JPH09220869A - 平版印刷版支持体の製造方法 - Google Patents
平版印刷版支持体の製造方法Info
- Publication number
- JPH09220869A JPH09220869A JP3222596A JP3222596A JPH09220869A JP H09220869 A JPH09220869 A JP H09220869A JP 3222596 A JP3222596 A JP 3222596A JP 3222596 A JP3222596 A JP 3222596A JP H09220869 A JPH09220869 A JP H09220869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- smut
- group
- printing plate
- lithographic printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims abstract description 35
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 11
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- -1 or the like Substances 0.000 description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 29
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 29
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 14
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical group O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 4
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 2-butylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCC)=CC=C21 BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 3
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxypropionate Chemical group COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 3
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCIMSXHQSIHQW-UHFFFAOYSA-N [O].[P] Chemical compound [O].[P] AFCIMSXHQSIHQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 2
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical compound CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N p-aminodiphenylamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 2
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N (2-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVGIKVYOESLAHS-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylnaphthalen-1-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC(S(N)(=O)=O)=CC2=C1 BVGIKVYOESLAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N (4-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=NC=1C=CC=CC=1)NC1=CC=CC=C1 FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPSVFNQMURAADJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dicyclohexyloxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical compound C1CCCCC1OC(=O)C(S(=O)(=O)O)CC(=O)OC1CCCCC1 QPSVFNQMURAADJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C(C)=C HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C=C NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioctyl-3-sulfobutanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)(C(C(O)=O)S(O)(=O)=O)CCCCCCCC CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIAGYOWSALSPII-UHFFFAOYSA-N 2,3-dioctylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCCCCCCC)C(CCCCCCCC)=CC2=C1 JIAGYOWSALSPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXZSGVZSSMCMB-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(Cl)=CC=C1Cl LFXZSGVZSSMCMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTFZCGPANOZASK-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethyl-2,5-dioxopyrrol-1-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1C(=O)C(C)=C(C)C1=O MTFZCGPANOZASK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTOPCEPRAXJJEO-UHFFFAOYSA-N 2-butoxybenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCOC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O CTOPCEPRAXJJEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMWKFQYHRBCLGU-UHFFFAOYSA-N 2-butoxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(OCCCC)=CC=C21 YMWKFQYHRBCLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFNSAOSWJSCHID-UHFFFAOYSA-N 2-butylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QFNSAOSWJSCHID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1Cl GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 2-chloroaniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1Cl AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-n-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenylacetamide Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1NC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAZLASMTBCLJKO-UHFFFAOYSA-N 2-decylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O UAZLASMTBCLJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBIWALRETKPJEV-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxybenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O SBIWALRETKPJEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPSOKRZKUPBFMU-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C21 QPSOKRZKUPBFMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKURFTDCIWJBDF-UHFFFAOYSA-N 2-hexylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCCCC)=CC=C21 PKURFTDCIWJBDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 2-iminonaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=N)CC(=O)C2=C1 CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCWMNWOBNHPTGX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-sulfamoylethyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCS(N)(=O)=O NCWMNWOBNHPTGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(3-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propanoylprop-2-enamide Chemical compound CCC(=O)NC(=O)C(C)=C VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANCPBLUIOKGULL-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-3-oxopent-4-enamide Chemical compound NC(=O)C(=C)C(=O)C=C ANCPBLUIOKGULL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWHHBVWZZLQUIH-UHFFFAOYSA-N 2-octylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QWHHBVWZZLQUIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEFNVSITOPKYCS-UHFFFAOYSA-N 2-octylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCCCCCC)=CC=C21 MEFNVSITOPKYCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVUWFIWQOSNKQJ-UHFFFAOYSA-N 3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one;sodium Chemical compound [Na].[Na].O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 DVUWFIWQOSNKQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonic acid Chemical compound COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(S(O)(=O)=O)=C1 HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-formylphenoxy)methyl]thiophene-2-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OCC1=C(C#N)SC=C1 REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyoctadecan-2-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)C(C)=O MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDGANUIVKUCJGK-UHFFFAOYSA-N 3-nonyl-3-phenoxydodecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCCCCCCC)(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 WDGANUIVKUCJGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMVDXEDSYBMIFW-UHFFFAOYSA-N 3-pentyl-3-phenoxyoctane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCC(CCCCC)(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 IMVDXEDSYBMIFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNBZYRKENAOQOF-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxydodecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 CNBZYRKENAOQOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INZNWRQMMQYAHP-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-2-(sulfonylmethyl)prop-2-enamide Chemical compound O=S(=O)=CC(C(=O)N)=CC1=CC=CC=C1 INZNWRQMMQYAHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2-methylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-3-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C(=CC(O)=CC=2)C)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 4-acetylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 4-anilinobenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-methoxyphenyl)benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1NC1=CC=C(N)C=C1 RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene-2-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXSDRJUQIXHGAZ-UHFFFAOYSA-N 4-nonyl-4-phenoxytridecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCCCCCCC)(CCCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 XXSDRJUQIXHGAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxybenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTPDRIJQXKEGS-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxytridecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 IWTPDRIJQXKEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical class C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2-anilinobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 7-benzo[a]phenalenone Chemical class C1=CC(C(=O)C=2C3=CC=CC=2)=C2C3=CC=CC2=C1 HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229910001152 Bi alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000744472 Cinna Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- 239000004368 Modified starch Substances 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000221561 Ustilaginales Species 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940052223 basic fuchsin Drugs 0.000 description 1
