JPH09279054A

JPH09279054A - アゾ化合物

Info

Publication number: JPH09279054A
Application number: JP13984096A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Saji; 哲夫佐治; Kazuhiko Nagira; 和彦柳楽
Original assignee: DOUJIN KAGAKU KENKYUSHO KK
Current assignee: DOUJIN KAGAKU KENKYUSHO KK
Priority date: 1996-02-13
Filing date: 1996-06-03
Publication date: 1997-10-28

Abstract

(57)【要約】【解決手段】式：R¹-N=N-R²-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-O-(-C
H₂CH₂O-)_n-R³（式中、R¹はフェニル基などの置換基を
有していてもよいC_6-14アリール基；R²は置換基を有し
ていてもよいフェニレン基などのC_6-14アリールジイル
基；R³は水酸基を有するC_3-6アルキル基、C_1-6アルキル
カルボニル基、又は C_6-14アリールカルボニル基；n は
1〜100 の整数を示す）で示される化合物及び該化合物
を主生成物とする重合体組成物、並びに該化合物又は重
合体組成物を含む薄膜形成剤。【効果】容易に入手可能な原料から短工程で簡便かつ
安価に製造することができ、種々の濃度の疎水性物質や
疎水性機能材料を含む分散液や溶液から薄膜を製造する
ために有用である。また、無電解薄膜形成工程に好適に
使用可能であるという特徴がある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アゾ化合物及びア
ゾ化合物からなる重合体組成物に関するものである。よ
り詳しくは、本発明は、色素や光導電性材料などの疎水
性機能材料を含む水性分散液を用いて薄膜を製造する際
に有用なアゾ化合物及びアゾ化合物からなる重合体組成
物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルターや光センサーなどの機
能素子を製造するためには、色素、電荷発生材、電荷輸
送材、エレクトロルミネッセンス材料、感光性色素、非
線形光学材料、電気光学材料、フォトクロミック材料、
エレクトロクロミック材料、ガスセンシング材料、及び
イオンセンシング材料などの機能材料を用いて、素子上
にそれらの均一な薄膜を形成させる必要がある。疎水性
の機能材料を用いて薄膜を形成する場合、溶液又は分散
液を用いる湿式法、液体状モノマーの重合ないし重縮合
反応を利用する方法、気体分子又は気体状モノマーを用
いる方法、加熱による溶融あるいは軟化を利用する方
法、又はフェロセン残基含有界面活性剤の電解酸化を利
用する方法などが採用されている。しかしながら、これ
らの方法は種々の固有の問題を有している（薄膜形成方
法とその問題点については特開平7-179773号公報第 1〜
3 欄を参照のこと）。

【０００３】従来の薄膜形成法の欠点を解消して、疎水
性の物質及び機能材料の薄膜を製造するために有用なア
ゾ化合物が提案されている（特開平7-179773号公報）。
上記刊行物に記載されたアゾ化合物を界面活性剤として
用いて疎水性物質を水や水と有機溶剤との均一混合物に
溶解ないし分散させ、必要に応じて支持電解質を加えた
後、前記アゾ化合物を電解還元すると、カソード表面近
傍で疎水性物質の可溶化状態又は分散状態が破壊され、
疎水性物質がカソードとして作用する導電性基板又は電
極の表面に薄膜として沈着する。

【０００４】上記のアゾ化合物を用いると、有機溶剤中
での疎水性物質微粒子の結晶転移抑制や凝集抑制のため
に用いられるバインダー樹脂や液状モノマーの量を低減
することが可能であり、薄膜内の単位体積中の機能材料
の量を増加させることができるので、機能素子の性能を
向上させることができるという特徴がある。しかしなが
ら、この化合物は、煩雑な製造工程を経て合成されるも
のであり、高純度の製品を安価に大量製造することは困
難であった。また、薄膜の形成に用いる溶液や分散液に
おける疎水性物質とアゾ化合物との配合比率に制限があ
り、一定の配合比を超えると薄膜の形成が困難になると
いう問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の薄膜形成作用を有するアゾ化合物であって、容易に入
手可能な原料から短工程で簡便かつ安価に製造すること
ができるアゾ化合物を提供することにある。また、本発
明の別の課題は、種々の配合比で疎水性物質や疎水性機
能材料とアゾ化合物とを含む溶液または分散液から、安
定に薄膜を製造できるアゾ化合物を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記の課題を
解決すべく鋭意努力した結果、下記の式で示される化合
物が、特開平7-179773号公報に記載されたアゾ化合物に
比べて、疎水性物質や疎水性機能材料と種々の配合比で
薄膜を製造できること、並びに、該化合物が容易に入手
可能な原料から安価で簡便に製造できることを見い出し
た。また、本発明者らは、該化合物が浸漬メッキ法や接
触メッキ法などの無電解法による薄膜形成工程に極めて
好適に使用できることを見出した。本発明はこれらの知
見を基にして完成されたものである。

【０００７】すなわち本発明は、下記の式(I): R¹-N=N-R²-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-O-(-CH₂CH₂O-)_n-R³ （式中、R¹は置換基を有していてもよいC_6-14アリール
基を示し；R²は置換基を有していてもよいC_6-14アリー
ルジイル基を示し；R³は水酸基を有するC_3-6アルキル
基、C_1-6アルキルカルボニル基、又はC_6-14アリールカ
ルボニル基を示し；n は 1〜100 の整数を示す）で示さ
れる化合物を提供するものである。

【０００８】また、本発明の別の態様によれば、下記の
式(II)： R¹-N=N-R²-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-O-(-CH₂CH₂O-)_m-R³ （式中、R¹は置換基を有していてもよいC_6-14アリール
基を示し；R²は置換基を有していてもよいC_6-14アリー
ルジイル基を示し；R³は水酸基を有するC_3-6アルキル
基、C_1-6アルキルカルボニル基、又は C_6-14アリールカ
ルボニル基を示し；m は10〜100 の範囲から選択される
平均重合度を示す）で示される重合体組成物を提供する
ものである。

