JPH09239332A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH09239332A JPH09239332A JP8334096A JP8334096A JPH09239332A JP H09239332 A JPH09239332 A JP H09239332A JP 8334096 A JP8334096 A JP 8334096A JP 8334096 A JP8334096 A JP 8334096A JP H09239332 A JPH09239332 A JP H09239332A
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 汚染の悪循環的を無くし、第1次洗浄後に使
用される比較的高価なリンス液や純水の汚染をできるだ
け少なくして長期にわたって繰り返し使用することので
きる経済的な洗浄装置を簡単な構造で提供すること。 【解決手段】 洗浄すべきワークを収納するバケットを
保持するための保持手段を内部に備え、且つ下部に液排
出口1を有する洗浄槽2と、該液排出口1に設置された
分配弁機構3とを含み、該分配弁機構3は少なくとも3
つ以上の分配弁DV1、DV2、DV4を備え且つそれぞれの分
配弁が選択的に前記排出口1に接続できるように形成さ
れ、前記それぞれの分配弁DV1、DV2、DV4に専用のダク
トを介して固別に形成された液タンクT1、T2、T4が接続
されており、更に、これらそれぞれのタンクから前記洗
浄槽1に液を送り込むための送出ダクトが形成されてい
る構造。
用される比較的高価なリンス液や純水の汚染をできるだ
け少なくして長期にわたって繰り返し使用することので
きる経済的な洗浄装置を簡単な構造で提供すること。 【解決手段】 洗浄すべきワークを収納するバケットを
保持するための保持手段を内部に備え、且つ下部に液排
出口1を有する洗浄槽2と、該液排出口1に設置された
分配弁機構3とを含み、該分配弁機構3は少なくとも3
つ以上の分配弁DV1、DV2、DV4を備え且つそれぞれの分
配弁が選択的に前記排出口1に接続できるように形成さ
れ、前記それぞれの分配弁DV1、DV2、DV4に専用のダク
トを介して固別に形成された液タンクT1、T2、T4が接続
されており、更に、これらそれぞれのタンクから前記洗
浄槽1に液を送り込むための送出ダクトが形成されてい
る構造。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電気配線基板や電気機
器、電子機器の小型部品、あるいは精密機械の小型部品
等を洗浄するのに適した洗浄装置に関するものである。
器、電子機器の小型部品、あるいは精密機械の小型部品
等を洗浄するのに適した洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来技術】従来、上記のような精密小型電子部品の洗
浄は多くの場合、洗浄原液で第1次洗浄を行った後、リ
ンス液でリンスし、最後に純水で仕上げ洗浄を行ってい
る。このような洗浄原液、リンス液並びに純水は使用後
夫々専用の貯溜タンクに回収され反復使用される。
浄は多くの場合、洗浄原液で第1次洗浄を行った後、リ
ンス液でリンスし、最後に純水で仕上げ洗浄を行ってい
る。このような洗浄原液、リンス液並びに純水は使用後
夫々専用の貯溜タンクに回収され反復使用される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の洗浄装
置では、第1次洗浄原液タンク、リンスタンク並びに純
水タンクから洗浄槽に至る給入、排出ダクトに共用部分
が多く、そのため第1次の洗浄をした後にリンス液を供
給してもダクトや洗浄槽に付着した汚れた第1次洗浄原
液によってリンス液そのものが汚染され、同様に汚染さ
れたリンスによって次ぎの純水も汚染されて、夫々の使
用寿命を短縮している。
置では、第1次洗浄原液タンク、リンスタンク並びに純
水タンクから洗浄槽に至る給入、排出ダクトに共用部分
が多く、そのため第1次の洗浄をした後にリンス液を供
給してもダクトや洗浄槽に付着した汚れた第1次洗浄原
液によってリンス液そのものが汚染され、同様に汚染さ
れたリンスによって次ぎの純水も汚染されて、夫々の使
用寿命を短縮している。
【0004】そこで本発明は、このような汚染の悪循環
的を無くし、第1次洗浄後に使用される比較的高価なリ
ンス液や純水の汚染をできるだけ少なくして長期にわた
って繰り返し使用することのできる経済的な洗浄装置を
簡単な構造で提供することを主たる目的とするものであ
る。
