JPH09246150A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH09246150A JPH09246150A JP8047293A JP4729396A JPH09246150A JP H09246150 A JPH09246150 A JP H09246150A JP 8047293 A JP8047293 A JP 8047293A JP 4729396 A JP4729396 A JP 4729396A JP H09246150 A JPH09246150 A JP H09246150A
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- JP
- Japan
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- plate
- alignment
- exposure
- movable
- stage
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Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置のステージ移動の回数を減らし、処
理時間を短縮してスループットを向上する。 【解決手段】 プレートアライメント顕微鏡を可動に構
成すると共に、ステージ上にプレートを受渡す位置にお
けるプレート上のアライメントマーク位置、もしくは露
光パターンの第１露光位置にステージを移動した際のプ
レート上のアライメントマーク位置を算出し、あらかじ
めプレートアライメント顕微鏡を移動しておくようにし
た。
理時間を短縮してスループットを向上する。 【解決手段】 プレートアライメント顕微鏡を可動に構
成すると共に、ステージ上にプレートを受渡す位置にお
けるプレート上のアライメントマーク位置、もしくは露
光パターンの第１露光位置にステージを移動した際のプ
レート上のアライメントマーク位置を算出し、あらかじ
めプレートアライメント顕微鏡を移動しておくようにし
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウエハや液晶
用ガラスプレート等の感光基板（以下、プレートと称す
る）を露光する露光装置に関する。
用ガラスプレート等の感光基板（以下、プレートと称す
る）を露光する露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】露光装置においては、第一次露光処理に
より既にプレートにアライメントマークを焼付けし、第
二次露光処理に際して、マスクやレチクル（以下、マス
クとレチクルを総称してマスクという）上のパターンを
プレートに露光する。この第二次露光処理に際しては、
露光装置にあってプレートを載置するための可動ステー
ジに設けられた基準マークを用いてマスクをアライメン
トし、それにより可動ステージ上の基準マークを基準に
してマスクの中心座標を算出する。さらに、この基準マ
ークが固定配置のプレートアライメント用顕微鏡（通常
３ないし４台配置されている）の真下にくるように可動
ステージを移動させてプレートアライメント顕微鏡の位
置を可動ステージ上の基準マークを基準にして測定す
る。こうして、プレートアライメント用顕微鏡とマスク
中心座標との相対位置関係を求める（これをベースライ
ン計測という）。
より既にプレートにアライメントマークを焼付けし、第
二次露光処理に際して、マスクやレチクル（以下、マス
クとレチクルを総称してマスクという）上のパターンを
プレートに露光する。この第二次露光処理に際しては、
露光装置にあってプレートを載置するための可動ステー
ジに設けられた基準マークを用いてマスクをアライメン
トし、それにより可動ステージ上の基準マークを基準に
してマスクの中心座標を算出する。さらに、この基準マ
ークが固定配置のプレートアライメント用顕微鏡（通常
３ないし４台配置されている）の真下にくるように可動
ステージを移動させてプレートアライメント顕微鏡の位
置を可動ステージ上の基準マークを基準にして測定す
る。こうして、プレートアライメント用顕微鏡とマスク
中心座標との相対位置関係を求める（これをベースライ
ン計測という）。
【０００３】その後、可動ステージをプレートの受渡し
位置へ移動し、この位置でプレートをロードし、次いで
プレート上のアライメントマークがプレートアライメン
ト顕微鏡の真下に来るように可動ステージを移動し、こ
こでプレートアライメント用顕微鏡を用いてプレートの
