JPH09244228A - 湿し水不要平版原版 - Google Patents

湿し水不要平版原版

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JPH09244228A
JPH09244228A JP8057831A JP5783196A JPH09244228A JP H09244228 A JPH09244228 A JP H09244228A JP 8057831 A JP8057831 A JP 8057831A JP 5783196 A JP5783196 A JP 5783196A JP H09244228 A JPH09244228 A JP H09244228A
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hollow polymer
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積 平野
Noribumi Inno
紀文 因埜
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浩二 園川
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    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16—Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザー記録できる高感度な水なし平版原版
を提供する。 【解決手段】 支持体上に中空ポリマー微粒子を含有す
るプライマー層、レーザー光を熱に変換しその熱により
プライマー層とシリコーンゴム層とのいずれかの部分で
の接着性を低下する層およびシリコーンゴム層をこの順
に積層してなることを特徴とする湿し水不要平版原版。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光によるヒ
ートモード記録によって、湿し水を必要としない印刷が
できる高感度な湿し水不要平版原版（以下、水なし平版
原版と称す）に関する。
【０００２】
【従来技術】従来の湿し水を必要とする印刷方式は湿し
水とインキの微妙なバランスのコントロールが難しく、
インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざった
りして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、損紙の原因
となるなど、大きな問題点を有していた。それに対し
て、水なし平版印刷版は湿し水を必要としないために数
多くの利点を有する。
【０００３】一方、近年プリプレスシステムやイメージ
セッター、レーザープリンターなどの出力システムの急
激な進歩によって、印刷画像をデジタルデーター化し、
コンピューター・トウ・プレート、コンピューター・トウ
・シリンダー等の新しい製版方法により、印刷版を得る
方法提案されるようになり、これらの印刷システムのた
めの新しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進められ
ている。レーザー書き込みにより水なし平版印刷版を形
成できる例としては、特公昭４２−２１８７９号公報、
特開昭５０−１５８４０５号公報、特開平５−９４００
８号公報、特開平６−５５７２３号公報、特開平６−１
８６７５０号公報、特開平７−３１４９３４号公報、Ｕ
Ｓ５，３５３，７０５号公報およびＷＯ−９４０１２８
０公報等が挙げられる。これ等にはカーボンブラック等
のレーザー光吸収剤およびニトロセルロース等の自己酸
化性のバインダーを含有した光を熱に変換する層（以
下、光熱変換層と称す）または金属薄膜層上にインキ反
撥性のシリコーンゴム層を設け、レーザー照射によりシ
リコーンゴム層の一部を除去してインク付着性とし、水
なし印刷することが記載されている。しかし、これ等の
版材は感度が低く、シリコーンゴム層を除去するために
は大きな光エネルギーが必要となる。従って、高速走査
で画像書き込みするためには、大出力のレーザー光源が
必要となり、そのために画像記録装置が大型且つ高価な
ものになるという欠点を有しており、その改善が強く望
まれている。
【０００４】
【本発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
の目的は、レーザー記録できる高感度な水なし平版原版
を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、レーザー