的を無くし、第1次洗浄後に使用される比較的高価なリ
ンス液や純水の汚染をできるだけ少なくして長期にわた
って繰り返し使用することのできる経済的な洗浄装置を
簡単な構造で提供することを主たる目的とするものであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明にかかる洗浄装置にあっては、洗浄すべきワ
ークを収納するバケットを保持するための保持手段を内
部に備え、且つ下部に液排出口1を有する洗浄槽2と、
該液排出口1に設置された分配弁機構3とを含み、該分
配弁機構3は少なくとも3つ以上の分配弁DV1、DV2、DV
4を備え且つそれぞれの分配弁が選択的に前記排出口1
に接続できるように形成され、前記それぞれの分配弁DV
1、DV2、DV4に専用のダクトを介して固別に形成された
液タンクT1、T2、T4が接続されており、更に、これらそ
れぞれのタンクから前記洗浄槽1に液を送り込むための
送出ダクトが形成されている構造とした。
に、本発明にかかる洗浄装置にあっては、洗浄すべきワ
ークを収納するバケットを保持するための保持手段を内
部に備え、且つ下部に液排出口1を有する洗浄槽2と、
該液排出口1に設置された分配弁機構3とを含み、該分
配弁機構3は少なくとも3つ以上の分配弁DV1、DV2、DV
4を備え且つそれぞれの分配弁が選択的に前記排出口1
に接続できるように形成され、前記それぞれの分配弁DV
1、DV2、DV4に専用のダクトを介して固別に形成された
液タンクT1、T2、T4が接続されており、更に、これらそ
れぞれのタンクから前記洗浄槽1に液を送り込むための
送出ダクトが形成されている構造とした。
【0006】前記洗浄槽2内のワーク保持手段によって
保持されたワークは回転軸の周りで回動または反復回動
するように形成するのが好ましく、また、洗浄槽内部に
ワークを超音波洗浄するための超音波発信装置(31)を設
置しておくのがよい。
保持されたワークは回転軸の周りで回動または反復回動
するように形成するのが好ましく、また、洗浄槽内部に
ワークを超音波洗浄するための超音波発信装置(31)を設
置しておくのがよい。
【0007】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施例について図面
に基づいて説明する。図において、符号(2)は下部に液
排出口(1)を有する洗浄槽であって、ケーシングフレイ
ム(4)内に設置されている。該洗浄槽(2)の上面は開口さ
れていて開閉自在な蓋(5)により閉ざされている。洗浄
槽(2)の内部には被洗浄物即ちワークを保持する保持手
段(A)が設置されている。図1で示した実施例では洗浄
槽内で左右に回転円板(23)が水平な回転軸(24)により回
転するように設けられ、この左右の回転円板(23),(23)
に複数の吊掛け棒(25)…が橋架されている。そしてこの
吊掛け棒(25)にバケット(26)…を回動可能に吊り掛ける
ことにより、バケット内に収納したワークが上下姿勢を
変えることなく回転円板と共に回動、又は反復回動でき
るようになっている。また、回転軸(24)は内部が中空に
なっていて、後述する洗浄原液やリンス液を洗浄槽(2)
に供給するためのダクトを兼ねており、この回転軸(24)
並びに蓋(5)に設けたノズルか(28)(29)から液を噴出す
るように形成されている。また、前記洗浄槽2の内底部
に超音波発生装置(31)が設けられている。尚、図中(27)
は前記回転円板を回動するためのモーターである。
に基づいて説明する。図において、符号(2)は下部に液
排出口(1)を有する洗浄槽であって、ケーシングフレイ
ム(4)内に設置されている。該洗浄槽(2)の上面は開口さ
れていて開閉自在な蓋(5)により閉ざされている。洗浄
槽(2)の内部には被洗浄物即ちワークを保持する保持手
段(A)が設置されている。図1で示した実施例では洗浄
槽内で左右に回転円板(23)が水平な回転軸(24)により回
転するように設けられ、この左右の回転円板(23),(23)
に複数の吊掛け棒(25)…が橋架されている。そしてこの
吊掛け棒(25)にバケット(26)…を回動可能に吊り掛ける
ことにより、バケット内に収納したワークが上下姿勢を
変えることなく回転円板と共に回動、又は反復回動でき
るようになっている。また、回転軸(24)は内部が中空に
なっていて、後述する洗浄原液やリンス液を洗浄槽(2)
に供給するためのダクトを兼ねており、この回転軸(24)
並びに蓋(5)に設けたノズルか(28)(29)から液を噴出す
るように形成されている。また、前記洗浄槽2の内底部
に超音波発生装置(31)が設けられている。尚、図中(27)
