JPH09282629A - 浮上式磁気ヘッドおよびこの磁気ヘッドを用いたディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光磁気ディスク装置などに設けられる高浮上
式の磁気ヘッドでは、スライダの浮上面とディスクとの
間に、スライダの浮上距離よりも大きい異物が介在する
と、ディスクの記録部にダメージが与えられ、またスラ
イダの浮上姿勢が不安定となって、データエラーが発生
することがあった。 【解決手段】 スライダ１１のディスク対向面にスライ
ダ１１を横断する横断溝１５が形成され、この横断溝１
５以外の全領域が浮上面１１ａとなっている。ピボット
２２ａによる支持点Ｓの真下に異物が介在すると、従来
は弾圧力Ｆが異物を介してディスクに作用し、ディスク
の記録部にダメージが与えられることがあったが、支持
点Ｓの真下の近傍に横断溝１５が形成されると、前記異
物が溝内に逃げやすくなる。また横断溝１５の前後の領
域で浮上力が安定し、スライダ１１の姿勢が良好にな
る。よって、データエラーが発生しにくくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、回転するディスク
上の空気流により浮上して前記ディスクに対向する浮上
式磁気ヘッドおよびこの磁気ヘッドを用いたディスク装
置に係り、特に、スライダの浮上面の面積が広い高浮上
式の磁気ヘッドおよびこの高浮上式の磁気ヘッドが使用
される光磁気記録方式などのディスクをドライブするデ
ィスク装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】浮上式の磁気ヘッドは、回転するディス
ク上の空気流による浮上力を受けるスライダと、このス
ライダに搭載されてディスクの記録部に磁界を与える磁
界発生部とを有している。この浮上式の磁気ヘッドのう
ち、スライダのディスクに対面する浮上面の面積が広く
ディスクからの浮上距離の大きい高浮上式のものは、例
えば光磁気記録方式のディスクが装填される光磁気ディ
スク装置などに使用される。

【０００３】図６（Ａ）は上記高浮上式の磁気ヘッドＨ
ａの側面図、図６（Ｂ）はその底面図である。浮上式の
磁気ヘッドＨａは、ディスクＤの回転に伴う空気流の上
流側となる先端面が後端面よりも浮上距離が高くなる。
図６（Ａ）ではディスクＤの移動方向を矢印で示してお
り、磁気ヘッドＨａの浮上姿勢との相対位置関係を示す
ために、ディスクＤを斜めの向きで示している。

【０００４】光磁気ディスクなどに使用される前記高浮
上式の磁気ヘッドＨａは、スライダ１がセラミック材料
により形成されており、その平面形状は矩形状で、その
下面（ディスク対向面）の全域が浮上面１ａとなってい
る。スライダ１に搭載された磁気コア２は図６（Ｂ）に
示すように前記浮上面１ａに現れている。

【０００５】上記スライダ１を支持する支持機構として
は、板ばねにより形成されたロードビーム３と、このロ
ードビーム３に固定された支持板４と、支持板４とスラ
イダ１との上面１ｂとを連結する薄い板ばね製のフレキ
シャ５とから構成されている。前記支持板４にはディス
クＤの方向へほぼ球面形状にて突出形成されたピボット
４ａが一体に形成されており、このピボット４ａの先端
が支持点Ｓにてスライダ１の上面１ｂに当接している。
フレキシャ５の弾性支持により、スライダ１は前記支持
点Ｓを支点としてα方向とβ方向へ揺動自在となってい
る。また前記ロードビーム３の弾圧力Ｆが、ピボット４
ａからスライダ１に与えられ、スライダ１がディスクＤ
に押圧されている。ロードビーム３がスライダ１をディ
スクＤに押圧する前記弾圧力Ｆは２ｇｆ（グラム重）程
度である。

【０００６】ディスクＤが図６（Ａ）の矢印方向へ走行
すると、ディスクＤの上面の空気流により、スライダ１
は前記弾圧力Ｆに対抗して浮上し、またスライダ１はピ
ボット４ａによる支持点Ｓに対して空気流の上流側がや
やα方向へ持ち上がる姿勢となる。光磁気記録方式のデ
ィスクＤは、記録部Ｄ１の下面が透明な樹脂層Ｄ２で覆
われ、記録部Ｄ１の上面が厚さ１０μｍ程度の樹脂カバ
ー層Ｄ３で覆われている。透明な樹脂層Ｄ２には光ヘッ
ドが対向し、光ヘッドの対物レンズから照射されるレー
ザ光のエネルギーにより記録部Ｄ１が加熱され、且つ磁
気ヘッドＨａの磁気コア２から磁界が与えられて、記録
部Ｄ１に信号が記録される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】浮上式の磁気ヘッドが
用いられるディスク装置のうち、例えばハードディスク
装置などではディスク装置全体が密閉されているため、
スライダとディスクとの間に異物やほこりが介入しにく
い。またハードディスク装置用の浮上式の磁気ヘッドは
浮上距離を比較的低く設定するために、スライダの浮上
面にディスク上の空気流の流れに沿う溝が形成されてい
るのが一般的である。よって、ディスク上に微小な異物
やほこりが有ったとしても、前記溝により異物などがス
ライダの下面から逃げやすくなり、異物やほこりによる
影響を受けにくい。