- IONYAPWXJUCNPR-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1]benzofuran-1-one Chemical class C1=CC=CC2=C3C(=O)COC3=CC=C21 IONYAPWXJUCNPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N bis(2-aminophenyl)methanone Chemical class NC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1N GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical group 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- ZWJINEZUASEZBH-UHFFFAOYSA-N fenamic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ZWJINEZUASEZBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O hydroxy-oxo-phenylphosphanium Chemical compound O[P+](=O)C1=CC=CC=C1 KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethene-1,2-diamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC=CNC1=CC=CC=C1 VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N n-acetyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=O)C(C)=C OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(C)=C FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N n-nitro-2-phenylprop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)NC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 229940060184 oil ingredients Drugs 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940048084 pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019983 sodium metaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N tetrasodium;silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 より高品質の基板、特に過酷条件での汚れ難
さ、より高い耐刷性能の平版印刷版支持体の製造方法を
提供する 【解決手段】 金属イオンを含む酸性電解液中にて、ア
ルミニウムウエブを電気化学的に粗面化を行う方法にお
いて、電気化学的粗面化の途中にその前に生成したスマ
ット量のうち5%〜70%を、前記スマットを生成した
電解液と同じ酸のスマット除去液を用いてスマット除去
を行うことを特徴とする平版印刷版支持体の製造方法に
よって達成される。その場合前記酸性電解液が硝酸であ
ることが望ましい。
さ、より高い耐刷性能の平版印刷版支持体の製造方法を
提供する 【解決手段】 金属イオンを含む酸性電解液中にて、ア
ルミニウムウエブを電気化学的に粗面化を行う方法にお
いて、電気化学的粗面化の途中にその前に生成したスマ
ット量のうち5%〜70%を、前記スマットを生成した
電解液と同じ酸のスマット除去液を用いてスマット除去
を行うことを特徴とする平版印刷版支持体の製造方法に
よって達成される。その場合前記酸性電解液が硝酸であ
ることが望ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版支持体
の製造方法に関するものであり、特にアルミニウム、ア
ルミニウム合金を用いた製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものであり、特にアルミニウム、ア
ルミニウム合金を用いた製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】印刷版用アルミニウム支持体、特に平版
印刷版支持体としては、アルミニウム、アルミニウム合
金が用いられている。一般に、アルミニウム支持体を平
板印刷版支持体として使用するためには、感光材との適
度な密着性と保水性を有し、更に均一に粗面化されてい
ることが必要である。均一に粗面化されているというこ
とは、生成されたピットの大きさが適度に揃っており、
かつその様なピットが全面均一に生成していることが必
要である。また、このピットは、版材の印刷性能である
汚れ難さ、耐刷性等著しい影響を及ぼし、その良否は版
材製造上重要な要素になっている。
印刷版支持体としては、アルミニウム、アルミニウム合
金が用いられている。一般に、アルミニウム支持体を平
板印刷版支持体として使用するためには、感光材との適
度な密着性と保水性を有し、更に均一に粗面化されてい
ることが必要である。均一に粗面化されているというこ
とは、生成されたピットの大きさが適度に揃っており、
かつその様なピットが全面均一に生成していることが必
要である。また、このピットは、版材の印刷性能である
汚れ難さ、耐刷性等著しい影響を及ぼし、その良否は版
材製造上重要な要素になっている。
【0003】支持体の粗面化方法としては、機械的粗面
化、化学的粗面化、電気化学的粗面化等があるが、電気
化学的粗面化法としては、交流電解エッチング法が一般
的に採用されており、電流波形としては、普通の正弦波
交流電流、矩形波などの特殊交番波形電流が用いられて
いる。そして、黒鉛等適当な電極を対極とし、交流電流
により粗面化処理を行っている。電気化学的粗面化処理
は通常1回おこなわれるが、必要に応じては同じ処理を
2回繰り返したり、異なる条件で粗面化処理を重あわせ
たり求める性能にたいして各種方法で粗面化が行われて
いる。
化、化学的粗面化、電気化学的粗面化等があるが、電気
化学的粗面化法としては、交流電解エッチング法が一般
的に採用されており、電流波形としては、普通の正弦波
交流電流、矩形波などの特殊交番波形電流が用いられて
いる。そして、黒鉛等適当な電極を対極とし、交流電流
により粗面化処理を行っている。電気化学的粗面化処理
は通常1回おこなわれるが、必要に応じては同じ処理を
2回繰り返したり、異なる条件で粗面化処理を重あわせ
たり求める性能にたいして各種方法で粗面化が行われて
いる。
【0004】本発明者らは、特開平3−79799合公
報に記載の方法によって、電源波形から均一な砂目立て
が出来ることを提案している。
報に記載の方法によって、電源波形から均一な砂目立て
が出来ることを提案している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、今日、
ユーザーからの品質要求は更に高くなってきており、よ
り高品質の基板、特に過酷条件での汚れ難さ、より高い
耐刷性能が必要であった。
ユーザーからの品質要求は更に高くなってきており、よ
り高品質の基板、特に過酷条件での汚れ難さ、より高い
耐刷性能が必要であった。
【0006】本発明の目的は上記課題を解消し、より高
品質の基板、特に過酷条件での汚れ難さ、より高い耐刷
性能の平版印刷版支持体の製造方法を提供することにあ
る。
品質の基板、特に過酷条件での汚れ難さ、より高い耐刷
性能の平版印刷版支持体の製造方法を提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意検討を行った結果下記発明にいた
ったのである。すなわち、本発明の上記課題は、金属イ
オンを含む酸性電解液中にて、アルミニウムウエブを電
気化学的に粗面化を行う方法において、電気化学的粗面
化の途中にその前に生成したスマット量のうち5%〜7
0%を、前記スマットを生成した電解液と同じ酸のスマ
ット除去液を用いてスマット除去を行うことを特徴とす
る平版印刷版支持体の製造方法によって達成される。そ
の場合前記酸性電解液が硝酸であることが望ましい。
を解決するため、鋭意検討を行った結果下記発明にいた
ったのである。すなわち、本発明の上記課題は、金属イ
オンを含む酸性電解液中にて、アルミニウムウエブを電
気化学的に粗面化を行う方法において、電気化学的粗面
化の途中にその前に生成したスマット量のうち5%〜7
0%を、前記スマットを生成した電解液と同じ酸のスマ
ット除去液を用いてスマット除去を行うことを特徴とす
る平版印刷版支持体の製造方法によって達成される。そ
の場合前記酸性電解液が硝酸であることが望ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明に於て、使用されるアルミ
ニウム板には、純アルミニウム、アルミニウム合金が含
まれる。アルミニウム合金としては、種々な物が使用出
来、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ニッケル、ビスマス等の合金とアルミニ
ウムの合金が用いられる。アルミニウム合金は、種々あ
るが、オフセット印刷用版材として例えば、特公昭58
−6635号公報では、FeとSi成分を限定し、金属
間化合物を特定している。また、特公昭55−2887
4号公報では、冷間圧延率、中間純鈍を行い、電解粗面
化の電圧印加方法を限定している。特公昭62−413
04、特公平1−46577、特公平1−46578、
特公平1−47545、特公平1−35910、特公昭
63−60823、特公昭63−60824、特公平4
−13417、特公平4−19290、特公平4−19
291、特公平4−19293、特公昭62−5054
0、特開昭61−272357、特開昭62−7406
0、特開昭61−201747、特開昭63−1432
34、特開昭63−143235、特開昭63−255
338、、特開平1−283350各号公報、EP27
2528、米国特許4902353、同481830
0、EP394816、米国特許5019188、西ド
イツ特許3232810、米国特許435230、EP
239995、米国特許4822715、西ドイツ特許
3507402、米国特許4715903、西ドイツ特
許3507402、EP289844,米国特許500
9722、同4945004、西ドイツ特許37140
59、米国特許4686083、同4861396、E
P158941各号明細書等に示されているアルミニウ
ム合金のみならず、一般的なものもすべて含まれる。板
材の製造方法としては、熱間圧延を使用した方法ととも
せに連続鋳造で行なう方法も最近出願されている。例え
ば東ドイツ特許252799号明細書では、双ロール方
式で行なわれた板材が紹介されている。EP22373
7,米国特許4802935,同4800950号各明
細書では、微量合金成分を限定した形で出願されてい
る。EP415238号明細書では、連鋳、連鋳+熱延
を提案している。
ニウム板には、純アルミニウム、アルミニウム合金が含
まれる。アルミニウム合金としては、種々な物が使用出
来、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ニッケル、ビスマス等の合金とアルミニ
ウムの合金が用いられる。アルミニウム合金は、種々あ
るが、オフセット印刷用版材として例えば、特公昭58
−6635号公報では、FeとSi成分を限定し、金属
間化合物を特定している。また、特公昭55−2887
4号公報では、冷間圧延率、中間純鈍を行い、電解粗面
化の電圧印加方法を限定している。特公昭62−413
04、特公平1−46577、特公平1−46578、
特公平1−47545、特公平1−35910、特公昭
63−60823、特公昭63−60824、特公平4
−13417、特公平4−19290、特公平4−19
291、特公平4−19293、特公昭62−5054
0、特開昭61−272357、特開昭62−7406
0、特開昭61−201747、特開昭63−1432
34、特開昭63−143235、特開昭63−255
338、、特開平1−283350各号公報、EP27
2528、米国特許4902353、同481830
0、EP394816、米国特許5019188、西ド
イツ特許3232810、米国特許435230、EP
239995、米国特許4822715、西ドイツ特許
3507402、米国特許4715903、西ドイツ特
許3507402、EP289844,米国特許500
9722、同4945004、西ドイツ特許37140
59、米国特許4686083、同4861396、E
P158941各号明細書等に示されているアルミニウ
ム合金のみならず、一般的なものもすべて含まれる。板
材の製造方法としては、熱間圧延を使用した方法ととも
せに連続鋳造で行なう方法も最近出願されている。例え
ば東ドイツ特許252799号明細書では、双ロール方
式で行なわれた板材が紹介されている。EP22373
7,米国特許4802935,同4800950号各明
細書では、微量合金成分を限定した形で出願されてい
る。EP415238号明細書では、連鋳、連鋳+熱延
を提案している。
【0009】本発明では、このようなアルミニウム板に
各種表面処理、転写等を行い、均一な凹凸を有する印刷
原板を得ることが出来、その上にジアゾ化合物等の感光
層を設けることにより、優れた感光性平版印刷版を得る
ことが出来る。何れにおいても、適切な材料を選ぶこと
が必要である。
各種表面処理、転写等を行い、均一な凹凸を有する印刷
原板を得ることが出来、その上にジアゾ化合物等の感光
層を設けることにより、優れた感光性平版印刷版を得る
ことが出来る。何れにおいても、適切な材料を選ぶこと
が必要である。
【0010】次に、これらのアルミニウム板の処理条件
を示す。本発明は電解粗面化に関するものであるが、機
械的粗面化,化学的粗面化等組み合わせても良い。特公
昭57−16918に組み合わせの発明が開示されてい
る。まず、機械的粗面化の前に必要に応じて行う処理に
ついて説明する。トリクレン等の溶剤、界面活性材が用
いられているか、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリエッチング剤を用いる方法が広く用いられて
いる。特開平2−026793号公報では、脱脂処理に
ついて記載がされている。例えば、溶剤脱脂方法として
は、ガソリン、ケロシン、ベンジン、ソルベントナフ
サ、ノルマルヘキサン等の石油系溶剤を用いる方法、ト
ルクロルエチレン、メチレンクロライド、パークロルエ
チレン、1,1,1−トリクロルエタン等の塩素系溶剤
を用いる方法がある。アルカリ脱脂方法としては、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫
酸ナトリウム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オル
トケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ
酸ナトリウム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩の水
溶液を用いる方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナト
リウムネ、第二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリ
ウム、ピロリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリ
ウム等の燐酸塩水溶液を用いる方法等がある。アリカリ
脱脂方法を用いる場合、処理時間、処理温度によって、
アルミニウム表面が溶解する可能性があり得るので、脱
脂処理については、溶解現象が伴わないようにする必要
がある。界面活性剤による脱脂処理としては、アニオン