アライメントを行う。このプレートアライメント動作に
より求められた補正データによりプレート位置を補正す
る。
位置へ移動し、この位置でプレートをロードし、次いで
プレート上のアライメントマークがプレートアライメン
ト顕微鏡の真下に来るように可動ステージを移動し、こ
こでプレートアライメント用顕微鏡を用いてプレートの
アライメントを行う。このプレートアライメント動作に
より求められた補正データによりプレート位置を補正す
る。
【０００４】プレート位置を補正後、投影レンズを介し
て最初にマスク上のパターンを露光すべき位置（これを
第１露光位置と称する）にプレートが来るよう、ベース
ライン量を補正しつつ可動ステージを移動し、この位置
から投影レンズによる露光作業を開始する。
て最初にマスク上のパターンを露光すべき位置（これを
第１露光位置と称する）にプレートが来るよう、ベース
ライン量を補正しつつ可動ステージを移動し、この位置
から投影レンズによる露光作業を開始する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の露
光装置においては露光すべきプレートを可動ステージが
プレート受渡し位置で受け取った後、プレートアライメ
ントを行う位置への可動ステージの移動および第１露光
位置への可動ステージの移動と２段階の可動ステージ移
動動作がプレートを露光する前に必要であり、このこと
がスループットを向上できない１つの要因となってい
た。
光装置においては露光すべきプレートを可動ステージが
プレート受渡し位置で受け取った後、プレートアライメ
ントを行う位置への可動ステージの移動および第１露光
位置への可動ステージの移動と２段階の可動ステージ移
動動作がプレートを露光する前に必要であり、このこと
がスループットを向上できない１つの要因となってい
た。
【０００６】本発明は、このような従来の問題に鑑み、
可動ステージ移動の回数を減らすことにより、処理時間
を短縮し、もってスループットの向上を図ることを目的
とする。
可動ステージ移動の回数を減らすことにより、処理時間
を短縮し、もってスループットの向上を図ることを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、一実施例を表す図１に対応付けて説明すると、請
求項１記載の露光装置は、マスク６に形成されたパター
ンを、アライメントマークが形成された感光基板１２に
露光する露光装置であって、感光基板６の受渡し位置
と、前記露光を行う露光位置との間を移動可能であり、
感光基板６を載置する可動ステージ１３と、感光基板６
に対向して設けられ、移動可能なアライメント顕微鏡３
２，３４と、前記アライメントマークに関する位置情報
と、前記受渡し位置とに基づいて、アライメント顕微鏡
３２，３４を駆動する駆動手段１８と、前記受渡し位置
において、アライメント顕微鏡３２，３４に前記アライ
メントマークを検出させる制御手段２１とを設けてい
る。
めに、一実施例を表す図１に対応付けて説明すると、請
求項１記載の露光装置は、マスク６に形成されたパター
ンを、アライメントマークが形成された感光基板１２に
露光する露光装置であって、感光基板６の受渡し位置
と、前記露光を行う露光位置との間を移動可能であり、
感光基板６を載置する可動ステージ１３と、感光基板６
に対向して設けられ、移動可能なアライメント顕微鏡３
２，３４と、前記アライメントマークに関する位置情報
と、前記受渡し位置とに基づいて、アライメント顕微鏡
３２，３４を駆動する駆動手段１８と、前記受渡し位置
において、アライメント顕微鏡３２，３４に前記アライ
メントマークを検出させる制御手段２１とを設けてい
る。
【０００８】請求項１記載の露光装置は、前記受渡し位
置においてアライメントを行うので、可動ステージ１３
の移動回数を減少することができる。このため、請求項
１記載の露光装置は、スループットを向上することがで
きる。
置においてアライメントを行うので、可動ステージ１３
の移動回数を減少することができる。このため、請求項
１記載の露光装置は、スループットを向上することがで
きる。
【０００９】請求項２記載の露光装置は、マスク６に形
成されたパターンを、アライメントマークが形成された
感光基板１２に露光する露光装置であって、感光基板１
２を載置して移動する可動ステージ１３と、感光基板１
２に対向して設けられ、移動可能なアライメント顕微鏡
３２，３４と、前記アライメントマークに関する位置情
報と、最初に露光が行われる第１露光位置とに基づい