【０００８】これに対し、光磁気記録方式のディスクが
装填されるディスク装置では、ディスクがカートリッジ
に収納され、カートリッジに形成された窓がシャッタに
より閉鎖されるものとなっており、ディスクの気密性は
一応保たれている。しかし、ディスク装置は前記カート
リッジの装填口を有する非密閉状態であるため、装置の
内部に異物やほこりが侵入しやすく、ディスク装置内で
前記シャッタが開放されたときにカートリッジの窓から
ディスクの表面に前記異物やほこりが付着することが起
こりやすくなっている。

【０００９】そこで、光磁気記録方式のディスクＤの磁
気ヘッドが対向する上面に故意に異物やほこりを付着さ
せて記録・再生動作を行い、データエラーが発生する率
の測定を行なってみた。まずディスクの表面に微細なほ
こりを付着させると、ほこりによる顕著な記録エラーが
生じないことが確認された。その理由は、微細なほこり
が付着したディスクを使用した場合には、このほこりが
スライダ１の浮上面１ａとディスクＤの表面との間で潤
滑剤的な役割を果たし、ほこりにより磁気ヘッドの動作
にあまり影響を与えることがないからであると考えられ
る。

【００１０】しかし、ディスクＤの上面に、スライダの
浮上距離よりも大きい異物を間隔を開けて配置し、磁気
ヘッドＨａの浮上面１ａとディスクＤの表面との間に前
記の異物が介入する過酷な条件を設定すると、低い確率
ではあるがデータエラーが発生することが確認された。

【００１１】上記の実験の結果、データエラーが発生し
た原因は以下の（１）（２）にあると考えられる。 （１）前記実験では、記録・再生動作中に、スライダ１
とディスクＤとの間に、スライダ１の浮上距離よりも大
きな異物が介入する場合を条件として設定した。この場
合、異物が図６（Ａ）においてｄ１で示す位置に介入す
ると、スライダ１はピボット４ａによる支持点Ｓを支点
としてα方向へ揺動し、また異物がｄ２の位置に介入す
ると、スライダ１がβ方向へ揺動するため、異物がディ
スクＤの記録部Ｄ１に与えるダメージが小さいものと予
測できる。ただし、異物が前記支持点Ｓの近傍であるｄ
３の位置に介入すると、ピボット４ａの位置にてスライ
ダ１を２ｇｆ（グラム重）程度で弾圧しているロードビ
ーム３の弾圧力Ｆがｄ３の位置にある異物を介してディ
スクＤの樹脂カバー層Ｄ３を押圧する。その結果、弾性
体である樹脂カバー層Ｄ３から記録部Ｄ１に強い力が作
用し、記録部Ｄ１に損傷またはそれに近いダメージが与
えられ、その結果低い確率ではあるが、データエラーが
発生しやすくなるものと予測される。

【００１２】（２）高浮上式の磁気ヘッドＨａでは、ス
ライダ１の下面の全域が同一平面とされた（または若干
の曲面となった）浮上面１ａとなっているが、ディスク
Ｄの回転に伴う空気流により前記浮上面１ａに与えられ
る浮上圧力の分布を等圧線で示すと図６（Ｂ）に示すよ
うになる。浮上力は等圧線を示す環状線の中心側が高
圧、外周側が低圧でＰ２＜Ｐ１である。図６（Ｂ）に示
すように、浮上力が高くなる部分が、ピボット４ａによ
る支持点Ｓの真下ではなく、これよりも後方に位置して
いるため、スライダ１は、支持点Ｓとの関係で、α方向
とβ方向で示すピッチング動作において安定性の低いも
のとなっている。したがって、前記の比較的大きな異物
が、スライダ１とディスクＤとの間に介入し、またはス
ライダ１とディスクＤとの間を通過していくときに、ス
ライダ１のピッチング方向の揺動が安定状態となるまで
に時間がかかり、その結果、磁気コア２と記録部Ｄ１と
の間のスペーシングが大きくなり、記録部Ｄ１における
データエラーが発生する確率が比較的に高くなるものと
予測される。

【００１３】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、スライダの底面のほぼ全域が浮上面とされた高浮
上式の磁気ヘッドおよびこれを用いたディスク装置にお
いて、スライダの浮上距離よりも大きな異物がスライダ
とディスクとの間に介入する条件を設定した場合であっ
ても、ディスクの記録部にダメージを与える確率を低く
し、またスライダに与えられる浮上力の分布を安定させ
てピッチング方向への動作を安定させることができるよ
うにしてエラー率を低下させることを可能としたことを
目的としている。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、ディスクに対
面するスライダと、このスライダに搭載されて前記ディ
スクに対して磁界を与える磁界発生部と、前記スライダ
を浮上面と逆の側の支持点により揺動可能に支持すると
共にスライダ全体をディスクから浮上可能に支持する支
持機構とが設けられている浮上式磁気ヘッドにおいて、
ディスクの移動方向と交叉する方向をスライダの幅方向
としたときに、前記スライダのディスク対向面には、幅
方向の両側に位置する両側端に開口してスライダを横断
する横断溝が形成されており、この横断溝以外のディス
ク対向面の全域がディスクの回転に伴う浮上力を受ける
浮上面とされていることを特徴とするものである。