書き込みできる高感度な水なし平版原版の作成方法につ
いて鋭意検討した結果、支持体上に中空ポリマー微粒子
を含有するプライマー層、レーザー光を熱に変換しその
熱によりプライマー層とシリコーンゴム層とのいずれか
の部分での接着性を低下する層（光熱変換層）およびシ
リコーンゴム層をこの順に積層してなることを特徴とす
る湿し水不要平版原版によって本発明の目的を達成する
に至った。本発明はプライマー層に中空微粒子を用いる
ことにより、レーザー光の反射率を高め、レーザー光を
有効に使用するとともに、レーザー光露光により光熱変
換層で発生した熱が支持体に拡散しエネルギーロスを起
こすのを抑制することによって達成できたものと考えて
いる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳しく説明す
る。 「支持体」本発明の水なし平版原版の支持体は、通常の
印刷機にセットできる程度のたわみ性を有し、同時に印
刷時にかかる荷重に耐えるものでなければならない。従
って、代表的な基板としては、アルミニウムのような金
属板、アルミニウム含有合金（例えば、珪素、銅、マン
ガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニ
ッケルなどの金属とのアルミニウムとの合金）、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートのよ
うなプラスチックフィルム、紙もしくはポリエチレン、
ポリプロピレンなどのプラスチックフィルムがラミネー
トされた複合シートなどを挙げることができる。支持体
の膜厚は２５μｍから３ｍｍ、好ましくは７５μｍから
５００μｍが適当であるが、用いる支持体の種類と印刷
条件により最適な厚さは変動する。一般には１００μｍ
から３００μｍが最も好ましい。
【０００７】「プライマー層」本発明に用いられる中空
ポリマー微粒子とは、内部に空隙を有する樹脂粒子であ
り、空気と樹脂ポリマ−の屈折率の差からその界面で光
を反射し易くなり、白く見え、一般的には塗料の隠蔽剤
あるいは隠蔽度の高い白色顔料として利用されている。
これらは乳化重合にて不飽和カルボン酸を共重合させシ
−ド粒子を作成した後、粒子表面層を形成させるため、
エチレン性不飽和モノマ−を用いてカバ−重合し、重合
終了後、アンモニア等の揮発性塩基にて共重合させた不
飽和カルボン酸を中和させて粒子を膨潤させる方法ある
いは不飽和カルボン酸を含有した共重合ラテックスのカ
ルボキシル基を塩基で中和した後、酸を添加して作成す
る方法等により作成される。具体的には、例えば、「ロ
ーペイク」（ローム・アンド・ハース社製）、「グラン
ドール」（大日本インキ工業社製）等の商品名で販売さ
れているものや、特開昭５６−３２５１３号公報、特開
昭６０−２２３８７３号公報、特開昭６４−１７０４号
公報および特開平７−１０２０２４号公報等に記載され
ている中空重合体粒子等を用いることができる。その粒
子径は、０．０５μｍから３μｍが好ましく、より好ま
しくは０．０５μｍから１μｍである。これらの中空ポ
リマー微粒子は水溶性ポリマーと混合してまたは油溶性
ポリマーに分散した状態で支持体上に塗布される。
【０００８】本発明のプライマー層に用いられるバイン
ダーとしては例えば、特開昭６０−２２９０３号公報に
開示されているような種々の感光性ポリマーを露光して
硬化せしめたもの、特開昭６２−５０７６０号公報に開
示されているエポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開
昭６３−１３３１５１号公報に開示されているゼラチン
を硬膜せしめたもの、更に特開平３−２００９６５号公
報に開示されているウレタン樹脂とシランカップリング
剤を用いたものや特開平３−２７３２４８号公報に開示
されているウレタン樹脂を用いたもの等を挙げることが
できる。この他、ゼラチンまたはカゼインを硬膜させた
ものも有効である。更に、前記のプライマー層中に、ポ
リビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリアミド、スチレ
ン／ブタジエンゴム、カルボキシ変性スチレン／ブタジ
エンゴム、アクリロニトリル／ブタジエンゴム、カルボ
キシ変性アクリロニトリル／ブタジエンゴム、ポリイソ
プレン、アクリレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリ
エチレン、塩素化ポリプロピレン、塩化ビニル／酢酸ビ
ニル共重合体、ニトロセルロース、ハロゲン化ポリヒド
ロキシスチレン、塩化ゴム等のポリマーを添加しても良
い。また、これらのプライマー層には接着助剤（例え
