JPH09255655A - α位にハロゲン原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法 - Google Patents

α位にハロゲン原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法

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JPH09255655A
JPH09255655A JP8067895A JP6789596A JPH09255655A JP H09255655 A JPH09255655 A JP H09255655A JP 8067895 A JP8067895 A JP 8067895A JP 6789596 A JP6789596 A JP 6789596A JP H09255655 A JPH09255655 A JP H09255655A
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JP
Japan
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halogen atom
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aminomethylpyridines
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cyanopyridine
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JP8067895A
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Yuuki Takuma
勇樹 詫摩
Yuuzou Kasuga
優三 春日
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 α位にハロゲン原子を有するアミノメチルピ
リジン類を、常圧またはその付近の工業的に有利な条件
下で、高收率、及び高選択性の製造方法を提供する。 【解決手段】 α位にハロゲン原子を有するシアノピリ
ジン類を、アンモニアの存在下、ラネーニッケル触媒を
用いて接触還元してα位にハロゲン原子を有するアミノ
メチルピリジン類を製造する方法において、該接触還元
の反応系に硫黄化合物を、α位にハロゲン原子を有する
化合物に対して硫黄原子換算で100ppm〜1000
0ppm添加することを特徴とするアミノメチルピリジ
ン類の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、α位にハロゲン原
子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法に関す
る。本発明で製造されるα位にハロゲン原子を有するア
ミノメチルピリジン類は医薬及び農薬の中間体として有
用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】従来、α位にハロゲン原子を有するアミ
ノメチルピリジン類の製造方法としては、2−クロロ−
5−シアノピリジンをラネーニッケル及びアンモニアの
存在下、水素と反応させ、2−クロロ−5−アミノメチ
ルピリジンとする方法(ドイツ公開特許第372699
3号)が知られている。
【0003】しかしながら、該ドイツ公開特許第372
6993号に記載の方法では2−クロロ−5−アミノメ
チルピリジンの収率が50%程度であり、副生物である
脱クロロ体のアミノメチルピリジンや、アミノ基にもう
一分子のクロロメチルピリジンが結合した二級アミン化
合物(二量体)の生成が多く、工業的な製造方法とする
には困難である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、α位にハロ
ゲン原子を有するシアノピリジン類を原料としてα位に
ハロゲン原子を有するアミノメチルピリジン類を製造す
るにあたり、2級アミン化合物(2量体)の副生を阻止
すると共に、脱ハロゲン化物の副生をも抑制し、効率的
にα位にハロゲン原子を有するアミノメチルピリジン類
を製造する方法を提供することを目的とするものであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、α位にハロゲ
ン原子を有するシアノピリジン類を、アンモニアの存在
下、ラネーニッケル触媒を用いて接触還元してα位にハ
ロゲン原子を有するアミノメチルピリジン類を製造する
方法において、該接触還元の反応系に、硫黄化合物を該
シアノピリジン類に対して硫黄原子換算で100ppm
〜10000ppm添加することを特徴とするアミノメ
チルピリジン類の製造方法に関するものである。
【0006】すなわち本発明によれば、α位の脱ハロゲ
ン化反応が効果的に抑制され、目的とするα位にハロゲ
ン原子を有するアミノメチルピリジン類が高選択率、高
収率で得られるものである。従来の常識では、各種硫黄
化合物はラネーニッケル触媒の触媒毒として知られてい
るが、本発明はこのような硫黄化合物を特定量使用する
ことにより、驚くべきことに特に副反応のα位の脱ハロ
ゲン化反応が効果的に抑制されることを見出しなされた
ものである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい具体的実
施態様について説明する。本発明において、α位にハロ
ゲン原子を有するアミノメチルピリジン類は、α位にハ
ロゲン原子を有するシアノピリジン類を含む溶媒中に、
該シアノピリジン類1重量部に対して通常0.05〜1
重量部のラネーニッケル触媒の存在下、通常20〜15
0℃の温度範囲で、好ましくは脱ハロゲン化及び2量化
の抑制を高めるために10〜60℃の温度範囲で、通常
水素圧が1〜100気圧、好ましくは1〜10気圧の範
囲で水素を添加して接触還元を行い、反応終了後、反応
液からラネーニッケル触媒を濾別し、溶媒を留去した
後、蒸留により分離して得る。この時、水素は反応によ
り消費される量を連続的に供給し、水素圧を維持するの
が一般的であるが、反応終了までに必要な量を予め仕込
み、化学量論量の水素を消費し終わった時点で反応を終
了しても良い。
【0008】アンモニアの使用量は、α位にハロゲン原
子を有するシアノピリジン類に対し10〜200重量%
の範囲であるが、反応速度及び副反応の制御の面から、
20〜100重量%の範囲が好ましい。本発明で使用さ
れるラネーニッケル触媒については、本発明者らの先願
(特願平6−187423号)に詳述した様に、沈降速
度が1.0cm/秒以下、好ましくは0.8cm/秒以
下、更に好ましくは0.6cm/秒以下であり、水素化
フェノール活性が1000H2ml/gNi/時以下、
好ましくは600H2ml/gNi/時以下であり、A
l含有量がラネーニッケル触媒中のNi含有量に対して
3〜8重量%であるものが好ましく使用される。
【0009】このような好ましいラネーニッケル触媒の
製造例としては、例えばその粒度分布において40μm
以下の割合が90%以上、及び20μm以下が50%以
上に調整されたラネーニッケル合金、より好ましくは4
0μm以下の割合が95%以上、及び20μm以下が7
0%以上に調整されたラネーニッケル合金を、水酸化ナ
トリウム水溶液を用い、−20℃〜200℃の温度範囲
で、30分から15時間反応させてアルミニウムを適宜
溶出させ、ついで適宜洗浄する方法が挙げられる。
