JPH0924543A - ポリスチレン系延伸フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はシンジオタクチックポリスチレン系
フィルム、さらに詳しく言えば、コーティング加工後の
平面性、コピー機の通過性に優れ、且つ透明性に優れた
ポリスチレン系フィルムに関するものである。 【構成】 シンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体からなるフィルムで、少なくとも一方の面の下記
式で表される面配向度（ΔＰ）が−０．０４以下、−
０．０６以上であり、さらに一方の面と他の面の複屈折
（ΔＮ）の差が０．００３以下であることを特徴とする
ポリスチレン系フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はシンジオタクチックポリ
スチレン系フィルム、さらに詳しく言えば、コーティン
グ加工後の平面性、コピー機の通過性に優れ、且つ透明
性に優れたポリスチレン系延伸フィルムに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】シンジオタクチックポリスチレン系二軸
延伸フィルムは耐熱性、電気特性、透明性などに優れた
ものが開発され（特開平１−１１０１２２号、同１−１
６８７０９号、同１−１８２３４６号、同２−２７９７
３１号、同３−７４４３７号、同３−１０９４５３号、
同３−９９８２８号、同３−１２４４２７号、同３−１
３１６４４号、同３−１３１８４３号など）、磁気テー
プ用、コンデンサー用、包装用等、各種のフィルム用途
に展開が期待されている。

【０００３】特に耐熱性、透明性を活かした液晶表示用
途やＯＨＰ用フィルム、写真フィルム等への展開が期待
されている。特に写真フィルムにおいては、透明性など
の物性の優れたフィルムを得る方法として、特開平３−
１３１８４において延伸、熱固定の条件をフィルムの複
屈折の絶対値‘Δｎ’が４０×１０^-3以下となるように
調整することが示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながらシンジ
オタクチックポリスチレン系のフィルムは、他の素材
（例えば偏光板、ゼラチン乳剤、コピー用トナー）との
接着性が悪いという欠点があった。そこで、後加工、即
ち、易接着性向上等を目的としたコーティングを施す必
要があるが、これまでのシンジオタクチックポリスチレ
ン系二軸延伸フィルムにおいては、コーティングや蒸着
を施した後に平面性が損なわれるという問題があった。
また、ＯＨＰ用フィルムとしてコピー機に通す場合の通
過性にも問題があった。これらの問題を解決するために
フィルムの腰を強くしたり、熱収縮率を低減した場合、
透明性が不良となり、特開平３−１３１８４に示された
延伸、熱固定の条件をフィルムの複屈折の絶対値‘Δ
ｎ’が４０×１０^-3以下となるように調整する方法にお
いても、かならずしも良好な透明性を得ることが出来な
かった。本発明は、コーティング加工後の平面性、コピ
ー機の通過性に優れ、且つ透明性に優れたポリスチレン
系フィルムを提供することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明のポリスチレン系
フィルムはシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体からなるフィルムで、少なくとも一方の面の面配
向度（ΔＰ）が−０．０４以下、−０．０６以上であ
り、さらに一方の面と他の面の複屈折（ΔＮ）の差が
０．００３以下であることを特徴とするコーティング加
工後の平面性、コピー機の通過性に優れ、且つ透明性に
優れたポリスチレン系延伸フィルムを提供するものであ
る。

【０００６】本発明に用いられる立体規則性がシンジオ
タクチック構造であるポリスチレン系重合体は、側鎖で
あるフェニル基又は置換フェニル基が核磁気共鳴法によ
り定量されるタクティシティがダイアッド（構成単位が
２個）で85％以上、ペンタッド（構成単位が５個）で50
％以上のシンジオタクチック構造であることが望まし
い。

【０００７】該ポリスチレン系重合体としては、ポリス
チレン、ポリ（p-、m-又はo-メチルスチレン）、ポリ
（2,4-、2,5-、3,4-又は3,5-ジメチルスチレン）、ポリ
（p-ターシャリーブチルスチレン）などのポリ（アルキ
ルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-クロロスチレン）、
ポリ（p-、m-又はo-ブロモスチレン）、ポリ（p-、m-又
はo-フルオロスチレン）、ポリ（o-メチル-p-フルオロ
スチレン）などのポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ
（p-、m-又はo-クロロメチルスチレン）などのポリ（ハ
ロゲン置換アルキルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-メ
トキシスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-エトキシスチレ
ン）などのポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（p-、m-
又はo-カルボキシメチルスチレン）などのポリ（カルボ
キシアルキルスチレン）ポリ（p-ビニルベンジルプロピ
ルエーテル）などのポリ（アルキルエーテルスチレ
ン）、ポリ（p-トリメチルシリルスチレン）などのポリ
（アルキルシリルスチレン）、さらにはポリ（ビニルベ
ンジルジメトキシホスファイド）などが挙げられる。