ば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング
剤、チタネートカップリング剤やアルミニウムカップリ
ング剤）や染料等の添加物を含有させることもできる。
また、塗布後、露光によって硬化させることもできる。
プライマー層中の中空ポリマー微粒子の割合は、プライ
マー層全固形分の５重量％から６５重量％であり、好ま
しくは１０重量％から５５重量％、より好ましくは２０
重量％から５０重量％である。プライマー層はシリコー
ン層除去部のインキ受容層としても有用であり、支持体
として金属支持体のような非インキ受容性の場合、特に
有用である。また、プライマー層は印刷時のシリコーン
層への圧力緩和のためのクッション層としての役割も有
している。一般に、プライマー層の塗布量は乾燥重量で
０．１〜１０ｇ／ｍ2 の範囲が適当であり、好ましくは
０．２〜８ｇ／ｍ2 であり、より好ましくは０．５〜５
ｇ／ｍ2 である。
【０００９】「光熱変換層」本発明に用いられる光熱変
換層は、書き込みに使用されるレーザー光を熱に変換し
その熱によりプライマー層とシリコーンゴム層とのいず
れかの部分での接着性が低下する機能を有する層であ
り、これらの機能を有する公知の光熱変換層が使用可能
である。本発明の光熱変換層においては、記録に用いら
れるレーザー光エネルギーが吸収されて熱エネルギーに
変換され、これに起因する、燃焼、融解、分解、気化、
爆発等の反応および物理変化により、結果としてプライ
マー層とシリコーンゴム層の間のいずれかの部分で密着
性が低下するのである。光熱変換材料としては、従来、
レーザー光源を赤外線レーザーとした場合、赤外線吸収
色素、赤外線吸収顔料、赤外線吸収性金属、赤外線吸収
金属酸化物など書き込みのレーザーに使用する波長の光
を吸収する各種の有機および無機材料が使用可能である
ことが知られている。これらの材料は単独膜の形態で、
もしくはバインダー、添加剤など他の成分との混合膜の
形態で使用される。単独膜の場合には、アルミニウム、
チタン、テルル、クロム、錫、インジウム、ビスマス、
亜鉛、鉛等の金属および合金や金属酸化物、金属炭化
物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属フッ化物、有機色
素などを蒸着法およびスパッタリング法等により支持体
上に形成させることができる。また、混合膜の場合に
は、光熱変換材料を溶解もしくは分散して他の成分と共
に塗布法により形成することができる。
【００１０】（光熱変換剤）光熱変換剤としては、有機
顔料としては酸性カーボンブラック、塩基性カーボンブ
ラック、中性カーボンブラックなど各種カーボンブラッ
ク、分散性改良等のために表面修飾もしくは表面コート
された各種カーボンブラック、ニグロシン類、有機色素
としては「赤外増感色素」（松岡著 Plenum Press, New
York,NY(1990)）、ＵＳ−４８３３１２４，ＥＰ−３２
１９２３、ＵＳ−４７７２５８３，ＵＳ−４９４２１４
１、ＵＳ−４９４８７７６、ＵＳ−４９４８７７７、Ｕ
Ｓ−４９４８７７８、ＵＳ−４９５０６３９、ＵＳ−４
９１２０８３、ＵＳ−４９５２５５２、ＵＳ−５０２３
２２９なの明細書に記載の各種化合物、金属もしくは金
属酸化物としてはアルミニウム、インジウムスズ酸化
物、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化チタン等、
この他にポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリ
マーなども使用可能である。
【００１１】（バインダー）光熱変換層を混合膜として
形成する場合に使用されるバインダーとしては、光熱変
換材料を溶解もしくは分散する公知のバインダーが使用
される。これらの例としてはニトロセルロース、エチル
セルロースなどのセルロース、セルロース誘導体類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレートな
どのアクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの単独
重合体および共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチ
レンなどのスチレン系モノマーの単独重合体もしくは共
重合体。イソプレン、スチレン−ブタジエンなどの各種
合成ゴム類、ポリ酢酸ビニルなどのビニルエステル類の
単独重合体および酢酸ビニル−塩化ビニルなどの共重合
体、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカ
ーボネートなどの縮合系各種ポリマーおよび、「J. Ima