【０００９】これらの発明の好ましい態様によれば、R¹
がフェニル基又はナフチル基（これらはC_1-12アルキル
基及びC_1-12アルコキシ基からなる群から選ばれる１個
以上の置換基、好ましくは１個の置換基を有していても
よい）であり、R²がフェニレン基若しくはナフタレンジ
イル基であり、R³がC_1-6アルキルカルボニル基、ベンゾ
イル基、及び2,3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基から
なる群から選ばれる基であり、それぞれ nが1 〜100 の
整数及びm が10〜50の範囲である上記化合物及び重合体
組成物が提供される。

【００１０】

【発明の実施の形態】上記式(I) 及び式(II)において、
R¹は置換基を有していてもよい炭素数 1〜14(C_6-14) の
アリール基を示す。アリール基としては、例えば、単環
又は縮合二環のアリール基を用いることができ、より具
体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレニ
ル基、フェナントレン基、又はアントラセン基などを用
いることができる。これらのうち、フェニル基若しくは
ナフチル基を好適に用いることができる。ナフチル基と
しては、1-ナフチル基又は2-ナフチル基のいずれを用い
てもよい。

【００１１】これらのアリール基は１個または２個以
上、好ましくは１個の置換基を有していてもよい。置換
基としては、例えば、C_1-12アルキル基、C_1-12アルコ
キシ基、水酸基、又はハロゲン原子などを用いることが
できる。アルキル基またはアルコキシ基としては、直鎖
状、分枝鎖状、又は環状のいずれを用いてもよい。より
具体的には、C_1-12アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、
sec-ブチル基、tert- ブチル基、n-ペンチル基、ネオペ
ンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプタニル基、n-オクチル
基、n-ノニル基、n-デカニル基、n-ウンデカニル基、又
はn-ドデカニル基などを用いることができる。

【００１２】C_1-12アルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、
n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、n-ペントキシ基、ネオ
ペントキシ基、n-ヘキソキシ基、n-ヘプタニルオキシ
基、n-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、n-デカニ
ルオキシ基、n-ウンデカニルオキシ基、又はn-ドデカニ
ルオキシ基などを用いることができる。アリール基上に
おけるこれらの置換基の置換位置は特に限定されない。
R¹が示すアリール基のうち特に好ましいアリール基とし
ては、無置換フェニル基、p-位に１個のC_1-12アルキル
基若しくはC_1-12アルコキシ基を有するフェニル基、無
置換1-ナフチル基、又は無置換2-ナフチル基などを挙げ
ることができる。

【００１３】上記式(I) 及び式(II)において、R²は置換
基を有していてもよいC_6-14アリールジイル基を示す。
アリールジイル基としては、例えば、フェニレン基、ナ
フタレンジイル基、アズレンジイル基、フェナントレン
ジイル基、若しくはアントラセンジイル基などを用いる
ことができる。これらのうち、フェニレン基若しくはナ
フタレンジイル基を好適に用いることができる。フェニ
レン基としては、o-フェニレン基、m-フェニレン基、又
はp-フェニレン基のいずれを用いてもよく、ナフタレン
ジイル基としては、ナフタレン-1,3- ジイル基、ナフタ
レン-1,4- ジイル基、ナフタレン-2,4- ジイル基、ナフ
タレン-1,5- ジイル基、ナフタレン-1,6- ジイル基、又
はナフタレン-2,6- ジイル基などの任意のナフタレンジ
イル基を用いることができる。

【００１４】これらのアリールジイル基は１個または２
個以上、好ましくは１個の置換基を有していてもよい。
置換基としては、例えば、C_1-6アルキル基、C_1-6アルコ
キシ基、水酸基、又はハロゲン原子などを用いることが
できる。C_1-6アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-
ブチル基、tert- ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチ
ル基、又はn-ヘキシル基など用いることができ、C_1-6ア
ルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブト
キシ基、n-ペントキシ基、ネオペントキシ基、又はn-ヘ
キソキシ基などを用いることができる。これらのうちC
_1-6アルキル基を用いることが好ましい。アリールジイ
ル基上におけるこれらの置換基の置換位置は特に限定さ
れることはない。R²が示すアリールジイル基のうち特に
好ましいアリールジイル基としては、無置換p-フェニレ
ン基、１個のC_1-6アルキル基を有するp-フェニレン基、
無置換ナフタレン-1,4- ジイル基などを挙げることがで
きる。

【００１５】R³は水酸基を有するC_3-6アルキル基、C_1-6
アルキルカルボニル基、又はC_6-14アリールカルボニル
基を示す。水酸基を有するアルキル基を構成するアルキ
ル鎖としてはn-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、se
c-ブチル、tert- ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、
又はn-ヘキシルなどを用いることができる。アルキル基
が有する水酸基の数は特に限定されず、１個又は２個、
好ましくは２個の水酸基を有することができる。アルキ
ル基が２個の水酸基を有する場合には、それらの水酸基
は隣接する２個の炭素原子上にそれぞれ１個ずつ置換し
ていることが好ましい。このような例として、例えば、
2,3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基[-CH₂CH(OH)CH-O
H] など挙げることができる。

【００１６】R³が示すC_1-6アルキルカルボニル基のC_1-6
アルキル基としては前記に例示したものを好適に用いる
ことができ、C_1-6アルキルカルボニル基としては、アセ
チル基、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル基
などを用いることができる。アリールカルボニル基とし
ては、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基などを挙げ
ることができる。R³として、アセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基、又は2,3-ジヒドロキシプロパン-1-
イル基などが特に好ましい。