て、アライメント顕微鏡３２，３４を駆動する駆動手段
１８と、前記第１露光位置において、アライメント顕微
鏡３２，３４に前記アライメントマークを検出させる制
御手段２１とを設けている。
成されたパターンを、アライメントマークが形成された
感光基板１２に露光する露光装置であって、感光基板１
２を載置して移動する可動ステージ１３と、感光基板１
２に対向して設けられ、移動可能なアライメント顕微鏡
３２，３４と、前記アライメントマークに関する位置情
報と、最初に露光が行われる第１露光位置とに基づい
て、アライメント顕微鏡３２，３４を駆動する駆動手段
１８と、前記第１露光位置において、アライメント顕微
鏡３２，３４に前記アライメントマークを検出させる制
御手段２１とを設けている。
【００１０】請求項２記載の露光装置は、前記第１露光
位置においてアライメントを行うので、可動ステージ１
３の移動回数を減少することができる。このため、請求
項２記載の露光装置は、スループットを向上することが
できる。
位置においてアライメントを行うので、可動ステージ１
３の移動回数を減少することができる。このため、請求
項２記載の露光装置は、スループットを向上することが
できる。
【００１１】請求項３記載の露光装置は、マスク６に形
成されたパターンを、アライメントマークが形成された
感光基板１２に露光する露光装置であって、感光基板１
２の受渡し位置と、前記露光を行う露光位置との間を移
動可能であり、感光基板１２を載置する可動ステージ１
３と、感光基板１２に対向して設けられ、移動可能なア
ライメント顕微鏡３２，３４と、アライメント顕微鏡３
２，３４による前記アライメントマークの検出を、最初
に露光が行われる第１露光位置と、前記受渡し位置との
どちらで行うかを選択する選択手段２１と、この選択結
果に基づいて、可動ステージ１３とアライメント顕微鏡
３２，３４とを駆動制御する制御手段１８，１９，２１
とを設けている。
成されたパターンを、アライメントマークが形成された
感光基板１２に露光する露光装置であって、感光基板１
２の受渡し位置と、前記露光を行う露光位置との間を移
動可能であり、感光基板１２を載置する可動ステージ１
３と、感光基板１２に対向して設けられ、移動可能なア
ライメント顕微鏡３２，３４と、アライメント顕微鏡３
２，３４による前記アライメントマークの検出を、最初
に露光が行われる第１露光位置と、前記受渡し位置との
どちらで行うかを選択する選択手段２１と、この選択結
果に基づいて、可動ステージ１３とアライメント顕微鏡
３２，３４とを駆動制御する制御手段１８，１９，２１
とを設けている。
【００１２】請求項３記載の露光装置は、前記第１露光
位置または前記受渡し位置においてアライメントを行う
ので、可動ステージ１３の移動回数を減少することがで
きる。このため、請求項３記載の露光装置は、スループ
ットを向上することができる。
位置または前記受渡し位置においてアライメントを行う
ので、可動ステージ１３の移動回数を減少することがで
きる。このため、請求項３記載の露光装置は、スループ
ットを向上することができる。
【００１３】
【実施例】図１は本発明の一実施形態についての概略的
説明図である。露光光源であるランプ１から発生した光
束は、凹面鏡２で反射集光され、シャッタ３により露光
量と露光範囲が調節され、マスクステージ７上に載置さ
れたマスク６および投影レンズ８を通り感光基板である
プレート１２に到達する。プレート１２はステージ固定
部１４上に可動に設けられたステージ可動部１３上に載
置されている。
説明図である。露光光源であるランプ１から発生した光
束は、凹面鏡２で反射集光され、シャッタ３により露光
量と露光範囲が調節され、マスクステージ７上に載置さ
れたマスク６および投影レンズ８を通り感光基板である
プレート１２に到達する。プレート１２はステージ固定
部１４上に可動に設けられたステージ可動部１３上に載
置されている。
【００１４】プレート１２のステージ可動部１３への載
置はプレート１２の露光にあたって、ステージ可動部を
プレートローダ１１の下方の所定のプレート受渡し位置
へ移動させ、該プレート受渡し位置でプレート１２はス
テージ可動部１３の所定位置に載置される。なお、プレ
ート受渡し位置で受け渡されるプレート１２は、第１次
露光処理によりアライメントマークが形成されている。
置はプレート１２の露光にあたって、ステージ可動部を
プレートローダ１１の下方の所定のプレート受渡し位置
へ移動させ、該プレート受渡し位置でプレート１２はス
テージ可動部１３の所定位置に載置される。なお、プレ