ging Sci.,P59-64 ,30(2), (1986)（Frechetら）」や
「Polymers in Electronics（Symposium Series,P11,
242, T.Davidson,Ed., ACS Washington,DC(1984)（Ito,
Willson）」、「Microelectronic Engineering,P3-10,1
3(1991)（E. Reichmanis,L.F.Thompson）」に記載のい
わゆる「化学増幅系」に使用されるバインダー等が使用
可能である。
【００１２】（添加剤）光熱変換層を混合膜として形成
する場合には、光熱変換剤とバインダー以外に添加剤を
用いることが出来る。これらの添加剤は、光熱変換層の
機械的強度を向上させたり、レーザー記録感度を向上さ
せたり、光熱変換層中の分散物の分散性を向上させた
り、支持体やプライマー層などの隣接する層に対する密
着性を向上させるなど種々の目的に応じて添加される。
例えば、光熱変換層の機械的強度を向上させるために光
熱変換層を架橋する手段が考えられ、この場合には各種
の架橋剤が添加される。レーザー記録感度を向上させる
ために加熱により分解しガスを発生する公知の化合物を
添加することが考えられる、この場合には光熱変換層の
急激な体積膨張によりレーザー記録感度が向上できる。
（これらの添加剤の例としては、ジニチロペンタメチレ
ンテトラミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジニト
ロソテレフタルアミド、ｐ−トルエンスルホニルヒドラ
ジド、４、４−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラ
ジド）、ジアミドベンゼン等を使用することが出来
る。）また、加熱により分解し酸性化合物を生成する公
知の化合物を添加剤として使用することが出来る。これ
らを化学増幅系のバインダーと併用することにより、光
熱変換層の構成物質の分解温度を大きく低下させ、結果
としてレーザー記録感度を向上させることが可能であ
る。（これらの添加剤の例としては、各種のヨードニウ
ム塩、スルフォニウム塩、フォスフォニウムトシレー
ト、オキシムスルフォネート、ジカルボジイミドスルフ
ォネート、トリアジンなどを使用することが出来る。） 光熱変換剤にカーボンブラックなどの顔料を用いた場合
には、顔料の分散度がレーザー記録感度に影響を与える
ことがあり、各種の顔料分散剤を添加剤として使用され
る。接着性を向上させるために公知の密着改良剤（例え
ば、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤
等）を添加しても良い。この他にも、塗布性を改良する
ための界面活性剤など必要に応じて各種の添加剤が使用
される。
【００１３】（膜厚）光熱変換層の膜厚は、単独膜の場
合には蒸着法およびスパッタリング法等にて薄膜が形成
できる。この場合の膜厚は５０Åから１０００Å、好ま
しくは１００Åから８００Åである。混合膜は塗布によ
り形成される。この場合の膜厚は０．０５μｍから１０
μｍ、好ましくは０．１μｍから５μｍである。光熱変
換層の膜厚は厚すぎるとレーザー記録感度の低下など好
ましくない結果を与える。
【００１４】「シリコーン層」本発明において用いられ
る架橋を行ったシリコーンゴム層は、下記組成物Ａ、ま
たはＢを硬化して形成した皮膜である。 組成物Ａ （ａ）ジオルガノポリシロキサン １００重量部 （ｂ）縮合型架橋剤 ３〜７０重量部 （ｃ）触媒 ０．０１〜４０重量部 前記成分（ａ）のジオルガノポリシロキサンは、下記一
般式で示されるような繰り返し単位を有するポリマー
で、Ｒ1 およびＲ2 は炭素数１〜１０アルキル基、ビニ
ル基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を
有していても良い。一般的にはＲ1 およびＲ2 の６０％
以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロゲ
ン化フェニル基などであるものが好ましい。
【００１５】
【化１】
【００１６】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。ま
た、前記成分（ａ）は、数平均分子量が３，０００〜１
００，０００であり、より好ましくは、５，０００〜７
０，０００である。成分（ｂ）は縮合型のものであれば
いずれであってもよいが、次の一般式で示されるような
ものが好ましい。 Ｒ1 m ・Ｓｉ・Ｘn（ｍ＋ｎ＝４、ｎは２以上） ここでＲ1 は先に説明したＲ1 と同じ意味であり、Ｘは