【００１７】式(I) においてn は 1〜100 の整数を示す
が、n が10〜70の整数であることが好ましい。また、式
(II)においてm は10〜100 の範囲、好ましくは10〜50の
範囲から選択される平均重合度を示す。式(I) の化合物
を重合過程により製造すると、n が整数 kである主生成
物の他に、この化合物を中心として生成量が実質的に正
規分布する他の化合物 (n= k±s: sは例えば 1〜10の整
数）も同時に製造される場合がある。このような反応生
成物は、n=k の化合物を主生成物として含み重合度が k
で表される重合体組成物を形成しているが、このような
重合体組成物も本発明の範囲に包含されることはいうま
でもない。

【００１８】平均重合度の測定方法は、例えば、ゲル濾
過クロマトグラフィーを用いた平均分子量測定や分子量
分布測定などにより行うことができるが、これらに限定
されることはなく、当業者に利用可能なものならばいか
なるものを用いてもよい。また、本明細書の実施例の記
載を参照しつつ、反応条件や試薬などを適宜修飾ないし
改変することにより、当業者は所望の重合度分布や平均
重合度を有する重合体組成物を製造することが可能であ
る。さらに、このような重合体組成物から、例えば、液
体クロマトグラフィーなどの手段により、n=k 及び n=k
＋1 を有するそれぞれの化合物を単離・精製することが
可能である。

【００１９】本発明の式(I) で示される化合物は、分子
内に存在する２個の二級水酸基が置換するそれぞれの不
斉炭素の他、R¹及び／又はR²の種類に応じてさらに不斉
炭素を有する場合がある。これらの不斉炭素に基づく光
学的に純粋な任意の光学異性体、任意の光学異性体の任
意の割合の混合物、ラセミ体、２個以上の不斉炭素に基
づく任意の純粋なジアステレオマー、任意のジアステレ
オマーの任意の割合の混合物などは、いずれも本発明の
範囲に包含される。

【００２０】以下、式(I) で示される本発明の化合物の
うち、好ましい化合物を例示するが、本発明の範囲はこ
れらの好ましい化合物に限定されることはない。特に好
ましい化合物は、化合物 1, 2, 3, 9 及び10などであ
る。

【００２１】

【化１】

【００２２】

【化２】

【００２３】

【化３】

【００２４】

【化４】

【００２５】

【化５】

【００２６】

【化６】

【００２７】

【化７】

【００２８】

【化８】

【００２９】

【化９】

【００３０】本発明の式(I) の化合物は、例えば、R¹-N
=N-R²-OHで示される化合物(III)(式中の定義は上記と同
じである）をポリエチレングリコールのグリシジル誘導
体と反応させることにより容易に製造することができ
る。ポリエチレングリコール・グリシジル誘導体として
は、例えば、ポリエチレングリコール・ジグリシジルエ
ーテルなどを用いることができる。上記の反応は、例え
ば、テトラヒドロフランなどの溶媒中で、好ましくは水
酸化テトラブチルアンモニウムなどの触媒の存在下に行
うことができ、一般的には、溶媒の還流温度で10〜50時
間程度、好ましくは20〜30時間程度で完了する。

【００３１】原料化合物(III) として4-ブチル-4'-ヒド
ロキシアゾベンゼンを用い、ポリエチレングリコール・
グリシジル誘導体として化合物(IV): ポリエチレングリ
コール・ジグリシジルエーテルを反応させて、式(I) に
おいて R¹=p-CH₃(CH₂)₃-C₆H₄-; R²=p-C₆H₄-; R³=CH₂-CH
(OH)-CH₂OH; 及びn=22の化合物を製造するスキームを下
記に示すが、本発明の化合物の製造方法は以下の方法に
限定されることはない。

【００３２】

【化１０】

【００３３】また、R³がアルキルカルボニル基又はアリ
ールカルボニル基である化合物の製造方法を以下のスキ
ームに示す。スキーム中、R⁵はR¹で示されるアリール基
上の置換基、例えばC_1-6アルキル基などを示し、R₆はC
_1-6アルキル基又はフェニル基などのアリール基を示
す。R³がアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル
基である化合物の製造において、エステル基を有する中
間体化合物(V) は対応するカルボン酸の酸無水物か酸ハ
ロゲン化物をポリオキシエチレン化合物と反応させるこ
とにより製造することができる（新実験化学講座14巻、
有機化合物の合成と反応II, pp.1012-1016, 日本化学会
編集、丸善株式会社発行、昭和53年などを参照）。

【００３４】

【化１１】

【００３５】原料として用いるグリシジル誘導体は、例
えば、以下のスキームに示す製造方法に従って製造する
ことができる（例えば、新実験化学講座19巻、高分子化
学Ｉ, pp.227-229及びpp.295-298, 日本化学会編集、丸
善株式会社発行、昭和53年；新実験化学講座19巻、有機
化合物の合成, pp.196-197, 日本化学会編集、丸善株式
会社発行、昭和34年などを参照）。

【００３６】

【化１２】

【００３７】原料として用いるポリエチレングリコール
・グリシジル誘導体が平均重合度 mの重合体組成物であ
る場合（例えば、上記スキームにおいて、式(IV)の化合
物の繰り返し単位に付された22が平均重合度を示す場
合）には、上記のスキームに従って、平均重合度 mの式
(II)の重合体組成物を製造することができる。また、分
子量分布がほとんどないポリオキシエチレンの製造方法
が知られており(Aida, T. et al., Macromolecules, 1
4, pp.1162-1166, 1981; Aida, T. et al., Macromolec
ules, 21, pp.1195-1202, 1988)、このようなポリオキ
シエチレンを用いることにより式(I) の化合物を製造す
ることが可能である。以上のスキームから明らかなとお
り、本発明の化合物及び重合体組成物は、従来公知の化
合物または重合体組成物（例えば特開平7-179773号公報
に記載された化合物など）に比べて、より短工程で簡便
かつ安価に製造することができるという特徴を有してい
る。