は前記回転円板を回動するためのモーターである。
【0008】而して符号(3)は前記洗浄槽(2)の液排出口
(1)に設置された分配弁機構であって、図1並びに図2
で示した分配弁機構(3)は第1から第4までの4っつの
分配弁(DV1)、(DV2)、(DV3)、(DV4)からなり、選択された
何れか一つの分配弁が開いたときは他の分配弁が閉じる
ように形成されている。分配弁(DV1)、(DV2)、(DV3)、(DV
4)の作動順位は別途設けたコントローラー(図示せず)
によって電気的に制御される。このような制御は例えば
従来周知のリミットスイッチとリレーとの組み合わせや
コンピューター制御によって簡単に達成することができ
よう。
(1)に設置された分配弁機構であって、図1並びに図2
で示した分配弁機構(3)は第1から第4までの4っつの
分配弁(DV1)、(DV2)、(DV3)、(DV4)からなり、選択された
何れか一つの分配弁が開いたときは他の分配弁が閉じる
ように形成されている。分配弁(DV1)、(DV2)、(DV3)、(DV
4)の作動順位は別途設けたコントローラー(図示せず)
によって電気的に制御される。このような制御は例えば
従来周知のリミットスイッチとリレーとの組み合わせや
コンピューター制御によって簡単に達成することができ
よう。
【0009】而して前記分配弁(DV1)には第1次洗浄用
の原液タンク(T1)が専用の戻りダクト(11)を介して接続
され、該原液タンク(T1)から送出ダクト(12)を介して前
記洗浄槽(2)に接続されている。この送出ダクト(12)の
途中に循環回路(13)が形成されている。この循環回路(1
3)は三方バルブ(V1)から第1のポンプ(P1)、フイルター
(F)を経て洗浄槽(2)に至る経路と、洗浄槽(2)から前記
三方バルブ(V1)に戻る経路とで形成され、一旦洗浄槽
(2)に送り込んだ原液を循環させてフイルター(F)で濾過
することができるようになっている。
の原液タンク(T1)が専用の戻りダクト(11)を介して接続
され、該原液タンク(T1)から送出ダクト(12)を介して前
記洗浄槽(2)に接続されている。この送出ダクト(12)の
途中に循環回路(13)が形成されている。この循環回路(1
3)は三方バルブ(V1)から第1のポンプ(P1)、フイルター
(F)を経て洗浄槽(2)に至る経路と、洗浄槽(2)から前記
三方バルブ(V1)に戻る経路とで形成され、一旦洗浄槽
(2)に送り込んだ原液を循環させてフイルター(F)で濾過
することができるようになっている。
【0010】また、前記分配弁(DV2)は専用の戻りダク
ト(14)を介して第1リンスタンク(T2)に接続され、該第
1リンスタンク(T2)から送出ダクト(15)を介して洗浄槽
(2)に接続されている。更に分配弁(DV3)からは専用の戻
りダクト(16)を介して第2リンスタンク(T3)に接続さ
れ、該第2リンスタンク(T3)から送出ダクト(15)を介し
て洗浄槽(2)に接続されている。また前記分配弁(DV4)は
専用の戻りダクト(17)を介して純液タンク(T4)に接続さ
れ、該純液タンク(T4)から送出ダクト(18)を介して洗浄
槽(2)に接続されている。尚、前記したリンス用の送出ダ
クト(15)並びに純液用の送出ダクト(18)の途中に第2ポ
ンプ(P2)並びに第3ポンプ(P3)が設置されている。
ト(14)を介して第1リンスタンク(T2)に接続され、該第
1リンスタンク(T2)から送出ダクト(15)を介して洗浄槽
(2)に接続されている。更に分配弁(DV3)からは専用の戻
りダクト(16)を介して第2リンスタンク(T3)に接続さ
れ、該第2リンスタンク(T3)から送出ダクト(15)を介し
て洗浄槽(2)に接続されている。また前記分配弁(DV4)は
専用の戻りダクト(17)を介して純液タンク(T4)に接続さ
れ、該純液タンク(T4)から送出ダクト(18)を介して洗浄
槽(2)に接続されている。尚、前記したリンス用の送出ダ
クト(15)並びに純液用の送出ダクト(18)の途中に第2ポ
ンプ(P2)並びに第3ポンプ(P3)が設置されている。
【0011】更に、前記洗浄槽(2)へは送風機(19)から
ヒーター(20)を介して蓋(5)に設けられた温風吹き込み
口(30)から乾燥のための温風が吹き込まれるように形成
されている。尚、符号(32)は温風による乾燥動作中に作
動する換気用排気口を示す。
ヒーター(20)を介して蓋(5)に設けられた温風吹き込み
口(30)から乾燥のための温風が吹き込まれるように形成
されている。尚、符号(32)は温風による乾燥動作中に作
動する換気用排気口を示す。
