JPH09292568A - 投影光学系 - Google Patents

投影光学系

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JPH09292568A
JPH09292568A JP8105707A JP10570796A JPH09292568A JP H09292568 A JPH09292568 A JP H09292568A JP 8105707 A JP8105707 A JP 8105707A JP 10570796 A JP10570796 A JP 10570796A JP H09292568 A JPH09292568 A JP H09292568A
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lens group
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projection optical
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均 松澤
Yutaka Suenaga
豊 末永
Misako Kobayashi
美佐子 小林
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 コンパクト化を図った上で広い露光領域と大
きな開口数とを確保しつつ両側テレセントリックとしな
がらも、諸収差、特にディストーションを極めて良好に
補正する。 【構成】 本発明による投影光学系は、第１物体Ｒ側か
ら順に、正屈折力の第１レンズ群Ｇ1 と、負屈折力の第
２レンズ群Ｇ2 と、正屈折力の第３レンズ群Ｇ3と、負
屈折力の第４レンズ群Ｇ4 と、正屈折力の第５レンズ群
Ｇ5 と、正屈折力の第６レンズ群Ｇ6 とを有し、第２レ
ンズ群Ｇ2 は、負屈折力の前方レンズＬ2Fと、負屈折力
の後方レンズＬ2Rとの間に配置される中間レンズ群Ｇ2M
を含み、中間レンズ群Ｇ2Mは、第１物体Ｒ側から順に、
正屈折力の第１レンズＬM1と、負屈折力の第２レンズＬ
M2と、負屈折力の第３レンズＬM3とを少なくとも有する
ように構成される。そして、本発明は、上述の構成に基
づいて第１乃至第６レンズ群Ｇ1 〜Ｇ6 の好適な焦点距
離範囲、並びに前方レンズＬ2Fと後方レンズＬ2Rの最適
な形状の範囲を見出したものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、第１物体のパター
ンを第２物体としての基板等に投影するための投影光学
系に関するものであり、特に、第１物体としてのレチク
ル（マスク）上に形成された半導体用または液晶用のパ
ターンを第２物体としての基板（ウェハ、プレート等）
上に投影露光するのに好適な投影光学系に係るものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】集積回路のパターンの微細化が進むに従
って、ウェハの焼付けに用いられる投影光学系に対し要
求される性能もますます厳しくなってきている。このよ
うな状況の中で、投影光学系の解像力の向上について
は、露光波長λをより短くするか、あるいは投影光学系
の開口数（N.A.）を大きくする事が考えられる。
【０００３】近年においては、転写パターンの微細化に
対応するために、露光用の光源は、ｇ線(436nm) の露光
波長の光を発するものからｉ線(365nm) の露光波長の光
を発するものが主として用いられるようになってきてお
り、さらには、より短波長の光を発する光源、例えばエ
キシマレーザ（KrF:248nm,ArF:193nm)が用いられようと
している。
【０００４】そして、以上の各種の露光波長の光によっ
てレチクル上のパターンをウェハ上に投影露光するため
の投影光学系が提案されている。投影光学系において
は、解像力の向上と共に要求されるのは、像歪を少なく
することである。ここで、像歪とは、投影光学系に起因
するディストーション（歪曲収差）によるものの他、投
影光学系の像側で焼き付けられるウェハの反り等による
ものと、投影光学系の物体側で回路パターン等が描かれ
ているレチクルの反り等によるものがある。
【０００５】近年ますます転写パターンの微細化が進
み、像歪の低減要求も一段と厳しくなってきている。そ
こで、ウェハの反りによる像歪への影響を少なくするた
めには、投影光学系の像側での射出瞳位置を遠くに位置
させる、所謂像側テレセントリック光学系が従来より用
いられてきた。
【０００６】一方、レチクルの反りによる像歪の軽減に
ついても、投影光学系の入射瞳位置を物体面から遠くに
位置させる、所謂物体側テレセントリック光学系にする
ことが考えられ、またそのように投影光学系の入射瞳位
置を物体面から比較的遠くに位置させる提案がなされて
いる。それらの例としては、特開昭63-118115 号、特開
平4-157412号、特開平5-173065号等のものがある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】以上の各特許公報にて
提案された光学系の中には、物体側と像側とが共にテレ
セントリックである、所謂両側テレセントリック投影光
学系が開示されている。しかしながら、以上の各特許公
報にて提案されている両側テレセントリック投影光学系
では、解像力に寄与する開口数（N.A.）が十分に大きく
なく、さらには各収差、特にディストーションの補正が
十分ではなかった。
【０００８】本発明は、以上の問題点に鑑みてなされた