【０００８】本発明においては、前記ポリスチレン系重
合体のなかで、特にポリスチレン、ポリアルキルスチレ
ンおよびこれらの共重合体が好適である。また、本発明
で用いるシンジオタクチック構造を有するポリスチレン
系重合体は、必ずしも単一化合物である必要はなく、シ
ンジオタクティシティが前記範囲内であればアタクチッ
ク構造やアイソタクチック構造のポリスチレン系重合体
との混合物や、共重合体及びそれらの混合物でもよい。
また本発明に用いるポリスチレン系重合体は、重量平均
分子量が10,000以上、更に好ましくは50,000以上であ
る。重量平均分子量が10,000未満のものでは、強伸度特
性や耐熱性に優れたフィルムを得ることができない。重
量平均分子量の上限については、特に限定されるもので
はないが、1,500,000 以上では延伸張力の増加に伴う破
断の発生などが生じるため余り好ましくない。

【０００９】本発明に用いられるシンジオタクチックポ
リスチレン系重合体には必要に応じて、公知の酸化防止
剤、帯電防止剤、滑り性を付与するための微粒子等を適
量配合したものを用いることができる。配合量はシンジ
オタクチックポリスチレン系重合体100 重量％に対して
10重量％以下が望ましい。10重量％を越えると延伸時に
破断を起こしやすくなり、生産安定性不良となるので好
ましくない。

【００１０】そして、前記の面配向度（ΔＰ）および一
方の面と他の面の複屈折（ΔＮ）の差は、フィルムの製
膜条件により調整される。得られたフィルムの面配向度
（ΔＰ）および一方の面と他の面の複屈折（ΔＮ）の差
が所定の範囲に入るならば製造条件は特に限定されない
が、縱方向に低倍率の延伸を数回繰り返し高倍率に延伸
した後更に多段で横方向に延伸することが望ましいがこ
れに限定されるものではない。また、ヘイズ、面配向度
（ΔＰ）および熱収縮率を所定の範囲に入れるためには
熱固定処理、縦弛緩処理、横弛緩処理などを施すことが
必要である。また、蒸着層の接着特性等を向上するため
に、インラインコートやオフラインコートにより接着層
を設けたり、コロナ処理や火炎プラズマ処理等を行うこ
とができる。

【００１１】本発明のポリスチレン系フィルムの面配向
度（ΔＰ）は−０．０４以下、−０．０６以上、好まし
くは−０．０４５以下、−０．０５８以上、更に好まし
くは０．０４７以下、０．０５７以下である。面配向度
（ΔＰ）が−０．０４より大きい場合コーティング加工
後の平面性、コピー機の通過性が不良となる。更に、面
配向度（ΔＰ）が−０．０４より大きい場合ヘイズを１
％以下にすることが困難になる。また、面配向度（Δ
Ｐ）が−０．０６未満の場合にもヘイズを１％以下にす
ることが困難になり、製膜時に破断の発生頻度が増加す
る。

【００１２】また本発明の一方の面と他の面の複屈折
（ΔＮ）の差は０．００３以下、好ましくは０．００２
５以下、更に好ましくは０．００２以下である。一方の
面と他の面の複屈折（ΔＮ）の差が０．００３より大き
いとコーティング加工後の平面性、コピー機の通過性が
不良となる。

【００１３】更に、１５０℃における熱収縮率は２％以
下、好ましくは１．８％以下、更に好ましくは１．５％
以下である。１５０℃における熱収縮率が２％より大き
いとコーティング後の平面性やコピー機通過性が不良と
なる。

【００１４】本発明のポリスチレン系フィルムのヘイズ
は１％以下であり、好ましくは０．８以下、更に好まし
くは０．５以下である。ヘイズが１％より大きくなる
と、例えば液晶表示用途の偏光板用保護フィルムとして
使用された場合、表示画面の見やすさが低下する。