【0012】上記の構成において、洗浄槽(2)内のバケ
ット(26)に被洗浄物を収納して回転円板(23)を回動又は
反復回動させながら洗浄槽に、まず第1次洗浄原液を原
液タンク(T1)から洗浄槽(2)内にノズル(28)、(29)を介
して供給して洗浄する。この際、洗浄槽(2)に送り込ん
だ原液を循環回路(13)によって循環させてフイルター
(F)で濾過するようにする。一定の時間の洗浄が終わる
と、分配弁機構(3)の分配弁(DV1)が選択されて開放し、
洗浄槽(2)内の原液が原液タンク(T1)に還流される。次
いで分配弁(DV2)が選択されて第1リンスタンク(T2)か
ら第1リンスが洗浄槽(2)に供給され、軽く被洗浄物や
洗浄槽内部が濯がれたあと、分配弁(DV3)が作動して第
2リンスタンク(T3)から第2リンスを洗浄槽(2)に供給
し被洗浄物をリンスする。そして最後に分配弁(DV4)が
開いて純水タンク(T4)から純水を洗浄槽(2)に供給し仕
上げ洗浄をおこなう。この純水による洗浄は前記分配弁
機構を閉位置にしておいて純水を洗浄槽(2)に溜めて一
定時間洗浄を行うようにしてもよい。この洗浄後、分配
弁(DV4)が選択されて洗浄槽(2)内の純水が純水ンク(T4)
に還流される。このあと、送風機(19)からヒーター(20)
を介して洗浄槽(2)内に温風が吹き込まれて被洗浄物が
乾燥される。
ット(26)に被洗浄物を収納して回転円板(23)を回動又は
反復回動させながら洗浄槽に、まず第1次洗浄原液を原
液タンク(T1)から洗浄槽(2)内にノズル(28)、(29)を介
して供給して洗浄する。この際、洗浄槽(2)に送り込ん
だ原液を循環回路(13)によって循環させてフイルター
(F)で濾過するようにする。一定の時間の洗浄が終わる
と、分配弁機構(3)の分配弁(DV1)が選択されて開放し、
洗浄槽(2)内の原液が原液タンク(T1)に還流される。次
いで分配弁(DV2)が選択されて第1リンスタンク(T2)か
ら第1リンスが洗浄槽(2)に供給され、軽く被洗浄物や
洗浄槽内部が濯がれたあと、分配弁(DV3)が作動して第
2リンスタンク(T3)から第2リンスを洗浄槽(2)に供給
し被洗浄物をリンスする。そして最後に分配弁(DV4)が
開いて純水タンク(T4)から純水を洗浄槽(2)に供給し仕
上げ洗浄をおこなう。この純水による洗浄は前記分配弁
機構を閉位置にしておいて純水を洗浄槽(2)に溜めて一
定時間洗浄を行うようにしてもよい。この洗浄後、分配
弁(DV4)が選択されて洗浄槽(2)内の純水が純水ンク(T4)
に還流される。このあと、送風機(19)からヒーター(20)
を介して洗浄槽(2)内に温風が吹き込まれて被洗浄物が
乾燥される。
【0013】尚、上記実施例では、水道蛇口(21)から三
方バルブ(V2)を介して洗浄槽(2)に水を供給できるよう
に設計されていて必要に応じて水道水で洗浄できるよう
になっている。また原液戻りダクト(11)の途中から三方
バルブ(V1)を介して排出ダクト(22)が分岐されていて外
部に放出可能な無害な洗浄液を放流できるようになって
いる。
方バルブ(V2)を介して洗浄槽(2)に水を供給できるよう
に設計されていて必要に応じて水道水で洗浄できるよう
になっている。また原液戻りダクト(11)の途中から三方
バルブ(V1)を介して排出ダクト(22)が分岐されていて外
部に放出可能な無害な洗浄液を放流できるようになって
いる。
【0014】尚、前記した洗浄過程の何れかにおいて、
例えば最初の洗浄原液による洗浄過程において、必要あ
れば超音波発信装置(31)を作動させて超音波による洗
浄を同時に行うことにより、より効果のある洗浄を行う
ことができる。
例えば最初の洗浄原液による洗浄過程において、必要あ
れば超音波発信装置(31)を作動させて超音波による洗
浄を同時に行うことにより、より効果のある洗浄を行う
ことができる。
【0015】また、洗浄槽(2)内に取り付けられるバケ
ット(26)は、図5に示すような円筒状のバケット(26a)
又は、図6に示すような四角形の箱状のバケット(26b)
ものを左右の回転円板(23)、(23)に直接保持させて取り
付けるようにしてもよい。
ット(26)は、図5に示すような円筒状のバケット(26a)
又は、図6に示すような四角形の箱状のバケット(26b)
ものを左右の回転円板(23)、(23)に直接保持させて取り
付けるようにしてもよい。
【0016】図7並びに図8は前記分配弁機構(3)の他
の実施例を示すものであって、この分配弁機構(3)は、
水平なスライド板(3a)に適当な間隔を隔てて配置された
第1から第4までの4つの分配弁(DV1)、(DV2)、(DV3)、(D