【００３８】本発明の化合物又は重合体組成物は、疎水
性の物質や疎水性機能材料を用いた薄膜の製造に有用で
ある。例えば、本発明の化合物、重合体組成物、及びそ
れらの任意の混合物からなる群から選ばれる化合物又は
組成物を界面活性剤として用いて、疎水性物質又は疎水
性機能材料を水あるいは有機溶剤と水との均一混合物な
どに分散ないしは溶解し、ついで、該分散液または溶液
を電解還元に付することにより、カソード表面近傍で疎
水性物質や疎水性機能材料の分散ないしは可溶化状態が
破壊され、疎水性物質や疎水性機能材料がカソードとし
て作用する導電性基板または電極の表面に薄膜として沈
着する。

【００３９】カソードとして用いる導電性基板や電極の
種類は特に制限されず、任意の形状・材質のものを使用
できる。薄膜の厚さは一般的には数μm 〜数十μm 程度
であり、均一な薄膜を任意の面積に形成可能である。薄
膜の形成方法としては、例えば、特開平7-62594 号公
報、同7-179773号公報などに記載された方法を採用する
ことができる。

【００４０】また、本発明の化合物又は重合体組成物
を、無電解薄膜形成工程における薄膜形成剤として使用
してもよい。無電解薄膜形成工程では定電圧電解装置が
不要であり、簡単な装置を用いて、簡便かつ低コストで
高品質な薄膜形成を行うことができるという特徴があ
る。本発明の薄膜形成剤を好適に使用可能な無電解薄膜
形成工程としては、例えば、浸漬メッキ工程若しくは接
触メッキ工程、又はそれらの工程の組み合わせによるメ
ッキ工程などを挙げることができる。

【００４１】浸漬メッキ工程では、本発明の化合物又は
重合体組成物を用いて疎水性化合物などを分散し、その
液中に該化合物又は重合体組成物より金属イオンになり
易い金属表面を有する基板を浸漬することにより行うこ
とができる。浸漬された金属表面から金属イオンが溶出
して金属表面に電子が蓄積するので、この電子によって
本発明の化合物又は重合体組成物が還元され、本発明の
化合物又は重合体組成物の作用によって分散されていた
疎水性化合物が基板の金属表面に付着して薄膜が形成さ
れる。

【００４２】浸漬メッキ工程に好適に使用可能な金属と
しては、例えば、銅、コバルト、クロム、ニッケル、モ
リブデン、鉛、錫、鉄、チタン、バナジウム、亜鉛、ア
ルミニウム、マグネシウムなどを挙げることができる。
また、これらの金属から構成される合金、例えば、真
鍮、青銅、洋白、ジュラルミンなどを用いてもよい。さ
らに、これらの金属や合金を付着させた金属又は非金属
基盤、例えば、ブリキ、ニッケル又はクロムをメッキし
た金属、プラスチック、ガラスなどを用いてもよい。

【００４３】接触メッキ工程では、本発明の化合物又は
重合体組成物を用いて疎水性化合物などを分散し、該化
合物又は重合体組成物より金属イオンになり易い金属
と、該化合物又は重合体組成物より金属イオンになり難
い金属表面を有する基板とを、導線で結線して該分散液
中に浸漬することにより行うことができる。浸漬された
金属の表面から金属イオンが溶出してその表面に電子が
蓄積するが、その電子が導線を伝わって基板表面に移
り、基板表面で本発明の化合物又は重合体組成物が還元
されて、本発明の化合物又は重合体組成物の作用によっ
て分散されていた疎水性化合物が基板表面に付着して薄
膜が形成される。

【００４４】接触メッキ工程において好適に用いられる
金属としては、例えば、銅、コバルト、クロム、ニッケ
ル、モリブデン、鉛、錫、鉄、チタン、バナジウム、亜
鉛、アルミニウム、マグネシウムなどを挙げることがで
きる。また、基板としては、白金、金、銀、パラジウ
ム、ステンレススチールなどを用いることができるほ
か、金属以外の導電性基板として錫をドープした酸化イ
ンジウム(ITO) を被覆したプラスチック若しくはガラ
ス、アンチモンをドープした酸化錫を被覆したプラスチ
ック若しくはガラス、又は酸化チタン等の半導体を用い
ることができる。

【００４５】本発明の化合物又は重合体組成物は、例え
ば、カラーフィルター、電子写真感光体、光センサー、
太陽電池、エレクトロルミネッセンス素子、光記録媒
体、非線形光学素子、電気光学素子、フォトクロミック
薄膜、エレクトロクロミック素子、ガスセンサー、及
び、イオンセンサーなどの薄膜の形成に有用である。本
発明の化合物又は重合体組成物を用いることにより、バ
インダー樹脂や液状モノマーを低減することが可能であ
り、また、気化により分解しやすい疎水性物質または疎
水性機能材料、不揮発性の疎水性物質または疎水性機能
材料、熱により分解しやすい疎水性物質または疎水性機
能材料を用いて、容易に薄膜を製造することが可能であ
る。

【００４６】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。例１：式(II)の重合体組成物 (R¹=p-CH₃(CH₂)₃-C₆H₄-;
R²=p-C₆H₄-; R³=CH₂CH(OH)-CH₂OH; m=22) の製造水 200 ml に濃塩酸 87 ml及びアセトン 200 ml を混合
し、この混合物にp-n-ブチルアニリン 49.0 g (328 mmo
l)を良く攪拌しながら加えて溶解した。この溶液を冷却
して 0〜5 ℃に保ち、良く攪拌しながら、亜硝酸ナトリ
ウム 23.9 g (346 mmol)を水 93 mlに溶解した溶液を 3
0 分間で滴下し、ついで 20 分間攪拌してジアゾニウム
溶液を得た。

