JPH09246142A - 電子線描画方法及び装置 - Google Patents
電子線描画方法及び装置Info
- Publication number
- JPH09246142A JPH09246142A JP8045810A JP4581096A JPH09246142A JP H09246142 A JPH09246142 A JP H09246142A JP 8045810 A JP8045810 A JP 8045810A JP 4581096 A JP4581096 A JP 4581096A JP H09246142 A JPH09246142 A JP H09246142A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- rectangular
- triangular
- aperture
- electron beam
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高精度な三角形及び斜めパタンの作成を実現す
る 【解決手段】第２転写マスク内の三角形開口の４５度以
上の頂点を用いて三角形パタンを形成する。 【効果】高精度な斜め図形描画を可能とする。
る 【解決手段】第２転写マスク内の三角形開口の４５度以
上の頂点を用いて三角形パタンを形成する。 【効果】高精度な斜め図形描画を可能とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子などの製
造に用いられる電子線描画装置にかかり、特に斜め図形
描画を可能にする電子線描画装置に関するものである。
造に用いられる電子線描画装置にかかり、特に斜め図形
描画を可能にする電子線描画装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】LSIパターン寸法の微細化に伴い、従来
より用いられてきた光露光に代わり電子線露光技術が使
われるようになってきている。電子線による描画は主に
超微細描画を目的とした点ビーム描画方式と汎用性の高
い可変成形描画方式に大別される。可変成形描画方式は
電子ビーム軌道上の２カ所に第１、第２の矩形絞りを設
け、各絞りを透過したビームによって描画を行う。矩形
ビームの大きさは第１と第２の絞りの間に設けられた偏
向器によって制御している。
より用いられてきた光露光に代わり電子線露光技術が使
われるようになってきている。電子線による描画は主に
超微細描画を目的とした点ビーム描画方式と汎用性の高
い可変成形描画方式に大別される。可変成形描画方式は
電子ビーム軌道上の２カ所に第１、第２の矩形絞りを設
け、各絞りを透過したビームによって描画を行う。矩形
ビームの大きさは第１と第２の絞りの間に設けられた偏
向器によって制御している。
【０００３】上記可変成形方式の応用として三角形ビー
ムを生成する方式も考案されている。三角形ビームの生
成には第２の絞り上に第１の絞りと角度の異なる開口を
設けることによって行っている。三角形ビームを用いる
ことによって斜辺パタンを高速に描画することが可能と
なり、スループットの向上が図られた。また、可変成形
方式において従来矩形分割されていた斜辺パタンが三角
形に分割されるため、精度の向上も実現された。
ムを生成する方式も考案されている。三角形ビームの生
成には第２の絞り上に第１の絞りと角度の異なる開口を
設けることによって行っている。三角形ビームを用いる
ことによって斜辺パタンを高速に描画することが可能と
なり、スループットの向上が図られた。また、可変成形
方式において従来矩形分割されていた斜辺パタンが三角
形に分割されるため、精度の向上も実現された。
【０００４】上記三角形ビームの生成方式として代表的
な例に特願平０６−２９６２０９号に示されている。上
記代表例では矩形の第１の絞り及び矩形と４５度回転さ
せた矩形を組み合わせた形状の第２の絞りを設け、第１
の絞りを透過したビームを偏向した後、第２の絞り上に
照射することによって任意の大きさの矩形ビーム及び直
角２等辺三角形ビームを生成している。また、矩形ビー
ム及び直角２等辺三角形ビームは第１の絞りを通過した
ビームの偏向強度を変化させることによってビームの大
きさを変化できるようになっている。
な例に特願平０６−２９６２０９号に示されている。上
記代表例では矩形の第１の絞り及び矩形と４５度回転さ
せた矩形を組み合わせた形状の第２の絞りを設け、第１
の絞りを透過したビームを偏向した後、第２の絞り上に
照射することによって任意の大きさの矩形ビーム及び直
角２等辺三角形ビームを生成している。また、矩形ビー
ム及び直角２等辺三角形ビームは第１の絞りを通過した
ビームの偏向強度を変化させることによってビームの大
きさを変化できるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来例で
は４５度またはそれ以外の三角形の生成方式に充分な配
慮がなされていなかった。すなわち、４５度以外の直角
三角形開口を用いて三角形ビームの生成を行う場合、４
５度以上の頂点、４５度以下の頂点、斜辺のぞれぞれを
利用する３種類の方法が存在する。まず、斜辺を利用し
て三角形ビームを生成する場合には生成される三角形の
各頂点は像面上においては上記第１と第２の絞り間に設
けられた偏向器の偏向電圧を変化させることによって動
きうるものであり、従って像面上の位置において不動点
が存在し得ず、描画位置の調整に煩雑さが伴い、ひいて
は上記方式での描画位置精度の低下につながる。次に、
４５度以下の頂点を利用する場合には頂点の精度に問題