ート受渡し位置で受け渡されるプレート１２は、第１次
露光処理によりアライメントマークが形成されている。
【００１５】マスクステージ７の上方には、適数のマス
クアライメント用顕微鏡４、５が設けられてあり、また
プレート１２の上方には投影レンズ８から外れて適数の
プレートアライメント用顕微鏡３２、３３、３４、３５
が可動に設けられている。このプレートアライメント用
顕微鏡３２〜３５は、後述のプレートアライメント制御
部１８を介して、水平方向に移動される。
クアライメント用顕微鏡４、５が設けられてあり、また
プレート１２の上方には投影レンズ８から外れて適数の
プレートアライメント用顕微鏡３２、３３、３４、３５
が可動に設けられている。このプレートアライメント用
顕微鏡３２〜３５は、後述のプレートアライメント制御
部１８を介して、水平方向に移動される。
【００１６】上述の構成において、シャッタ３は露光制
御部１５を介して、マスクアライメント用顕微鏡４、５
はマスクステージ７とともにマスクアライメント制御部
１６を介して、投影レンズ８はレンズ制御部１７を介し
て、プレートアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３
５は、プレートアライメント制御部１８を介して、ステ
ージ可動部１３はステージ制御部１９を介して、そして
プレートローダ１１はプレートローダ制御部２０を介し
てそれぞれコンピュータ２１に接続されており、これら
各構成要素はデータファイル２２に接続されたコンピュ
ータ２１の制御をそれぞれの制御部を介して受けて作動
する。
御部１５を介して、マスクアライメント用顕微鏡４、５
はマスクステージ７とともにマスクアライメント制御部
１６を介して、投影レンズ８はレンズ制御部１７を介し
て、プレートアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３
５は、プレートアライメント制御部１８を介して、ステ
ージ可動部１３はステージ制御部１９を介して、そして
プレートローダ１１はプレートローダ制御部２０を介し
てそれぞれコンピュータ２１に接続されており、これら
各構成要素はデータファイル２２に接続されたコンピュ
ータ２１の制御をそれぞれの制御部を介して受けて作動
する。
【００１７】次に図４をも参照して、本実施形態の作動
シーケンスについて説明する。プレート１２へのマスク
パターンの露光作業に先立ち、図１に示すコンピュータ
２１は図４のステップ４００でデータファイル２２から
露光データをロードする。コンピュータ２１は露光デー
タからプレート１２上のアライメント位置情報とプレー
ト１２に最初にマスクパターンを投影する位置、即ち第
１露光位置情報を参照する。次いで、コンピュータ２１
は、ステップ４０１でプレートローダ１１によってステ
ージ可動部１３上にプレート１２をロードする際のステ
ージ位置（プレート受渡し位置）、ステージ可動部１３
とロードされたプレート１２の相対位置、およびプレー
トアライメント用顕微鏡３２〜３５の可動範囲情報か
ら、プレート１２をステージ可動部１３にロードしたプ
レート受渡し位置もしくはプレート１２に最初にパター
ンを露光する第１露光位置のいずれに位置させてプレー
トアライメントを行うかについて決定する。
シーケンスについて説明する。プレート１２へのマスク
パターンの露光作業に先立ち、図１に示すコンピュータ
２１は図４のステップ４００でデータファイル２２から
露光データをロードする。コンピュータ２１は露光デー
タからプレート１２上のアライメント位置情報とプレー
ト１２に最初にマスクパターンを投影する位置、即ち第
１露光位置情報を参照する。次いで、コンピュータ２１
は、ステップ４０１でプレートローダ１１によってステ
ージ可動部１３上にプレート１２をロードする際のステ
ージ位置（プレート受渡し位置）、ステージ可動部１３
とロードされたプレート１２の相対位置、およびプレー
トアライメント用顕微鏡３２〜３５の可動範囲情報か
ら、プレート１２をステージ可動部１３にロードしたプ
レート受渡し位置もしくはプレート１２に最初にパター
ンを露光する第１露光位置のいずれに位置させてプレー
トアライメントを行うかについて決定する。
【００１８】このプレートアライメント位置の決定はプ
レートアライメント顕微鏡３２〜３５の初期位置からの
移動距離を比較的短くするため第１露光位置にステージ
可動部１３を移動した場所を第１の候補とする。しか
し、この場合、図３に示される如く各プレートアライメ
ント顕微鏡３２、３３、３４、３５を算出したアライメ
ントマーク位置の上に移動しても投影レンズ８と干渉し