【００１５】実施例 以下に実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明
はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、
フィルムの評価方法を以下に示す。

【００１６】（１）面配向度（ΔＰ）、複屈折（ΔＮ） アタゴ光学社製アッベ屈折計４Ｔを用い、屈折率を長手
方向（Ｎｘ）、幅方向（Ｎｙ）および厚み方向（Ｎｚ）
について測定し、それら３方向の屈折率を用い下式によ
り算出した。 ΔＰ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ ΔＮ＝Ｎｘ−Ｎｙ

【００１７】（２）フィルムヘーズ JIS-K6714 に準じ、日本精密光学株式会社製ポイック積
分球式HTR メータSEP-H2D 形によりヘーズを求めた。

【００１８】（３）１５０℃における熱収縮率 無張力の状態で１５０℃の雰囲気中に３０分間放置し、
放置前後の寸法変化を読み取り、フィルムの熱収縮率を
求めた。

【００１９】（４）液晶表示画面の見やすさ 偏光フィルムの一方の面に厚さ７５μｍの本発明で得ら
れたポリスチレン系フィルムを貼り、他方の面に厚さ７
５μｍのトリアセチルセルロースフィルムを貼った偏光
板を、液晶基板側がトリアセチルセルロースフィルム面
となるように張り合わせ液晶表示装置を作成した。液晶
表示画面の見やすさを以下に示す様な３段階評価を行っ
た。 ○；見やすさ良好 △；見やすさ普通 ×；見やすさ不良

【００２０】（５）コーティング後の平面性 竹本油脂（株）製ＴＩＥ５１を１０番手のワイヤーバー
を用いてハンドコートし、１５０℃の雰囲気下で乾燥し
た。得られたフィルムを次の基準に従い、１級〜５級の
ランク付けを行った。 １級；強い張力をかけても波打ち全面にあり ２級；強い張力をかけても波打ち一部あり ３級；強い張力をかけると波打ちなし ４級；弱い張力をかけると波打ちなし ５級；張力をかけなくても波打ちなし

【００２１】（６）コピー機通過性 コートしたフィルムをＢ５サイズにカットし、（株）リ
コー製ＲＩＣＯＰＹＦＴ６９６０内部を通過させた。得
られたフィルムを次の基準に従い、１級〜５級のランク
付けを行った。 １級；コピー機につまる等のトラブルあり ２級；フィルムにしわが入る ３級；平坦な場所に置いた場合に浮く部分がある ４級；平坦な場所に置いた場合に浮く部分がないが、定
規で測定すると寸法変化が認められる ５級；外観、寸法共に変化無し

【００２２】実施例１ シンジオタクチックポリスチレン（重量平均分子量２５
０，０００）を乾燥し、２９０℃で溶融し、１５００μ
ｍのリップギャップのTダイから押し出し、５０℃の冷
却ロールに静電印荷法により密着・冷却固化し、厚さ１
０００μｍの無定形シートを得た。該無定形シートを先
ず金属ロールにより９０℃に予熱し、表面温度７００℃
の赤外線ヒータで更に加熱し縱方向に１．５倍延伸し、
引き続き１００℃に加熱したシリコンゴムロールにフィ
ルムを接触させ更に表面温度７００℃の赤外線ヒータで
加熱し縱方向に１．３倍延伸し、引き続き１３０℃に加
熱したセラミックロールを用い縦方向に１．８倍延伸し
た。次いで、テンターでフィルムを１１０℃に予熱し、
横方向に延伸温度１１０℃で１．９倍延伸し、更に１２
０℃で横方向に２倍延伸した後、２３０℃で２０秒熱固
定処理した。その後、２００℃で２％横弛緩処理し、更
に１７０℃で１％横弛緩処理を行った。得られたフィル
ムの厚みは７５μｍであった。得られたフィルムの物性
を表１に示す。