【００４７】一方、水 700 ml に炭酸ナトリウム 53.3
g (503 mmol)を溶解した溶液中にフェノール 30.9 (32
8 mmol) を溶解したカップラー溶液を 0〜5 ℃に保ち、
良く攪拌しながら、上記のジアゾニウム溶液を 30 分間
で滴下し、ついで１時間攪拌した。この反応液を濃塩酸
で中和し、析出した固形物を濾取し、水で洗浄して減圧
乾燥した。得られた固形物をベンゼンに溶解し、シリカ
ゲルカラム（シリカゲル60、メルク社製）へ展開した。
得られた画分をベンゼンで溶出して不純物を分離した
後、エタノール／ベンゼン混合溶液で抽出し、減圧下に
溶媒を留去して4-n-ブチル-4'-ヒドロキアゾベンゼンを
得た。

【００４８】窒素雰囲気下でテトラヒドロフラン 50 ml
に平均重合度 22 のポリエチレングリコール・ジグリシ
ジルエーテル（上記スキームにおいて、IVa で示される
化合物を主要成分とする重合生成物） 11.5 g (9.8 mmo
l)を溶解した。この溶液に水酸化テトラブチルアンモニ
ウム 0.13 g (0.5 mmol)と4-n-ブチル-4'-ヒドロキシア
ゾベンゼン 2.76 g (9.8 mmol)を加え、攪拌しつつ24時
間加熱還流した。得られた反応混合物に水 50 mlを加え
て攪拌下に24時間加熱還流した後、放冷して減圧下に溶
媒を留去した。残査に1-ブタノール及び水を加えて良く
攪拌してから分液し、有機層を減圧濃縮した。残査をク
ロロホルムに溶解してシリカゲルカラム（シリカゲル6
0、メルク社製）へ展開した。得られた画分をクロロホ
ルムで抽出して不純物を分離した後、さらにメタノール
／クロロホルム混合溶液で抽出し、減圧下に溶媒を留去
して式(I) の化合物(R¹=p-CH₃(CH₂)₃-C₆H₄-; R²=p-C₆H₄
-; R³=CH₂CH(OH)-CH₂OH; m=22)を主要成分とする重合体
組成物を得た。

【００４９】この重合体組成物をテトラヒドロフランに
溶解し、ゲル濾過クロマトグラフィー分析を行ったとこ
ろ、原料の4-ブチル-4'-ヒドロキアゾベンゼン及びポリ
エチレングリコール・ジグリシジルエーテルの加水分解
生成物は検出されず、これらの原料よりも保持時間の短
い（原料よりも分子量が大きい）幅広い主ピークが認め
られた。標準ポリスチレンを用いて分子量の検量線を作
成し、この主生成物の数平均分子量及び分子量分布（重
量平均分子量を数平均分子量で除した値）を求めたとこ
ろ、それぞれ 1450 及び 2.1であった。一方、原料のポ
リエチレングリコール・ジグリシジルエーテルの加水分
解生成物の数平均分子量及び分子量分布は、それぞれ 1
200 及び 2.1であった。従って、上記の重合体組成物
は、原料に比べて分子量が増加しているものの、分子量
分布にはほとんど変化がないことが確認された。図１に
重合体組成物の赤外線吸収スペクトルを示す。

【００５０】¹H-NMR (200 MHz, 溶媒: CDCl₃, 以下の
実施例において同じ) 0.91(3H, t) ブチル基の4-位（末端） 1.37(2H, m) ブチル基の3-位 1.64(2H, m) ブチル基の2-位 2.67(2H, t) ブチル基の1-位 3.42-3.96(95H, m) ポリオキシエチレン部分, 2,3-ジヒ
ドロキシプロパン-1- イル基（末端), R²隣接2,3-ジヒ
ドロキシプロパン-1- イル基の3 位 4.01-4.25(3H, m) R²隣接2,3-ジヒドロキシプロパン-1
- イル基の1,2 位 7.02(2H, d) フェニレン(R²)のアゾ基のm-位 7.29(2H, d) フェニレン(R¹)のアゾ基のm-位 7.79(2H, d) フェニレン(R¹)のアゾ基のo-位 7.88(2H, d) フェニレン(R²)のアゾ基のo-位

【００５１】例２：式(II)の重合体組成物 (R¹=p-CH₃(C
H₂)₃-C₆H₄-; R²=p-C₆H₄-; R³=CH₂CH(OH)-CH₂OH; m=13)
の製造ポリエチレングリコール・ジグリシジルエーテルとし
て、平均重合度が13のものを用いた他は、例１と同様に
して標題の重合体組成物を製造した。ゲル濾過クロマト
グラフィー分析を行ったところ、この重合体組成物の数
平均分子量及び分子量分布は、それぞれ 1050 及び 2.0
であった。一方、原料のポリエチレングリコール・ジグ
リシジルエーテルの加水分解生成物の数平均分子量及び
分子量分布は、それぞれ 800及び 2.0であった。従っ
て、上記の重合体組成物は、原料に比べて分子量が増加
しているものの、分子量分布にはほとんど変化がないこ
とが確認された。また、赤外線吸収スペクトルは例１の
重合体組成物と同一の結果を与え、¹H-NMRの測定結果
は、ポリオキシエチレン部分と2,3-ジヒドロキシプロパ
ン-1- イル基に帰属される3.42 ppmから3.96 ppmのマル
チプレットの積分値が59Hである点を除いて例１の重合
体組成物の¹H-NMRスペクトルと類似していた。¹ H-NMR 0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.6
7(2H, t), 3.42-3.96(59H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d)

【００５２】例３：式(II)の重合体組成物 (R¹=p-CH₃(C
H₂)₅-C₆H₄-; R²=p-C₆H₄-; R³=CH₂CH(OH)-CH₂OH; m=22)
の製造 p-n-ブチルアニリンに替えてp-n-ヘキシルアニリンを用
いて4-n-ヘキシル-4'-ヒドロキシアゾベンゼンを例１の
方法に準じて合成し、平均重合度 22 のポリエチレング
リコール・ジグリシジルエーテルを用いて例１の方法に
より標題の重合体組成物を製造した。ゲル濾過クロマト
グラフィー分析を行ったところ、この重合体組成物の数
平均分子量及び分子量分布は、それぞれ 1500 及び 2.1
であった。一方、原料のポリエチレングリコール・ジグ
リシジルエーテルの加水分解生成物の数平均分子量及び
分子量分布は、それぞれ1200及び 2.1であった。従っ
て、上記の重合体組成物は、原料に比べて分子量が増加
しているものの、分子量分布にはほとんど変化がないこ
とが確認された。また、赤外線吸収スペクトルは例１の
重合体組成物と同一の結果を与え、¹H-NMRの測定結果は
アルキル部分に帰属される1.37 ppmのマルチプレットの
積分値が 6H である点を除いて例１の重合体組成物の¹H
-NMRスペクトルと類似していた。¹ H-NMR 0.91(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64(2H, m), 2.6
7(2H, t), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d)