【００１５】すなわち、本発明は、例えばハードディス
ク装置用などのように空気流の方向に沿う溝がスライダ
の縦方向全長を貫通して設けられているものを対象とす
るのではなく、図６（Ａ）（Ｂ）に示すように、従来は
スライダの底面の全域が浮上面とされた高浮上式の磁気
ヘッドを対象としている。

【００１６】本発明では、スライダを幅方向に向かって
横断する横断溝を形成しておくことにより、図６（Ａ）
に示すように、スライダの浮上距離よりも大きい異物が
介入したときに、異物を横断溝内で受け、ディスクと異
物との接触を防ぐことが可能である。また横断溝を設け
ることにより、図６（Ｂ）に示す浮上圧力の分布を横断
溝の前後の浮上面に分割し、α方向とβ方向で示すピッ
チング方向への浮上姿勢を安定させ、異物の通過などが
あっても安定姿勢に復帰しやすくなる。その結果、スラ
イダの浮上距離よりも大きな異物がスライダとディスク
との間を通過することがあっても、データエラーの発生
する確率を低下させることができる。

【００１７】上記横断溝がスライダの側端に開口する領
域範囲としては、ディスク回転に伴う空気流の流れ方向
をスライダの縦方向とし、前記空気流の上流側をスライ
ダの前方としたときに、前記支持点は、スライダの縦方
向のほぼ中心に位置しており、前記浮上面の前方側の端
部から前記横断溝がスライダの前記側端に開口している
位置までの距離と、前記浮上面の縦方向寸法との比が、
１／３以上で５／６以下とすることが好ましい。

【００１８】上記の範囲に横断溝が形成されていると、
図６（Ａ）のｄ３で示すようにピボットなどによる支持
点Ｓの真下に入り込もうとする異物を横断溝内へ逃がす
ことができるため、ロードビーム３の弾圧力Ｆが異物を
介して記録部Ｄ１に作用する確率が低くなり、記録部Ｄ
１にダメージを与えにくくなる。また前記範囲に横断溝
が形成されると、図６（Ｂ）に示す浮上面での浮上力の
圧力分布が、横断溝の前後にてほぼ均等に作用するよう
になり、スライダのピッチング方向への姿勢の安定性が
高くなり、その結果、磁気発生部とディスクとのスペー
シングロスが少なくなり、エラー発生率が低下する。

【００１９】上記のように、横断溝は、スライダにおい
て支持点が設けられている部分またはその近傍に形成さ
れていることが効果的である。また、図５（Ａ）に示す
測定結果によれば、横断溝の開口部の位置を、ピボット
などの支持点の真下に完全に一致させることにより記録
エラー率を低下できることを確認できたが、さらに横断
溝を支持点の真下よりもやや後方に形成することが最も
好ましいことが解った。すなわち、前記浮上面の前方側
の端部から前記横断溝がスライダの前記側端に開口して
いる位置までの距離と、前記浮上面の縦方向寸法との比
が、１／２以上で５／６以下、あるいは１／２以上で２
／３以下の範囲とすることが最も好ましい。

【００２０】これは、図６（Ｂ）に示すように、スライ
ダの後側の方が浮上面に作用する浮上力が大きいため、
横断溝により浮上面を前後に分割して浮上力の分布をス
ライダの前後でなるべく均一にするためには、横断溝が
支持点Ｓよりも後方に位置する方が効果的であることを
示している。

【００２１】なお、横断溝が側端に開口する前記の好ま
しい範囲を、ピボットによる支持点との関係で見ると、
横断溝が側端に開口する位置は、支持点に対して、浮上
面の縦方向寸法との比において、前方に１／６、後方に
１／３の領域が好ましく、さらに好ましくは支持点を起
点として後方のみに０から１／３の領域、さらには後方
にのみ０から１／６の領域とすることが好ましい。

【００２２】また、横断溝の最大幅寸法が、０．２ｍｍ
以上で０．６ｍｍ以下であることが好ましいが、これを
溝幅寸法と、スライダの浮上面の縦方向寸法との比で表
わすと、０．１／３以上で０．１／１以下である。な
お、前記最大幅寸法とは、横断溝の幅寸法が溝全長にお
いて相違しているときに最も大きい部分の幅寸法を意味
し、横断溝の幅寸法が均一でであるときには、横断溝の
この均一な幅寸法が前記最大幅寸法である。

【００２３】横断溝の最大幅が前記範囲に満たないと、
浮上距離よりも大きい比較的大きな異物を横断溝で受け
ることのできる効果が低下し、また前記範囲を越える
と、スライダの浮上距離が低下し、高浮上が損なわれ、
比較的小さい異物がスライダの下に挟まりやすくなり、
ディスクの記録部Ｄ１に直接にダメージが与えられる可
能性が高くなる。

【００２４】さらに横断溝は、スライダに対し前記側端
と直交して直線的に延び、且つ全長において溝幅が均一
であることが好ましい。横断溝をスライダの縦方向に対
して直交して設けると、横断溝の前後での浮上力の分布
が安定しやすく、また均一な幅寸法の溝は加工が容易で
ある。