ものであり、コンパクト化を図った上で広い露光領域と
大きな開口数とを確保しつつ両側テレセントリックとし
ながらも、諸収差、特にディストーションを極めて良好
に補正し得る高性能な投影光学系を提供することを目的
としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明による投影光学系は、以下の構成を有す
る。本発明による投影光学系は、第１物体の像を第２物
体上に投影する投影光学系であって、第１物体側から順
に、正の屈折力を持つ第１レンズ群と、負の屈折力を持
つ第２レンズ群と、正の屈折力を持つ第３レンズ群と、
負の屈折力を持つ第４レンズ群と、正の屈折力を持つ第
５レンズ群と、正の屈折力を持つ第６レンズ群とを有
し、前記第２レンズ群は、最も前記第１物体側に配置さ
れて前記第２物体側に凹面を向けた負屈折力の前方レン
ズと、最も前記第２物体側に配置されて前記第１物体側
に凹面を向けた負屈折力の後方レンズと、前記前方レン
ズと前記後方レンズとの間に配置される中間レンズ群を
含み、前記中間レンズ群は、前記第１物体側から順に、
正の屈折力を持つ第１レンズと、負の屈折力を持つ第２
レンズと、負の屈折力を持つ第３レンズとを少なくとも
有し、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ1 、前記第２レ
ンズ群の焦点距離をｆ2 、前記第３レンズ群の焦点距離
をｆ3 、前記第４レンズ群の焦点距離をｆ4 、前記第５
レンズ群の焦点距離をｆ5 、前記第６レンズ群の焦点距
離をｆ6 、前記第１物体から前記第２物体までの距離を
Ｌ、前記前方レンズの第１物体側の面の曲率半径をｒ
2Ff 、前記前方レンズの第２物体側の面の曲率半径をｒ
2Fr 前記後方レンズの第１物体側の面の曲率半径をｒ
2Rf 、前記後方レンズの第２物体側の面の曲率半径をｒ
2Rr するとき、以下の条件（１）〜（８）を満足するよ
うに構成したものである。 （１） ｆ1 ／Ｌ＜０．８ （２） −０．１０＜ｆ2 ／Ｌ （３） ０．０１＜ｆ3 ／Ｌ＜１．０ （４） ｆ4 ／Ｌ＜−０．００５ （５） ０．０１＜ｆ5 ／Ｌ＜０．９ （６） ０．０２＜ｆ6 ／Ｌ＜１．６ （７） １．００≦（ｒ2Ff −ｒ2Fr ）／（ｒ2Ff ＋
ｒ2Fr ）＜５．０ （８） −１０．０＜（ｒ2Rf −ｒ2Rr ）／（ｒ2Rf ＋
ｒ2Rr ）≦−１．００ 本発明の投影光学系は、以上の構成に基づいて、前記第
１物体から前記投影光学系全体の第１物体側焦点までの
軸上距離をＩとし、前記第１物体から前記第２物体まで
の距離をＬとするとき、以下の条件を満足するように構
成されることが好ましい。 （９） １．０＜Ｉ／Ｌ また、前記第５レンズ群は、少なくとも７枚の正レンズ
を有することが望ましい。この場合、前記第５レンズ群
は、さらに、少なくとも１枚の負レンズを有することが
より望ましい。
【００１０】また、前記第２レンズ群中の負の屈折力を
持つ第２レンズの焦点距離をｆ22とし、前記第２レンズ
群中の負の屈折力を持つ第３レンズの焦点距離をｆ23と
するとき、以下の条件を満足することがより好ましい。 （１０） ０．１＜ｆ22／ｆ23＜１０ また、前記第５レンズ群は、最も第２物体側に配置され
て第２物体側に凹面を向けた負レンズを有し、第６レン
ズ群は、最も第１物体側に配置されて第１物体側に凸面
を向けたレンズを有し、前記第５レンズ群の最も第２物
体側に配置される負レンズの第２物体側の曲率半径をｒ
5Rとし、前記第６レンズ群の最も第１物体側に配置され
るレンズの第１物体側の曲率半径をｒ6Fとするとき、以
下の条件を満足することが望ましい。 （１１） −０．９０＜（ｒ5R−ｒ6F）／（ｒ5R＋
ｒ6F）＜−０．００１ さらに、前記第５レンズ群と前記第６レンズ群との間の
レンズ群間隔をｄ56とし、前記第１物体から前記第２物
体までの距離をＬとするとき、以下の条件を満足するこ
とがより好ましい。 （１２） ｄ56／Ｌ＜０．０１７ また、前記第６レンズ群の最も第１物体側のレンズ面の
曲率半径をｒ6Fとし、第６レンズ群の最も第１物体側の
レンズ面から第２物体までの軸上距離をｄ6 とすると
き、以下の条件を満足することが望ましい。 （１３） ０．５０＜ｄ6 ／ｒ6F＜１．５０ また、前記第５レンズ群は、最も第２物体側に配置され
て第２物体側に凹面を向けた負レンズを有し、前記第５
レンズ群中の最も第２物体側に設けられた負レンズにお
ける第１物体側の曲率半径をｒ5F、前記第５レンズ群中
の最も第２物体側に設けられた負レンズにおける第２物
体側の曲率半径をｒ5Rとするとき、以下の条件を満足す
ることがより望ましい。 （１４） ０．３０＜（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋
ｒ5R）＜１．２８ また、前記第２レンズ群中の中間レンズ群における正の
屈折力の第１レンズの焦点距離をｆ21とし、第１物体か
ら第２物体までの距離をＬとするとき、以下の条件を満
足することがより望ましい。 （１５） ０．２３０＜ｆ21／Ｌ＜０．４０ また、前記第２レンズ群中の最も第１物体側に配置され
て前記第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ前方
レンズの焦点距離をｆ2F、前記第２レンズ群中の最も第
２物体側に配置されて前記第１物体側に凹面を向けた負
の屈折力を持つ後方レンズの焦点距離をｆ2Rとすると
き、以下の条件を満足することが好ましい。 （１６） ０≦ｆ2F／ｆ2R＜１８ また、前記第２レンズ群中の中間レンズ群は、負の屈折