つぎに示すような置換基である。 Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉなどのハロゲン ＨまたはＯＨ、−ＯＣＯＲ3 、−ＯＲ3 、−Ｏ−Ｎ
＝Ｃ（Ｒ4）（Ｒ5）、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）などの有機置
換基。 ここでＲ3 は炭素数１〜１０のアルキル基および炭素数
６〜２０のアリール基、Ｒ4 、Ｒ5 は炭素数１〜１０の
アルキル基を示す。成分（ｃ）は錫、亜鉛、鉛、カルシ
ウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例えば、ラウ
リン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛など、あ
るいは塩化白金酸等のような公知の触媒があげられる。
【００１７】 組成物Ｂ （ｄ）付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン １００重量部 （ｅ）オルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜２５重量部 （ｆ）付加触媒 ０．００００１〜１重量部 上記成分（ｄ）の付加反応性官能基を有するジオルガノ
ポリシロキサンとは、１分子中にケイ素原子に直接結合
したアルケニル基（より好ましくはビニル基）を少なく
とも２個有するオルガノポリシロキサンで、アルケニル
基は分子量末端、中間いずれにあってもよく、アルケニ
ル基以外の有機基としては、置換もしくは非置換の炭素
数１〜１０のアルキル基、アリール基である。また、成
分（ｄ）には水酸基を微量有することも任意である。成
分（ｄ）は、数平均分子量が３，０００〜１００，００
０であり、より好ましくは、５，０００〜７０，０００
である。成分（ｅ）としては、両末端水素基のポリジメ
チルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサン、両
末端メチル基の（メチルシロキサン）（ジメチルシロキ
サン）共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基の（ジメチルシロキサン）（メチルシロ
キサン）共重合体などが例示される。成分（ｆ）として
は、公知のものの中から任意に選ばれるが、特に白金系
の化合物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化白金
酸、オレフィン配位白金などが例示される。これらの組
成物の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ（メチ
ルビニル）シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポ
リシロキサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコ−ル、
アセトン、メチルエチルケトン、メタノ−ル、エタノ−
ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルなどの架
橋抑制剤を添加することも可能である。なお、シリコー
ンゴム層には必要に応じて、シリカ、炭酸カルシウム、
酸化チタンなどの無機物の微粉末、シランカップリング
剤、チタネート系カップリング剤やアルミニウム系カッ
プリング剤などの接着助剤を添加しても良い。本発明に
おけるシリコーンゴム層は、厚さが小さいとインキ反撥
性が低下し、傷が入りやすい等の問題点があり、厚さが
大きい場合、画像再現性が悪くなるという点から、厚み
としては０．５〜５ｇ／ｍ2 が好ましく、より好ましく
は１〜３ｇ／ｍ2 である。
【００１８】本発明においては水なし平版原版を露光す
るのにレーザー光が使用される。使用されるレーザーは
シリコーンゴム層が剥離除去されるのに十分な密着力の
低下が起きるのに必要な露光量を与えるものであれば特
に制限はなく、Ａｒレーザー、炭酸ガスレーザーのごと
きガスレーザー、ＹＡＧレーザーのような固体レーザ
ー、そして半導体レーザーなどが使用できる。通常出力
が５０ｍＷクラス以上のレーザーが必要となる。保守
性、価格などの実用的な面からは、半導体レーザーおよ
び半導体励起の固体レーザー（ＹＡＧレーザーなど）が
好適に使用される。これらのレーザーの記録波長は赤外
線の波長領域であり、８００ｎｍから１１００ｎｍの発
振波長を利用することが多い。また、特開平６−１８６
７５０号公報に記載されているイメージング装置を用い
て露光することもできる。シリコーンゴム層の表面保護
のためのフィルムはレーザー露光する際にはそのままで