【００２５】さらに、本発明のディスク装置は、ディス
クを回転させる回転駆動手段と、ディスクに対向してデ
ィスクの円周に対して交叉する方向へ移動する前記浮上
式磁気ヘッドとを備えたことを特徴とし、さらに、ディ
スクは光磁気記録方式の記録部を有しており、ディスク
を介して浮上式磁気ヘッドと対向する部分に、前記記録
部に光エネルギーを与える光ヘッドが設けられているこ
とが好ましい。

【００２６】上記ディスク装置では、ディスクに比較的
大きな異物が点在するという最も過酷な条件下でディス
クをドライブした場合でも、データのエラー発生率を低
下させ、信頼性を向上させることができる。

【００２７】

【発明の実施の形態】図１（Ａ）は本発明の浮上式磁気
ヘッドの主要部を示す側面図、図１（Ｂ）はその底面
図、図２は変形例を示す底面図、図３は浮上式磁気ヘッ
ドの支持機構の詳細を示す分解斜視図、図４は前記浮上
式磁気ヘッドを用いたディスク装置の一例として光磁気
ディスク装置を示す斜視図である。図３に示す本発明の
浮上式磁気ヘッドＨは、図４に示す光磁気ディスク装置
に搭載される高浮上式のものである。

【００２８】スライダ１１はセラミック材料などの非磁
性材料で形成されたものであり、その平面形状は矩形状
である。スライダ１１の底面（ディスク対向面）は、デ
ィスクＤに対面する浮上面１１ａであり、この浮上面１
１ａは平面または大きな曲率半径の球面あるいはそれ以
外の曲面である。以下において、スライダ１１は、ディ
スクＤの回転により空気流が流れる方向、すなわちディ
スクＤの記録部Ｄ１に記録されたトラックの接線方向を
縦方向（Ｘ方向）とし、この縦方向と直交する方向、す
なわち前記トラックの接線に直交する方向を横方向（Ｙ
方向）とする。またＸ方向に矢印の向きで形成される空
気流の上流側をスライダ１１の先方とし、下流側を後方
とする。よって、図１（Ｂ）において、浮上面１１ａの
先方側の端部が１１ｂ、浮上面１１ａの後方側の端部が
１１ｃであり、幅方向（Ｙ方向）では、ディスク内周側
の側端が１１ｄ、ディスク外周側の側端が１１ｅであ
る。

【００２９】図１（Ｂ）に示すように、スライダ１１の
浮上面１１ａの後方側で且つディスクの外周側の側端１
１ｅ寄りの部分に磁気コア１２が現れている。図３に示
すように、スライダ１１の上面１１ｆ側には、前記磁気
コア１２のセンターコアに取り付けられるコイルボビン
１４と、前記磁気コア１２の背面側を磁気的に接合する
バックコア１３が設けられている。前記磁気コア１２、
コイルボビン１４およびバックコア１３とで、ディスク
Ｄの記録部Ｄ１に磁界を与える磁界発生部が構成されて
いる。

【００３０】前記スライダ１１を支持する支持機構２０
では、板ばね材料により形成されたロードビーム２１が
設けられている。図４に示すように、ロードビーム２１
は、基端部分がばね力を発揮する弾性部２１ａとなって
おり、それよりも先部では両側の縁部が直角に折曲げら
れた折曲部２１ｂ，２１ｂが形成されている。前記弾性
部２１ａによりロードビーム２１から前記スライダ１１
に対してディスクＤへの弾圧力Ｆが与えられる。

【００３１】ロードビーム２１の先部下面には支持板２
２が溶接などにより固定されている。支持板２２は比較
的厚い金属板によりコの字形状に曲げられているもので
あり、その下面には、スライダ１１の方向へ突出する球
面状のピボット２２ａが一体に形成されている。支持板
２２とスライダ１１との間には、薄い板ばねで形成され
たフレキシャ２３が設けられている。このフレキシャ２
３は、符号２３ｂで示す接着部が前記支持板２２の下面
２２ｂに接着されて固定され、中央に切欠きを介して形
成された舌片２３ａが、前記スライダ１１の上面１１ｆ
に接着されて固定されている。

【００３２】フレキシャ２３を介して、スライダ１１と
支持板２２とが接合された状態で、前記ピボット２２ａ
の先端は、フレキシャ２３の舌片２３ａの上面に当接す
る。ピボット２２ａの先部が当接する位置は、スライダ
１１の縦方向（Ｘ方向）の中心で且つ幅方向（Ｙ方向）
の中心である。スライダ１１は、フレキシャ２３により
弾性的に支持されているが、スライダ１１は、前記ピボ
ット２２ａの先端が当たる点を支持点Ｓとして、α方向
とβ方向に示すピッチング方向へ揺動自在であり、且つ
前記α方向およびβ方向と直交する回転方向（ローリン
グ方向）へ揺動自在に支持されている。

【００３３】図１（Ａ）（Ｂ）に示すように、スライダ
１１の下面（ディスク対向面）には、幅方向全長に渡っ
てスライダ１１を横断して形成された横断溝１５が形成
されている。図１の例では、横断溝１５は縦方向（Ｘ方
向）に対して直交した向きであり、幅方向（Ｙ方向）へ
直線的に延び、その幅寸法ｂが全長にわたって均一であ
り、また深さ寸法ｄも全長に渡って均一である。