界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオン性界面活性
剤、及び両性活性剤の水溶液が用いられ、各種の市販品
等を用いることが出来る。脱脂方法としては、浸漬法、
吹き付け法、液を布等に含ませて擦る方法等用いること
が出来る。また、浸漬や吹き付け法には、超音波を用い
てもよい。
を示す。本発明は電解粗面化に関するものであるが、機
械的粗面化,化学的粗面化等組み合わせても良い。特公
昭57−16918に組み合わせの発明が開示されてい
る。まず、機械的粗面化の前に必要に応じて行う処理に
ついて説明する。トリクレン等の溶剤、界面活性材が用
いられているか、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリエッチング剤を用いる方法が広く用いられて
いる。特開平2−026793号公報では、脱脂処理に
ついて記載がされている。例えば、溶剤脱脂方法として
は、ガソリン、ケロシン、ベンジン、ソルベントナフ
サ、ノルマルヘキサン等の石油系溶剤を用いる方法、ト
ルクロルエチレン、メチレンクロライド、パークロルエ
チレン、1,1,1−トリクロルエタン等の塩素系溶剤
を用いる方法がある。アルカリ脱脂方法としては、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫
酸ナトリウム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オル
トケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ
酸ナトリウム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩の水
溶液を用いる方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナト
リウムネ、第二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリ
ウム、ピロリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリ
ウム等の燐酸塩水溶液を用いる方法等がある。アリカリ
脱脂方法を用いる場合、処理時間、処理温度によって、
アルミニウム表面が溶解する可能性があり得るので、脱
脂処理については、溶解現象が伴わないようにする必要
がある。界面活性剤による脱脂処理としては、アニオン
界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオン性界面活性
剤、及び両性活性剤の水溶液が用いられ、各種の市販品
等を用いることが出来る。脱脂方法としては、浸漬法、
吹き付け法、液を布等に含ませて擦る方法等用いること
が出来る。また、浸漬や吹き付け法には、超音波を用い
てもよい。
【0011】機械的粗面化には、転写,ブラシ,液体ホ
ーニング等いろいろあり、生産性等を考慮して選択する
ことが必要である。凹凸面をアルミニウム板に圧接する
転写方法としては、種々の方法を使用することが出来
る。即ち、前述の特開昭55−74898号,特開昭6
0−36195号,特開昭60−203496号各公報
の他、転写を数回行うことを特徴とした特開平6−55
871号公報、表面が弾性であることを特徴とした特開
平6−24168号公報記載の方法も適用可能である。
ーニング等いろいろあり、生産性等を考慮して選択する
ことが必要である。凹凸面をアルミニウム板に圧接する
転写方法としては、種々の方法を使用することが出来
る。即ち、前述の特開昭55−74898号,特開昭6
0−36195号,特開昭60−203496号各公報
の他、転写を数回行うことを特徴とした特開平6−55
871号公報、表面が弾性であることを特徴とした特開
平6−24168号公報記載の方法も適用可能である。
【0012】また、放電加工・ショットブラスト・レー
ザー・プラズマエッチングなどを用いて、微細な凹凸を
食刻したロールを用いて繰り返し転写をおこなうこと
や、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、アルミニウム
板に接面させ、その上より複数回繰返し圧力を加え、ア
ルミニウム板に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パタ
ーンを複数回繰り返し転写させても良い。
ザー・プラズマエッチングなどを用いて、微細な凹凸を
食刻したロールを用いて繰り返し転写をおこなうこと
や、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、アルミニウム
板に接面させ、その上より複数回繰返し圧力を加え、ア
ルミニウム板に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パタ
ーンを複数回繰り返し転写させても良い。
【0013】転写ローラへ微細な凹凸を付与する方法と
しては、特開平3−08635号、特開平3−0664
04号、特開昭63−065017号各公報などが公知
となっている。また、ロール表面にダイス、バイトまた
はレーザーなどを使って2方向から微細な溝を切り、表
面に角形の凹凸をつけてもよい。このロール表面は、公
知のエッチング処理などをおこなって、形成した角形の
凹凸が丸みを帯びるような処理をおこなってもよい。表
面の硬度を上げるために焼き入れ、ハードクロムメッキ
などを行なってもよいことは勿論である。
しては、特開平3−08635号、特開平3−0664
04号、特開昭63−065017号各公報などが公知
となっている。また、ロール表面にダイス、バイトまた
はレーザーなどを使って2方向から微細な溝を切り、表
面に角形の凹凸をつけてもよい。このロール表面は、公
知のエッチング処理などをおこなって、形成した角形の
凹凸が丸みを帯びるような処理をおこなってもよい。表
面の硬度を上げるために焼き入れ、ハードクロムメッキ
などを行なってもよいことは勿論である。
【0014】また、ブラシによる粗面化としては、ナイ
ロンブラシによる粗面化の他、ワイヤーブラシによる粗
面化等も含まれる。また高圧水による粗面化としては特
開昭59−21469号公報,特開昭60−19595
号公報,特開昭60−18390号公報等に示されてい
る。
ロンブラシによる粗面化の他、ワイヤーブラシによる粗
面化等も含まれる。また高圧水による粗面化としては特
開昭59−21469号公報,特開昭60−19595
号公報,特開昭60−18390号公報等に示されてい
る。
【0015】この様に機械的粗面化によって作成したの
ち必要に応じて、アルミニウム板の平滑化、均斉化等を
目的として、アルミニウム表面を酸、アルカリで化学処
理する。特に、電気化学的粗面化を行なう場合には転写
後そのまま引き続いて行なう場合、粗面化が不均一にな
る。この様な化学処理に使用される酸、アルカリの具体
例としては、燐酸、硫酸、塩酸、硝酸、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウ
ム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オルトケイ酸ナ
トリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ酸ナトリウ
ム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩の水溶液を用い
る方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第
二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリ
ン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の燐酸
塩水溶液を用いる方法等がある。処理条件としては、濃
度0.01%〜50重量%、温度20℃〜90℃、時間
5秒〜5分間から適時選択される。エッチング量として
は、アルミニウムの材質や、求める品質により適時選択
される。特開昭54−65607,特開昭55−125
299各号公報では、電気化学的粗面化の前処理を提案
している。特開昭63−235500、特開昭63−3
07990、特開平1−127388、特開平1−16
0690、特開平1−136789、特開平1−136
788、特開平1−178497、特開平1−3086
89、特開平3−126871、特開平3−12690
0、特開平3−173800各号公報等に各種前処理が
含まれているが、本発明は、これらに限っているわけで
はない。しかしながら、この様に、酸、アルカリの水溶
液によりアルミニウム表面を化学処理すると、その表面
に不溶解残渣部すなわちスマットが生成する。このスマ
ットは、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸または、これらの
混合物により除去することが出来る。本発明に於いて、
電気化学的粗面化処理されるアルミニウム表面は、スマ
ットの無い清浄な面であることが望ましい。しかし、電
解液が酸であり、デスマット作用を持つ場合等これを省
くことができる。
ち必要に応じて、アルミニウム板の平滑化、均斉化等を
目的として、アルミニウム表面を酸、アルカリで化学処
理する。特に、電気化学的粗面化を行なう場合には転写
後そのまま引き続いて行なう場合、粗面化が不均一にな
る。この様な化学処理に使用される酸、アルカリの具体
例としては、燐酸、硫酸、塩酸、硝酸、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウ
ム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オルトケイ酸ナ
トリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ酸ナトリウ
ム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩の水溶液を用い
る方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第
二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリ
ン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の燐酸
塩水溶液を用いる方法等がある。処理条件としては、濃
度0.01%〜50重量%、温度20℃〜90℃、時間
5秒〜5分間から適時選択される。エッチング量として
は、アルミニウムの材質や、求める品質により適時選択
される。特開昭54−65607,特開昭55−125
299各号公報では、電気化学的粗面化の前処理を提案
している。特開昭63−235500、特開昭63−3
07990、特開平1−127388、特開平1−16
0690、特開平1−136789、特開平1−136
788、特開平1−178497、特開平1−3086
89、特開平3−126871、特開平3−12690
0、特開平3−173800各号公報等に各種前処理が
含まれているが、本発明は、これらに限っているわけで
はない。しかしながら、この様に、酸、アルカリの水溶
液によりアルミニウム表面を化学処理すると、その表面
に不溶解残渣部すなわちスマットが生成する。このスマ
ットは、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸または、これらの
混合物により除去することが出来る。本発明に於いて、
電気化学的粗面化処理されるアルミニウム表面は、スマ
ットの無い清浄な面であることが望ましい。しかし、電
解液が酸であり、デスマット作用を持つ場合等これを省
くことができる。
【0016】この様にして処理されたアルミニウム板
に、電気化学的粗面化が行なわれ電解粗面化の間に電解
液と同じ酸のスマット除去液を用いてスマット除去を行
う。電気化学的粗面化については、特公昭48−281
23号公報、英国特許896563号明細書に記載され
ている。上記電解グレイニングは、従来正弦波形の交流
電流を用いるものであるが、特開昭52−58602号
公報に記載されているような特殊な波形を用いて行って
もよい。また、特開昭55−158298、特開昭56
−28898、特開昭52−58602、特開昭52−
152302、特開昭54−85802、特開昭60−
190392、特開昭58−120531、特開昭63
−176187各号公報、特開平1−5889、特開平
1−280590、特開平1−118489、特開平1
−148592、特開平1−178496、特開平1−
188315、特開平1−154797、特開平2−2
35794、特開平3−2670100、特開平3−2
53600、特開平4−72079、特開平4−720
98、特開平3−267400、特開平1−14109
4各号公報に記載の方法も適用できる。
に、電気化学的粗面化が行なわれ電解粗面化の間に電解
液と同じ酸のスマット除去液を用いてスマット除去を行
う。電気化学的粗面化については、特公昭48−281
23号公報、英国特許896563号明細書に記載され
ている。上記電解グレイニングは、従来正弦波形の交流
電流を用いるものであるが、特開昭52−58602号
公報に記載されているような特殊な波形を用いて行って
もよい。また、特開昭55−158298、特開昭56
−28898、特開昭52−58602、特開昭52−
152302、特開昭54−85802、特開昭60−
190392、特開昭58−120531、特開昭63
−176187各号公報、特開平1−5889、特開平
1−280590、特開平1−118489、特開平1
−148592、特開平1−178496、特開平1−
188315、特開平1−154797、特開平2−2
35794、特開平3−2670100、特開平3−2
53600、特開平4−72079、特開平4−720
98、特開平3−267400、特開平1−14109
4各号公報に記載の方法も適用できる。
【0017】周波数としては、前述の他に、電解コンデ
ンサーにて提案されているものも使用できる。例えば、
米国特許4276129,同4676879号明細書等
である。
ンサーにて提案されているものも使用できる。例えば、
米国特許4276129,同4676879号明細書等
である。
【0018】電解液としては、硝酸、塩酸等前述の他、
米国特許4671859,同466576,同4661
219,同4618405,同462628,同460
0482,同4566960,同4566958,同4
566959,同4416972,同4376710,
同4336113,同4184932各号明細書等の電
解液も使用できる。電解槽、電源としては、色々提案さ
れているが、米国特許4203637号明細書、特開昭
56−123400、特開昭57−59770、特開昭
53−12738、特開昭53−32821、特開昭5
3−32822、特開昭53−32823、特開昭55
−122896、特開昭55−132884、特開昭6
2−127500各号公報、特願昭62−206583
1、特願昭62−2065841、特願昭58−173
674、特願昭63−54783、特願平2−5375
8各号明細書等がある。また、上述した特許以外にも、
色々提案されている。例えば、特開昭52−5860
2、特開昭52−152302、特開昭53−1273
8、特開昭53−12739、特開昭53−3282
1、特開昭53−32822、特開昭53−3283
3、特開昭53−32824、特開昭53−3282
5、特開昭54−85802、特開昭55−12289
6、特開昭55−132884、特公昭48−2812
3、特公昭51−7081、特開昭52−13383
8、特開昭52−133840、特開昭52−1338
44、特開昭52−133845、特開昭53−149
135、特開昭54−146234各号公報に記載のも
の等も勿論適用できる。
米国特許4671859,同466576,同4661
219,同4618405,同462628,同460
0482,同4566960,同4566958,同4
566959,同4416972,同4376710,
同4336113,同4184932各号明細書等の電
解液も使用できる。電解槽、電源としては、色々提案さ
れているが、米国特許4203637号明細書、特開昭
56−123400、特開昭57−59770、特開昭
53−12738、特開昭53−32821、特開昭5
3−32822、特開昭53−32823、特開昭55
−122896、特開昭55−132884、特開昭6
2−127500各号公報、特願昭62−206583
1、特願昭62−2065841、特願昭58−173
674、特願昭63−54783、特願平2−5375
8各号明細書等がある。また、上述した特許以外にも、
色々提案されている。例えば、特開昭52−5860
2、特開昭52−152302、特開昭53−1273
8、特開昭53−12739、特開昭53−3282
1、特開昭53−32822、特開昭53−3283
3、特開昭53−32824、特開昭53−3282
5、特開昭54−85802、特開昭55−12289
6、特開昭55−132884、特公昭48−2812
3、特公昭51−7081、特開昭52−13383
8、特開昭52−133840、特開昭52−1338
44、特開昭52−133845、特開昭53−149
135、特開昭54−146234各号公報に記載のも
の等も勿論適用できる。
【0019】スマット除去は、電解液と同じ酸で行う。
電解液と異なる酸でスマット除去を行うと、スマット除
去工程後に水洗工程が必要となり、コストアップの要因
になるばかりか、電解グレイン性にも影響を及ぼす。ま
た、同じ酸であれば、温度、濃度が変化した系で行って
も、電解粗面化工程で温度、濃度管理、制御が可能であ
る。スマット除去方法として、化学的に溶解させる方法
等あるが、スプレー等で液を高速にウエブに衝突させ、
強制的にスマットを除去させても良い。いずれにして
も、生産性、設備コスト、電解粗面化のセル形状等総合
的に選択すれせば良い。いずれの方式についてもスマッ
ト量を、5%〜70%除去することが大切である。電解
粗面化で発生するスマット量としては、電解条件で0.