も良いし、剥がした後に露光しても良い。
【００１９】本発明において用いられる現像液としては
水なし平版原版の現像液として公知のものが使用できる
が、安全性の観点から、水または水を主成分とする水溶
性有機溶剤の水溶液が好ましい。安全性および引火性等
を考慮すると水溶性溶剤の濃度は４０重量％未満が望ま
しい。公知のものとしては、例えば脂肪族炭化水素類
（ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ”（エ
ッソ化学（株）製）あるいはガソリン、灯油等）、芳香
族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、あるいはハロ
ゲン化炭化水素（トリクレン等）に下記の極性溶媒を添
加したものや極性溶媒そのもの、 ・アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、２−エトキシエタノー
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコ
ール等） ・ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等） ・エステル類（酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等） ・その他（トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート等） また、上記有機溶剤系現像液に水を
添加したり、上記有機溶剤を界面活性剤等を用いて水に
可溶化したものや、更にその上にアルカリ剤（例えば、
炭酸ナトリウム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウ
ム等）を添加したものや単に水（水道水、純水、蒸留水
等）等が挙げられる。
【００２０】現像は、例えば上記のような現像液を含む
現像用パッドで版面をこすったり、現像液を版面に注い
だ後に水中にて現像ブラシでこするなど、公知の方法で
行うことができる。現像液温は任意の温度で現像できる
が、好ましくは１０℃〜５０℃である。これにより画像
部のシリコーンゴム層が除かれ、その部分がインキ受容
部となる。以上のような現像処理、叉はそれに続く水
洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこともできる。この
ような自動処理機の好ましいものは、特開平２−２２０
０６１号公報に記載されている。また、本発明の水なし
平版原版は接着層をシリコーンゴム層表面に張り合わせ
た後に、接着層を剥離することにより現像することも可
能である。接着層は、シリコーンゴム層の表面に密着で
きる公知のものがいずれも使用できる。これらの接着層
を可撓性支持体に設けたものが市販されており。例え
ば、住友スリーエム社の「スコッチテープ＃８５１Ａ」
の商品名で市販されている。また、このように処理され
た刷版を積み重ねて保管する場合には、刷版を保護する
ために合紙を挿入し挟んでおくことが好ましい。
【００２１】
【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。ただし、本発明は下記の実施例に限定されるもので
はない。 実施例１、比較例１ （プライマー層の作成）厚さ１８０μｍのポリエチレン
テレフタレートフイルム上に下記組成のプライマー層塗
布液を、乾燥膜厚２μｍとなるように塗布し、実施例１
のプライマー層を形成した。 ・乳酸カゼイン（ニュージーランド産 Murray Coulburn Cooperative Co.Ltd. 製） ５０ｇ ・無水炭酸ナトリウム ２．６ｇ ・グランドールＰＰ−１０００（大日本インキ工業（株）製、 中空ポリマー微粒子、固形分濃度４５％） １００ｇ ・ニッコールOTC-100S（ニッコーケミカルズ製、 アニオン界面活性剤） １．２ｇ ・γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ３．０ｇ ・CH2=CHSO2CH2CH(OH)CH2SO2CH=CH2 ３．０ｇ ・純水 ５００ｇ 比較例１のプライマー層は上記プライマー層塗布液から
中空ポリマー微粒子を除いた以外は実施例１と同様にし
て作成した。
【００２２】（カーボンブラック分散液の作成）下記の
混合液をペイントシェーカーにて３０分間分散した後、
ガラスビーズをろ別してカーボンブラック分散液を作成