【００２３】実施例２ 縦延伸を、先ず金属ロールにより９０℃に予熱し、表面
温度７００℃の赤外線ヒータで更に加熱し縱方向に１．
４倍延伸し、引き続き１００℃に加熱したシリコンゴム
ロールにフィルムを接触させ更に表面温度７００℃の反
射した赤外線がフィルムに垂直に当たるように調製した
ステンレス製の傘を有する直径１０ｍｍの棒状窒化硅素
製赤外線ヒータ３本で加熱し縱方向に１．３倍延伸し、
引き続き１２０℃に加熱したシリコンゴムロールにフィ
ルムを接触させ更に表面温度７００℃の前記赤外線ヒー
タで加熱し縱方向に１．２倍延伸し引き続き１３５℃に
加熱したセラミックロールを用い縦方向に１．６倍延伸
した以外は実施例1と同様に行った。得られたフィルム
の厚みは７５μｍであった。得られたフィルムの物性を
表１に示す。

【００２４】比較例１ 縦延伸を金属ロールにより９５℃に予熱し表面温度６５
０℃の前記赤外線ヒータで更に加熱し縱方向に３．５倍
延伸した。次いで、テンターでフィルムを１１０℃に予
熱し、横方向に延伸温度１１５℃で横方向に３．８倍延
伸した以外は実施例１と同様に行った。得られたフィル
ムの厚みは７５μｍであった。得られたフィルムの物性
を表１に示す。

【００２５】比較例２ 縦延伸を先ず金属ロールにより９０℃に予熱し、表面温
度７００℃の前記赤外線ヒータで更に加熱し縱方向に
１．７５倍延伸し、引き続き１００℃に加熱したシリコ
ンゴムロールにフィルムを接触させ更に表面温度前記７
００℃の赤外線ヒータで加熱し縱方向に２倍延伸した。
次いで、テンターでフィルムを１１０℃に予熱し、横方
向に延伸温度１１５℃で横方向に３．８倍延伸した以外
は実施例１と同様に行った。得られたフィルムの厚みは
７５μｍであった。得られたフィルムの物性を表１に示
す。

【００２６】比較例３ シンジオタクチックポリスチレン（重量平均分子量２５
０，０００）を乾燥し、２９０℃で溶融し、１５００μ
ｍのリップギャップのT ダイから押し出し、５０℃の冷
却ロールに静電印荷法により密着・冷却固化し、厚さ８
８０μｍの無定形シートを得た。該無定形シートを先ず
シリコンゴムロールにより１２０℃に予熱し縱方向に３
倍延伸し、次いでテンターでフィルムを１２０℃に予熱
し、横方向に延伸温度１２０℃で３倍延伸し、更にシリ
コンゴムロールにより１２０℃に予熱し縱方向に１．３
倍延伸した。その後、２３０℃で２０秒熱固定処理し
た。得られたフィルムの厚みは７５μｍであった。得ら
れたフィルムの物性を表１に示す。

【００２７】

【表１】 表より、実施例１、２ 表より、実施例１、２で得られたフィルムはコーティン
グ加工後の平面性、コピー機の通過性に優れ、且つ透明
性に優れたものであることが分かる。

【００２８】

【発明の効果】以上、記載のとおり、本発明は前記特許
請求の範囲に記載のとおりの構成を採用することによ
り、コーティング加工後の平面性、コピー機の通過性に
優れ、且つ透明性に優れたポリスチレン系延伸フィルム
が提供され、従って、本発明の工業的価値は大である。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
   ン系重合体からなるフィルムで、少なくとも一方の面の
   下記式で表される面配向度（ΔＰ）が−０．０４以下、
   −０．０６以上であり、さらに一方の面と他の面の下式
   で表される複屈折（ΔＮ）の差が０．００３以下である
   ことを特徴とするポリスチレン系延伸フィルム。 ΔＰ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ ΔＮ＝Ｎｘ−Ｎｙ
2. 【請求項２】 １５０℃における熱収縮率が２％以下で
   あることを特徴とする請求項１記載のポリスチレン系延
   伸フィルム。
3. 【請求項３】 ヘイズが１％以下であることを特徴とす
   る請求項１または２記載のポリスチレン系延伸フィル
   ム。
4. 【請求項４】 １５０℃における熱収縮率が２％以下で
   あり、且つヘイズが１%以下であることを特徴とする請
   求項１記載のポリスチレン系延伸フィルム。
5. 【請求項５】 厚みが２５μｍ以上であることを特徴と
   する請求項１〜４記載のポリスチレン系延伸フィルム。