【００３４】前記横断溝１５は、スライダ１１を横断
し、その一端１５ａは、スライダ１１の側端１１ｄに開
口し、他端１５ｂはスライダ１１の側端１１ｅに開口し
ている。この横断溝１５により、スライダ１１の下面の
浮上面１１ａは、前方の領域Ｕ１と後方の領域Ｕ２とに
分割されている。この磁気ヘッドＨは高浮上式であるた
め、浮上面１１ａをＸ方向に横断する浮力調節用の溝は
形成されておらず、スライダ１１の下面では、横断溝１
５を除くほぼ全領域Ｕ１とＵ２が浮上面１１ａとなって
いる。

【００３５】前記横断溝１５は、その幅寸法ｂの中心線
Ｏが、ピボット２２ａによる支持点Ｓの真下を通過する
かあるいはこの支持点Ｓよりも後方の端部１１ｃ側（空
気流の下流側）に寄って位置していることが好ましい
が、横断溝１５の前記中心線Ｏと両側端１１ｄおよび１
１ｅとが交叉する位置が、縦方向（Ｘ方向）の一定の範
囲Ｗ内に位置していれば、データエラー率の低下に効果
がある。

【００３６】この磁気ヘッドＨでは、ロードビーム２１
からスライダ１１に対してピボット２２ａの上方から支
持点Ｓを経て弾圧力Ｆが作用する。この弾圧力Ｆは２ｇ
ｆ（グラム重）程度である。ディスクＤが回転したとき
に、樹脂カバー層Ｄ３の上面のＸ方向への空気流によ
り、スライダ１１の浮上面１１ａに浮上力が作用し、ス
ライダ１１が浮上姿勢となる。またスライダ１１は、前
記ピボット２２ａによる支持点Ｓを支点として揺動可能
である。

【００３７】図６（Ａ）に示したのと同様に、ディスク
Ｄとスライダ１１との間に、スライダ１１の浮上距離よ
りも大きい異物が介入する条件を想定する。従来技術の
問題点において述べたように、図６（Ａ）でのｄ１また
はｄ２の位置に異物が介在した場合、スライダ１１が支
持点Ｓを支点としてα方向またはβ方向に揺動し、スラ
イダ１１にあまり影響を与えることなくスライダ１１の
下面から抜け出るが、図６（Ａ）にてｄ３で示すよう
に、異物が支持点Ｓの真下またはその近傍に位置する
と、ロードビーム２１の弾圧力Ｆがｄ３の位置にある異
物を介してディスクＤの樹脂カバー層Ｄ３に圧力を与え
る現象が生じていた。しかし、図１（Ａ）（Ｂ）では、
スライダ１１の下面に横断溝１５が形成されているた
め、ｄ３で示す異物が横断溝１５に受けられ、支持点Ｓ
の真下またはその近傍に異物が介在する確率が低くな
る。さらに、横断溝１５の両端１５ａと１５ｂがスライ
ダ１１の側端１１ｄと１１ｅに開口する位置が、支持点
Ｓの位置を含む前記Ｗの範囲内に存在するように設定す
ると、支持点Ｓの下面またはその近傍に異物が介在しよ
うとしても、横断溝１５がこの異物を受けやすくなり、
支持点Ｓの下面またはその近傍にて、ディスクとスライ
ダとの間に異物が挟まれることがなくなり、ディスクＤ
の記録部Ｄ１にダメージが与えられにくくなる。

【００３８】さらに、図１（Ｂ）に示すように、横断溝
１５が設けられている結果、浮上面１１ａは横断溝１５
の前後の領域Ｕ１とＵ２に分割されるため、浮上力の等
圧線ＰａとＰｂで示されているように、領域Ｕ１とＵ２
のそれぞれに与えられる浮上力のバランスがよくなる。
そのため、スライダ１１とディスクＤとの間に比較的大
きな異物が介在し、スライダ１１が支持点Ｓを支点とし
てα方向またはβ方向のピッチング方向へ揺動しても、
異物が抜け出た後にスライダ１１が基の姿勢に復帰して
安定しやすくなる。よってスライダ１１の姿勢が安定
し、磁界発生部を構成する磁気コア１２とディスクＤの
記録部Ｄ１とのスペーシングが安定し、記録エラーが生
じにくくなる。この浮上力の均一性に着目した場合、横
断溝１５が前方の端部１１ｂまたは後方の端部１１ｃの
方向に偏りすぎていると、領域Ｕ１とＵ２に作用する浮
上力がかえってアンバランスになりスライダ１１の姿勢
の安定性が損なわれる。よって、この点から見ても、横
断溝１５の中心線Ｏと側端１１ｄと１１ｅとの交叉位置
が、縦方向（Ｘ方向）に関して前記範囲Ｗ内にあること
が好ましい。