力を持つことがより好ましい。
【００１１】また、前記第１レンズ群は、少なくとも２
枚の正レンズを有し、前記第３レンズ群は、少なくとも
３枚の正レンズを有し、前記第４レンズ群は、少なくと
も３枚の負レンズを有し、前記第６レンズ群は、少なく
とも１枚の正レンズを有することが望ましい。また、前
記第６レンズ群は、以下の条件を満足するレンズ面を少
なくとも一面有する３枚以下のレンズからなることが好
ましい。 （１７） １／｜φＬ｜＜２０ 但し、φ：前記レンズ面の屈折力、 Ｌ：前記第１物体と前記第２物体までの物像間距離、 である。
【００１２】
【発明の実施の形態】まず、本発明の実施例を説明する
前に、本発明の作用並びに条件について詳述する。本発
明の投影光学系では、第１物体側から順に、正の屈折力
を持つ第１レンズ群と、負の屈折力を持つ第２レンズ群
と、正の屈折力を持つ第３レンズ群と、負の屈折力を持
つ第４レンズ群と、正の屈折力を持つ第５レンズ群と、
正の屈折力を第６レンズ群とを少なくとも有する構成と
している。
【００１３】まず、正の屈折力を持つ第１レンズ群はテ
レセントリック性を維持しながら主にディストーション
の補正に寄与しており、具体的には、第１レンズ群にて
正のディストーションを発生させて、この第１レンズ群
よりも第２物体側に位置する複数のレンズ群にて発生す
る負のディストーションをバランス良く補正している。
負の屈折力を持つ第２レンズ群及び負の屈折力を持つ第
４レンズ群は、主にペッツバール和の補正に寄与し、像
面の平坦化を図っている。負の屈折力を持つ第２レンズ
群及び正の屈折力を持つ第３レンズ群では、この２つの
レンズ群において逆望遠系を形成しており、投影光学系
のバックフォーカス（投影光学系の最も第２物体側のレ
ンズ面等の光学面から第２物体までの距離）の確保に寄
与している。正の屈折力を持つ第５レンズ群及び同じく
正の屈折力を第６レンズ群は、ディストーションの発生
を抑えることと、第２物体側での高ＮＡ化に十分対応す
るために特に球面収差の発生を極力抑えることとに主に
寄与している。
【００１４】以上の構成に基づいて、第２レンズ群にお
ける最も第１物体側に配置されて第２物体側に凹面を向
けた負の屈折力を持つ前方レンズは、像面湾曲、コマ収
差の補正に寄与し、第２レンズ群における最も第２物体
側に配置されて第１物体側に凹面を向けた負の屈折力を
持つ後方レンズは、主にコマ収差の補正に寄与してい
る。なお、後方レンズはまた像面湾曲の補正にも寄与し
ている。また、前方レンズと後方レンズとの間に配置さ
れた中間レンズ群において、正の屈折力を持つ第１レン
ズは、像面湾曲の補正に大きく寄与している負の屈折力
の第２及び第３レンズにて発生する負のディストーショ
ンの補正に寄与している。
【００１５】条件（１）では、正の屈折力の第１レンズ
群の焦点距離ｆ1 と第１物体（レチクル等）と第２物体
（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌとの最適な比
率を規定している。この条件（１）は、主にディストー
ションをバランス良く補正するためのものである。条件
（１）の上限を越える場合には、負のディストーション
が大きく発生する。縮小倍率及び広い露光領域を確保し
つつコンパクト化を図り、さらにディストーションを良
好に補正するには、条件（１）の上限を０．１４とし、
ｆ1 ／Ｌ＜０．１４とすることが好ましい。なお、瞳の
球面収差の発生を抑えるためには、条件（１）の下限を
０．０２として、０．０２＜ｆ1 ／Ｌとすることが好ま
しい。
【００１６】条件（２）では、負の屈折力の第２レンズ
群の焦点距離ｆ2 と第１物体（レチクル等）と第２物体
（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌとの最適な比
率を規定している。この条件（２）は、広い露光領域を
確保しつつコンパクト化を図り、かつペッツバール和を
良好に補正するための条件である。ここで、条件（２）
の下限を越えると、広い露光領域を確保しつつコンパク
ト化を達成することが困難となり、さらには正のペッツ
バール和が発生するため好ましくない。なお、さらなる
コンパクト化の達成、或いはペッツバール和の良好なる
補正のためには、条件（２）の下限値を−０．０３２と
して、−０．０３２＜ｆ2 ／Ｌとすることが好ましい。
なお、負のディストーションの発生を抑えるためには、
条件（２）の上限値を−０．００５として、ｆ2 ／Ｌ＜
−０．００５とすることが好ましい。
【００１７】条件（３）では、正の屈折力の第３レンズ
群の焦点距離ｆ3 と第１物体（レチクル等）と第２物体
（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌとの最適な比
率を規定している。ここで、条件（３）の下限を越える
と、第２或いは第４レンズ群の屈折力が強くなり、第２
レンズ群においては負のディストーション及びコマ収差
の発生を招き、第４レンズ群においてはコマ収差の発生
を招く。一方、条件（３）の上限を越えると、第２或い
は第４レンズ群の屈折力が弱くなり、ペッツバール和を
良好に補正することができない。
【００１８】条件（４）では、負の屈折力の第４レンズ
群の焦点距離ｆ4 と第１物体（レチクル等）と第２物体
（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌとの最適な比
率を規定している。ここで、条件（４）の上限を越える
と、コマ収差が発生するため好ましくない。さらにコマ