【0010】本発明で使用される硫黄化合物は、特に限
定されるものではなく、例えば硫化水素をはじめ無機硫
黄化合物として硫酸ナトリウム、硫酸水素ナトリウム、
硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸銅、硫酸鉄、硫
酸カルシウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム等の硫
酸塩類や亜硫酸アンモニウム、亜硫酸カルシウム、亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸バリウム等の亜硫酸塩類が挙げら
れる。更に有機硫黄化合物としてジメチルスルフィド、
チアゾール、チオアセトアミド、チオ安息香酸、チオグ
リコール酸、チオクレゾール、チオ酢酸、チオ尿素、チ
オフェノール、チオフェン等が挙げられる。
【0011】上記硫黄化合物の使用量は、硫黄原子換算
で基質であるα位にハロゲン原子を有するシアノピリジ
ン類に対し100〜10000ppm、好ましくは10
0〜2000ppmの範囲であり、適用する還元の反応
条件によって、かつ触媒毒としての作用もあるので、著
しく反応速度を阻害しない量の範囲で選択される。本発
明で使用される溶媒は、還元反応に不活性な溶媒であれ
ば特に制限されないが、メタノール、エタノール、ブタ
ノール等の低級アルコール系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等の環状エーテル系溶媒が挙げら
れ、特にアルコール系溶媒が目的のアミノメチルピリジ
ン類の収率の面から好ましい。溶媒の使用量は、α位に
ハロゲンを有するシアノピリジン類に対し1〜25倍量
(重量)、好ましくは10〜15倍量(重量)である。
【0012】本発明で原料として使用されるα位にハロ
ゲン原子を有するシアノピリジン類は、下記一般式
(1)
【0013】
【化1】
【0014】(上記式中で、R1〜R4の少なくとも一つ
はシアノ基を表し、シアノ基以外のR 1〜R4はそれぞれ
独立して水素原子、フェノキシ基、C1〜C8のアルキル
基、C 1〜C8のアルコキシ基、アリール基、またはアリ
ールオキシル基を表し、Xはハロゲン原子を表す。)で
表される。上記式中で、ハロゲン原子としては、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ
る。C1〜C8のアルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、秒−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル
基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基等の直鎖または分岐のアル
キル基が挙げられる。C1〜C8のアルコキシ基として
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、秒−ブトキシ
基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ネオペ
ンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、ヘキシ
ルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の
直鎖または分岐のアルコキシ基が挙げられる。アリール
基としてはフェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げ
られる。アリールオキシ基としてはフェノキシ基、トリ
ルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【0015】具体的なシアノピリジン類としては、2−
フルオロ−3−シアノピリジン、2−ブロモ−4−シア
ノピリジン、2−ヨード−6−シアノピリジン、2−ク
ロロ−5−シアノピリジン、2−クロロ−4−メチル−
5−シアノピリジン、2−クロロ−6−エトキシ−5−
シアノピリジン、2−クロロ−3,5−ジシアノピリジ
ン等が挙げられる。
【0016】これらのシアノピリジン類の由来は特に限
定されないが、例えば2−クロロ−5−シアノピリジン
は、シアノピリジンを塩素化する方法(特開昭64−4
2467号公報、米国特許3591597号明細書等参
照)によって容易に得ることができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を揚げて更に詳細に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。 実施例1 2−クロロ−5−シアノピリジン100g、エタノール
950g、ラネーニッケル(wet品)25g、28%
アンモニア水180g、及び硫酸ナトリウム0.6gを
仕込み、水素を1気圧に維持しながら、20℃で激しく
攪拌しながら10時間反応させた。反応終了後、反応液
から触媒を濾別し、蒸留により2−クロロ−5−アミノ
メチルピリジンを収率87%で得た。この時副生した脱
クロル体(3−アミノメチルピリジン)は4%(収率換
算)であった。
【0018】なお、本実施例で使用したラネーニッケル
触媒は以下の性質を有する。 沈降速度 :0.55cm/秒 水素化フェノール活性:490(H2ml/gNi/
時) Al含有量(Al/Ni):5.2% BET−全表面積 :80m2/gNi 比較例 硫酸ナトリウムを用いずに実施例1と同様な操作で試験
を行った。得られた2−クロロ−5−アミノメチルピリ
ジンを収率80%で、この時副生した脱クロル体(3−
アミノメチルピリジン)は10%(収率換算)であっ
た。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば、α位にハロゲン原子を
有するシアノピリジン類を、アンモニア及び特定量の硫
黄化合物の存在下、ラネーニッケル触媒を用いて接触還
元することによりα位にハロゲン原子を有するアミノメ
チルピリジン類を高収率、かつ高選択的に製造できると
いうものである。特に本発明の方法は、常圧またはその
付近で反応が十分進行し、しかも目的物の收率、及び選
択性が高いので、工業的に有利な方法である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】α位にハロゲン原子を有するシアノピリジ
    ン類を、アンモニアの存在下、ラネーニッケル触媒を用
    いて接触還元してα位にハロゲン原子を有するアミノメ
    チルピリジン類を製造する方法において、該接触還元の
    反応系に硫黄化合物を、α位にハロゲン原子を有する化
    合物に対して硫黄原子換算で100ppm〜10000
    ppm添加することを特徴とするアミノメチルピリジン
    類の製造方法。
  2. 【請求項2】硫黄化合物が無機硫黄化合物であることを
    特徴とする請求項1記載の製造方法。
  3. 【請求項3】α位にハロゲン原子を有するシアノピリジ
    ン類が、2−クロロ−5−シアノピリジンであることを
    特徴とする請求項1記載の製造方法。
JP8067895A 1996-03-25 1996-03-25 α位にハロゲン原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法 Pending JPH09255655A (ja)

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