ないことが条件である。この第１の候補位置ではショッ
ト位置即ち投影レンズ８の位置とアライメントマーク位
置が非常に近くプレートアライメント顕微鏡３２〜３５
をアライメントマーク上に移動することが不可能な場合
はプレートをロードした位置に候補が移される（図
２）。
レートアライメント顕微鏡３２〜３５の初期位置からの
移動距離を比較的短くするため第１露光位置にステージ
可動部１３を移動した場所を第１の候補とする。しか
し、この場合、図３に示される如く各プレートアライメ
ント顕微鏡３２、３３、３４、３５を算出したアライメ
ントマーク位置の上に移動しても投影レンズ８と干渉し
ないことが条件である。この第１の候補位置ではショッ
ト位置即ち投影レンズ８の位置とアライメントマーク位
置が非常に近くプレートアライメント顕微鏡３２〜３５
をアライメントマーク上に移動することが不可能な場合
はプレートをロードした位置に候補が移される（図
２）。
【００１９】プレート受渡し位置でプレートアライメン
トを行うことを決定した場合（図２）、ステップ４０３
に進みプレート受渡し位置でステージ可動部１３上に載
置されたプレート１２の各アライメントマークが来るこ
とになる位置の真上に、対応するプレートアライメント
顕微鏡３２、３３、３４、３５をそれぞれ移動させる
（ステップ４０３）。
トを行うことを決定した場合（図２）、ステップ４０３
に進みプレート受渡し位置でステージ可動部１３上に載
置されたプレート１２の各アライメントマークが来るこ
とになる位置の真上に、対応するプレートアライメント
顕微鏡３２、３３、３４、３５をそれぞれ移動させる
（ステップ４０３）。
【００２０】各プレートアライメント顕微鏡３２〜３５
の移動が終了すると、ステップ４０４に移り、レチクル
アライメント用顕微鏡４、５およびマスクステージ７に
よりマスクアライメントを行う。ここで、ステージ可動
部１３上に設けられた図示されていない基準マークを用
いてマスク６の位置を計測しマスク６の中心座標を算出
する。さらに、この基準マークに基づきプレートアライ
メント顕微鏡位置の計測（ベースライン計測）を行う
（ステップ４０５）。
の移動が終了すると、ステップ４０４に移り、レチクル
アライメント用顕微鏡４、５およびマスクステージ７に
よりマスクアライメントを行う。ここで、ステージ可動
部１３上に設けられた図示されていない基準マークを用
いてマスク６の位置を計測しマスク６の中心座標を算出
する。さらに、この基準マークに基づきプレートアライ
メント顕微鏡位置の計測（ベースライン計測）を行う
（ステップ４０５）。
【００２１】次いで、ステップ４０６でステージ可動部
１３をプレート受渡し位置に移動させてステージ可動部
１３上に露光すべきプレート１２をロードする。プレー
トアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３５はコンピ
ュータ２１により決められたプレートアライメント位置
にステップ４０３において既に配置されており、これら
プレートアライメント顕微鏡３２〜３５により配置され
たプレート１２の対応アライメントマークにつきアライ
メントし、ここでコンピュータ２１により算出された補
正データによりステージ制御部１９を介してステージ可
動部１３を調整してプレート位置を補正するとともに、
レンズ制御部１７を介してレンズ倍率の補正を行う。
１３をプレート受渡し位置に移動させてステージ可動部
１３上に露光すべきプレート１２をロードする。プレー
トアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３５はコンピ
ュータ２１により決められたプレートアライメント位置
にステップ４０３において既に配置されており、これら
プレートアライメント顕微鏡３２〜３５により配置され
たプレート１２の対応アライメントマークにつきアライ
メントし、ここでコンピュータ２１により算出された補
正データによりステージ制御部１９を介してステージ可
動部１３を調整してプレート位置を補正するとともに、
レンズ制御部１７を介してレンズ倍率の補正を行う。
【００２２】このプレートアライメント終了後、プレー
ト１２の第１露光位置が、投影レンズ８の真下のマスク
パターン投影位置に来るようステージ可動部１３を移動
させ、即ち第１露光位置へとステージ可動部１３を移動
させて（ステップ４０８）、露光転写処理を行う（ステ
ップ４０９）。
ト１２の第１露光位置が、投影レンズ８の真下のマスク
パターン投影位置に来るようステージ可動部１３を移動