【００５３】上記の例１〜３の重合体組成物と同様にし
て製造した例４〜33の重合体組成物、並びに例34〜46の
式(I) の化合物の¹H-NMRスペクトルデータを以下に示
す。なお、重合体組成物１〜33の主生成物である化合物
及び化合物34〜46の構造式は、好ましい化合物として前
記に示したものと同じである。例４：0.91(3H, t), 1.37(10H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(147H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例５：0.91(3H, t), 1.37(18H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(207H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例６：1.28(9H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88
(2H, d) 例７：0.91(6H, d), 1.37(1H, m), 1.64(2H, d), 3.42-
3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29
(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d) 例８：1.31(3H, t), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d), 7.81(2H, d), 7.88
(2H, d) 例９：0.91(3H, t), 1.24-2.04(4H, m), 3.42-3.96(97
H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.06(2H, d),
7.82(2H, d), 7.88(2H, d)

【００５４】例10：0.91(3H, t), 1.15-2.04(20H, m),
3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d),
7.05(2H, d), 7.80(2H, d), 7.88(2H, d) 例11：0.91(9H, s), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.06(2H, d), 7.81(2H, d), 7.88
(2H, d) 例12：0.91(6H, d), 1.78(1H, m), 3.42-3.96(97H, m),
4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d), 7.81
(2H, d), 7.88(2H, d) 例13：0.91(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64(2H, m), 2.48
(3H, s), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(90H, m), 4.01-4.25
(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.
88(2H, d) 例14：0.91(3H, t), 1.12(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64
(2H, m), 2.35(3H, q), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(90H,
m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.
79(2H, d), 7.88(2H, d) 例15：3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2
H, d), 7.45(1H, m), 7.51(2H, m), 7.89(2H, m), 7.92
(2H, d)

【００５５】例16：0.91(9H, s), 2.28(2H, s), 3.42-
3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.29(2H, d), 7.36-
7.43(2H, m), 7.55-7.63(2H, m), 7.79(2H, m) 例17：1.34(9H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 6.98-7.10(4H, m), 7.79(2H, d), 7.88(1H, m),
7.94(1H, m) 例18：0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(95H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.34(1H, m), 7.45-7.52(3H, m), 7.88(2H,
d) 例19：0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(95H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.23(2H, m), 7.62(1H, m), 7.79(1H, m), 7.
88(2H, d) 例20：O.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.25
(3H, s), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(98H, m), 4.01-4.25
(3H, m), 6.72(1H, s), 6.88(1H, d), 7.10(1H, s), 7.
29(1H, d), 7.56(1H, d), 7.66(1H, d)

【００５６】例21：0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2
H, m), 2.25(3H, s), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(95H,
m), 4.01-4.25(3H, m), 6.90(1H, s), 7.12(1H, s), 7.
22(1H, d), 7.28(1H, s), 7.88(1H, d), 7.95(1H, d) 例22：1.10-2.10(14H, m), 2.75(5H, m), 3.42-3.96(96
H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.82(1H, d), 7.02(2H, d),
7.66(1H, d), 7.82(2H, d) 例23：2.25(3H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 6.71(1H, d), 7.45(1H, m), 7.51(2H, m), 7.59
(1H, s), 7.66(1H, d), 7.89(2H, m) 例24：0.91(3H, t), 1.03(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64
(2H, m), 2.23(2H, q), 2.53(3H, s), 2.67(2H, t), 3.
42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.89(1H, s), 7.
00(1H, s), 7.19(1H, s), 7.33(1H, s) 例25：1.31(3H, t), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(1H, d), 7.12(2H, d), 7.42-7.70(6H, m),
7.75(1H, d)

【００５７】例26：3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H,
m), 6.83(1H, d), 6.90(1H, d), 7.12-7.80(7H, m),
7.85(1H, d), 7.90(1H, d), 8.06(1H, d), 8.15(1H, d) 例27：3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.83(1
H, s), 6.88(1H, s), 7.12-7.70(9H, m), 7.85(1H, d),
7.90(1H, s) 例28：2.09(2H, t), 2.91(4H, t), 3.42-3.96(95H, m),
4.01-4.25(3H, m), 6.85(1H, s), 7.05(1H, s), 7.12-
7.80(5H, m), 8.06(1H, d), 8.60(1H, d) 例29：2.51(3H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.03(1H, d), 7.05(1H, d), 7.22-7.80(8H, m),
7.85(1H, s), 7.90(1H, d) 例30：1.31(3H, t), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.03(1H, s), 7.05(1H, d), 7.12(1H, d), 7.42
-7.70(6H, m), 7.85(1H, d), 7.90(1H, s), 7.90(1H,
d)

【００５８】例31：3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H,
m), 6.83(1H, d), 7.12-7.80(13H, m), 7.88(1H, d),
7.99(1H, d), 8.06(1H, d) 例32：3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.85(1
H, d), 7.22-7.80(11H, m), 7.86(2H, s), 8.06(1H, d) 例33：3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.85(1
H, d), 7.10-7.77(11H, m), 7.88(2H, s), 8.10(1H, d) 例34：0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(27H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d) 例35：0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(59H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d)