V4)と閉鎖部(3b)とを備え且つそれぞれの分配弁が選択
的に前記排出口(1)に接続できるように水平に移動可能
に形成されている。スライド板(3a)は複数の受けローラ
ー(6)…によって支えられ、モーター(M)からの歯車(7)、
(8)、(9)及びラック(10)を介して移動するように形成さ
れている。従って、モーター(M)によってスライド板(3
a)を設定値だけ移動させることにより所望の分配弁を液
排出口(1)に連通させることができよう。
の実施例を示すものであって、この分配弁機構(3)は、
水平なスライド板(3a)に適当な間隔を隔てて配置された
第1から第4までの4つの分配弁(DV1)、(DV2)、(DV3)、(D
V4)と閉鎖部(3b)とを備え且つそれぞれの分配弁が選択
的に前記排出口(1)に接続できるように水平に移動可能
に形成されている。スライド板(3a)は複数の受けローラ
ー(6)…によって支えられ、モーター(M)からの歯車(7)、
(8)、(9)及びラック(10)を介して移動するように形成さ
れている。従って、モーター(M)によってスライド板(3
a)を設定値だけ移動させることにより所望の分配弁を液
排出口(1)に連通させることができよう。
【0017】以上本発明の代表的な実施例について説明
したが、本発明は必ずしも上記の実施例構造のみに限定
されるものではない。例えば、上記実施例で述べた第1
並びに第2のリンス液、すなわち第1リンス液タンク(T
2)、第2リンスタンク(T3)の何れか1つを省略してもよ
い。また使用される洗浄液は被洗浄物に応じて任意に選
択されるものであって特定されない。その他本発明の構
成要件を備え、且つ効果を有する範囲内で適宜変更して
実施出来るものである。
したが、本発明は必ずしも上記の実施例構造のみに限定
されるものではない。例えば、上記実施例で述べた第1
並びに第2のリンス液、すなわち第1リンス液タンク(T
2)、第2リンスタンク(T3)の何れか1つを省略してもよ
い。また使用される洗浄液は被洗浄物に応じて任意に選
択されるものであって特定されない。その他本発明の構
成要件を備え、且つ効果を有する範囲内で適宜変更して
実施出来るものである。
【0018】
【発明の効果】以上詳述したごとく本発明では、分配弁
機構の各分配弁から専用のダクトを介して夫々の液タン
クに接続されているから、洗浄後の液還流の際の共用ダ
クトがなくなって先に使用されて汚れた液が次の洗浄液
に混入して順次汚染されることがなくなり、これにより
洗浄液を長期にわたって経済的に使用することができ、
しかも少なくとも3つ以上の洗浄液を使い分けているに
もかかわらず分配弁機構の使用によって夫々のタンクへ
の配管を簡潔化してコストダウンとなると共に、メンテ
ナンスが容易となる等の効果がある。加えて、複数の異
なる洗浄液を使用するものでありながら洗浄槽が一槽だ
けで形成することができるから小型軽量で構成でき、低
コストで提供することができる、といった効果がある。
機構の各分配弁から専用のダクトを介して夫々の液タン
クに接続されているから、洗浄後の液還流の際の共用ダ
クトがなくなって先に使用されて汚れた液が次の洗浄液
に混入して順次汚染されることがなくなり、これにより
洗浄液を長期にわたって経済的に使用することができ、
しかも少なくとも3つ以上の洗浄液を使い分けているに
もかかわらず分配弁機構の使用によって夫々のタンクへ
の配管を簡潔化してコストダウンとなると共に、メンテ
ナンスが容易となる等の効果がある。加えて、複数の異
なる洗浄液を使用するものでありながら洗浄槽が一槽だ
けで形成することができるから小型軽量で構成でき、低
コストで提供することができる、といった効果がある。
【図1】本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す側方か
らみた一部断面図。
らみた一部断面図。
【図2】上記洗浄装置に於ける分配弁機構部分の平面か
ら見た概略図。
ら見た概略図。
【図3】上記洗浄装置の正面から見た要部の一部断面図
【図4】本発明に係る洗浄装置の概略的な配管図。
【図5】上記洗浄装置に於けるワーク収納バケットの他
の取り付け手段を示す断面図。
の取り付け手段を示す断面図。
【図6】上記洗浄装置に於けるワーク収納バケットの更
に他の取り付け手段を示す断面図。
に他の取り付け手段を示す断面図。
【図7】本発明に係る洗浄装置の分配弁機構部分の他の
例を示す図1同様の断面図。
例を示す図1同様の断面図。
【図8】上記配弁機構部分の駆動部を示す拡大側面図。