2g/m2−5g/m2程度変化するので、目的とする
品質性能で除去すべくスマット量をこの範囲で変化させ
れば良い。
電解液と異なる酸でスマット除去を行うと、スマット除
去工程後に水洗工程が必要となり、コストアップの要因
になるばかりか、電解グレイン性にも影響を及ぼす。ま
た、同じ酸であれば、温度、濃度が変化した系で行って
も、電解粗面化工程で温度、濃度管理、制御が可能であ
る。スマット除去方法として、化学的に溶解させる方法
等あるが、スプレー等で液を高速にウエブに衝突させ、
強制的にスマットを除去させても良い。いずれにして
も、生産性、設備コスト、電解粗面化のセル形状等総合
的に選択すれせば良い。いずれの方式についてもスマッ
ト量を、5%〜70%除去することが大切である。電解
粗面化で発生するスマット量としては、電解条件で0.
2g/m2−5g/m2程度変化するので、目的とする
品質性能で除去すべくスマット量をこの範囲で変化させ
れば良い。
【0020】かくして得られたアルミニウム板に必要に
応じて、アルカリまたは、酸にて処理を行なう。特開昭
56−51388号公報のようにアルカリ処理し、特開
昭53−12739号公報のように硫酸によってデスマ
ット処理を行なう。また、特開昭53−115302号
公報のように燐酸処理したり、特願昭60−8091、
特開昭63−176188、特開平1−38291、特
開平1−127389、特開平1−188699、特開
平3−177600、特開平3−126891、特開平
3−191100各号公報等も用いることが出来る。
応じて、アルカリまたは、酸にて処理を行なう。特開昭
56−51388号公報のようにアルカリ処理し、特開
昭53−12739号公報のように硫酸によってデスマ
ット処理を行なう。また、特開昭53−115302号
公報のように燐酸処理したり、特願昭60−8091、
特開昭63−176188、特開平1−38291、特
開平1−127389、特開平1−188699、特開
平3−177600、特開平3−126891、特開平
3−191100各号公報等も用いることが出来る。
【0021】この様に得られたアルミニウム支持体の表
面に、陽極酸化皮膜を形成させるのが好ましい。電解液
としては、硫酸、燐酸、クロム酸、しゅう酸、スルファ
ミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいは、これら2種類
以上組み合わせた水溶液または非水溶液中で、アルミニ
ウムを陽極として電流を流すと、アルミニウム表面に、
陽極酸化皮膜を形成させることが出来る。陽極酸化の処
理条件は、使用される電解液によって種々変化するの
で、一概にいえないが一般的には、電解液の濃度が、1
〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60
A/cm2 、電圧1〜100V、電解時間15秒〜50
分が適当である。電解装置としては、特開昭48−26
638、特開昭47−18739、特公昭58−245
17各号公報等に紹介されている。また、特開昭54−
81133、特開昭57−47894、特開昭57−5
1289、特開昭57−51290、特開昭57−54
300、特開昭57−136596、特開昭58−10
7498、特開昭60−200256、特開昭62−1
36596、特開昭63−176494、特開平4−1
76897、特開平4−280997、特開平6−20
7299、特開平5−24377、特開平5−3208
3、特開平5−125597、特開平5−42783各
号公報にかかれてている方法も勿論使用できる。処理液
としては、特開平3−253596、特開昭62−82
089、特開平1−133794、特開昭54−324
24各号特開平5−42783各号公報等の液ももちろ
ん使用できる。
面に、陽極酸化皮膜を形成させるのが好ましい。電解液
としては、硫酸、燐酸、クロム酸、しゅう酸、スルファ
ミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいは、これら2種類
以上組み合わせた水溶液または非水溶液中で、アルミニ
ウムを陽極として電流を流すと、アルミニウム表面に、
陽極酸化皮膜を形成させることが出来る。陽極酸化の処
理条件は、使用される電解液によって種々変化するの
で、一概にいえないが一般的には、電解液の濃度が、1
〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60
A/cm2 、電圧1〜100V、電解時間15秒〜50
分が適当である。電解装置としては、特開昭48−26
638、特開昭47−18739、特公昭58−245
17各号公報等に紹介されている。また、特開昭54−
81133、特開昭57−47894、特開昭57−5
1289、特開昭57−51290、特開昭57−54
300、特開昭57−136596、特開昭58−10
7498、特開昭60−200256、特開昭62−1
36596、特開昭63−176494、特開平4−1
76897、特開平4−280997、特開平6−20
7299、特開平5−24377、特開平5−3208
3、特開平5−125597、特開平5−42783各
号公報にかかれてている方法も勿論使用できる。処理液
としては、特開平3−253596、特開昭62−82
089、特開平1−133794、特開昭54−324
24各号特開平5−42783各号公報等の液ももちろ
ん使用できる。
【0022】上述の様に、陽極酸化皮膜を形成した後、
各支持体と感光組成物との密着を最適なものとするため
に、陽極酸化皮膜をエッチングした後、水蒸気並びに、
熱水で封孔処理をして、経時安定性の良い、現像性の良
好な、非画像部の汚れのない感光性印刷版を与える支持
体の封孔処理装置があり、(特公昭56−12518号
公報)この様な装置で皮膜生成後処理を行なっても良
い。また、特開平4−4194号、特開平5−2024
96、特開平5−179482各号公報等の装置、方法
で封孔処理を行なっても良い。
各支持体と感光組成物との密着を最適なものとするため
に、陽極酸化皮膜をエッチングした後、水蒸気並びに、
熱水で封孔処理をして、経時安定性の良い、現像性の良
好な、非画像部の汚れのない感光性印刷版を与える支持
体の封孔処理装置があり、(特公昭56−12518号
公報)この様な装置で皮膜生成後処理を行なっても良
い。また、特開平4−4194号、特開平5−2024
96、特開平5−179482各号公報等の装置、方法
で封孔処理を行なっても良い。
【0023】他に、米国特許第2946638号明細書
に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米
国特許第3201247号明細書に記載されているホス
ホモリブデート処理、英国特許第1108559号に記
載されているアルキルチタネート処理、独国特許第10
91433号明細書に記載されているポリアクリル酸処
理、独国特許第1134093号明細書や英国特許第1
230447号明細書に記載されているポリビニルホス
ホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されて
いるホスホン酸処理、米国特許第3307951号明細
書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16
893号や特開昭58−18291号の各公報に記載さ
れている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩に
よる処理や、米国特許第3860426号明細書に記載
されているように、水溶性金属塩(例えば酢酸亜鉛な
ど)を含む親水性セルロース(例えばカルボキシメチル
セルロースなど)の下塗り層を設けたり、特開昭59−
101651公報に記載されているスルホン酸基を有す
る水溶性重合体の下塗りによって親水化処理を行ったも
のや、特開昭62−019494号公報に記載されてい
るリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載さ
れている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−0978
92号公報に記載のリン酸変性デンプン、特開昭63−
056498号公報に記載のジアミン化合物、特開昭6
3−130391号公報記載のアミノ酸の無機または有
機酸、特開昭63−145092号公報に記載のカルボ
キシル基または水酸基を含む有機ホスホン酸、特開昭6
3−165183号公報に記載のアミノ基とホスホン酸
基を有する化合物、特開平2−316290号公報に記
載の特定のカルボン酸誘導体、特開平3−215095
号公報に記載のリン酸エステル、特開平3−26159
2号公報に記載の一個のアミノ基とリンの酸素酸基1個
をもつ化合物、特開平3−215095号公報に記載の
リン酸エステル、特開平5−246171号公報に記載
のフェニルホスホン酸などの脂肪族または芳香族ホスホ
ン酸、特開平1−307745号公報に記載のチオサル
チル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−282
637号公報に記載のリンの酸素酸のグループを持つ化
合物などの下塗りや、特開昭60−64352号公報に
記載されている酸性染料による着色を行なう事もでき
る。
に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米
国特許第3201247号明細書に記載されているホス
ホモリブデート処理、英国特許第1108559号に記
載されているアルキルチタネート処理、独国特許第10
91433号明細書に記載されているポリアクリル酸処
理、独国特許第1134093号明細書や英国特許第1
230447号明細書に記載されているポリビニルホス
ホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されて
いるホスホン酸処理、米国特許第3307951号明細
書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16
893号や特開昭58−18291号の各公報に記載さ
れている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩に
よる処理や、米国特許第3860426号明細書に記載
されているように、水溶性金属塩(例えば酢酸亜鉛な
ど)を含む親水性セルロース(例えばカルボキシメチル
セルロースなど)の下塗り層を設けたり、特開昭59−
101651公報に記載されているスルホン酸基を有す
る水溶性重合体の下塗りによって親水化処理を行ったも
のや、特開昭62−019494号公報に記載されてい
るリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載さ
れている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−0978
92号公報に記載のリン酸変性デンプン、特開昭63−
056498号公報に記載のジアミン化合物、特開昭6
3−130391号公報記載のアミノ酸の無機または有
機酸、特開昭63−145092号公報に記載のカルボ
キシル基または水酸基を含む有機ホスホン酸、特開昭6
3−165183号公報に記載のアミノ基とホスホン酸
基を有する化合物、特開平2−316290号公報に記
載の特定のカルボン酸誘導体、特開平3−215095
号公報に記載のリン酸エステル、特開平3−26159
2号公報に記載の一個のアミノ基とリンの酸素酸基1個
をもつ化合物、特開平3−215095号公報に記載の
リン酸エステル、特開平5−246171号公報に記載
のフェニルホスホン酸などの脂肪族または芳香族ホスホ
ン酸、特開平1−307745号公報に記載のチオサル
チル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−282
637号公報に記載のリンの酸素酸のグループを持つ化
合物などの下塗りや、特開昭60−64352号公報に
記載されている酸性染料による着色を行なう事もでき
る。
【0024】本発明の支持体には、以下に例示する感光
層を設けて感光性平版印刷版とすることができる。 〔I〕o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルお
よびフェノール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含
有する感光層を設ける場合。o−キノンジアジド化合物
はo−ナフトキノンジアジド化合物であり、例えば、米
国特許第2,766,118号、同第2,767,09
2号、同第2,772,972号、同第2,859,1
12号、同第3,102,809号、同第3,106,
465号、同第3,635,709号,同第3,64
7,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記さ
れており、これらは、好適に使用することができる。こ
れらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物のo−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステルまたはo−ナフト
キノンジアジドカルボン酸エステル、及び芳香族アミノ
化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドま
たはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ま
しく、特に米国特許第3,635、709号明細書に記
されているピロガロールとアセトンとの縮合物にo−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸をエステル反応させたも
の、米国特許第4,028,111合明細書に記されて
いる末端にヒドロキシ基を有するポリエステルにo−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノ
ンジアジドカルボン酸をエステル反応させたもの、英国
特許第1,494,043号明細書に記されているよう
なp−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと
他の共重合し得るモノマーとの共重合体にo−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノンジア
ジドカルボン酸をエステル反応させたもの、米国特許第
3,759,711号明細書に記されているようなp−
アミノスチレンと他の共重合し得るモノマーとの共重合
体にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸、またはo−
ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミド反応させたも
のは非常に優れている。
層を設けて感光性平版印刷版とすることができる。 〔I〕o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルお
よびフェノール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含
有する感光層を設ける場合。o−キノンジアジド化合物
はo−ナフトキノンジアジド化合物であり、例えば、米
国特許第2,766,118号、同第2,767,09
2号、同第2,772,972号、同第2,859,1
12号、同第3,102,809号、同第3,106,
465号、同第3,635,709号,同第3,64
7,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記さ
れており、これらは、好適に使用することができる。こ
れらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物のo−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステルまたはo−ナフト
キノンジアジドカルボン酸エステル、及び芳香族アミノ
化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドま
たはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ま
しく、特に米国特許第3,635、709号明細書に記
されているピロガロールとアセトンとの縮合物にo−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸をエステル反応させたも
の、米国特許第4,028,111合明細書に記されて
いる末端にヒドロキシ基を有するポリエステルにo−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノ
ンジアジドカルボン酸をエステル反応させたもの、英国
特許第1,494,043号明細書に記されているよう
なp−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと
他の共重合し得るモノマーとの共重合体にo−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノンジア
ジドカルボン酸をエステル反応させたもの、米国特許第
3,759,711号明細書に記されているようなp−
アミノスチレンと他の共重合し得るモノマーとの共重合
体にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸、またはo−
ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミド反応させたも
のは非常に優れている。
【0025】これらのo−キノンジアジド化合物は、単
独で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混
合して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂
には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂などが含まれる。さらに米国特許第4,028,
111号明細書に記されているように上記のようなフェ
ノール樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換され
たフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの
縮合物を併用すると、より一層好ましい。
独で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混
合して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂
には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂などが含まれる。さらに米国特許第4,028,
111号明細書に記されているように上記のようなフェ
ノール樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換され
たフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの
縮合物を併用すると、より一層好ましい。
【0026】また、露光により下可視像を形成するため
にo−ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロライ
ド、p−ジアゾジフェニルアミンの無機アニオン塩、ト
リハロメチルオキサジアゾール化合物、ベンゾフラン環
を有するトリハロメチルオキサジアゾール化合物等の化
合物などが添加される。一方画像の着色剤としては、ビ
クトリアブル−BOH、クリスタルバイオレット、オイ
ルブルー、等のトリフェニルメタン染料が用いられる。
また、特開昭62−293247号公報に記載されてい
る染料は特に好ましい。
にo−ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロライ
ド、p−ジアゾジフェニルアミンの無機アニオン塩、ト
リハロメチルオキサジアゾール化合物、ベンゾフラン環
を有するトリハロメチルオキサジアゾール化合物等の化
合物などが添加される。一方画像の着色剤としては、ビ
クトリアブル−BOH、クリスタルバイオレット、オイ
ルブルー、等のトリフェニルメタン染料が用いられる。
また、特開昭62−293247号公報に記載されてい
る染料は特に好ましい。
【0027】さらに、感脂化剤として特公昭57−23
253号公報に記載されているような炭素数3〜15の
アルキル基で置換されたフェノール、例えばt−ブチル
フェノール、N−オクチルフェノール、t−ブチルフェ
ノールとホルムアルテヒドとを縮合させたノボラック樹
脂、または、このようなノボラック樹脂のo−ナフトキ
ノンジアジド−4−または−5−スルホン酸エステル
(例えば、特開昭61−242446号公報に記載さて
いる)を含有させることができる。
253号公報に記載されているような炭素数3〜15の