【００３９】また本発明は、図１（Ｂ）に示すように横
断溝１５がＸ方向と直交するＹ方向に延びているものに
限られず、例えば図２に示すように、横断溝１５がＸ方
向およびＹ方向に対して傾いて形成されていてもよく、
あるいは横断溝１５が曲線状に形成されていてもよい。
この場合も、横断溝１５の端部１５ａおよび１５ｂが前
記Ｗの範囲内で側端１１ｄと１１ｅに開口していること
が好ましい。端部１５ａと１５ｂが前記範囲Ｗ内で開口
していることにより、異物が記録部Ｄ１にダメージを与
えるのを防止する効果、およびスライダ１１の姿勢を安
定させる効果を高くできる。

【００４０】図４に示す光磁気ディスク装置３０では、
筐体３１内に、クランプテーブル３２が設けられ、筐体
３１内に装填された光磁気記録方式のディスクＤは、中
心部がクランプテーブル３２にクランプされ、ブラシレ
スモータ３３によりクランプテーブル３２と共にディス
クＤが回転駆動される。

【００４１】クランプテーブル３２の側方には、ディス
クＤの半径方向に延びるリニアガイド３４が設けられ、
ヘッドベース３５がこのリニアガイド３４を直線移動で
きるように支持されている。また、ヘッドベース３５の
両側部にはリニアモータ機構３６が設けられ、このリニ
アモータ機構３６によりヘッドベース３５がＸ方向へ駆
動され、この移動力によりトラッキング動作およびサー
チ動作などが行われる。ヘッドベース３５には、光ヘッ
ド３７が設けられ、その対物レンズ３７ａがディスクＤ
の下面に対向している。

【００４２】ヘッドベース３５の後端には、前記浮上式
の磁気ヘッドＨのロードビーム２１の基端が取り付けら
れている。そして、スライダ１１に設けられた前記磁気
コア１２は、ディスクＤを介して前記対物レンズ３７ａ
の真上に対向できるようになっている。ヘッドベース３
５上には、退避アーム部材３８が回動自在に設けられ、
その退避アーム３８ａはロードビーム２１の下面に対向
している。またヘッドベース３５には、退避アーム部材
３８を回動させる退避モータ３９が設けられている。

【００４３】カートリッジに収納されたディスクＤが装
填させるときまたは排出されるときには、退避モータ３
９により退避アーム部材３８が駆動され、退避アーム３
８ａによりロードビーム２１が持ち上げられ、スライダ
１１がカートリッジの上方へ退避する。またリニアモー
タ機構３６によりヘッドベース３５が駆動され、光ヘッ
ド３７とスライダ１１とがカートリッジの外周側へ退避
させられる。

【００４４】ディスクＤが装填され、カートリッジのシ
ャッタが開放させると、カートリッジの開放窓を介して
ディスクＤの下面に光ヘッド３７が対向し、またディス
クＤの上面にスライダ１１が対向する。またディスクＤ
が回転し定常回転に至った後に退避モータ３９により退
避アーム部材３８が駆動され、退避アーム３８ａが下降
して、スライダ１１がディスクＤの上面に下降する。そ
して、ディスクＤ上の空気流によりスライダ１１が浮上
する。そして光ヘッド３７の対物レンズ３７ａからディ
スクＤの記録部Ｄ１にレーザ光が照射されて光エネルギ
ーが与えられ、磁気ヘッドＨの磁気コア１２から記録部
Ｄ１に磁界が与えられて、記録部Ｄ１に信号が記録され
る。

【００４５】ディスクＤに記録された信号を再生すると
きには、退避アーム３８ａによりロードビーム２１が持
ち上げられ、スライダ１１がディスクＤの上面から離
れ、この状態で光ヘッド３７の対物レンズ３７ａから記
録部Ｄ１に読取り強度のレーザ光が照射され、その反射
光に基づいて情報が再生される。このディスク装置３０
では、ゴミなど異物の存在によってデータエラーが生じ
にくい前記磁気ヘッドＨが使用されているため、データ
エラー率が低く、高精度な書き込みおよび再生が行われ
るものとなる。

【００４６】

【実施例】図１（Ｂ）および図２に示した横断溝１５を
形成する位置の好ましい範囲を求めるために、本発明の
磁気ヘッドＨおよび光ヘッド３７を用いて光磁気記録方
式のディスクＤに対して信号を記録・再生し、データの
評価を行なった。使用した磁気ヘッドＨのスライダ１１
は、縦方向（Ｘ方向）の寸法が６ｍｍ、幅方向（Ｙ方
向）の寸法が５ｍｍであった。ピボット２２ａによる支
持点Ｓの位置を測定したところ、スライダ１１の先方側
の端部１１ｂから支持点Ｓまでの距離が３ｍｍであっ
た。またロードビーム２１が支持点Ｓに与える押圧力Ｆ
は静圧で２ｇｆ（グラム重）であった。スライダ１１の
下面には、縦方向（Ｘ方向）に直交し一定の幅寸法ｂで
Ｙ方向へ直線的に延びる横断溝１５を形成した。