(1) 液排出口 (2) 洗浄槽 (3) 分配弁機構 (23) 回転円板 (24) 回転軸 (DV1)、(DV2)、(DV3)、(DV4) 分配弁 (T1)、(T2)、(T4)、(T4) 液タンク
Claims (3)
- 【請求項1】 洗浄すべきワークを収納するバケットを
保持するための保持手段を内部に備え、且つ下部に液排
出口1を有する洗浄槽2と、該液排出口1に設置された
分配弁機構3とを含み、該分配弁機構3は少なくとも3
つ以上の分配弁DV1、DV2、DV4を備え且つそれぞれの分
配弁が選択的に前記排出口1に接続できるように形成さ
れ、前記それぞれの分配弁DV1、DV2、DV4に専用のダク
トを介して固別に形成された液タンクT1、T2、T4が接続
されており、更に、これらそれぞれのタンクから前記洗
浄槽1に液を送り込むための送出ダクトが個別に形成さ
れている洗浄装置。 - 【請求項2】前記洗浄槽2内に設けられたワーク保持手
段は、水平な回転軸24の周りで回動する左右の回転円板
23,23と、これら回転円板に直接または間接的に支持さ
れたバケットにより形成されている請求項1に記載の洗
浄装置。 - 【請求項3】前記洗浄槽内部にワークを超音波洗浄する
ための超音波発信装置が設置されている請求項1に記載
の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8334096A JPH09239332A (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8334096A JPH09239332A (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09239332A true JPH09239332A (ja) | 1997-09-16 |
Family
ID=13799718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8334096A Pending JPH09239332A (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09239332A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6603248B1 (en) | 1998-03-24 | 2003-08-05 | Corning Incorporated | External electrode driven discharge lamp |
| JP2022143000A (ja) * | 2021-03-17 | 2022-10-03 | 株式会社フジタ | 粒状物質の処理装置 |
| WO2025203888A1 (ja) * | 2024-03-29 | 2025-10-02 | 三菱重工業株式会社 | 洗浄装置、分離システム及び洗浄方法 |
-
1996
- 1996-03-11 JP JP8334096A patent/JPH09239332A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6603248B1 (en) | 1998-03-24 | 2003-08-05 | Corning Incorporated | External electrode driven discharge lamp |
| US6981903B2 (en) | 1998-03-24 | 2006-01-03 | Corning Incorporated | External electrode driven discharge lamp |
| JP2022143000A (ja) * | 2021-03-17 | 2022-10-03 | 株式会社フジタ | 粒状物質の処理装置 |
| WO2025203888A1 (ja) * | 2024-03-29 | 2025-10-02 | 三菱重工業株式会社 | 洗浄装置、分離システム及び洗浄方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040316 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040512 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040713 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20051115 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |