JPH09266162A - レジストの除去方法、およびこれに用いる接着剤もしくは接着シート類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、例えば、半導体、回路、各種プリ
ント基板、各種マスク、リードフレームなどの微細加工
部品の製造に際し、半導体ウエハなどの物品上の不要と
なったレジスト材を除去する方法と、これに用いる接着
剤もしくは接着シート類に関する。 【解決手段】 レジストの除去方法において、剥離の際
の上記接着剤層のレジストに対する１８０°剥離接着力
が５ｇ／10mm以上で、かつ接着剤層のレジストが存在し
ない部分の物品に対する１８０°剥離接着力が１５０ｇ
／10mm未満となるように設定したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、半導体、
回路、各種プリント基板、各種マスク、リードフレーム
などの微細加工部品の製造に際し、半導体ウエハなどの
物品上の不要となったレジスト材を除去する方法と、こ
れに用いる接着剤もしくは接着シート類に関する。

【０００２】以下、半導体のデバイス製造の例を用いて
説明するが、本発明は、レジスト材からなるパターン、
すなわちレジスト材が部分的に存在する物品であれば、
何らその用途に限定されるものではなく、特に半導体の
デバイス製造において、ウエハ上の不要となったイオン
注入されたレジスト材の除去に好適に採用される。

【０００３】

【従来の技術】例えば、半導体のデバイス製造では、ウ
エハ上にレジスト材を塗布し、通常のフォトプロセスに
てレジストパターンからなる画像を形成し、これをマス
クとしてエッチングしたのち、不要となったレジスト材
を除去して回路を形成する。つぎの回路を形成するた
め、再度レジスト材を塗布し、画像形成−エッチング−
レジスト材の除去というサイクルを繰り返し行う。 各
種基板に回路を形成する場合も、レジストパターンの形
成後、不要となったレジスト材を除去する。

【０００４】ここで、不要となったレジスト材の除去
は、アッシャー（灰化手段）や、溶剤（剥離液）などで
行われるのが一般的である。 しかしながら、レジスト
材の除去にアッシャーを用いると、作業に長時間を要し
たり、レジスト材中の不純物イオンがウエハに注入され
るおそれがあり、好ましくない。 また、溶剤を用いる
と、作業環境を害するという問題があった。

【０００５】そこで、本件出願人は、特開平４−３４５
０１５号、同５−２７５３２４号などにおいて、レジス
ト材の除去に、シート状やテープ状などの接着シート類
を用い、これをレジストパターンの上面に貼り付けたの
ち、レジスト材と一体に剥離するという方法を提案して
いる。 この方法は、レジスト材中の不純物イオンがウ
エハに注入されたり、作業環境を害するという問題がな
く、簡単かつ確実な除去方法として、その実用化が期待
されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者らの
検討によると、上記の接着シート類を用いる方法では、
回路形成に際しＡｓイオンなどを高ドーズ量（例えば１
×１０¹⁵ ions/cm² 以上）や高エネルギー量（例えば
１．０ＭｅＶ以上）で注入し、このイオン注入によりレ
ジストパターンの表面層が変質した場合、接着シート類
による剥離性が悪くなり、ウエハ表面からレジストを全
面残さず剥離除去することが難しいという問題があっ
た。さらに、剥離時に、レジストが存在しないシリコン
ウエハ表面（例えば酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）や窒化膜（Ｓ
ｉ₃ Ｎ₄ 膜）など）と接着剤層との接着力が大きくなり
すぎて、ウエハ表面が接着剤により汚染され、またレジ
ストの剥離性も低下してしまう問題があった。

【０００７】したがって、本発明は、イオン注入による
レジスト材表面層の変質やレジストの厚みなどに左右さ
れることなく、さらにウエハなどの物品の汚染という問
題を生じることもなく、物品上の不要となったレジスト
材を簡単かつ確実に除去できる方法と、これに用いる接
着剤もしくは接着シート類を提供することを目的として
いる。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的に対し鋭意検討した結果、レジスト材上に設ける接着
剤からなる層の特定の物性を特定したときに、この接着
剤層とレジスト材との一体剥離性に好結果が得られ、レ
ジスト材表面層の変質の有無に関係なく、かつ物品の汚
染という問題を生じることもなく、簡単かつ確実にレジ
スト材を物品上から剥離除去できることを知り、本発明
を完成するに至った。

【０００９】即ち本発明は、レジストが部分的に存在す
る物品上に接着剤層を設け、この接着剤層とレジスト材
とを一体に物品から剥離するレジストの除去方法におい
て、剥離の際の上記接着剤層のレジストに対する１８０
°剥離接着力が５ｇ／10mm以上で、かつ接着剤層のレジ
ストが存在しない部分の物品に対する１８０°剥離接着
力が１５０ｇ／10mm未満となるように設定したことを特
徴とするレジストの除去方法に係るものである。

【００１０】また本発明は、上記レジストの除去方法に
用いる接着剤もしくは接着シート類であって、剥離の際
の接着剤層のレジストに対する１８０°剥離接着力が５
ｇ／10mm以上で、かつ接着剤層のレジストが存在しない
部分の物品に対する１８０°剥離接着力が１５０ｇ／10
mm未満となるように設定されたレジスト除去用の接着剤
もしくは接着シート類に係るものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明のレジストの除去方法にお
いては、まず、レジストパターンが存在する物品上に、
接着剤からなる層を設ける。 この設け方は、接着剤を
上記物品上に直接塗布する方式で行ってもよいが、本発
明においては、あらかじめ基材上に接着剤層を設けたシ
ート状やテープ状などの接着シート類を作製しておき、
この接着シート類を上記物品上に貼り合わせるようにす
る方式が好ましい。

【００１２】ここで用いる接着剤は、非硬化型のもので
あっても、硬化型のものであってもよいが、非硬化型の
ものではその接着剤自体のレジストに対する１８０°剥
離接着力が、硬化型のものでは硬化後の接着剤のレジス
トに対する１８０°剥離接着力が、５ｇ／10mm以上、特
に５〜５０００ｇ／10mm、さらに１０〜５０００ｇ／10
mm程度となるように設定するのが望ましい。 この１８
０°剥離接着力が上記値未満の場合、レジスト材を全く
剥離できない。 特に、高ドーズインプラ注入レジスト
に対しては、３０００〜５０００ｇ／10mm程度、高エネ
ルギーインプラ注入レジストに対しては、２０００〜４
０００ｇ／10mm程度とすることが望ましい。 一方あま
り大きすぎると、ウエハが破損してしまったり、基材と
粘着剤の間で投錨破壊してしまうおそれがある。

【００１３】さらに、接着剤層のレジストが存在しない
部分の物品（例えば物品がシリコンウエハの場合は、酸
化膜（ＳｉＯ₂ 膜）や窒化膜（Ｓｉ₃ Ｎ₄ 膜）などをい
う）に対する剥離の際の１８０°剥離接着力が、１５０
ｇ／10mm未満、好ましくは５〜１２０ｇ／10mmとなるよ
うに設定するのが望ましい。 この接着力が１５０ｇ／
10mm以上となると、レジストが存在しない部分の物品へ
の接着力が大きすぎて、レジストの剥離作業が容易に行
えず、また物品表面が接着剤で汚染する場合があるため
好ましくなく、一方あまり小さすぎると、ウエハと接着
シートの接着剤層が接触しない部分が発生し、均一な剥
離が行われないおそれがある。なお、接着剤として硬化
型を用いる場合にも、上記と同様の現象が生じるおそれ
があるため、硬化前の接着剤層のレジストが存在しない
部分の物品に対する１８０°剥離接着力が、１５０ｇ／
10mm以上、好ましくは２００〜１０００ｇ／10mmが望ま
しい。 ここで１８０°剥離接着力とは、後述の実施例
にて定義される接着力をいう。

【００１４】本発明において用いられる接着剤は、レジ
スト、及びレジストが存在しない物品に対する特定の１
８０°剥離接着力を発現できる限り特に限定されず、感
圧性接着剤、または通常の接着剤であればよく、例え
ば、非硬化型の接着剤としては、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリ（メ
タ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、各
種天然高分子などの熱可塑性樹脂が挙げられ、特に重量
平均分子量が１万〜１０００万、好ましくは１０万〜５
００万であるものが好ましく用いられる。 この分子量
が小さすぎると、レジスト、及びレジストが存在しない
部分の物品に対する１８０°剥離接着力を前記の特定値
に設定しにくく、一方大きすぎると、シート状等に加工
しにくくなるおそれがある。 また、硬化型の接着剤と
しては、上記熱可塑性樹脂からなる接着性ポリマーに後
述の重合性モノマーやオリゴマーを熱もしくは光重合開
始剤とともに加えてなる熱硬化型接着剤もしくは光硬化
型接着剤や、その他尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂などの熱硬化性樹脂が用いられる。

【００１５】本発明においては、硬化作業性の観点、ウ
エハや回路基板などの物品に熱的な悪影響を与えないと
いう観点からは、光硬化型、特に紫外線硬化型の感圧性
接着剤が好ましく用いられる。かかる紫外線硬化型感圧
性接着剤としては、前記の特定の１８０°剥離接着力を
発現できる限り特に限定されないが、感圧接着性ポリマ
ーに分子内に不飽和二重結合を１個以上有する化合物を
含有させてなるものが好ましく、かかる感圧接着性ポリ
マーとしては、例えばアクリル酸、アクリル酸アルキル
エステル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキルエステ
ルから選ばれる（メタ）アクリル酸および／または（メ
タ）アクリル酸エステルを主モノマーとしたアクリル系
ポリマーが挙げられる。

【００１６】このアクリル系ポリマーは、上記の主モノ
マー、つまり、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸
またはメタクリル酸と炭素数が通常１２以下のアルコー
ルとのエステルのほか、必要によりカルボキシル基また
は水酸基を有するモノマーや、その他の改質用モノマー
を用いて、これらを常法により溶液重合、乳化重合、懸
濁重合、塊状重合などの方法で重合させることにより得
ることができる。

【００１７】カルボキシル基含有モノマーとしては、例
えば、主モノマーとして用いることもできるアクリル
酸、メタクリル酸のほか、、マレイン酸、イタコン酸な
どが、水酸基含有モノマーとしては、例えば、ヒドロキ
シエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレー
トなどがそれぞれ用いられる。 これらモノマーを必要
に応じて用いる場合の使用量は、全モノマー中、通常２
０重量％以下とするのが好ましい。 その他の改質用モ
ノマーとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ス
チレン、アクリロニトリル、アクリルアミド、グリシジ
ルメタクリレートなどが用いられる。 これら改質用モ
ノマーを用いる場合の使用量は、主モノマーとの合計量
中、通常５０重量％以下とするのが好ましい。

【００１８】このようなモノマーから構成されるアクリ
ル系ポリマーの分子量は、重量平均分子量で、通常１万
〜１０００万、特に１０万〜５００万であるのが好まし
い。分子量が小さすぎると、前記した如く、接着剤の１
８０°剥離接着力を前記の特定値に設定しにくく、一方
大きすぎると、シート状等に加工しにくくなるおそれが
ある。

【００１９】また、アクリル系ポリマーの合成にあた
り、共重合モノマーとして分子内に不飽和二重結合を２
個以上有する化合物を用いるか、あるいは合成後のアク
リル系ポリマーに分子内に不飽和二重結合を有する化合
物を官能基間の反応で化学結合させるなどして、アクリ
ル系ポリマーの分子内に不飽和二重結合を導入しておく
ことにより、このポリマー自体も紫外線照射による重合
硬化反応に関与させるようにすることもできる。

【００２０】ここで、分子内に不飽和二重結合を１個以
上有する化合物（以下、重合性不飽和化合物という）と
しては、不揮発性でかつ重量平均分子量が１００００以
下の低分子量体であるのがよく、特に硬化時の接着剤層
の三次元網状化が効率よくなされるように、５０００以
下の分子量を有しているのが好ましい。 かかる重合性
不飽和化合物は、アクリル系ポリマーとの相溶性に優れ
接着剤全体の流動化に寄与し、レジストパターンの凹部
への流動浸漬、密着に好結果を与えるものである。 ま
た、レジスト材との親和性に優れ、レジスト材との接着
力が大きく、さらにテープやシート状態での保存時に側
面に流れでないものであることが望まれる。

【００２１】かかる重合性不飽和化合物の具体例として
は、例えば、フェノキシポリエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、ε−カプロラクトン（メタ）アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）
アクリレート、オリゴエステル（メタ）アクリレート、
エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリ
レート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ポリエステルジアクリレートなどが
挙げられ、これらの中から、用いるアクリル系ポリマー
の種類、対象とされるレジスト材の種類に応じて、その
一種または二種以上を選択することができる。

【００２２】このような重合性不飽和化合物は、前記の
感圧接着性ポリマー１００重量部に対し、通常５〜３０
０重量部、好ましくは２０〜３００重量部の割合で用い
られる。 この使用量が少なすぎると、接着剤全体の流
動化が低くなりレジスト材の剥離効果が十分でなくなる
場合があり、また多すぎると、保存時に接着剤が流れ出
すおそれがある。

【００２３】本発明で用いる硬化型感圧性接着剤に添加
される重合開始剤は、特に限定されず公知のものを使用
でき、例えば熱硬化型の場合は、、ベンゾイルパーオキ
サイド、アゾビスイソブチロニトリルなどの熱重合開始
剤、また光硬化型の場合は、ベンゾイン、ベンゾインエ
チルエーテル、ジベンジル、イソプロピルベンゾインエ
ーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンクロロチオ
キサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキ
サントン、アセトフェノンジエチルケタール、ベンジル
ジメチルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、２−ヒドロキシメチルフェニルプロパン、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなど
の光重合開始剤が挙げられる。 これらの重合開始剤
は、感圧接着性ポリマー１００重量部に対し、通常０．
１〜１５重量部、好ましくは０．５〜１０重量部の範囲
で用いられる。

【００２４】また、この硬化型感圧性接着剤には、半導
体ウエハなどの物品に貼り付ける際の作業性を良くし、
かつレジスト材を効率よく剥離できる点から、感圧接着
性ポリマーを架橋して接着剤としての凝集力を高めるた
めの架橋剤、例えばカルボキシル基や水酸基を有するア
クリル系ポリマーに対し、この官能基と反応しうる多官
能性化合物として、ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、トリレンジイソシアネートなどのポリイソシアネー
ト、ポリエポキシ、各種金属塩、キレート化合物などを
含ませることが好ましい。 これら多官能性化合物の使
用量は、感圧接着性ポリマー１００重量部に対して、２
０重量部以下とし、この範囲内で上記ポリマーの分子量
が小さければ多く、大きければ少なくなるように適宜選
択すればよい。 あまり多く使用しすぎると、接着剤層
とレジスト材との接着力が低下するため好ましくない。

【００２５】さらに、このような硬化型感圧性接着剤に
は、上記の多官能性化合物と同様の使用目的で、微粉シ
リカなどの充填剤を含ませるようにしてもよく、その
他、粘着付与樹脂、着色剤、老化防止剤などの公知の各
種添加剤を必要により含ませることもできる。 これら
種々の添加剤は、一般の接着剤に採用される通常の使用
量でよい。

【００２６】本発明においては、上記の接着剤自体、あ
るいは特に好ましくはこの接着剤からなる接着剤層を基
材上に設けることにより、シート状やテープ状などの形
態とした接着シート類とすることができる。 基材とし
ては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体などからなるプラスチックフィ
ルム、プラスチック不織布、プラスチック合繊やガラス
繊維などからなるクロス、アルミニウムやステンレスな
どからなる金属箔、紙などが用いられる。また基材の厚
さは、通常１０〜５００μｍ程度である。 なお、接着
剤として光硬化型のものを使用するときは、基材として
特に紫外線などの光を透過するものが選択使用される。

【００２７】特に本発明においては、紫外線硬化型の感
圧性接着剤を、紫外線を透過するフィルム基材上に、乾
燥後の厚さが約１０〜１８０μｍとなるように塗布する
ことにより、フィルム状やテープ状とした紫外線硬化型
感圧接着シート類が好ましく用いられる。 このフィル
ム基材としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
エチレンテレフタレートなどからなる、厚さが１２〜１
００μｍ程度の紫外線を透過するプラスチックフィルム
が好ましく用いられる。

【００２８】本発明のレジスト除去方法においては、レ
ジストパターンが存在する半導体ウエハなどの物品上
に、接着剤層、好ましくは感圧性接着剤層を設け、必要
によりレジスト材と接着剤層との密着性を良くするため
の加熱あるいは加圧手段を付加し、また上記接着剤が硬
化型のものであれば加熱あるいは光照射による適宜の硬
化処理を施す。 この硬化処理は、ウエハなどの物品に
与える熱的影響を考慮すると、前記の光硬化型の感圧接
着シート類を使用して、紫外線などの照射による硬化処
理を行うのが望ましく、紫外線の場合の照射量は、３０
０〜３０００mj／cm² 程度とするのがよい。

【００２９】この硬化処理により、上記接着剤はレジス
ト材と一体化した状態で硬化して、その弾性率を著しく
増大させて必要な引張強度を付与することができ、さら
にこの接着剤がレジストパターンの凹部に食い込んで浸
透して硬化するため、この接着剤層とレジストとの接着
力を特定の値以上に増大させることができ、さらに接着
剤層とレジストが存在しないウエハ部分との接着力を特
定の値以下に低下させることができ、結果としてウエハ
などの物品を汚染させることなくレジスト材を全部残さ
ずに容易に剥離することができる。

【００３０】

【発明の効果】以上のように本発明のレジスト除去方法
によれば、アッシャーを用いる場合の作業の長時間化
や、レジスト材中の不純物イオンがウエハに注入される
といった心配がなく、また溶剤を用いないため作業環境
を悪化させることなく、しかも物品の汚染という問題を
生じることもなく、レジスト材を非常に簡便かつ確実に
除去できるという効果がある。

【００３１】

【実施例】以下、本発明を実施例にもとづいて説明す
る。以下、部とあるのは重量部を意味する。 参考例１ ５インチのシリコンウエハの表面に、ＣＶＤで処理され
た酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）や窒化膜（Ｓｉ₃ Ｎ₄ 膜）を有
するウエハ上に、クレゾールノボラック樹脂とポリヒド
ロキシ化合物のナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルと乳酸エチルからなるポジ型フォトレジストを１μｍ
の厚みで塗布し、加熱、露光、現像を行い、レジストパ
ターン（膜画像）を全表面に形成した後、Ｐ⁺ イオンを
加速エネルギー８０keV で注入量１×10¹⁶ions/cm²の高
ドーズ量で全面に注入した（以下レジスト膜画像Ａとい
う）。

【００３２】参考例２ ５インチのシリコンウエハの表面に、クレゾールノボラ
ック樹脂とポリヒドロキシ化合物のナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステルと乳酸エチルからなるポジ型フォ
トレジストを５μｍの厚みで塗布し、加熱、露光、現像
を行い、レジストパターン（膜画像）を全表面に形成し
た後、Ｐ⁺ イオンを加速エネルギー３．０ＭeVの高エネ
ルギーで注入量５×10¹³ions/cm²のトーズ量で全面に注
入した（以下レジスト膜画像Ｂという）。

【００３３】実施例１ アクリル酸ｎ−ブチル８０部、アクリル酸エチル１５
部、アクリル酸５部からなるモノマー混合物を、酢酸エ
チル１５０部、アゾビスイソブチロニトリル０．２部を
用いて窒素雰囲気下６０℃にて１２時間溶液重合を行
い、重量平均分子量が５６万のアクリル系ポリマー溶液
Ａを得た。この溶液Ａに、アクリル系ポリマー１００部
に対して、重合性不飽和化合物としてポリエステルジア
クリレート３０部、多官能性化合物としてジフェニルメ
タンジイソシアネート３部、重合開始剤としてα−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン３部を均一に混合
して、硬化型感圧性接着剤溶液を調整した。この硬化型
感圧性接着剤溶液を、厚さ５０μｍのポリエステルフィ
ルム上に、乾燥後の厚さが４０μｍとなるように塗布
し、１３０℃で３分間乾燥し、レジスト除去用接着シー
トを作製した。得られたレジスト除去用接着シートの硬
化後の接着剤のレジスト膜に対する１８０°剥離接着力
と、ウエハ表面の酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）と窒化膜（Ｓｉ
₃ Ｎ₄膜）に対する１８０°剥離接着力を以下の要領に
て測定し、その結果を表１に示した。

【００３４】〔１８０°剥離接着力の測定〕レジスト膜
に対する接着力測定用として、レジストを全面に塗布
し、パターンを形成しないで参考例１と同様にして作成
したシリコンウエハを使用し、レジストが塗布されてい
ない部分として、上記レジスト膜が作成される時のシリ
コンウエハ上に処理される酸化膜（１０００Å、ＣＶＤ
処理）と窒化膜（１０００Å、ＣＶＤ処理）付きのウエ
ハを使用した。これらのウエハ上に、幅１０mm、長さ１
００mmの短冊状にした接着シートを貼り付け、１３０℃
で３０秒間加熱した後、フィルム基材側から高圧水銀灯
により紫外線を１Ｊ/cm²の照射量で照射して硬化させた
のち、硬化後のそれぞれの接着力を測定した。 各測定
は、２３℃、６５％ＲＨの雰囲気下、剥離速度３００mm
／分、剥離角度１８０°の条件で行った。

【００３５】つぎに、得られたレジスト除去用接着シー
トを、前記参考例のレジスト膜画像の全面に貼り付け、
１３０℃で３０秒間加熱押圧したのち、高圧水銀ランプ
により紫外線を１Ｊ/cm²の照射量で照射して接着シート
を硬化させた。その後、接着シートを、２３℃、６５％
ＲＨの雰囲気下、剥離速度３００mm／分、剥離角度１８
０°の条件で剥離したところ、レジストは接着シートと
一体に簡単に剥離除去された。 また、剥離後のウエハ
表面を蛍光顕微鏡で観察したところ、接着剤の付着もみ
られず、ウエハ表面の汚染は認められなかった。

【００３６】実施例２ 実施例１で得たアクリル系ポリマーの溶液Ａに、アクリ
ル系ポリマー１００部に対して、重合性不飽和化合物と
してポリエチレングリコールジメタクリレート５０部、
エポキシアクリレート５０部、多官能性化合物としてト
リレンジイソシアネート３部、重合開始剤としてα−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部を均一に混
合して、硬化型感圧性接着剤溶液を調整した。この硬化
型感圧性接着剤溶液を用いて、実施例１と同様にして、
レジスト除去用接着シートを作製した。得られたレジス
ト除去用接着シートの硬化後の接着剤のレジスト膜、ウ
エハ表面の酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）及び窒化膜（Ｓｉ₃ Ｎ
₄ 膜）に対する１８０°剥離接着力を前記と同様にして
測定し、その結果を表１に示した。つぎに、このレジス
ト除去用接着シートを用いて、実施例１と同様にして、
シリコンウエハ上のレジスト膜画像の剥離除去をしたと
ころ、レジストは接着シートと一体に簡単に剥離除去さ
れた。 また、剥離後のウエハ表面を蛍光顕微鏡で観察
したところ、接着剤の付着もみられず、ウエハ表面の汚
染は認められなかった。