させ、即ち第１露光位置へとステージ可動部１３を移動
させて（ステップ４０８）、露光転写処理を行う（ステ
ップ４０９）。
【００２３】一方、ステップ４０１において、コンピュ
ータ２１が決定したプレートアライメント位置が、第１
露光位置である場合、即ちプレート１２上でマスクパタ
ーンを最初に露光されるべき位置が投影レンズ８のマス
クパターン投影位置に存するようにプレート１２を位置
決めしてその位置でプレートアライメントを行う場合
（図３参照）、この第１露光位置に位置決めされること
になるプレート１２のアライメントマークの各々上にプ
レートアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３５を移
動させる。各プレートアライメント顕微鏡３２〜３５の
移動終了後、マスクアライメント用顕微鏡４、５および
マスクステージ７によりマスクアライメントを行い（ス
テップ４１１）、次いでステップ４０５におけると同様
にベースライン計測を行う。次いで、ステージ可動部１
３をプレート受渡し位置へと移動して、ここでプレート
１２をロードする（ステップ４１３）。
ータ２１が決定したプレートアライメント位置が、第１
露光位置である場合、即ちプレート１２上でマスクパタ
ーンを最初に露光されるべき位置が投影レンズ８のマス
クパターン投影位置に存するようにプレート１２を位置
決めしてその位置でプレートアライメントを行う場合
（図３参照）、この第１露光位置に位置決めされること
になるプレート１２のアライメントマークの各々上にプ
レートアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３５を移
動させる。各プレートアライメント顕微鏡３２〜３５の
移動終了後、マスクアライメント用顕微鏡４、５および
マスクステージ７によりマスクアライメントを行い（ス
テップ４１１）、次いでステップ４０５におけると同様
にベースライン計測を行う。次いで、ステージ可動部１
３をプレート受渡し位置へと移動して、ここでプレート
１２をロードする（ステップ４１３）。
【００２４】プレート１２上の第１露光位置４７の中心
にマスクパターンが重なる位置へとステージ可動部１３
を移動し、ステップ４１０において移動されていたプレ
ートアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３５により
プレート１２をアライメントし（ステップ４１５）、コ
ンピュータ２１により算出された補正データによりステ
ージ可動部１３の位置を調整してプレート位置の補正を
行う。この補正終了後、露光・転写処理（ステップ４１
９）が行われる。
にマスクパターンが重なる位置へとステージ可動部１３
を移動し、ステップ４１０において移動されていたプレ
ートアライメント顕微鏡３２、３３、３４、３５により
プレート１２をアライメントし（ステップ４１５）、コ
ンピュータ２１により算出された補正データによりステ
ージ可動部１３の位置を調整してプレート位置の補正を
行う。この補正終了後、露光・転写処理（ステップ４１
９）が行われる。
【００２５】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、従来の露光
方法および装置にくらべ、可動ステージ移動動作が明ら
かに少なくなり、スループットが向上する。また、感光
基板上のアライメントマーク座標位置がアライメント用
顕微鏡位置による制限を比較的受けず自由度の高い感光
基板露光パターンの設計が可能となる。
方法および装置にくらべ、可動ステージ移動動作が明ら
かに少なくなり、スループットが向上する。また、感光
基板上のアライメントマーク座標位置がアライメント用
顕微鏡位置による制限を比較的受けず自由度の高い感光
基板露光パターンの設計が可能となる。
【図１】本発明の実施形態の概略的な構成図である。
【図２】プレートをロードした位置でプレートアライメ
ントを行っている様子を上から見た図である。
ントを行っている様子を上から見た図である。
【図３】第１露光位置でプレートアライメントを行って
いる様子を上から見た図である。
いる様子を上から見た図である。
【図４】本発明の一実施形態の特徴的なシーケンスのフ
ロー図である。
ロー図である。
１ ランプ ２ 凹面鏡 ３ シャッタ ４，５ マスクアライメント用顕微鏡 ６ マスク ７ マスクステージ ８ 投影レンズ １１ プレートローダ １２ プレート １３ ステージ可動部 １４ ステージ固定部 １５ 露光制御部 １６ マスクアライメント制御部 １７ レンズ制御部 １８ マスクアライメント用顕微鏡制御部 １９ ステージ制御部 ２０ プレートローダ制御部 ２１ コンピュータ ２２ データファイル ３２，３３，３４，３５ プレートアライメント用顕微