【００５９】例36：0.91(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64(2
H, m), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(95H,m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88
(2H, d) 例37：0.91(3H, t), 1.37(10H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(147H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例38：0.91(3H, t), 1.37(18H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(187H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例39：1.28(9H, s), 3.42-3.96(247H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88
(2H, d) 例40：0.91(6H, d), 1.37(1H, m), 1.64(2H, d), 3.42-
3.96(287H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29
(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d)

【００６０】例41：1.31(3H, t), 3.42-3.96(61H, m),
4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d), 7.81(2
H, d), 7.88(2H, d) 例42：0.91(3H, t), 1.24-2.04(4H, m), 3.42-3.96(209
H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.06(2H, d),
7.82(2H, d), 7.88(2H, d) 例43：0.91(3H, t), 1.15-2.04(20H, m), 3.42-3.96(16
9H, m), 4.01-4.25(3H,m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d),
7.80(2H, d), 7.88(2H, d) 例44：3.42-3.96(167H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.83(1
H, d), 6.90(1H, d), 7.12-7.80(7H, m), 7.85(1H, d),
7.90(1H, d), 8.06(1H, d), 8.15(1H, d) 例45：2.51(3H, s), 3.42-3.96(47H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.03(1H, d), 7.05(1H, d), 7.22-7.80(8H, m),
7.85(1H, s), 7.90(1H, d) 例46：3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.85(1
H, d), 7.10-7.77(11H, m), 7.88(2H, s), 8.10(1H, d)

【００６１】例47：電解法による薄膜の製造粉末状態を走査型電子顕微鏡で観察したときの粒子の最
大径が0.2 μm 以下であり、粉末Ｘ線回折のパターンが
公知のβ型の結晶型に帰属される銅フタロシアニンを用
いて薄膜を製造した。銅フタロシアニンと例１の重合体
組成物を水中に加え、支持電解質として塩酸を添加した
後に超音波照射して分散液を製造した。分散液中におけ
る各成分の濃度は、重合体組成物 0.68 g/dm³(0.5 mmo
l/dm³)、銅フタロシアニン 5 mmol/dm³、支持電解質
0.1 mol/dm³であった。

【００６２】この分散液を特開平7-179773号公報の図４
に示す電解槽に仕込み、幅 10 mm、長辺 20 mm、厚さ
1.1 mm のガラス板の一面に形成されたインジウム・錫
複合酸化物薄膜(ITO) を分散液に長辺方向に 10 mm浸漬
してカソードとした。白金網線をアノード、飽和甘コウ
電極(SCE) を参照電極として、ポテンショスタットでIT
O 電極への印加電圧を-0.5 V (対SCE)に調節し、温度25
℃で定電圧電解してクーロメーターで電気量を測定し
た。電解開始後約30分で30ミリクーロンの電気量を消費
し、ITO 電極上に緑味青色の薄膜（幅 10 mm、長さ10 m
m ）が形成された。電解終了後、ITO 電極を引き上げて
イオン交換水で洗浄し、60℃に制御した送風式乾燥機中
で乾燥した。

【００６３】この膜の表面および断面を走査型電子顕微
鏡（倍率１万倍）で観察したところ、最大粒子径 0.2μ
ｍ以下の粒子が密集して多孔性の膜を形成していること
が認められた。また、この膜の透過スペクトルパターン
およびＸ線回折パターンは、同質のITO 電極上にβ型銅
フタロシアニン分散液を塗工法で成膜したものと一致し
ており、顔料（β型銅フタロシアニン）の粒子径および
結晶型を変えずに、薄膜を製造できることが確認され
た。

【００６４】例48：電解法による薄膜の形成（比較例）対照組成物として、特開平7-179773号公報に記載された
合成例１の方法に準じて、 p-CH₃(CH₂)₃-C₆H₄-N=N-p-C₆
H₄-O-(CH₂)₂-O-(CH₂CH₂O)₂₂-H を主成分とする重合体組
成物を製造した。この対照重合体組成物及び例１の重合
体組成物 [p-CH₃(CH₂)₃-C₆H₄-N=N-p-C₆H₄-O-CH₂CH(OH)-
CH₂-O-(CH₂CH₂O)₂₂-CH₂CH(OH)-CH₂OH]をそれぞれ用い、
銅フタロシアニンを 20 mMまたは 15 mMとし、重合体組
成物 2 mM 、支持電解質 0.1 Mとして、例47の方法に準
じて薄膜を形成させた。この結果、対照重合体組成物を
用いた場合には、銅フタロシアニン濃度 20 mMでは薄膜
が形成されたが、15 mM の濃度では薄膜は形成できなか
った。一方、本発明の重合体組成物を用いた場合には、
銅フタロシアニン濃度 20 mM及び15 mM のいずれにおい
ても良好な薄膜が形成された。従って、本発明の重合体
組成物を用いると、広い銅フタロシアニン濃度で製膜が
可能である。

【００６５】例49：無電解法による薄膜の製造（浸漬メ
ッキ）例47と同様の方法で銅フタロシアニンの分散液を調製し
た。ただし、例１の重合体組成物の濃度を 2 mM とし、
β型銅フタロシアニン濃度を 20 mMとした。幅10 mm、
長辺 30 mm、厚さ 0.3 mm の銅板の先端 20 mmをこの分
散液に25℃で20分間浸漬し、銅板上に緑青色の薄膜（幅
10 mm、長さ 20 mm) を形成させた。この後、例47と同
様の方法で乾燥した。得られた薄膜を走査型電子顕微鏡
で観察したところ、例47と同様の結果が得られていた。
また、この薄膜を 5 mmol/リットルの Brij35 水溶液に
分散した溶液の透過スペクトルは、使用したβ型銅フタ
ロシアニンを 5 mmol/リットルの Brij35 水溶液に分散
したものと一致していた。従って、この方法によれば、
β型銅フタロシアニンの粒子径及び結晶型を変えずに薄
膜を製造できることが確認された。