【００３７】実施例３ 実施例１で得たアクリル系ポリマーの溶液Ａに、アクリ
ル系ポリマー１００部に対して、重合性不飽和化合物と
してポリエチレングリコールジメタクリレート５０部、
ウレタンアクリレート５０部、多官能性化合物としてト
リレンジイソシアネート３部、重合開始剤としてα−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部を均一に混
合して、硬化型感圧性接着剤溶液を調整した。この硬化
型感圧性接着剤溶液を用いて、実施例１と同様にして、
レジスト除去用接着シートを作製した。得られたレジス
ト除去用接着シートの硬化後の接着剤のレジスト膜、ウ
エハ表面の酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）及び窒化膜（Ｓｉ₃ Ｎ
₄ 膜）に対する１８０°剥離接着力を前記と同様にして
測定し、その結果を表１に示した。つぎに、このレジス
ト除去用接着シートを用いて、実施例１と同様にして、
シリコンウエハ上のレジスト膜画像の剥離除去をしたと
ころ、レジストは接着シートと一体に簡単に剥離除去さ
れた。 また、剥離後のウエハ表面を蛍光顕微鏡で観察
したところ、接着剤の付着もみられず、ウエハ表面の汚
染は認められなかった。

【００３８】実施例４ 重量平均分子量が４００万のポリアクリル酸１００部に
対して、重合性不飽和化合物としてトリメチロールプロ
パントリアクリレート５０部、エトキシ化ペンタエリス
リトールテトラアクリレート１００部、多官能性化合物
としてトリレンジイソシアネート２部、重合開始剤とし
てα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部を
均一に溶解混合して、硬化型感圧性接着剤溶液を調整し
た。この硬化型感圧性接着剤溶液を用いて、実施例１と
同様にして、レジスト除去用接着シートを作製した。得
られたレジスト除去用接着シートの硬化後の接着剤のレ
ジスト膜、ウエハ表面の酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）及び窒化
膜（Ｓｉ₃ Ｎ₄ 膜）に対する１８０°剥離接着力を前記
と同様にして測定し、その結果を表１に示した。つぎ
に、このレジスト除去用接着シートを用いて、実施例１
と同様にして、シリコンウエハ上のレジスト膜画像の剥
離除去をしたところ、レジストは接着シートと一体に簡
単に剥離除去された。 また、剥離後のウエハ表面を蛍
光顕微鏡で観察したところ、接着剤の付着もみられず、
ウエハ表面の汚染は認められなかった。

【００３９】実施例５ 重量平均分子量が４００万のポリアクリル酸１００部に
対して、重合性不飽和化合物としてエトキシ化トリメチ
ロールプロパントリアクリレート１００部、多官能性化
合物としてジフェニルメタンジイソシアネート３部、重
合開始剤としてα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン３部を均一に溶解混合して、硬化型感圧性接着剤
溶液を調整した。この硬化型感圧性接着剤溶液を用い
て、実施例１と同様にして、レジスト除去用接着シート
を作製した。得られたレジスト除去用接着シートの硬化
後の接着剤のレジスト膜、ウエハ表面の酸化膜（ＳｉＯ
₂ 膜）及び窒化膜（Ｓｉ₃ Ｎ₄ 膜）に対する１８０°剥
離接着力を前記と同様にして測定し、その結果を表１に
示した。つぎに、このレジスト除去用接着シートを用い
て、実施例１と同様にして、シリコンウエハ上のレジス
ト膜画像の剥離除去をしたところ、レジストは接着シー
トと一体に簡単に剥離除去された。 また、剥離後のウ
エハ表面を蛍光顕微鏡で観察したところ、接着剤の付着
もみられず、ウエハ表面の汚染は認められなかった。

【００４０】比較例１ 実施例１で得たアクリル系ポリマーの溶液Ａに、アクリ
ル系ポリマー１００部に対して、重合性不飽和化合物と
してポリエチレングリコールメタクリレート５０部、多
官能性化合物としてトリレンジイソシアネート３部、重
合開始剤としてα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン３部を均一に混合して、硬化型感圧性接着剤溶液
を調整した。この硬化型感圧性接着剤溶液を用いて、実
施例１と同様にして、レジスト除去用接着シートを作製
した。得られたレジスト除去用接着シートの硬化後の接
着剤のレジスト膜、ウエハ表面の酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）
及び窒化膜（Ｓｉ₃ Ｎ₄ 膜）に対する１８０°剥離接着
力を前記と同様にして測定し、その結果を表１に示し
た。つぎに、このレジスト除去用接着シートを用いて、
実施例１と同様にして、シリコンウエハ上のレジスト膜
画像の剥離除去をしたところ、レジストは接着シートと
一体に剥離除去されず、ウエハ周辺部（レジスト未塗布
部分）への接着力が大きすぎて、剥離作業が容易に行え
ず、ウエハ表面の汚染も認められた。