した。 ・カーボンブラック（＃４０ 三菱カーボン（株）製） ５．０ｇ ・クリスボン３００６ＬＶ （大日本インキ化学工業（株）製ポリウレタン） ４．０ｇ ・ニトロセルロース（ｎ−プロパノール３０％含有） １．３ｇ ・ソルスパースＳ２７０００（ＩＣＩ社製） ０．４ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ４５ｇ ・ガラスビーズ １６０ｇ （光熱変換層の形成）前記の実施例１および比較例１の
プライマー層上に、下記の塗布液を乾燥膜厚１μｍとな
るように塗布し、光熱変換層を形成した。 ・上記のカーボンブラック分散液 ５５ｇ ・ニトロセルロース（ｎ−プロパノール３０％含有） ５ｇ ・クリスボン３００６ＬＶ （大日本インキ化学工業（株）製ポリウレタン） ２０ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ２００ｇ （シリコーンゴム層の形成）下記の塗布液を前記光熱交
換層上に塗布し、加熱（１３０℃、１分）、乾燥するこ
とにより、乾燥膜厚２μｍの付加型シリコーンゴム層を
形成した。 ・α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度５００） ９ｇ ・(CH3)3SiO(SiH(CH3)O)8-Si(CH3)3 ０．８ｇ ・オレフィン−塩化白金酸 ０．００１ｇ ・制御剤［HC≡C-C(CH3)2-O-Si(CH3)3］ ０．３ｇ ・アイソパーＧ（エッソ化学（株）製） １２０ｇ
【００２３】上記のようにして得られたシリコーンゴム
層の表面に６μｍのポリエチレンテレフタレートをラミ
ネートした。得られた本発明の水なし平版原版のカバー
フィルムを剥離した後に、波長１０６４ｎｍ、ビーム径
４０μｍ（１／ｅ2 ）、出力５００ｍＷの半導体励起Ｙ
ＡＧレーザーを用いて書き込み速度を変えて、連続線の
書き込みを行った。その後、イソプロパノールを含ませ
た現像用パッドで版面拭き、レーザー照射部のシリコー
ンゴム層を除去した。照射部のシリコーンゴム層が連続
線として除去可能な版面エネルギーは本発明のプライマ
ー層に中空ポリマー微粒子を含有した水なし平版原版が
９５mJ/cm2であり、比較例１のプライマー層に中空ポリ
マー微粒子を含有しない水なし平版原版は１８２mJ/cm2
であった。このことより、本発明の水なし平版原版は感
度が高いことが明らかである。
【００２４】実施例２、比較例２ （プライマー層の作成）厚さ１８０μｍのコロナ処理し
たポリエチレンテレフタレートフイルム上に下記組成の
プライマー層塗布液を、乾燥膜厚３μｍとなるように塗
布し、実施例２のプライマー層を形成した。 ・酸処理ゼラチン９５０（新田ゼラチン製） ５０ｇ ・グランドールＰＰ−１０００（大日本インキ工業（株）製、 中空ポリマー微粒子、固形分濃度４５％） ８０ｇ ・ニッコールOTC-100S（ニッコーケミカルズ製、 アニオン界面活性剤） １．２ｇ ・CH2=CHSO2CH2CH(OH)CH2SO2CH=CH2 ３．０ｇ ・純水 ５００ｇ 比較例２のプライマー層は上記プライマー層塗布液から
中空ポリマー微粒子を除いた以外は実施例２と同様にし
て作成した。
【００２５】（光熱変換層の形成）厚さ１８０μｍのコ
ロナ処理したポリエチレンテレフタレートフイルム上、
５×１０-5Torrの条件でチタンをＯＤ＝０．５（１０６
４ｎｍ）となるように蒸着した。 （シリコーンゴム層の形成）下記の塗布液を作成し、上
記チタン蒸着面に塗布し、加熱（１１０℃、１分）、乾
燥することにより、乾燥膜厚２μｍの縮合型シリコーン
ゴム層を形成した。 ・両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン （重合度７００） ９ｇ ・メチルトリアセトキシシラン ０．５ｇ ・ジブチル錫ジオクタネート ０．２ｇ ・アイソパーＧ（エッソ化学（株）製） １６０ｇ 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に６
μｍのポリエチレンテレフタレートをラミネートした。
【００２６】得られた本発明の水なし平版原版のカバー
フィルムを剥離した後に、波長１０６４ｎｍ、ビーム径
４０μｍ（１／ｅ2 ）、出力５００ｍＷの半導体励起Ｙ
ＡＧレーザーを用いて書き込み速度を変えて、連続線の
書き込みを行った。その後、水を含ませた現像用パッド
で版面拭き、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除去
した。照射部のシリコーンゴム層が連続線として除去可
能な版面エネルギーは本発明のプライマー層に中空ポリ
マー微粒子を含有した水なし平版原版が１０６mJ/cm2で
あり、比較例２のプライマー層に中空ポリマー微粒子を
含有しない水なし平版原版は１９８mJ/cm2であった。こ
のことより、本発明の水なし平版原版は感度が高いこと