鏡
鏡
Claims (3)
- 【請求項１】 マスクに形成されたパターンを、アライ
メントマークが形成された感光基板に露光する露光装置
において、 前記感光基板の受渡し位置と、前記露光を行う露光位置
との間を移動可能であり、前記感光基板を載置する可動
ステージと、 前記感光基板に対向して設けられ、移動可能なアライメ
ント顕微鏡と、 前記アライメントマークに関する位置情報と、前記受渡
し位置とに基づいて、前記アライメント顕微鏡を駆動す
る駆動手段と、 前記受渡し位置において、前記アライメント顕微鏡に前
記アライメントマークを検出させる制御手段とを設けた
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 マスクに形成されたパターンを、アライ
メントマークが形成された感光基板に露光する露光装置
において、 前記感光基板を載置して移動する可動ステージと、 前記感光基板に対向して設けられ、移動可能なアライメ
ント顕微鏡と、 前記アライメントマークに関する位置情報と、最初に露
光が行われる第１露光位置とに基づいて、前記アライメ
ント顕微鏡を駆動する駆動手段と、 前記第１露光位置において、前記アライメント顕微鏡に
前記アライメントマークを検出させる制御手段とを設け
たことを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 マスクに形成されたパターンを、アライ
メントマークが形成された感光基板に露光する露光装置
において、 前記感光基板の受渡し位置と、前記露光を行う露光位置
との間を移動可能であり、前記感光基板を載置する可動
ステージと、 前記感光基板に対向して設けられ、移動可能なアライメ
ント顕微鏡と、 前記アライメント顕微鏡による前記アライメントマーク
の検出を、最初に露光が行われる第１露光位置と、前記
受渡し位置とのどちらで行うかを選択する選択手段と、 前記選択結果に基づいて、前記可動ステージと前記アラ
イメント顕微鏡とを駆動制御する制御手段とを備えたこ
とを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8047293A JPH09246150A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8047293A JPH09246150A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09246150A true JPH09246150A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=12771242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8047293A Withdrawn JPH09246150A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09246150A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007077926A1 (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Nikon Corporation | パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| WO2008056735A1 (en) * | 2006-11-09 | 2008-05-15 | Nikon Corporation | Holding unit, position detecting system and exposure system, moving method, position detecting method, exposure method, adjusting method of detection system, and device producing method |
-
1996
- 1996-03-05 JP JP8047293A patent/JPH09246150A/ja not_active Withdrawn
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