アルキル基で置換されたフェノール、例えばt−ブチル
フェノール、N−オクチルフェノール、t−ブチルフェ
ノールとホルムアルテヒドとを縮合させたノボラック樹
脂、または、このようなノボラック樹脂のo−ナフトキ
ノンジアジド−4−または−5−スルホン酸エステル
(例えば、特開昭61−242446号公報に記載さて
いる)を含有させることができる。
【0028】また、現像性を良化させるためにさらに特
開昭62−251740号公報に記載されているような
非イオン界面活性剤を含有させることができる。以上の
組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして支持体
上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルア
セテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メト
キシ−2−プロピルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセトン
アルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
開昭62−251740号公報に記載されているような
非イオン界面活性剤を含有させることができる。以上の
組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして支持体
上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルア
セテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メト
キシ−2−プロピルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセトン
アルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
【0029】これらの成分からなる感光性組成物が、固
形分として0.5〜3.0g/m2設けられる。
形分として0.5〜3.0g/m2設けられる。
【0030】〔II〕ジアゾ樹脂と水不溶性かつ親油性
光分子化合物を含有する感光層を設ける場合。ジアゾ樹
脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミンとホル
ムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物と、ヘキ
サフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩との有機
溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、また米
国特許第3,300,309号明細書に記載されている
ような、前期縮合物とスルホン酸類例えばP−トルエン
スルホン酸またはその塩、ホスフィン酸類例えばベンゼ
ンホスフィン酸またはその塩、ヒドロキシル基含有化合
物例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホ
ン酸またはその塩等の反応生成物である有機溶媒可溶性
ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。
光分子化合物を含有する感光層を設ける場合。ジアゾ樹
脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミンとホル
ムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物と、ヘキ
サフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩との有機
溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、また米
国特許第3,300,309号明細書に記載されている
ような、前期縮合物とスルホン酸類例えばP−トルエン
スルホン酸またはその塩、ホスフィン酸類例えばベンゼ
ンホスフィン酸またはその塩、ヒドロキシル基含有化合
物例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホ
ン酸またはその塩等の反応生成物である有機溶媒可溶性
ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。
【0031】本発明において、好適に用いることができ
る他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基,スルホン酸基,
スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基
のうち少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物
と、ジアゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウ
ム化合物とを構造単位として含む共縮合体である。そし
て上記の芳香族環としては、好ましくはフェニル基、ナ
フチル基をあげることができる。
る他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基,スルホン酸基,
スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基
のうち少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物
と、ジアゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウ
ム化合物とを構造単位として含む共縮合体である。そし
て上記の芳香族環としては、好ましくはフェニル基、ナ
フチル基をあげることができる。
【0032】前述のカルボキシル基、スルホン酸基、ス
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うち少なくとも一つを含有する芳香族化合物としては種
々のものが挙げられるが、好ましいのは、4−メトキシ
安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキシ安
息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香
酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキシ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼンスル
ホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレンス
ルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸であ
る。前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす芳香族ジ
アゾニウム化合物には、例えば特公昭49−48001
号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩を用いる
ことができるが、特に、ジフェニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩類が好ましい。
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うち少なくとも一つを含有する芳香族化合物としては種
々のものが挙げられるが、好ましいのは、4−メトキシ
安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキシ安
息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香
酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキシ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼンスル
ホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレンス
ルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸であ
る。前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす芳香族ジ
アゾニウム化合物には、例えば特公昭49−48001
号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩を用いる
ことができるが、特に、ジフェニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩類が好ましい。
【0033】ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類
は、4−アミノ−ジフェニルアミン類から誘導される
が、このような4−アミン−ジフェニルアミン類として
は、4−アミノジフェニルアミン、4−アミノ−3−メ
トキシジフェニルアミン、4−アミノ−2−メトキシジ
フェニルアミン、4’−アミノ−2−メトキシジフェニ
ルアミン、4’−アミノ−4−メトキシジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−メチルジフェニルアミン、4−ア
ミノ−3−エトキシジフェニルアミン、4−アミノ−3
−β−ヒドロキシエトキシジフェニルアミン、4−アミ
ノ−ジフェニルアミン−2−スルホン酸、4−アミノ−
ジフーニルアミン−2−カルボン酸、4−アミノ−ジフ
ェニルアミン−2’−カルボン酸等が挙げられ、特に好
ましくは、3−メトキシ−4−アミノ−4−ジフェニル
アミン、4−アミノジフェニルアミンである。
は、4−アミノ−ジフェニルアミン類から誘導される
が、このような4−アミン−ジフェニルアミン類として
は、4−アミノジフェニルアミン、4−アミノ−3−メ
トキシジフェニルアミン、4−アミノ−2−メトキシジ
フェニルアミン、4’−アミノ−2−メトキシジフェニ
ルアミン、4’−アミノ−4−メトキシジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−メチルジフェニルアミン、4−ア
ミノ−3−エトキシジフェニルアミン、4−アミノ−3
−β−ヒドロキシエトキシジフェニルアミン、4−アミ
ノ−ジフェニルアミン−2−スルホン酸、4−アミノ−
ジフーニルアミン−2−カルボン酸、4−アミノ−ジフ
ェニルアミン−2’−カルボン酸等が挙げられ、特に好
ましくは、3−メトキシ−4−アミノ−4−ジフェニル
アミン、4−アミノジフェニルアミンである。
【0034】また、酸基を有する芳香族化合物との共縮
合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特開平4−18
559号、特開平3−163551号、及び特開平3−
253857号各公報に記載された酸基を含有するアル
デヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹
脂も好ましく用いることができる。ジアゾ樹脂の対アニ
オンとしては、ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該
樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これら
は、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニ
ルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的
な例としては、メタンスルホン酸、トルフルオロメタン
スルホン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリ
ンスルホン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘ
キシルスルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリル
オキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−
3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタ
ンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスル
ホン酸、ジアミルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ジノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
ブチルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフ
ェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−
クロロベンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼン
スルホン酸、スルホサルチル酸、2,5−ジメチルベン
ゼンスルホン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5
−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼ
ンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブ
ロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベン
ゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチル
ベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン
酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、イ
ソプロピルナフヘタレンスルホン酸、ブチルナフタレン
スルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチル
ナフタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン
酸、ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナ
フタレンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン
酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、ドリブチ
ルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホ
ン酸、ナフタリン−1−スルホン酸、ナフタリン−2−
スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフタレン−3,6−
ジスルホン酸、ジメチル−5−スルホイソフタレート等
の脂肪族並びに芳香族スルホン酸、2,2’,4,4’
−テトラヒドキシベンゾフェノン、1,2,3−トリヒ
ドロシキシベンゾフェノン、2,2’4−トリヒドロキ
シベンゾフェノン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサ
フルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化
ルイス酸、HClO4 ,HIO4 等の過ハロゲン酸等が
挙げられるが、これに限られるものではない。これらの
中で、特に好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン
酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリ
ン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特開平4−18
559号、特開平3−163551号、及び特開平3−
253857号各公報に記載された酸基を含有するアル
デヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹
脂も好ましく用いることができる。ジアゾ樹脂の対アニ
オンとしては、ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該
樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これら
は、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニ
ルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的
な例としては、メタンスルホン酸、トルフルオロメタン
スルホン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリ
ンスルホン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘ
キシルスルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリル
オキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−
3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタ
ンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスル
ホン酸、ジアミルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ジノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
ブチルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフ
ェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−
クロロベンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼン
スルホン酸、スルホサルチル酸、2,5−ジメチルベン
ゼンスルホン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5
−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼ
ンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブ
ロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベン
ゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチル
ベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン
酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、イ
ソプロピルナフヘタレンスルホン酸、ブチルナフタレン
スルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチル
ナフタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン
酸、ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナ
フタレンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン
酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、ドリブチ
ルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホ
ン酸、ナフタリン−1−スルホン酸、ナフタリン−2−
スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフタレン−3,6−
ジスルホン酸、ジメチル−5−スルホイソフタレート等
の脂肪族並びに芳香族スルホン酸、2,2’,4,4’
−テトラヒドキシベンゾフェノン、1,2,3−トリヒ
ドロシキシベンゾフェノン、2,2’4−トリヒドロキ
シベンゾフェノン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサ
フルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化
ルイス酸、HClO4 ,HIO4 等の過ハロゲン酸等が
挙げられるが、これに限られるものではない。これらの
中で、特に好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン
酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリ
ン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
【0035】本発明に使用するジアゾ樹脂は、各単量体
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
〜100,000のもの、好ましくは、約800〜8,
000のものが適当である。水不溶性かつ親油性高分子
化合物としては、下記(1)〜(15)に示すモノマー
をその構造単位とする通常1〜20万の分子量をもつ共
重合体が挙げられる。(1)芳香族水酸基を有するアク
リルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン
類、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルア
ミドまたはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o−,
m−,p−ヒドロキシフェニル−アクリレートまたはメ
タクリレート、 (2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及
びメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート (3)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸、 (4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアクリ
レート、
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
〜100,000のもの、好ましくは、約800〜8,
000のものが適当である。水不溶性かつ親油性高分子
化合物としては、下記(1)〜(15)に示すモノマー
をその構造単位とする通常1〜20万の分子量をもつ共
重合体が挙げられる。(1)芳香族水酸基を有するアク
リルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン
類、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルア
ミドまたはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o−,
m−,p−ヒドロキシフェニル−アクリレートまたはメ
タクリレート、 (2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及
びメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート (3)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸、 (4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアクリ
レート、
【0036】(5)メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等
の(置換)アルキルメタクリレート、 (6)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドも
しくはメタクリルアミド類、 (7)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、 (8)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類、 (9)スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルス
チレン等のスチレン類、 (10)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類、
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等
の(置換)アルキルメタクリレート、 (6)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドも
しくはメタクリルアミド類、 (7)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、 (8)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類、 (9)スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルス
チレン等のスチレン類、 (10)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類、
【0037】(11)エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジェン、イソプレン等のオレフィン類 (12)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等 (13)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクルアミド、N−プロピオニルメ
タクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタク
リルアミド等の不飽和イミド、 (14)N(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニル
メタクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリル酸ア
ミド類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミ
ド類、また、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−
(3−アミノスルホニルナフチル)メタクリレート等の
メタクリル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有
するアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド
(15)N−(2−(メタクリロイルオキシ)−エチ
ル)−2,3−ジメチルマレイミド、ビニルシンナメー
トなどの、側鎖に、架橋性基を有する不飽和モノマー。
更に、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重合さ
せてもよい。 (16)米国特許第3,751,257号明細書に記載
されているフェノール樹脂および例えばポリビニルフォ
ルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のようなポリ
ビニルアセタール樹脂。 (17)ポリウレタンをアルカリ可溶化した特公昭54
−19773号、特開昭57−904747号、同60
−182437号、同62−58242号、同62−1
23452号、同62−123453号、同63−11
3450号、特開平2−146042号各公報に記載さ
れた高分子化合物。
レン、ブタジェン、イソプレン等のオレフィン類 (12)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等 (13)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクルアミド、N−プロピオニルメ
タクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタク
リルアミド等の不飽和イミド、 (14)N(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニル
メタクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリル酸ア
ミド類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミ
ド類、また、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−
(3−アミノスルホニルナフチル)メタクリレート等の
メタクリル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有
するアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド
(15)N−(2−(メタクリロイルオキシ)−エチ
ル)−2,3−ジメチルマレイミド、ビニルシンナメー
トなどの、側鎖に、架橋性基を有する不飽和モノマー。
更に、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重合さ
せてもよい。 (16)米国特許第3,751,257号明細書に記載
されているフェノール樹脂および例えばポリビニルフォ
ルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のようなポリ
ビニルアセタール樹脂。 (17)ポリウレタンをアルカリ可溶化した特公昭54
−19773号、特開昭57−904747号、同60
−182437号、同62−58242号、同62−1
23452号、同62−123453号、同63−11
3450号、特開平2−146042号各公報に記載さ
れた高分子化合物。
【0038】また上記共重合体には必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。
【0039】本発明の支持体に用いる感光性組成物に
は、露光による可視画像と現像後の可視画像を得ること
を目的としてさらに色素を用いることができる。該色素
としては、例えば、ビクトリアピュアブル−BOH〔保
土ヶ谷化学社製〕、オイルブルー#603〔オリエント
化学工業社製〕,パテントピュアブルー〔住友三国化学
社製〕、クリスタルバイオレット,ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチル
グリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラ
カイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープ
ル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチルア
ミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニ
ルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサ
ンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系または
アントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異なる
有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられる。
は、露光による可視画像と現像後の可視画像を得ること
を目的としてさらに色素を用いることができる。該色素
としては、例えば、ビクトリアピュアブル−BOH〔保
土ヶ谷化学社製〕、オイルブルー#603〔オリエント
化学工業社製〕,パテントピュアブルー〔住友三国化学
社製〕、クリスタルバイオレット,ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチル
グリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラ
カイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープ
ル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチルア
ミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニ
ルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサ
ンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系または
アントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異なる
有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられる。
【0040】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p’,
P”−トリスージメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p’,p”−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p’,p”−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好まし
くは、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素
が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタ
ン系色素であり、特にビクトリアピュアブル−BOHで
ある。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p’,
P”−トリスージメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p’,p”−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p’,p”−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好まし
くは、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素
が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタ
ン系色素であり、特にビクトリアピュアブル−BOHで
ある。
【0041】本発明の支持体に用いられる感光性組成物
には、更に種々の添加物を加えることができる。例え
ば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例え
ばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界
面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤(特にフッ素系界
面活性剤が好ましい)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与
するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー及びポ
リマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例
えば特開昭55−527号公報記載のスチレン−無水マ
レイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル化
物、p−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
などのノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50
%脂肪酸エステル等)、安定剤{例えば、リン酸、亜リ
ン酸、有機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリ
チル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン
−5−スルホン酸、酒石酸等)}、現像促進剤(例えば
高級アルコール、酸無水物等)等が好ましく用いられ
る。
には、更に種々の添加物を加えることができる。例え
ば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例え
ばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界
面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤(特にフッ素系界
面活性剤が好ましい)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与
するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー及びポ
リマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例
えば特開昭55−527号公報記載のスチレン−無水マ
レイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル化
物、p−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
などのノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50
%脂肪酸エステル等)、安定剤{例えば、リン酸、亜リ
ン酸、有機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリ
チル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン
−5−スルホン酸、酒石酸等)}、現像促進剤(例えば
高級アルコール、酸無水物等)等が好ましく用いられ
る。
【0042】上述の感光性組成物を支持体上に設けるに
は、感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、及び必要
に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチル
エチルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレ
ンジクロライド、ジメチルスルホキシド、水またはこれ
らの混合物等)中に溶解させ感光性組成物の塗布液を調
整し、これを支持体上に塗布、乾燥すればよい。
は、感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、及び必要
に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチル
エチルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレ
ンジクロライド、ジメチルスルホキシド、水またはこれ
らの混合物等)中に溶解させ感光性組成物の塗布液を調
整し、これを支持体上に塗布、乾燥すればよい。
【0043】用いられる溶媒は単独でもよいが、メチル
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メ
チルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチル
ケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好
ましい。塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。この場合、感
光性組成物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m2
(乾燥重量)程度とすればよく、さらに好ましくは0.
5〜3g/m2 とするとよい。
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メ
チルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチル
ケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好
ましい。塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。この場合、感
光性組成物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m2
(乾燥重量)程度とすればよく、さらに好ましくは0.