【００４７】評価に使用したディスクＤは、カートリッ
ジに収納された光磁気記録方式のものである。以下の各
記録・再生動作の実施では、ディスクＤの樹脂カバー層
Ｄ３の表面に目で見える程度の比較的大きなごみ（異
物）を点在させ、その後に記録・再生を行なった。以下
の各実施例および各比較例ごとに新しいディスクを使用
し、１個の実施例の磁気ヘッドおよび比較例の磁気ヘッ
ドでは、同じディスクに対して各３０分間の記録・再生
動作を１０回繰返し、この繰返し作業では、各動作後次
の記録・再生実施を行なう前に必ず前記のクリーニング
を行い、再度異物を均等に分散させて付着させ、記録・
再生動作を繰返すようにした。

【００４８】まず、横断溝１５の幅寸法ｂを０．２ｍ
ｍ、深さｄを０．０５ｍｍとし、この横断溝１５の形成
位置として、スライダ１１の先方の端部１１ｂから溝中
心Ｏまでの距離Ｌ（図１（Ｂ）参照）を１ｍｍ，２ｍ
ｍ，３ｍｍ，４ｍｍ，５ｍｍのそれぞれに設定した４個
の実施例の磁気ヘッドＨを製作した。この４個の実施例
のそれぞれの磁気ヘッドＨを用いて記録部Ｄ１への記録
・再生を行なった。前記のように１回の記録・再生動作
を行なうごとにディスクＤをクリーニングし且つ新たに
異物を付着させ、次の記録・再生動作を行なうように、
この記録動作をそれぞれの実施例の磁気ヘッドに対して
１０回繰返して行なった。また、比較例としてスライダ
１１の寸法等が前記実施例と同じで、横断溝１５を形成
していないものを用い、同じく前記異物を付着させたデ
ィスクＤに対する記録・再生を１０回繰返して行なっ
た。

【００４９】１０回の繰返しの記録・再生動作が完了し
た後に、テストディスクのデータエラーの生じているセ
クタが存在しているか否か調べた。図５（Ａ）はその評
価結果を示し、横軸が、図１（Ｂ）に示す横断溝１５の
中心Ｏと端部１１ｂとの距離Ｌ、縦軸はテストディスク
の全セクタ数に対するデータエラーが発生したセクタ数
の比率である。図５（Ａ）の横軸のＬ＝０ｍｍとＬ＝６
ｍｍは横断溝１５が無い比較例の評価である。

【００５０】図５（Ａ）から、スライダ１１の先方の端
部１１ｂから横断溝１５の中心線Ｏまでの距離が２ｍｍ
以上で５ｍｍ以下のものでは、データエラー率がきわめ
て低くなることが解る。横断溝１５をこの範囲に形成す
ると、異物が支持点Ｓの真下に位置する確率が低くなっ
てディスクＤの記録部Ｄ１にダメージを与えにくくな
り、また横断溝１５の前後の領域Ｕ１とＵ２とに作用す
る浮上力の分布が均一となり、スライダ１１のピッチン
グ方向の姿勢が安定することが解る。

【００５１】図５（Ａ）では、Ｌ＝１ｍｍの位置に横断
溝１５を形成すると、横断溝１５の無い比較例よりもエ
ラー率が若干高くなるが、これは、横断溝１５をあまり
先方（空気流の上流側）に設けると、横断溝１５よりも
前方の領域Ｕ１の面積が極端に狭くなって、この領域Ｕ
１の浮上面に作用する浮上力がほとんどゼロに近くなる
ため、スライダ１１全体に対する浮上力が低下し、異物
がスライダ１１とディスクＤの間に介在したときに、ス
ライダ１１が異物をディスクに押圧しやすくなり、その
結果記録部Ｄ１にダメージが与えられるからであり、ま
たスライダ１１のピッチング方向の姿勢が安定しなくな
るためであると考えられる。

【００５２】したがって、図１（Ｂ）と図２において、
横断溝１５の端部１５ａと１５ｂの幅中心Ｏがそれぞれ
スライダ１１の側端１１ｄと１１ｅと交叉する位置の、
スライダ１１の前端１１ｂからの距離ＬがＬ１＝２ｍｍ
以上でＬ２＝５ｍｍ以下となるようにその範囲Ｗを設定
することが好ましい。あるいは横断溝１５の中心Ｏの位
置が支持点Ｓの真下、または真下よりも後方に位置する
範囲とし、Ｌ１＝３ｍｍ以上でＬ２＝５ｍｍ以下、ある
いはＬ１＝３ｍｍ以上でＬ２＝４ｍｍ以下とすることが
好ましい。

【００５３】またスライダ１１の浮上面１１ａのＸ方向
の全長をＬｙとしたとき、Ｌ１／Ｌｙが１／３以上で、
Ｌ２／Ｌｙが５／６以下であることが好ましく、さらに
好ましくは、Ｌ１／Ｌｙが１／２以上で、Ｌ２／Ｌｙが
５／６以下、またはＬ１／Ｌｙが１／２以上で、Ｌ２／
Ｌｙが２／３以下である。

【００５４】次に深さｄ＝０．０５ｍｍの横断溝１５
を、図１（Ｂ）に示す距離Ｌが３．２９ｍｍの位置に形
成し、その溝幅ｂを０．２ｍｍ，０．４ｍｍ，０．６ｍ
ｍ，０．８ｍｍとしたものを４個の実施例とし、それぞ
れの磁気ヘッドを使用して、前述と同様にディスクＤの
記録部Ｄ１に対して各３０分間の記録・再生動作を行な
い、これを１０回繰返した。また比較例として、横断溝
１５が形成されていないものを使用し、この比較例にお
いても記録・再生動作を１０回繰返えした。