【００４１】比較例２ 実施例１で得たアクリル系ポリマーの溶液Ａに、アクリ
ル系ポリマー１００部に対して、重合性不飽和化合物と
してエポキシアクリレート５０部、多官能性化合物とし
てトリレンジイソシアネート３部、重合開始剤としてα
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン３部を均一
に混合して、硬化型感圧性接着剤溶液を調整した。この
硬化型感圧性接着剤溶液を用いて、実施例１と同様にし
て、レジスト除去用接着シートを作製した。得られたレ
ジスト除去用接着シートの硬化後の接着剤のレジスト
膜、ウエハ表面の酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）及び窒化膜（Ｓ
ｉ₃ Ｎ₄ 膜）に対する１８０°剥離接着力を前記と同様
にして測定し、その結果を表１に示した。つぎに、この
レジスト除去用接着シートを用いて、実施例１と同様に
して、シリコンウエハ上のレジスト膜画像の剥離除去を
したところ、レジストは接着シートと一体に剥離除去さ
れず、ウエハ周辺部（レジスト未塗布部分）への接着力
が大きすぎて、剥離作業が容易に行えず、ウエハ表面の
汚染も認められた。

【００４２】比較例３ 日東電工製ポリエステルテープNo.31 （基材：ポリエチ
レンテレフタレートフィルム（８０μｍ厚）、粘着剤：
アクリル系）を、室温（２０℃）下で、ウエハ表面上の
レジスト、酸化膜（ＳｉＯ₂ 膜）及び窒化膜（Ｓｉ₃ Ｎ
₄ 膜）に対する１８０°剥離接着力を、前記と同様にし
て測定し、その結果を表１に示した。つぎに、このレジ
スト除去用接着シートを用いて、実施例１と同様にし
て、シリコンウエハ上のレジスト膜画像の剥離除去をし
たところ、レジストは接着シートと一体に剥離除去され
ず、ウエハ周辺部（レジスト未塗布部分）への接着力が
大きすぎて、剥離作業が容易に行えず、ウエハ表面の汚
染も認められた。

【００４３】かかる表から本発明のレジスト除去方法に
よれば、良好にレジスト材をウエハから除去できること
がわかる。

【００４４】

【表１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/42 Ｇ０３Ｆ 7/42

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レジストが部分的に存在する物品上に接
   着剤層を設け、この接着剤層とレジスト材とを一体に物
   品から剥離するレジストの除去方法において、剥離の際
   の上記接着剤層のレジストに対する１８０°剥離接着力
   が５ｇ／10mm以上で、かつ接着剤層のレジストが存在し
   ない部分の物品に対する１８０°剥離接着力が１５０ｇ
   ／10mm未満となるように設定したことを特徴とするレジ
   ストの除去方法。
2. 【請求項２】 接着剤層が、紫外線硬化型の接着剤を基
   材上に有する接着シート類であることを特徴とする請求
   項１記載のレジストの除去方法。
3. 【請求項３】 物品上に存在するレジストを剥離除去す
   るために用いる接着剤もしくは接着シート類であって、
   剥離の際の接着剤層のレジストに対する１８０°剥離接
   着力が５ｇ／10mm以上で、かつ接着剤層のレジストが存
   在しない部分の物品に対する１８０°剥離接着力が１５
   ０ｇ／10mm未満となるように設定されたレジスト除去用
   の接着剤もしくは接着シート類。
4. 【請求項４】 接着剤層が、紫外線硬化型の接着剤を基
   材上に有する接着シート類であることを特徴とする請求
   項３記載のレジスト除去用の接着シート類。