がある。つまり、開口の頂点の製作精度は頂点の角度に
関係し、角度が小さいほど頂点部の開口作成が困難とな
り、製作精度は悪化する。つまりビーム成形精度に限界
が生ずる。
は４５度またはそれ以外の三角形の生成方式に充分な配
慮がなされていなかった。すなわち、４５度以外の直角
三角形開口を用いて三角形ビームの生成を行う場合、４
５度以上の頂点、４５度以下の頂点、斜辺のぞれぞれを
利用する３種類の方法が存在する。まず、斜辺を利用し
て三角形ビームを生成する場合には生成される三角形の
各頂点は像面上においては上記第１と第２の絞り間に設
けられた偏向器の偏向電圧を変化させることによって動
きうるものであり、従って像面上の位置において不動点
が存在し得ず、描画位置の調整に煩雑さが伴い、ひいて
は上記方式での描画位置精度の低下につながる。次に、
４５度以下の頂点を利用する場合には頂点の精度に問題
がある。つまり、開口の頂点の製作精度は頂点の角度に
関係し、角度が小さいほど頂点部の開口作成が困難とな
り、製作精度は悪化する。つまりビーム成形精度に限界
が生ずる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する為、
本発明では以下の方法を用いた。第１の絞りを透過した
矩形ビームを第２の三角形開口上に照射し三角形ビーム
を作成する際には、第２の三角形開口の４５度以上の頂
点に常に上記矩形ビームが照射されているようにすれば
よい。つまり、上記の如く三角形ビームを作成すると、
４５度以下の頂点を用いて三角形を作成する場合と比較
して精度良くビームを形成可能であり、また上記三角形
開口の斜辺を利用して三角形を作成する場合に比べター
ゲット上における位置精度が向上する。また、上記矩形
開口と三角形開口の重なりを変化させ三角形ビームの大
きさを変化させる場合、ビームの移動方向はＸ方向若し
くはＹ方向にすると三角形を作成するための第１の絞り
と第２の絞りとの間に存在する偏向器の偏向倍率の調整
をどちらか１方向のみだけで可能となる。すなわち、
Ｘ，Ｙそれぞれの偏向倍率を調整していた場合に比べ高
精度な調整が可能となる。
本発明では以下の方法を用いた。第１の絞りを透過した
矩形ビームを第２の三角形開口上に照射し三角形ビーム
を作成する際には、第２の三角形開口の４５度以上の頂
点に常に上記矩形ビームが照射されているようにすれば
よい。つまり、上記の如く三角形ビームを作成すると、
４５度以下の頂点を用いて三角形を作成する場合と比較
して精度良くビームを形成可能であり、また上記三角形
開口の斜辺を利用して三角形を作成する場合に比べター
ゲット上における位置精度が向上する。また、上記矩形
開口と三角形開口の重なりを変化させ三角形ビームの大
きさを変化させる場合、ビームの移動方向はＸ方向若し
くはＹ方向にすると三角形を作成するための第１の絞り
と第２の絞りとの間に存在する偏向器の偏向倍率の調整
をどちらか１方向のみだけで可能となる。すなわち、
Ｘ，Ｙそれぞれの偏向倍率を調整していた場合に比べ高
精度な調整が可能となる。
【０００７】
実施例１ 以下、図面を用いて本発明の実施例を詳述する。図１に
本発明における第２転写マスクを、図２に本発明を用い
た電子線描画装置の概念図を示す。電子銃１より放射さ
れる電子ビームは第１転写マスク２及び第２転写マスク
４を用い矩形又は三角形に成形された後、縮小レンズ
５、対物レンズ６によりビームの縮小、投影が行われタ
ーゲット７に露光される。矩形又は三角形ビームの作成
は第１転写マスク２と第２に転写マスク４の間に設けら
れた偏向器３によって行われる。図２に示す様に第２転
写マスクは矩形開口１２の周辺に４種類の直角三角形８
〜１１が作り込まれている。各開口において矩形又は三
角形ビームを作成する際には矩形開口を持つ第１転写マ
スク２を透過した矩形ビームを第２転写マスク４上の各
開口上を図中矢印１３〜１７の如く移動し所望の寸法の
矩形又は三角形ビームを得る。４方向の直角三角形開口
を図の如く配置し、４５度以上の頂点を利用して可変三
角形ビームを作成することによってターゲット上におい
て矩形及び三角形寸法変化に対する不動点となり精度の
よい描画が可能である。また、４５度以上の頂点を利用
しているため、４５度以下の頂点を利用し三角形ビーム
を利用する場合に比べ、頂点の作成精度が高く高精度な
描画が可能となる。
本発明における第２転写マスクを、図２に本発明を用い
た電子線描画装置の概念図を示す。電子銃１より放射さ
れる電子ビームは第１転写マスク２及び第２転写マスク
４を用い矩形又は三角形に成形された後、縮小レンズ
５、対物レンズ６によりビームの縮小、投影が行われタ
ーゲット７に露光される。矩形又は三角形ビームの作成
は第１転写マスク２と第２に転写マスク４の間に設けら
れた偏向器３によって行われる。図２に示す様に第２転
写マスクは矩形開口１２の周辺に４種類の直角三角形８
〜１１が作り込まれている。各開口において矩形又は三
角形ビームを作成する際には矩形開口を持つ第１転写マ
スク２を透過した矩形ビームを第２転写マスク４上の各
開口上を図中矢印１３〜１７の如く移動し所望の寸法の
矩形又は三角形ビームを得る。４方向の直角三角形開口
を図の如く配置し、４５度以上の頂点を利用して可変三
角形ビームを作成することによってターゲット上におい
て矩形及び三角形寸法変化に対する不動点となり精度の
よい描画が可能である。また、４５度以上の頂点を利用
しているため、４５度以下の頂点を利用し三角形ビーム
を利用する場合に比べ、頂点の作成精度が高く高精度な
描画が可能となる。
【０００８】本実施例を用い図３に示されたパタンを描
画すると従来の可変成型法を用いた場合に比べ0.2μｍ
の３０度斜めパタンの寸法精度が 0.06μｍから 0.03μ
ｍと大幅な向上が図られた。さらに本実施例を用い５：
１ステッパ用レチクルの描画を行った結果、上記ウェハ
描画の場合と同様の寸法精度が得られ、上記レチクルを
用いてデザインルール0.2μｍの２５６ＭｂｉｔＤＲＡ
Ｍを作成したところ、寸法精度が0.04μｍから0.03μｍ
に向上し、従来６５％であった歩留まりが８０％に向上
した。
画すると従来の可変成型法を用いた場合に比べ0.2μｍ
の３０度斜めパタンの寸法精度が 0.06μｍから 0.03μ
ｍと大幅な向上が図られた。さらに本実施例を用い５：
１ステッパ用レチクルの描画を行った結果、上記ウェハ
描画の場合と同様の寸法精度が得られ、上記レチクルを
用いてデザインルール0.2μｍの２５６ＭｂｉｔＤＲＡ
Ｍを作成したところ、寸法精度が0.04μｍから0.03μｍ
に向上し、従来６５％であった歩留まりが８０％に向上
した。
【０００９】
【発明の効果】以上説明したように、三角形ビーム作成
の際４５度以上の頂点を利用する事によって高精度な描
画を可能とする。
の際４５度以上の頂点を利用する事によって高精度な描
画を可能とする。
【図１】実施例１を説明するための第２転写マスクの構
成図を示す。
成図を示す。
【図２】実施例１を説明するための電子線描画装置の構
成図を示す。
成図を示す。
【図３】実施例１を説明するための寸法精度測定用パタ
ンを示す。
ンを示す。
１−−電子銃、２−−第１転写マスク、３−−成形偏向
器、４−−第２転写マスク、５−−縮小レンズ、６−−
対物レンズ、７−−ターゲット、８〜１１−−三角形開
口、１２−−矩形開口、１３〜１７、３２−−寸法可変
方向、１８〜２２、２８−−不動点、２３〜２７、２９
−−第１転写マスクを透過したビーム像、３０、３１−
−描画パタン。
器、４−−第２転写マスク、５−−縮小レンズ、６−−
対物レンズ、７−−ターゲット、８〜１１−−三角形開
口、１２−−矩形開口、１３〜１７、３２−−寸法可変
方向、１８〜２２、２８−−不動点、２３〜２７、２９
−−第１転写マスクを透過したビーム像、３０、３１−
−描画パタン。
Claims (3)
- 【請求項１】第１の矩形絞り及び第２のビーム成型用絞
りを有し、第１の矩形絞りを通過したビームをビーム偏
向手段を用い第２の絞り上にて移動させることによって
矩形若しくは三角形ビームの可変成形を可能とする電子
線描画方法において、上記ビーム偏向手段によって可変
三角形ビームを作成する際には第２の絞りのの４５度以
上の頂点を必ず用いることを特徴とした電子線描画方
法。 - 【請求項２】請求項１記載の電子線描画方法において、
第２の絞り上に第１の矩形絞りを通過したビームを照射
し可変三角形ビームを作成する際に三角形寸法変化に伴
う第１の矩形絞りを通過したビームの第２の絞り上の移
動が決められた直線上にあることを特徴とする電子線描
画方法。 - 【請求項３】第１の矩形絞り及び第２のビーム成型用絞
りを有し、第１の矩形絞りを通過したビームをビーム偏
向手段を用い第２の絞り上にて移動させることによって
矩形若しくは三角形ビームの可変成形を可能とする電子
線描画装置において、第２の絞りが４５度以上の頂点を
複数有する三角形開口であり、この４５度以上の頂点部
分にビーム偏向により第１の矩形ビームを照射すること
で可変三角形ビームを作成可能とした電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8045810A JPH09246142A (ja) | 1996-03-04 | 1996-03-04 | 電子線描画方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8045810A JPH09246142A (ja) | 1996-03-04 | 1996-03-04 | 電子線描画方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09246142A true JPH09246142A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=12729620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8045810A Pending JPH09246142A (ja) | 1996-03-04 | 1996-03-04 | 電子線描画方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09246142A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7160475B2 (en) * | 2002-11-21 | 2007-01-09 | Fei Company | Fabrication of three dimensional structures |
-
1996
- 1996-03-04 JP JP8045810A patent/JPH09246142A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7160475B2 (en) * | 2002-11-21 | 2007-01-09 | Fei Company | Fabrication of three dimensional structures |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040601 |