5〜3g/m2 とするとよい。
【0044】〔III〕光二量化型感光性組成物及び光
重合性感光性組成物をふくむ感光層を設ける場合 光二量化型感光性組成物としてはマレイミド基やシンナ
ミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミ
リデンアセチル基やカルコン基などを側鎖、または主鎖
に有するポリマーが挙げられ、マレイミド基を側鎖に有
するポリマーとして、特開昭52−988合(対応米国
特許4,079,041合)公報や、独国特許第2,6
26,769号明細書、ヨーロッパ特許第21,019
号明細書、ヨーロッパ特許第3,552号明細書や、デ
ィー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー
(Die Angewandte Makromolekulare Chemie)115(1
983)の163〜181ページに記載されているポリ
マーや、特開昭49−128991号、同49−128
992号、同49−128993号、同50−5376
号、同50−5377号、同50−5379号、同50
−5378号、同50−5380号、同53−5298
号、同53−5299号、同53−5300号、同5
0、50107号、同51−47940号、同52−1
3907号、同50−45076号、同52−1217
00号、同50−10884号、同50−45087号
各公報、独国特許第2,349,948号、同第2,6
16,276号各明細書に記載されているポリマーなど
を挙げることができる。
重合性感光性組成物をふくむ感光層を設ける場合 光二量化型感光性組成物としてはマレイミド基やシンナ
ミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミ
リデンアセチル基やカルコン基などを側鎖、または主鎖
に有するポリマーが挙げられ、マレイミド基を側鎖に有
するポリマーとして、特開昭52−988合(対応米国
特許4,079,041合)公報や、独国特許第2,6
26,769号明細書、ヨーロッパ特許第21,019
号明細書、ヨーロッパ特許第3,552号明細書や、デ
ィー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー
(Die Angewandte Makromolekulare Chemie)115(1
983)の163〜181ページに記載されているポリ
マーや、特開昭49−128991号、同49−128
992号、同49−128993号、同50−5376
号、同50−5377号、同50−5379号、同50
−5378号、同50−5380号、同53−5298
号、同53−5299号、同53−5300号、同5
0、50107号、同51−47940号、同52−1
3907号、同50−45076号、同52−1217
00号、同50−10884号、同50−45087号
各公報、独国特許第2,349,948号、同第2,6
16,276号各明細書に記載されているポリマーなど
を挙げることができる。
【0045】これらのポリマーを、アルカリ水に可溶性
または膨潤性とするためには、カルボン酸・スルホン
酸、リン酸、ホスホン酸、及びこれらのアルカリ金属塩
やアンモニウム塩、及びアルカリ水に対し解離するpK
aが6〜12の酸基などを、ポリマー中に含めたものが
有用である。必要により上記酸基を有するモノマー13
種類と、マレイミド基を有するモノマーを共重合させる
こともできる。
または膨潤性とするためには、カルボン酸・スルホン
酸、リン酸、ホスホン酸、及びこれらのアルカリ金属塩
やアンモニウム塩、及びアルカリ水に対し解離するpK
aが6〜12の酸基などを、ポリマー中に含めたものが
有用である。必要により上記酸基を有するモノマー13
種類と、マレイミド基を有するモノマーを共重合させる
こともできる。
【0046】酸基を有するマレイミドポリマーの酸価は
30〜300の範囲が好ましく、このような酸価を有す
るポリマーの中でも、ディー・アンゲバンドゥテ・マク
ロモレクラーレ・ケミー(Die Angewandte Makromolekul
are Chemie) 128(1984)の71〜91ページに
記載されているような、N−〔2−(メタクリロイルオ
キシ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメタク
リル酸あるいはアクリル酸との共重合体が有用である。
更にこの共重合体の合成に際して第3成分のビニルモノ
マーを共重合することによって目的に応じた多元共重合
体を容易に合成することができる。例えば、第3成分の
ビニルモノマーとして、そのホモポリマーのガラス転移
点が室温以下のアルキルメタアクリレートやアルキルア
クリレートを用いることによって、共重合体に柔軟性を
与えることができる。
30〜300の範囲が好ましく、このような酸価を有す
るポリマーの中でも、ディー・アンゲバンドゥテ・マク
ロモレクラーレ・ケミー(Die Angewandte Makromolekul
are Chemie) 128(1984)の71〜91ページに
記載されているような、N−〔2−(メタクリロイルオ
キシ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメタク
リル酸あるいはアクリル酸との共重合体が有用である。
更にこの共重合体の合成に際して第3成分のビニルモノ
マーを共重合することによって目的に応じた多元共重合
体を容易に合成することができる。例えば、第3成分の
ビニルモノマーとして、そのホモポリマーのガラス転移
点が室温以下のアルキルメタアクリレートやアルキルア
クリレートを用いることによって、共重合体に柔軟性を
与えることができる。
【0047】シンナミル基、シンナモイル基、シンナミ
リデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基など
を側鎖、または主鎖に有する光架橋性ポリマーとして
は、米国特許第3,030,208号、米国特許出願7
09,496号、同第828,455号の各明細書の記
載されている感光性ポリエステルがある。これらの光架
橋性ポリマーをアルカリ水可溶化したものとしては、次
のようなものがあげられる。
リデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基など
を側鎖、または主鎖に有する光架橋性ポリマーとして
は、米国特許第3,030,208号、米国特許出願7
09,496号、同第828,455号の各明細書の記
載されている感光性ポリエステルがある。これらの光架
橋性ポリマーをアルカリ水可溶化したものとしては、次
のようなものがあげられる。
【0048】即ち、特開昭60−191244号公報中
に記載されているような感光性ポリマーを挙げることが
できる。更に、特開昭62−174729号、特開昭6
2−175730号、特開昭63−25443号、特開
昭63−218944号、特開昭63−218945号
の各公報に記載されている感光性ポリマーなどを挙げる
ことができる。
に記載されているような感光性ポリマーを挙げることが
できる。更に、特開昭62−174729号、特開昭6
2−175730号、特開昭63−25443号、特開
昭63−218944号、特開昭63−218945号
の各公報に記載されている感光性ポリマーなどを挙げる
ことができる。
【0049】また、これらを含む感光層には増感剤を使
用することが出来るが、そのような増感剤としてはベン
ゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、キノン
類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチアゾリン誘導体、ベ
ンゾチアゾリン誘導体、チオキサントン類、ナフトチア
ゾール誘導体、ケトクマリン化合物、ベンゾチアゾール
誘導体、ナフトフラノン化合物、ビリリウム塩、チアビ
リリウム塩などを挙げることが出来る。このような感光
層には必要に応じて塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプ
ロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル、アクリル
酸アルキルエステル、アクリロニトリル、塩化ビニル、
スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少なくとも一種
との共重合体、ポリアミド、メチルセルロース、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸
共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体な
どの結合剤や、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレ
ートなどのフタル酸ジアルキルエステル、オリゴエチレ
ングリコールアルキルエステル、リン酸エステルなどの
可塑剤などを使用することが出来る。また、感光層の着
色を目的として、染料もしくは顔料や焼出し剤としてp
H支持薬等を添加するものも好ましい。
用することが出来るが、そのような増感剤としてはベン
ゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、キノン
類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチアゾリン誘導体、ベ
ンゾチアゾリン誘導体、チオキサントン類、ナフトチア
ゾール誘導体、ケトクマリン化合物、ベンゾチアゾール
誘導体、ナフトフラノン化合物、ビリリウム塩、チアビ
リリウム塩などを挙げることが出来る。このような感光
層には必要に応じて塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプ
ロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル、アクリル
酸アルキルエステル、アクリロニトリル、塩化ビニル、
スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少なくとも一種
との共重合体、ポリアミド、メチルセルロース、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸
共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体な
どの結合剤や、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレ
ートなどのフタル酸ジアルキルエステル、オリゴエチレ
ングリコールアルキルエステル、リン酸エステルなどの
可塑剤などを使用することが出来る。また、感光層の着
色を目的として、染料もしくは顔料や焼出し剤としてp
H支持薬等を添加するものも好ましい。
【0050】光重合性感光性組成物としては、不飽和カ
ルボン酸及びその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。光重
合開始剤としては、ビシナ−ルポリタケタルドニル化合
物、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−
位が炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、多
核キノン化合物、トリアリルイミダゾールダイマー/p
−アミノフェニルケトンの組み合わせ、ベンゾチアゾー
ル系化合物、トリハロメチル−s−トリアジン化合物、
アクリジン及びフェナジン化合物、オキサジアゾール化
合物などが含まれ、これらとともに、アルカリ水可溶性
または膨潤性で、かつフィルム形成可能な高分子重合体
としては、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸メチル(ま
たはメタクリル酸エステル)共重合体、無水マレイン酸
共重合体にペンタエリスリトールトリアクリレートを半
エステル化で付加させたものや酸性ビニル共重合体など
が挙げられる。
ルボン酸及びその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。光重
合開始剤としては、ビシナ−ルポリタケタルドニル化合
物、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−
位が炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、多
核キノン化合物、トリアリルイミダゾールダイマー/p
−アミノフェニルケトンの組み合わせ、ベンゾチアゾー
ル系化合物、トリハロメチル−s−トリアジン化合物、
アクリジン及びフェナジン化合物、オキサジアゾール化
合物などが含まれ、これらとともに、アルカリ水可溶性
または膨潤性で、かつフィルム形成可能な高分子重合体
としては、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸メチル(ま
たはメタクリル酸エステル)共重合体、無水マレイン酸
共重合体にペンタエリスリトールトリアクリレートを半
エステル化で付加させたものや酸性ビニル共重合体など
が挙げられる。
【0051】〔IV〕電子写真用感光層 例えば、米国特許第3,001,872号明細書に開示
されているZnO感光層を用いることもできる。また、
特開昭56−161550号、特開昭60−18684
7号、特開昭61−238063号各公報などに記載さ
れている電子写真感光体を用いた感光層を用いてもよ
い。
されているZnO感光層を用いることもできる。また、
特開昭56−161550号、特開昭60−18684
7号、特開昭61−238063号各公報などに記載さ
れている電子写真感光体を用いた感光層を用いてもよ
い。
【0052】支持体上に設けられる感光層の量は、塗布
後の乾燥重量で、約0.1〜約7g/m2 、好ましくは
0.5〜4g/m2 の範囲である。
後の乾燥重量で、約0.1〜約7g/m2 、好ましくは
0.5〜4g/m2 の範囲である。
【0053】本発明法による平版印刷版用支持体の製造
方法において、支持体と感光層との密着性を高めるため
や、現像後に感光層が残らないようにするため、または
ハレーションを防止するなどの目的で、必要に応じて中
間層を設けてもよい。密着性向上のためには、一般に中
間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミに吸着するリン酸
化合物、アミノ化合物、カルボン酸化合物などからなっ
ている。現像後に感光層が残存しないように溶解性の高
い物質からなる中間層は、一般に溶解性の良好なポリマ
ーや、水溶性ポリマーからなっている。更にハレーショ
ン防止のためには、中間層は一般に染料やUV吸収剤を
含む。中間層の厚さは任意であり、露光した時に、上層
の感光層と均一な結合形成反応を行い得る厚みでなけれ
ばならない。通常、乾燥固体で約1〜100mg/m2
の塗布割合がよく、5〜40mg/m2 が特に良好であ
る。
方法において、支持体と感光層との密着性を高めるため
や、現像後に感光層が残らないようにするため、または
ハレーションを防止するなどの目的で、必要に応じて中
間層を設けてもよい。密着性向上のためには、一般に中
間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミに吸着するリン酸
