると、80°≦θ≦110°かつ15°≦φ≦75°の
    関係を満たす方向に伝搬方向が設定されるようにKNb
    3が切り出されていることを特徴する請求項2記載の
    レーザビーム発生装置。
  4. 【請求項4】 波長が実質的に1064nmである第1
    基本波と波長が実質的に780nmである第2基本波と
    を混合させて、波長が実質的に450nmであるコヒー
    レント光ビームを発生することを特徴とする請求項1ま
    たは2記載のレーザビーム発生装置。
  5. 【請求項5】 波長が実質的に1064nmである第1
    基本波と波長が実質的に860nmである第2基本波と
    を混合させて、波長が実質的に475nmであるコヒー
    レント光ビームを発生することを特徴とする請求項1ま
    たは2記載のレーザビーム発生装置。
  6. 【請求項6】 波長が実質的に1064nmである第1
    基本波と波長が実質的に830nmである第2基本波と
    を混合させて、波長が実質的に466nmであるコヒー
    レント光ビームを発生することを特徴とする請求項1ま
    たは2記載のレーザビーム発生装置。
JP7168950A 1995-07-04 1995-07-04 レーザビーム発生装置 Pending JPH0922037A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7168950A JPH0922037A (ja) 1995-07-04 1995-07-04 レーザビーム発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7168950A JPH0922037A (ja) 1995-07-04 1995-07-04 レーザビーム発生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0922037A true JPH0922037A (ja) 1997-01-21

Family

ID=15877553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7168950A Pending JPH0922037A (ja) 1995-07-04 1995-07-04 レーザビーム発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0922037A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002097527A1 (en) * 2001-05-25 2002-12-05 Mitsubishi Materials Corporation Optical wavelength conversion method, optical wavelength conversion system, program and medium, and laser oscillation system
KR100728278B1 (ko) * 2005-07-05 2007-06-13 삼성전자주식회사 광펌핑 반도체 레이저
KR100773540B1 (ko) * 2005-06-08 2007-11-05 삼성전자주식회사 광펌핑 방식의 면발광 레이저
US7362783B2 (en) 2001-06-15 2008-04-22 Cobolt Ab Optical frequency mixing
CN100430813C (zh) * 2004-11-12 2008-11-05 中国科学院光电技术研究所 高效激光倍频装置
CN101814691A (zh) * 2010-04-15 2010-08-25 上海应用技术学院 透明陶瓷激光器
JP2013007931A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Nikon Corp レーザ装置、露光装置及び検査装置
CN104577685A (zh) * 2015-01-04 2015-04-29 中国科学院上海光学精密机械研究所 光纤激光双程泵浦1.2μm波段范围激光器
CN120810353A (zh) * 2025-07-10 2025-10-17 西安精英光电技术有限公司 一种260nm波长低噪声全固态紫外激光产生方法及装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002097527A1 (en) * 2001-05-25 2002-12-05 Mitsubishi Materials Corporation Optical wavelength conversion method, optical wavelength conversion system, program and medium, and laser oscillation system
US7227680B2 (en) 2001-05-25 2007-06-05 Mitsubishi Materials Corporation Optical wavelength conversion method, optical wavelength conversion system, program and medium, and laser oscillation system
US7362783B2 (en) 2001-06-15 2008-04-22 Cobolt Ab Optical frequency mixing
CN100430813C (zh) * 2004-11-12 2008-11-05 中国科学院光电技术研究所 高效激光倍频装置
KR100773540B1 (ko) * 2005-06-08 2007-11-05 삼성전자주식회사 광펌핑 방식의 면발광 레이저
KR100728278B1 (ko) * 2005-07-05 2007-06-13 삼성전자주식회사 광펌핑 반도체 레이저
CN101814691A (zh) * 2010-04-15 2010-08-25 上海应用技术学院 透明陶瓷激光器
JP2013007931A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Nikon Corp レーザ装置、露光装置及び検査装置
CN104577685A (zh) * 2015-01-04 2015-04-29 中国科学院上海光学精密机械研究所 光纤激光双程泵浦1.2μm波段范围激光器
CN120810353A (zh) * 2025-07-10 2025-10-17 西安精英光电技术有限公司 一种260nm波长低噪声全固态紫外激光产生方法及装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
USRE35215E (en) Frequency converted laser diode and lens system therefor
JPH03505950A (ja) 低損失外部光学共振器を使用するレーザ高調波発生器
JPH06209135A (ja) 固体レーザ装置
JP4008609B2 (ja) レーザ装置およびレーザ加工装置
JP4202730B2 (ja) 固体レーザ装置
JPH04171778A (ja) 固体レーザ装置
JPH0922037A (ja) レーザビーム発生装置
US6807210B2 (en) Systems and a method for generating blue laser beam
JP3683360B2 (ja) 偏光制御素子および固体レーザー
JP2824884B2 (ja) 偏光制御素子および固体レーザー装置
JP2005275095A (ja) 光源装置、半導体露光装置、レーザー治療装置、レーザー干渉計装置およびレーザー顕微鏡装置
JP3833179B2 (ja) 光波長変換装置、及び光波長変換方法
CN101383477A (zh) 激光二次谐波发生装置
EP0820130B1 (en) Laser beam emitting apparatus
JPH04137775A (ja) 半導体レーザ励起固体レーザ
GB2503810A (en) Diode pumped solid state laser
JP3197820B2 (ja) 固体レーザ装置
JPH06265955A (ja) 波長変換素子
JPH0595144A (ja) 半導体レーザ励起固体レーザ
JPH0927648A (ja) 和周波レーザ装置
JPH09232665A (ja) 出力安定化第二高調波光源
JP2663197B2 (ja) レーザーダイオードポンピング固体レーザー
JP2000114633A (ja) 波長変換固体レーザ装置
JPH06265951A (ja) 光波長変換装置
JP2660576B2 (ja) レーザーダイオードポンピング固体レーザー