【００６６】例50：無電解法による薄膜の製造（浸漬メ
ッキ：比較例）例１の重合体組成物と例48で用いた対照組成物とを用い
て、例49の方法に従って浸漬メッキを行った。各重合体
組成物の濃度を 2 mM 、β型銅フタロシアニン濃度を 2
0 mM又は 15 mMとして、支持電解質濃度を 0.1 mM とし
た。その結果、対照重合体組成物を用いた場合には、銅
フタロシアニン濃度 20 mMでは薄膜が形成されたが、15
mM の濃度では薄膜は形成できなかった。一方、本発明
の重合体組成物を用いた場合には、銅フタロシアニン濃
度 20 mM及び15 mM のいずれにおいても良好な薄膜が形
成された。従って、本発明の重合体組成物を用いると、
浸漬メッキ法により広い銅フタロシアニン濃度で製膜が
可能であることが確認された。

【００６７】例51：無電解法による薄膜の製造（接触メ
ッキ）例47と同様の方法で銅フタロシアニンの分散液を調製し
た。ただし、例１の重合体組成物の濃度を 2 mM とし、
β型銅フタロシアニン濃度を 20 mMとした。幅10 mm、
長辺 20 mm、厚さ 1.1 mm のガラス板の一面に形成され
たインジウム・錫複合酸化物薄膜(ITO) 及び該ガラス板
と同じ大きさのアルミニウム板を重ね、両者の上部を金
属製のクリップで挟んで、先端 20 mmを分散液に25℃で
20分間浸漬し、ITO 膜上に緑青色の薄膜（幅 10 mm、長
さ 20 mm) を形成させた。この後、例47と同様の方法で
乾燥と分析を行ったところ例47と同様の結果が得られて
いた。従って、この方法によればβ型銅フタロシアニン
の粒子径及び結晶型を変えずに薄膜を製造できることが
明らかである。

【００６８】例52：無電解法による薄膜の製造（接触メ
ッキ：比較例）例１の重合体組成物と例48で用いた対照組成物とを用い
て、例51の方法に従って接触メッキを行った。各重合体
組成物の濃度を 2 mM 、β型銅フタロシアニン濃度を 2
0 mM又は 15 mMとし、支持電解質の濃度を 0.1 mM とし
た。その結果、対照重合体組成物を用いた場合には、銅
フタロシアニン濃度 20 mMでは薄膜が形成されたが、15
mM の濃度では薄膜は形成できなかった。一方、本発明
の重合体組成物を用いた場合には、銅フタロシアニン濃
度 20 mM及び15 mM のいずれにおいても良好な薄膜が形
成された。従って、本発明の重合体組成物を用いると、
接触メッキ法により広い銅フタロシアニン濃度で製膜が
可能であることが確認された。

【００６９】

【発明の効果】本発明の化合物及び重合体組成物は、疎
水性物質や疎水性機能材料の薄膜の形成に有用である。
特に、本発明の化合物及び重合体組成物は、容易に入手
可能な原料から短工程で簡便かつ安価に製造することが
できる他、種々の濃度の疎水性物質や疎水性機能材料を
含む分散液や溶液から薄膜を製造できるという特徴があ
る。特に、本発明の化合物及び重合体組成物は、浸漬メ
ッキ法や接触メッキ法などの無電解法による薄膜形成工
程において好適に使用することができ、極めて簡単な操
作で高品質な薄膜を形成できるという特徴がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の重合体組成物 (R¹=p-CH₃(CH₂)₃-C₆H
₄-; R²=p-C₆H₄-; R³=CH₂CH(OH)-CH₂OH; m=22) の赤外線
吸収スペクトルを示す図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の式： R¹-N=N-R²-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-O-(-CH₂CH₂O-)_n-R³ （式中、R¹は置換基を有していてもよいC_6-14アリール
基を示し；R²は置換基を有していてもよいC_6-14アリー
ルジイル基を示し；R³は水酸基を有するC_3-6アルキル
基、C_1-6アルキルカルボニル基、又は C_6-14アリールカ
ルボニル基を示し；n は 1〜100 の整数を示す）で示さ
れる化合物。
【請求項２】 R¹がフェニル基又はナフチル基（これら
の基はC_1-12アルキル基及びC_1-12アルコキシ基からな
る群から選ばれる置換基を有していてもよい）であり、
R²がフェニレン基若しくはナフタレンジイル基であり、
R³がC_1-6アルキルカルボニル基、ベンゾイル基、及び2,
3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基からなる群から選ば
れる基であり、n が10〜70の整数である請求項１に記載
の化合物。
【請求項３】請求項１又は２に記載の化合物からなる
薄膜形成剤。
【請求項４】下記の式： R¹-N=N-R²-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-O-(-CH₂CH₂O-)_m-R³ （式中、R¹は置換基を有していてもよいC_6-14アリール
基を示し；R²は置換基を有していてもよいC_6-14アリー
ルジイル基を示し；R³は水酸基を有するC_3-6アルキル
基、C_1-6アルキルカルボニル基、又は C_6-14アリールカ
ルボニル基を示し；m は10〜100 の範囲から選択される
平均重合度を示す）で示される重合体組成物。
【請求項５】 R¹がフェニル基又はナフチル基（これら
の基はC_1-12アルキル基及びC_1-12アルコキシ基からな
る群から選ばれる置換基を有していてもよい）であり、
R²がフェニレン基若しくはナフタレンジイル基であり、
R³がC_1-6アルキルカルボニル基、ベンゾイル基、及び2,
3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基からなる群から選ば
れる基であり、m が10〜50の範囲である請求項４に記載
の重合体組成物。
【請求項６】請求項４又は５に記載の重合体組成物か
らなる薄膜形成剤。
【請求項７】無電解薄膜形成工程に用いる請求項６に
記載の薄膜形成剤。
【請求項８】無電解薄膜形成工程が浸漬メッキ工程又
は接触メッキ工程である請求項７に記載の薄膜形成剤。