化合物、アミノ化合物、カルボン酸化合物などからなっ
ている。現像後に感光層が残存しないように溶解性の高
い物質からなる中間層は、一般に溶解性の良好なポリマ
ーや、水溶性ポリマーからなっている。更にハレーショ
ン防止のためには、中間層は一般に染料やUV吸収剤を
含む。中間層の厚さは任意であり、露光した時に、上層
の感光層と均一な結合形成反応を行い得る厚みでなけれ
ばならない。通常、乾燥固体で約1〜100mg/m2
の塗布割合がよく、5〜40mg/m2 が特に良好であ
る。
【0054】塗布された感光層上には相互に独立して設
けられた突起物により構成されるマット層を設けること
もできる。マット層の目的は密着露光におけるネガ画像
フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良する
ことにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良に
よる露光時の微小網点のつぶれを防止することである。
けられた突起物により構成されるマット層を設けること
もできる。マット層の目的は密着露光におけるネガ画像
フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良する
ことにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良に
よる露光時の微小網点のつぶれを防止することである。
【0055】マット層の塗布方法としては、特開昭55
−12974号公報に記載されているパウダリングされ
た固体粉末を熱融着する方法、特開昭58−18263
6号公報に記載されているポリマー含有水をスプレーし
乾燥させる方法などがあり、どの方法でもよいが、マッ
ト層自体が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現
像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可能な物が
望ましい。
−12974号公報に記載されているパウダリングされ
た固体粉末を熱融着する方法、特開昭58−18263
6号公報に記載されているポリマー含有水をスプレーし
乾燥させる方法などがあり、どの方法でもよいが、マッ
ト層自体が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現
像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可能な物が
望ましい。
【0056】以上のようにして作成された感光性平版印
刷版は、画像露光された後、常法により現像を含む処理
によって樹脂画像が形成される。例えば、前記〔I〕の
感光層を有する感光性平版印刷版の場合は、画像露光
後、米国特許第4,259,434号明細書に記載され
ているようなアルカリ水溶液で現像することにより露光
部分が除去されて、平版印刷版が得られ、〔II〕の感
光層を有する感光性平版印刷版の場合には、画像露光
後、米国特許第4,186,006号明細書に記載され
ているような現像液で、未露光部の感光層が現像により
除去されて平版印刷版が得られる。また、特開昭59−
84241号、特開昭57−192952号、及び特開
昭62−24263号の各公報に記載されているような
ポジ型平版印刷版を現像する際に用いられる水性アルカ
リ現像液組成物を使用することもできる。
刷版は、画像露光された後、常法により現像を含む処理
によって樹脂画像が形成される。例えば、前記〔I〕の
感光層を有する感光性平版印刷版の場合は、画像露光
後、米国特許第4,259,434号明細書に記載され
ているようなアルカリ水溶液で現像することにより露光
部分が除去されて、平版印刷版が得られ、〔II〕の感
光層を有する感光性平版印刷版の場合には、画像露光
後、米国特許第4,186,006号明細書に記載され
ているような現像液で、未露光部の感光層が現像により
除去されて平版印刷版が得られる。また、特開昭59−
84241号、特開昭57−192952号、及び特開
昭62−24263号の各公報に記載されているような
ポジ型平版印刷版を現像する際に用いられる水性アルカ
リ現像液組成物を使用することもできる。
【0057】
(実施例−1)JIS1050材のアルミニウム支持体
を、18%苛性ソーダ水溶液に浸し、アルミニウム溶解
量が7g/m2 になる様にエッチングし、1%硝酸液に
20秒間浸しデスマット処理を行いその後十分水洗し
た。その後、温度43度にて、特開平3−79799号
公報に示す波形で60HZの周波数で、立ち上がり時間
が1.5secになる様電圧を変化させ、電流波形を作
成し電気化学的粗面化を行った。また、電流密度は20
A/dm2 で、電解槽を2槽用意し、その途中でスマッ
ト除去のための処理を行いスマットを適度に除去し、電
解粗面化で生成したスマット量と、スマット除去率を求
めた。実施例並びに、途中のスマット除去率を表1に示
す。
を、18%苛性ソーダ水溶液に浸し、アルミニウム溶解
量が7g/m2 になる様にエッチングし、1%硝酸液に
20秒間浸しデスマット処理を行いその後十分水洗し
た。その後、温度43度にて、特開平3−79799号
公報に示す波形で60HZの周波数で、立ち上がり時間
が1.5secになる様電圧を変化させ、電流波形を作
成し電気化学的粗面化を行った。また、電流密度は20
A/dm2 で、電解槽を2槽用意し、その途中でスマッ
ト除去のための処理を行いスマットを適度に除去し、電
解粗面化で生成したスマット量と、スマット除去率を求
めた。実施例並びに、途中のスマット除去率を表1に示
す。
【0058】
【表1】
【0059】これらのサンプルを、引き続き、9g/l
の硝酸液に、アルミニウムイオンを5g/l、温度43
度にて、特開平3−79799号記載の波形で60HZ
の周波数で、立ち上がり時間が1.5secになる様電
圧を変化させ、電流波形を作成した。また、電流密度は
20A/dm2 で、陽極、陰極電気量200c/dm 2
になるように設定し、砂目立てを行った。次に55度、
25%の硫酸に20sec浸漬してデスマット処理を行
った後、SEM写真にて、砂目を観察した。その後12
%の硫酸中で2.3g/m2 陽極酸化皮膜を作成し、サ
ンプル(A)〜(N)とした。
の硝酸液に、アルミニウムイオンを5g/l、温度43
度にて、特開平3−79799号記載の波形で60HZ
の周波数で、立ち上がり時間が1.5secになる様電
圧を変化させ、電流波形を作成した。また、電流密度は
20A/dm2 で、陽極、陰極電気量200c/dm 2
になるように設定し、砂目立てを行った。次に55度、
25%の硫酸に20sec浸漬してデスマット処理を行
った後、SEM写真にて、砂目を観察した。その後12
%の硫酸中で2.3g/m2 陽極酸化皮膜を作成し、サ
ンプル(A)〜(N)とした。
【0060】この様に作成した基板に下記組成物を乾燥
後の塗布重量が2.0g/m2 になる様に塗布して感光
層を設けた。 (感光層組成) ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロライドとピロガロ ール、アセトン樹脂とのエステル化合物米国特許3635709号明細書 実施例−1記載のもの 0.75g クレゾールノボラック樹脂 2.00g オイルブルー603(オリエント化学) 0.04g エチレンジクロライド 16g 2−メトキシエチルアセテート 12g この様にして作られた印刷版を、真空焼枠中で、透明ポ
ジティブフイルムを通して、1mの距離から3kwのメ
タルハライドランプにより50秒露光を行った後、S1
O2 /Na2 Oのモル比が、174の珪酸ナトリウムの
5.26%水溶液で現像した後、印刷し水を絞った時の
汚れ難さ、耐刷力を表2の如く確認した。
後の塗布重量が2.0g/m2 になる様に塗布して感光
層を設けた。 (感光層組成) ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロライドとピロガロ ール、アセトン樹脂とのエステル化合物米国特許3635709号明細書 実施例−1記載のもの 0.75g クレゾールノボラック樹脂 2.00g オイルブルー603(オリエント化学) 0.04g エチレンジクロライド 16g 2−メトキシエチルアセテート 12g この様にして作られた印刷版を、真空焼枠中で、透明ポ
ジティブフイルムを通して、1mの距離から3kwのメ
タルハライドランプにより50秒露光を行った後、S1
O2 /Na2 Oのモル比が、174の珪酸ナトリウムの
5.26%水溶液で現像した後、印刷し水を絞った時の
汚れ難さ、耐刷力を表2の如く確認した。
【0061】
【表2】
【0062】また、サンプル(L)、(M)、(N)
は、20分連続処理後、砂目が大きく変化し、液中に硫
酸イオン、ナトリウムイオンが検出された。以上の様に
途中に同一酸を用いてスマットを除くことで、砂目立て
が向上し、良好な汚れ難さと、優れた耐刷力が得られ、
途中水洗工程がなくとも安定した連続処理が可能であっ
た。
は、20分連続処理後、砂目が大きく変化し、液中に硫
酸イオン、ナトリウムイオンが検出された。以上の様に
途中に同一酸を用いてスマットを除くことで、砂目立て
が向上し、良好な汚れ難さと、優れた耐刷力が得られ、
途中水洗工程がなくとも安定した連続処理が可能であっ
た。
【0063】
【発明の効果】金属イオンを含む酸性電解液中にて、ア
ルミニウムウエブを電気化学的に粗面化を行う方法にお
いて、電気化学的粗面化の途中でその前に生成したスマ
ットのうち、5〜70%を前記スマットを生成した電解
液と同じ酸のスマット除去液を用いてスマット除去を行
うことによって、従来よりより高品質の基板、特に過酷
条件下での汚れ難さ、より高い耐刷性能の平版印刷版支
持体を製造することが出来た。
ルミニウムウエブを電気化学的に粗面化を行う方法にお
いて、電気化学的粗面化の途中でその前に生成したスマ
ットのうち、5〜70%を前記スマットを生成した電解
液と同じ酸のスマット除去液を用いてスマット除去を行
うことによって、従来よりより高品質の基板、特に過酷
条件下での汚れ難さ、より高い耐刷性能の平版印刷版支
持体を製造することが出来た。
Claims (2)
- 【請求項1】 金属イオンを含む酸性電解液中にて、ア
ルミニウムウエブを電気化学的に粗面化を行う方法にお
いて、電気化学的粗面化の途中でその前に生成したスマ
ット量のうち5%〜70%を、前記スマットを生成した
電解液と同じ酸のスマット除去液を用いてスマット除去
を行うことを特徴とする平版印刷版支持体の製造方法。 - 【請求項2】 前記酸性電解液が硝酸であることを特徴
とする請求項1記載の平版印刷版支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222596A JPH09220869A (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222596A JPH09220869A (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09220869A true JPH09220869A (ja) | 1997-08-26 |
Family
ID=12353027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3222596A Pending JPH09220869A (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09220869A (ja) |
-
1996
- 1996-02-20 JP JP3222596A patent/JPH09220869A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6596150B2 (en) | Production method for an aluminum support for a lithographic printing plate | |
| JP2001011694A (ja) | 電解処理方法 | |
| JP2520694B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JP2665382B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金材料 | |
| JPH06262203A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH0472719B2 (ja) | ||
| JP2001213066A (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法、平版印刷版支持体、および、平版印刷版 | |
| JPH03104694A (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JP3698378B2 (ja) | 平版印刷版 | |
| JP3791722B2 (ja) | 平版印刷版用支持体並びに平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH09220869A (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 | |
| JP3613489B2 (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 | |
| JPH09207467A (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 | |
| JP3613496B2 (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JP3585069B2 (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 | |
| JPH06171259A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPH07132688A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金基材 | |
| JP3568065B2 (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 | |
| JPH06122287A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPH06183168A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH10119454A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JP3909103B2 (ja) | 感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH06115273A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JP2000043436A (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 | |
| JP2000247054A (ja) | 平版印刷版 |