【００５５】図５（Ｂ）は横軸に溝幅寸法ｂを示し、縦
軸は、テストディスクの全セクタ数に対するエラーが生
じたセクタ数の比率を示している。この評価結果から、
横断溝１５の幅寸法ｂは０．２ｍｍ以上で０．６ｍｍ以
下が好ましい。なお０．８ｍｍまで大きくすると、エラ
ー率が極端に高くなるが、これは、横断溝１５の幅寸法
ｂを大きくしすぎると、浮上面１１ａの面積が実質的に
狭くなり、スライダ１１に作用する浮上力が低下し、ス
ライダ１１とディスクＤとの間に異物が挟まりやすくな
るためと考えられる。

【００５６】以上から横断溝１５の溝幅寸法ｂは０．２
ｍｍ以上で０．６ｍｍ以下であることが好ましい。な
お、スライダ１１の縦方向の全長をＬｙとしたときに、
ｂ／Ｌｙは０．１／３以上で０．１／１以下であること
が好ましい。

【００５７】

【発明の効果】以上のように、本発明では、横断溝以外
のスライダ底面の全域が浮上面となる高浮上式の磁気ヘ
ッドにおいて、スライダとディスクとの間に、スライダ
の浮上距離よりも大きい異物が介在する条件を設定した
場合であっても、データエラーの発生する確率を低下で
きる。よってこの磁気ヘッドを搭載したディスク装置で
は、データエラーの確率の低い高精度な記録・再生動作
を行なえるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）は本発明の磁気ヘッドのスライダを示す
側面図、（Ｂ）はそのスライダの底面図、

【図２】図１に示すスライダの変形例を示す底面図、

【図３】本発明の磁気ヘッドの支持機構を示す分解斜視
図、

【図４】本発明のディスク装置の全体構造を示す斜視
図、

【図５】本発明の実施例の評価結果を示すものであり、
（Ａ）は横断溝の位置とエラーレートとの関係を示す線
図、（Ｂ）は横断溝の幅寸法とエラーレートとの関係を
示す線図、

【図６】（Ａ）は従来の磁気ヘッドの問題点を示すスラ
イダの側面図、（Ｂ）はその底面図、

【符号の説明】

１１ スライダ １１ａ 浮上面 １１ｂ スライダ１１の先方の端部 １１ｃ スライダ１１の後方の端部 １１ｄ，１１ｅ スライダ１１の側端 １２ 磁気コア １４ コイルボビン １５ 横断溝 ２０ 支持機構 ２１ ロードビーム ２２ 支持板 ２２ａ ピボット ２３ フレキシャ ３０ ディスク装置 ３７ 光ヘッド Ｄ ディスク Ｈ 磁気ヘッド Ｏ 横断溝１５の中心 Ｓ 支持点 ｂ 横断溝の幅寸法 ｄ 横断溝の深さ寸法

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスクに対面するスライダと、このス
   ライダに搭載されて前記ディスクに対して磁界を与える
   磁界発生部と、前記スライダを浮上面と逆の側の支持点
   により揺動可能に支持すると共にスライダ全体をディス
   クから浮上可能に支持する支持機構とが設けられている
   浮上式磁気ヘッドにおいて、ディスクの移動方向と交叉
   する方向をスライダの幅方向としたときに、前記スライ
   ダのディスク対向面には、幅方向の両側に位置する両側
   端に開口してスライダを横断する横断溝が形成されてお
   り、この横断溝以外のディスク対向面の全域がディスク
   の回転に伴う浮上力を受ける浮上面とされていることを
   特徴とする浮上式磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 ディスク回転に伴う空気流の流れ方向を
   スライダの縦方向とし、前記空気流の上流側をスライダ
   の前方としたときに、前記支持点は、スライダの縦方向
   のほぼ中心に位置しており、前記浮上面の前方側の端部
   から前記横断溝がスライダの前記側端に開口している位
   置までの距離と、前記浮上面の縦方向寸法との比が、１
   ／３以上で５／６以下である請求項１記載の浮上式磁気
   ヘッド。
3. 【請求項３】 横断溝の最大幅寸法が、０．２ｍｍ以上
   で０．６ｍｍ以下である請求項１または２記載の浮上式
   磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 横断溝は、スライダに対し前記側端と直
   交して直線的に延び、且つ全長において溝幅が均一であ
   る請求項１ないし３のいずれかに記載の浮上式磁気ヘッ
   ド。
5. 【請求項５】 ディスクを回転させる回転駆動手段と、
   ディスクに対向してディスクの円周に対して交叉する方
   向へ移動する請求項１ないし４のいずれかの浮上式磁気
   ヘッドとを備えたことを特徴とするディスク装置。
6. 【請求項６】 ディスクは光磁気記録方式の記録部を有
   しており、ディスクを介して浮上式磁気ヘッドと対向す
   る部分に、前記記録部に光エネルギーを与える光ヘッド
   が設けられている請求項５記載のディスク装置。