が明らかである。
【００２７】実施例３ （支持体）厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム支持体上
に、下記組成の塗布液を乾燥膜厚２μｍとなるように塗
布し、加熱（１００℃、１分）、乾燥してプライマー層
を形成した。 ・サンプレンIＢ１７００Ｄ（三洋化成（株）製ポリウレタン） １０ｇ ・ｐ−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの 縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 ０．１ｇ ・グランドール Ｅｘｐ ＰＰ−２０７Ｓ ８ｇ ・ディフェンサーＭＣＦ３２３ （大日本インキ化学工業（株）製、界面活性剤） ０．０３ｇ ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート ５０ｇ ・乳酸メチル ２０ｇ ・純水 １ｇ その後、ネアーク社製 FT261V UDNS ULTRA-PLUS FLIPTO
P PLATE MAKER 真空露光機を用いて、２０カウント露光
した。
【００２８】（光熱変換層の形成作成）下記の混合液を
ペイントシェーカーにて３０分間分散した後、ガラスビ
ーズをろ別して光熱変換層塗布液を作成した。前記のプ
ライマー層上に、この塗布液を乾燥膜厚２μｍとなるよ
うに塗布し光熱変換層を形成した。 ・カーボンブラック（＃４０ 三菱カーボン（株）製） ５ｇ ・ニッポラン２３０４（日本ポリウレタン社製ポリウレタン） ２０ｇ ・ソルスパースＳ２００００（ＩＣＩ社製） ０．２７ｇ ・ソルスパースＳ１２０００（ＩＣＩ社製） ０．２２ｇ ・ニトロセルロース（ｎ−プロパノール３０％含有） ７．２ｇ ・メチルエチルケトン ５０ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ５０ｇ ・ガラスビーズ １６０ｇ （シリコーンゴム層の形成）下記の塗布液を前記光熱交
換層上に塗布し、加熱（１１０℃、１分）、乾燥するこ
とにより、乾燥膜厚２μｍの付加型シリコーンゴム層を
形成した。 ・α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度約７００）９．００ｇ ・(CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 １．３５ｇ ・ポリジメチルシロキサン（重合度 約８０００） ０．３０ｇ ・オレフィン−塩化白金酸 ０．００１ｇ ・抑制剤［HC≡C-C(CH3)2-O-Si(CH3)3］ ０．２ｇ ・アイソパーＧ（エッソ化学（株）製 １４０ｇ 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に６
μｍのポリエチレンテレフタレートをラミネートした。
【００２９】得られた水なし平版原版のカバーフィルム
を剥離した後に、波長１０６４ｎｍ、ビーム径４０μｍ
（１／ｅ2 ）の半導体励起ＹＡＧレーザーを用いて連続
線の書き込みを行った。記録エネルギーは３００ｍＪ／
ｃｍ2 とした。その後、スコッチテープ＃８５１Ａ（住
友スリーエム社製）をシリコーンゴム層表面に張り合わ
せた後剥離して、レーザー照射部のシリコーンゴム層を
除去した。一方、レーザー未照射部のシリコーン層は除
去されずに水なし平版原版表面に保持され、シャープな
エッジのシリコーン画像が形成できた。また、水なし平
版原版を出力１１０ｍＷ、波長８２５ｎｍ、ビーム径１
０μｍ（１／ｅ2 ）の半導体レーザーを用いて、主操作
速度５ｍ／秒にて書き込みを行い、同様の処理をしてレ
ーザー照射部のシリコーンゴム層を除去した。解像力は
７μｍでシャープなエッジの水なし平版印刷版が形成さ
れた。この記録条件にて、２００線の網点形成を行った
ところ網点面積率２％から９８％までが版上に形成でき
た。また、得られた水なし平版印刷板を印刷機を用いて
印刷したところ１０万枚の汚れのない良好な印刷物が得
られた。
【００３０】
【発明の効果】本発明の水なし平版原版は、レーザー光
によるヒートモード記録が可能であり、高感度である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 支持体上に中空ポリマー微粒子を含有す
    るプライマー層、レーザー光を熱に変換しその熱により
    プライマー層とシリコーンゴム層とのいずれかの部分で
    の接着性を低下する層およびシリコーンゴム層をこの順
    に積層してなることを特徴とする湿し水不要平版原版。
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