収差の発生を抑えるためには条件（４）の上限値を−
０．０４７として、ｆ4 ／Ｌ＜−０．０４７とすること
が好ましい。
【００１９】なお、球面収差を良好に補正するために
は、条件（４）の下限値を−０．０９８として、−０．
０９８＜ｆ4 ／Ｌとすることが好ましい。条件（５）で
は、正の屈折力の第５レンズ群の焦点距離ｆ5 と第１物
体（レチクル等）と第２物体（ウェハ等）までの距離
（物像間距離）Ｌとの最適な比率を規定している。この
条件（５）は、大きな開口数を保ちながら球面収差、デ
ィストーション及びペッツバール和をバランス良く補正
するためのものである。この条件（５）の下限を越える
と、第５レンズ群の屈折力が強くなり過ぎ、この第５レ
ンズ群にて負のディストーションのみならず負の球面収
差が甚大に発生する。この条件（５）の上限を越える
と、第５レンズ群の屈折力が弱くなり過ぎ、これに伴っ
て負の屈折力の第４レンズ群の屈折力も必然的に弱くな
り、この結果、ペッツバール和を良好に補正することが
できない。
【００２０】条件（６）では、正の屈折力の第６レンズ
群の焦点距離ｆ6 と、第１物体（レチクル等）から第２
物体（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌとの最適
な比率を規定している。この条件（６）は、大きな開口
数を保ちながら高次の球面収差及び負のディストーショ
ンの発生を抑えるためのものである。この条件（６）の
下限を越えると、第６レンズ群自身にて負のディストー
ションが大きく発生し、この条件（６）の上限を越える
と、高次の球面収差が発生する。
【００２１】条件（７）では、第２レンズ群中の前方レ
ンズは、前方レンズの第１物体側の面の曲率半径をｒ
2Ff とし、前方レンズの第２物体側の面の曲率半径をｒ
2Fr とした時の最適な形状を規定している。この条件
（７）の下限を越えると、瞳の球面収差の補正を十分に
行うことができなくなるため好ましくない。一方、この
条件（７）の上限を越えると、コマ収差が発生するため
好ましくない。
【００２２】条件（８）では、第２レンズ群中の後方レ
ンズは、後方レンズの第１物体側の面の曲率半径をｒ
2Rf とし、後方レンズの第２物体側の面の曲率半径をｒ
2Rr とした時の最適な形状を規定している。この条件
（８）の上限及び下限を越えると、高次の球面収差及び
高次のコマ収差が発生すると共に、像面湾曲が発生する
ため好ましくない。
【００２３】なお、高次の球面収差及び高次のコマ収差
をバランス良く補正するためには、条件（８）の下限値
を−５．０として、−５．０＜（ｒ2Rf −ｒ2Rr ）／
（ｒ2R f ＋ｒ2Rr ）とすることが好ましい。さらに、高
次の球面収差及び高次のコマ収差をより一層良好に補正
しつつ像面湾曲をバランス良く補正するには、条件
（８）の下限値を−２．０として、−２．０＜（ｒ2Rf
−ｒ2Rr ）／（ｒ2Rf ＋ｒ2R r ）とすることが好まし
い。
【００２４】さらに、第１物体から投影光学系全体の第
１物体側焦点までの軸上距離をＩとし、第１物体から第
２物体までの距離をＬとするとき、以下の条件（９）を
満足することが好ましい。 （９） １．０＜Ｉ／Ｌ 条件（９）では、第１物体から投影光学系全体の第１物
体側焦点までの軸上距離Ｉと、第１物体（レチクル等）
から第２物体（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌ
との最適な比率を規定している。ここで、投影光学系全
体の第１物体側焦点とは、投影光学系の光軸に対して近
軸領域での平行光を投影光学系の第２物体側から入射さ
せ、その近軸領域の光が投影光学系を射出する時に、そ
の射出光が光軸と交わる点を意味するものである。
【００２５】この条件（９）の下限を越えると、投影光
学系の第１物体側でのテレセントリック性が大幅に崩れ
て、第１物体の光軸方向のずれに起因する倍率の変動並
びにディストーションの変動が大きくなり、その結果、
第１物体の像を所望の倍率のもとで忠実に第２物体上に
投影することが困難となる。なお、第１物体の光軸方向
のずれに起因する倍率の変動並びにディストーションの
変動をより十分に抑えるためには、上記条件（９）の下
限値を１．７として、１．７＜Ｉ／Ｌとすることが好ま
しい。さらに、投影光学系のコンパクト化を維持しなが
ら、瞳の球面収差及びディストーションを共にバランス
良く補正するためには、上記条件（９）の上限値を６．
８として、Ｉ／Ｌ＜６．８とすることが好ましい。
【００２６】また、第５レンズ群は、少なくとも７枚の
正レンズを有することが望ましい。すなわち、第５レン
ズ群が少なくとも７枚の正レンズを有することにより、
第５レンズ群自信が担う屈折力を各正レンズにバランス
良く分担させることができまため、高開口数（高ＮＡ
化）に伴って第５レンズ群にて発生しがちな負の球面収
差を良好に抑えることができる。従って、第５レンズ群
が少なくとも７枚の正レンズを有する構成とすることに
より、投影光学系の高解像力が保証される。
【００２７】また、この場合、第５レンズ群において、
負のディストーションとペッツバール和とを補正する機
能を十分に持たせるには、この第５レンズ群は、少なく
とも７枚の正レンズを有する構成に加えて、少なくとも
１枚の負レンズとを有することが好ましい。また、第２
レンズ群中の中間レンズ群における負の屈折力を持つ第
２レンズの焦点距離をｆ22とし、第２レンズ群中の中間
レンズ群における負の屈折力を持つ第３レンズの焦点距
離をｆ23とするとき、以下の条件（１０）を満足するこ
とがより望ましい。 （１０） ０．１＜ｆ22／ｆ23＜１０ 条件（１０）の下限を越えると、負の第２レンズの屈折
力が負の第３レンズの屈折力に対して相対的に強くな
り、負の第２レンズにて、コマ収差と負のディストーシ
ョンが大きく発生する。より負のディストーションをバ
ランス良く補正するためには、上記条件（１０）の下限
値を０．７として、０．７＜ｆ22／ｆ23とすることが好
ましい。この条件（１０）の上限を越えると、負の第３
レンズの屈折力が負の第２レンズの屈折力に対して相対
的に強くなり、負の第３レンズにてコマ収差と負のディ
ストーションが大きく発生する。コマ収差を良好に補正
しながら、より負のディストーションをバランス良く補
正するためには、上記条件（１０）の上限値を１．５と
して、ｆ24／ｆ23＜１．５とすることが好ましい。
【００２８】また、第５レンズ群は、この最も第２物体
側において、第２物体側に凹面を向けた負レンズを有す
ることが望ましい。これによって、第５レンズ群中の最
も第２物体側に位置する負レンズにて、正のディストー
ション並びに負のペッツバール和を発生させることが可
能となるため、第５レンズ群中の正レンズにて発生する
負のディストーション並びに正のペッツバール和を相殺
することが可能となる。
【００２９】このとき、第６レンズ群の最も第１物体側
に位置するレンズにおいて、高次の球面収差を発生させ
ずに負のディストーションを抑えるためには、最も第１
物体側のレンズ面は第１物体側に凸面を向けた形状を有
することが望ましく、第５レンズ群の最も第２物体側に
配置される負レンズの第２物体側の曲率半径をｒ5Rと
し、第６レンズ群の最も第１物体側に位置するレンズの
第１物体側（第６レンズ群の最も第１物体側のレンズ
面）の曲率半径をｒ6Fとするとき、以下の条件を満足す
ることがより望ましい。 （１１） −０．９０＜（ｒ5R−ｒ6F）／（ｒ5R＋
ｒ6F）＜−０．００１ この条件（１１）は、第５レンズ群と第６レンズ群との
間に形成される気体レンズの最適な形状を規定するもの
であり、この条件（１１）の下限を越えると、第５レン
ズ群の最も第２物体側に配置される負レンズの第２物体
側の凹面の曲率が強くなり、高次のコマ収差が発生す
る。この条件（１１）の上限を越えると、第５レンズ群
と第６レンズ群との間に形成される気体レンズ自体の屈
折力が弱くなり、この気体レンズでの正のディストーシ
ョンの発生量が小さくなり、第５レンズ群中の正レンズ
にて発生する負のディストーションを良好に補正するこ
とが困難となる。なお、高次のコマ収差の発生をより十
分に抑えるためには、上記条件（１１）の下限値を−
０．３０として、−０．３０＜（ｒ5R−ｒ6F）／（ｒ5R
＋ｒ6F）とすることが好ましい。
【００３０】また、第５レンズ群と第６レンズ群との間
のレンズ群間隔（第５レンズ群中の最も第２物体側に位
置する負レンズにおける第２物体側のレンズ面から、第
６レンズ群の最も第１物体側に位置するレンズにおける
第１物体側のレンズ面までの軸上距離）をｄ56とし、第
１物体（レチクル等）から第２物体（ウェハ等）までの
距離（物像間距離）をＬとするとき、以下の条件（１
２）を満足することがさらに好ましい。 （１２） ｄ56／Ｌ＜０．０１７ この条件（１２）の上限を越えると、第５レンズ群と第
６レンズ群との間のレンズ群間隔が大きくなり、正のデ
ィストーションの発生量が小さくなる。この結果、第５
レンズ群中の正レンズにて発生する負のディストーショ
ンをバランス良く補正することが困難となる。
【００３１】また、第６レンズ群の最も第１物体側のレ
ンズ面の曲率半径をｒ6Fとし、第６レンズ群の最も第１
物体側のレンズ面から第２物体までの軸上距離をｄ6 と
するとき、以下の条件を満足することがより好ましい。 （１３） ０．５０＜ｄ6 ／ｒ6F＜１．５０ この条件（１３）の下限を越えると、第６レンズ群の最
も第１物体側のレンズ面の正の屈折力が強くなり過ぎる
ため、負のディストーション及びコマ収差が大きく発生
する。この条件（１３）の上限を越えると、第６レンズ
群の最も第１物体側のレンズ面の正の屈折力が弱くなり
過ぎるため、コマ収差が大きく発生する。なお、よりコ
マ収差の発生を抑えるためには条件（１３）の下限値を
０．８４として、０．８４＜ｄ6 ／ｒ6Fとすることが望
ましい。
【００３２】また、第５レンズ群中の最も第２物体側に
位置する負レンズにおける第１物体側の曲率半径を
ｒ5F、第５レンズ群中の最も第２物体側に位置する負レ
ンズにおける第２物体側の曲率半径をｒ5Rとするとき、
以下の条件（１４）を満足することが望ましい。 （１４） ０．３０＜（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋
ｒ5R）＜１．２８ この条件（１４）の下限を越えると、ペッツバール和及
びコマ収差を共に補正することが困難となり、この条件
（１４）の上限を越えると、高次のコマ収差が大きく発
生するため好ましくない。より高次のコマ収差の発生を
防ぐためには、条件（１４）の上限値を０．９３とし、
（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＜０．９３とすること
が好ましい。
【００３３】また、第２レンズ群中の中間レンズ群中の
正の屈折力の第１レンズの焦点距離をｆ21とし、第１物
体から第２物体までの距離をＬとするとき、以下の条件
（１５）を満足することがより好ましい。 （１５） ０．２３０＜ｆ21／Ｌ＜０．４０ 条件（１５）の下限を越えると、正のディストーション
が発生し、条件（１５）の上限を越えると、負のディス
トーションが発生するため好ましくない。さらに負のデ
ィストーションを補正するためには、第１レンズの第２
物体側のレンズ面は第２物体側に凸面を向けたレンズ形
状にすることが望ましい。
【００３４】また、第２レンズ群中の前方レンズ及び後
方レンズは、第２レンズ群中の最も第１物体側に配置さ
れて第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ前方レ
ンズの焦点距離をｆ2F、第２レンズ群中の最も第２物体
側に配置されて第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を
持つ後方レンズの焦点距離をｆ2Rとするとき、以下の条
件を満足することが好ましい。 （１６） ０≦ｆ2F／ｆ2R＜１８ 条件（１６）では、第２レンズ群中の後方レンズの焦点
距離ｆ2Rと第２レンズ群中の前方レンズの焦点距離をｆ
2Fとの最適な比率を規定している。この条件（１６）の
下限及び上限を越えると、第１レンズ群或いは第３レン
ズ群の屈折力のバランスが崩れ、ディストーションを良
好に補正すること或いはペッツバール和と非点収差とを
同時に良好に補正することが困難となる。
【００３５】なお、ペッツバール和をさらに良好に補正
するためには、第２レンズ群中の中間レンズ群は、負の
屈折力を有することが好ましい。また、以上の各レンズ
群において、十分なる収差機能を果たさせるには、具体
的には、以下の構成とすることが望ましい。まず、第１
レンズ群において高次のディストーション並びに瞳の球
面収差の発生を抑える機能を持たせるには、この第１レ
ンズ群は、少なくとも２枚の正レンズを有することが好
ましく、第３レンズ群において球面収差及びペッツバー
ル和の悪化を抑える機能を持たせるには、この第３レン
ズ群は、少なくとも３枚の正レンズを有することが好ま
しく、さらには、第４レンズ群においてペッツバール和
を補正しつつコマ収差の発生を抑える機能を持たせるに
は、この第４レンズ群は、少なくとも３枚の負レンズを
有することが好ましい。また、第６レンズ群において球
面収差を大きく発生しないように第２物体上に集光させ
るには、この第６レンズ群は、少なくとも１枚の正レン
ズを有することが好ましい。
【００３６】また、コンパクト化を図る上では、第２レ
ンズ群中の中間レンズ群の負レンズを２枚のみから構成
することが望ましい。第６レンズ群において、さらに負
のディストーションの発生を抑える機能を持たせるに
は、この第６レンズ群は、以下の条件（１７）を満足す
るレンズ面を少なくとも１面有する３枚以下のレンズか
ら構成されることが好ましい。 （１７） １／｜φＬ｜＜２０ 但し、φ：レンズ面の屈折力、 Ｌ：第１物体から第２物体までの距離（物像間距離）、 である。尚、ここで言う、レンズ面の屈折力とは、その
レンズ面の曲率半径をｒとし、そのレンズ面の第１物体
側の媒質の屈折率をｎ1 とし、そのレンズ面の第２物体
側の媒質をｎ2 とするとき、次式にて与えられるもので
ある。
【００３７】φ＝（ｎ2 −ｎ1 ）／ｒ ここで、この条件（１７）を満足するレンズ面を有する
レンズが４枚以上となる場合には、第２物体の近傍に配
置されるある程度の曲率を持つレンズ面が増すことにな
り、ディストーションの発生を招くため好ましくない。
次に、本発明による実施例について詳述する。本実施例
における投影光学系は、図１に示すスキャン型の露光装
置に応用したものである。
【００３８】まず、図１について簡単に説明すると、図
示の如く、投影光学系ＰＬの物体面には所定の回路パタ
ーンが形成された投影原版としてのレチクルＲ（第１物
体）が配置されており、投影光学系ＰＬの像面には、基
板としてのウェハＷ（第２物体）が配置されている。レ
チクルＲは露光時においてＸ方向へ移動するレチクルス
テージＲＳに保持され、ウェハＷは露光時においてレチ
クルステージＲＳとは反対の−Ｘ方向へ移動するウェハ
ステージＷＳに保持されている。また、レチクルＲの上
方には、図１に示す如く、Ｙ方向に長手方向を持ちＸ方
向に短手方向を持つスリット状（長方形状）の照明領域
ＩＦ1 をレチクルＲ上に形成し、そのレチクルＲを均一
照明するための照明光学装置ＩＳが配置されている。
【００３９】以上の構成により、照明光学装置ＩＳから
供給される光は、レチクルＲをスリット状に照明し、投
影光学系ＰＬの瞳位置（開口絞りＡＳ位置）には照明光
学装置ＩＳ中の光源の像が形成され、所謂ケーラー照明
がされる。そして、投影光学系ＰＬによって、ケーラー
照明されたレチクルＲのパターン像が、投影光学系ＰＬ
によりウェハＷ上に露光（転写）される。
【００４０】このとき、ウェハＷ上に露光されるレチク
ルＲのパターン像の領域ＥＦ1 は、図１に示す如く、Ｙ
方向に長手方向を持ちＸ方向に短手方向を持つスリット
状（長方形状）となっている。このため、投影光学系Ｐ
Ｌの投影倍率を１／Ｍ倍とすると、レチクルステージＲ
ＳとウェハステージＷＳとは、Ｍ：１の速度比のもと
で、Ｘ方向において互いに反対方向へ移動することによ
り、レチクルＲ全面のパターン像がウェハＷ上に転写さ
れる。
【００４１】さて、本実施例では、照明光学装置ＩＳ内
部に配置される光源として、ｉ線（365nm ）の露光波長
λを持つ光を供給する超高圧水銀灯を用いたときの投影
光学系の例を示しており、図２〜図４には本発明による
第１〜第３実施例の投影光学系のレンズ構成図を示して
いる。図２〜図４に示す如く、各実施例の投影光学系
は、第１物体としてのレチクルＲ側より順に、正の屈折
力を持つ第１レンズ群G1と、負の屈折力を持つ第２レン
ズ群G2と、正の屈折力を持つ第３レンズ群G3と、負の屈
折力を持つ第４レンズ群G4と、正の屈折力を持つ第５レ
ンズ群G5と、正の屈折力を持つ第６レンズ群G6とを有
し、物体側（レチクルＲ側）及び像側（ウェハＷ側）に
おいてほぼテレセントリックとなっており、縮小倍率を
有するものである。
【００４２】図２〜図４に示す各実施例の投影光学系
は、それぞれ物像間距離（物体面から像面までの距離、
またはレチクルＲからウェハＷまでの距離）Ｌが1000、
像側の開口数ＮＡが0.6 、投影倍率Ｂが１／４、投影光
学系ＰＬのウェハＷ上における露光領域の直径又はウェ
ハＷ上におけるスリット状の露光領域の対角長が26.7で
ある。
【００４３】次に、第１実施例の具体的なレンズ構成を
説明すると、図２に示す如く、まず、第１レンズ群G
1は、物体側から順に、像側に凹面を向けた負メニスカ
スレンズＬ11と、像側に凸面を向けた形状の正レンズ
（両凸形状の正レンズ）Ｌ12と、物体側に凸面を向けた
形状の２枚の正レンズ（両凸形状の正レンズ）Ｌ13，Ｌ
14とを有している。
【００４４】そして、第２レンズ群Ｇ2 は、最も物体側
に配置されて像側に凹面を向けた形状の負レンズ（両凹
形状の負レンズ：前方レンズ）Ｌ2Fと、最も像側に配置
されて物体側に凹面を向けた形状の負レンズ（平凹形状
の負レンズ：後方レンズ）Ｌ 2Rと、これらの負レンズＬ
2Fと負レンズＬ2Rとの間に配置されて負の屈折力を持つ
中間レンズ群Ｇ2Mとを有している。この中間レンズ群Ｇ
2Mは、物体側から順に、像側に凸面を向けた正レンズ
（両凸形状の正レンズ：第１レンズ）ＬM1と、像側に凹
面を向けた負レンズ（負メニスカスレンズ：第２レン
ズ）ＬM2と、物体側に凹面を向けた負レンズ（両凹形状
の負レンズ：第３レンズ）ＬM3とを有している。
【００４５】また、第３レンズ群Ｇ3 は、物体側から順
に、像側に凸面向けた２枚の正レンズ（正メニスカスレ
ンズ）Ｌ31，Ｌ32と、同じく像側に凸面向けた正レンズ
（両凸形状の正レンズ）Ｌ33と、物体側に凸面を向けた
正レンズ（両凸形状の正レンズ）Ｌ34と、同じく物体側
に凸面を向けた正レンズ（正メニスカスレンズ）Ｌ35と
を有している。
【００４６】第４レンズ群Ｇ4 は、物体側から順に、像
側に凹面を向けた負レンズ（負メニスカスレンズ）Ｌ41
と、両凹形状の負レンズＬ42と、物体側に凹面を向けた
形状の負レンズ（両凹形状の負レンズ）Ｌ43とを有して
いる。第５レンズ群Ｇ5 は、物体側から順に、物体側に
凸面を向けた正レンズ（両凸形状の正レンズ）Ｌ51と、
像側に凸面を向けた正レンズ（正メニスカスレンズ）Ｌ
52と、同じく像側に凸面を向けた２枚の正レンズ（両凸
形状の正レンズ）Ｌ53，Ｌ54と、物体側に凹面を向けた
負レンズ（負メニスカスレンズ）Ｌ55と、物体側に凸面
を向けた３枚の正レンズ（正メニスカスレンズ）Ｌ56，
Ｌ57，Ｌ58と、像側に凹面を向けた負レンズ（負メニス
カスレンズ）Ｌ59とを有している。
【００４７】そして、第６レンズ群Ｇ6 は、物体側から
順に、物体側に凸面を向けた正レンズ（正メニスカスレ
ンズ）Ｌ61と、像側に凹面を向けた形状の負レンズ（負
メニスカスレンズ）Ｌ62と、物体側に凸面を向けた正レ
ンズ（正メニスカスレンズ）Ｌ63とから構成される。こ
こで、第１実施例の第１レンズ群G1においては、像側に
凹面を向けた負レンズ（負メニスカスレンズ）Ｌ11の像
側のレンズ面と、両凸形状の正レンズＬ12の物体側のレ
ンズ面とが、同程度の曲率を有しかつ比較的近接してい
るため、これらの２つのレンズ面が高次のディストーシ
ョンを補正している。
【００４８】第１実施例の第２レンズ群Ｇ2Mでは、正の
屈折力を持つ第１レンズＬM1が像側に凸面を向けた形状
のみならず物体側にも凸面を向けた両凸形状で構成され
ているため、瞳の球面収差の発生を抑えることができ
る。第１実施例の第４レンズ群Ｇ4 では、負レンズ（両
凹形状の負レンズ）Ｌ42の物体側に凹面を像側に向けた
負メニスカスレンズＬ41を配置し、負レンズ（両凹形状
の負レンズ）Ｌ42の像側に凹面を物体側に向けた負レン
ズＬ43を配置する構成であるため、コマ収差の発生を抑
えつつペッツバール和を補正することができる。
【００４９】また、第５レンズ群Ｇ5 中の正レンズＬ54
が、負メニスカスレンズＬ55に対向する凸面を有し、か
つ負メニスカスレンズＬ55と反対側のレンズ面も凸面で
ある両凸形状であるため、高ＮＡ化に伴う高次の球面収
差の発生を抑えることができる。次に、図３を参照しな
がら、第２実施例の投影光学系のレンズ構成について説
明する。図３に示す第２実施例の投影光学系の具体的な
レンズ構成は、先に述べた図２に示す第１実施例と類似
したレンズ構成を有するが、第１レンズ群G1、第２レン
ズ群G2、第３レンズ群G3及び第４レンズ群G4での構成が
若干異なる。
【００５０】まず、第１レンズ群G1において、物体側か
ら第３及び第４番目の２枚の正レンズ（Ｌ13，Ｌ14）
を、第１実施例では両凸形状の正レンズで構成していた
が、第２実施例では、これらの２枚の正レンズ（Ｌ13，
Ｌ14）を物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズで構
成している。また、第２レンズ群G2の中間レンズ群G2M
において、物体側から第２番目の負レンズＬM2を、第１
実施例では負メニスカスレンズで構成していたが、第２
実施例では、この負レンズＬM2を両凹形状のレンズで構
成している。そして、第２レンズ群G2の後方レンズＬ2R
を、第１実施例では平凹形状の負レンズで構成していた
が、第２実施例では、この負レンズＬ2Rを両凹形状のレ
ンズで構成している。
【００５１】また、第３レンズ群G3において、物体側か
ら第１及び第５番目の正レンズ（Ｌ 31，Ｌ35）を、第１
実施例ではそれぞれ正メニスカスレンズで構成していた
が、第２実施例では、これらの正レンズ（Ｌ31，Ｌ35）
を共に両凸形状のレンズで構成している。さらに、第３
レンズ群G3における物体側から第３番目の正レンズＬ 33
を、第１実施例では両凸形状のレンズで構成していた
が、第２実施例では、この正レンズＬ33を正メニスカス
レンズで構成している。
【００５２】また、第２実施例の第４レンズ群G4は、第
１実施例と比べて負レンズが１枚増えて、４枚の負レン
ズで構成されており、具体的には、物体側から順に、像
側に凹面を向けた２枚の負レンズ（２枚の負メニスカス
レンズ）Ｌ41，Ｌ42と、両凹形状の負レンズＬ43と、物
体側に凹面を向けた形状の負レンズ（両凹形状の負レン
ズ）Ｌ44とから構成されている。
【００５３】図４に示す第３実施例の具体的なレンズ構
成は、先に述べた図２に示す第１実施例と類似したレン
ズ構成を有するが、各レンズ群での構成が若干異なる。
まず、第１レンズ群G1において、物体側から第４番目の
正レンズＬ14を、第１実施例では両凸形状の正レンズで
構成していたが、第３実施例では、この正レンズＬ14を
物体側に凸面を向けた平凸レンズで構成している。
【００５４】また、第２レンズ群G2の中間レンズ群G2M
において、第２レンズ群G2の後方レンズＬ2Rを、第１実
施例では平凹形状の負レンズで構成していたが、第３実
施例では、この負レンズＬ2Rを両凹形状のレンズで構成
している。また、第３レンズ群G3において、物体側から
第１番目の正レンズＬ31を、第１実施例では正メニスカ
スレンズで構成していたが、第３実施例では、この正レ
ンズＬ31を両凸形状のレンズで構成している。さらに、
第３レンズ群G3における物体側から第３番目の正レンズ
Ｌ33を、第１実施例では両凸形状のレンズで構成してい
たが、第３実施例では、この正レンズＬ33を像側に凸面
を向けた正メニスカスレンズで構成している。
【００５５】また、第３実施例の第４レンズ群G4は、第
１実施例と比べて負レンズが１枚増えて、４枚の負レン
ズで構成されており、具体的には、物体側から順に、像
側に凹面を向けた２枚の負レンズ（２枚の負メニスカス
レンズ）Ｌ41，Ｌ42と、両凹形状の負レンズＬ43と、物
体側に凹面を向けた形状の負レンズ（両凹形状の負レン
ズ）Ｌ44とから構成されている。
【００５６】また、第５レンズ群G5において、物体側か
ら第６番目の正レンズＬ56を、第１実施例では正メニス
カスレンズで構成していたが、第３実施例では、この正
レンズＬ56を両凸形状のレンズで構成している。また、
第６レンズ群G6において、物体側から第１番目の正レン
ズＬ61を、第１実施例では正メニスカスレンズで構成し
ていたが、第３実施例では、この正レンズＬ61を両凸形
状のレンズで構成している。
【００５７】なお、各実施例とも、第５レンズ群Ｇ5 に
おける第１番目の正レンズＬ51と、第２番目の正レンズ
Ｌ52との間に開口絞りＡＳが配置される。但し、この開
口絞りＡＳは、第５レンズ群G5中の物体側に位置する２
枚の正レンズ（Ｌ51、Ｌ52）間に配置されているが、こ
の配置に限ることなく、基本的には、第５レンズ群G5中
の最も物体側に位置する正レンズＬ51よりも像側に配置
されていれば良い。このような開口絞りＡＳの配置によ
って、高ＮＡ化に伴い第５レンズ群G5で発生しがちな高
次の球面収差を抑えることができる。
【００５８】以下の表１乃至表６において、それぞれ本
実施例における各実施例の諸元の値並びに条件対応値を
掲げる。但し、表中において、左端の数字は物体側（レ
チクルＲ側）からの順序を表し、ｒはレンズ面の曲率半
径、ｄはレンズ面間隔、ｎは露光波長λが365nm の場合
における硝材の屈折率、ｄ0 は第１物体（レチクルＲ）
から第１レンズ群Ｇ1 の最も物体側（レチクルＲ側）の
レンズ面（第１レンズ面）までの光軸に沿った距離、β
は投影光学系の投影倍率、Ｂｆは第６レンズ群Ｇ6 の最
も像側（ウェハＷ側）のレンズ面から像面（ウェハＷ
面）までの光軸に沿った距離、ＮＡは投影光学系の像側
（ウェハＷ側）における開口数、Ｌは物体面（レチクル
Ｒ面）から像面（ウェハＷ面）までの物像間距離を表し
ている。また、表中において、ｆ1 は第１レンズ群Ｇ1
の焦点距離、ｆ2 は第２レンズ群Ｇ2 の焦点距離、ｆ3
は第３レンズ群Ｇ3 の焦点距離、ｆ4 は第４レンズ群Ｇ
4 の焦点距離、ｆ5 は第５レンズ群Ｇ5 の焦点距離、ｆ
6 は 第６レンズ群Ｇ6 の焦点距離、Ｌは物体面（レチ
クル面）から像面（ウェハ面）までの距離（物像間距
離）、Ｉは第１物体（レチクル）から投影光学系全体の
第１物体側焦点までの軸上距離（但し、投影光学系全体
の第１物体側焦点とは、投影光学系の光軸に関する近軸
領域での平行光を投影光学系の第２物体側から入射さ
せ、その近軸領域の光が投影光学系を射出する時に、そ
の射出光が光軸と交わる点を意味する）、ｒ2Ff は第２
レンズ群Ｇ2 中の前方レンズＬ2Fの第１物体側のレンズ
面の曲率半径、ｒ2Fr は第２レンズ群Ｇ 2 中の前方レン
ズＬ2Fの第２物体側のレンズ面の曲率半径、ｒ2Rf は第
２レンズ群Ｇ2 中の後方レンズＬ2Rの第１物体側のレン
ズ面の曲率半径、ｒ2Rr は第２レンズ群Ｇ2 中の後方レ
ンズＬ2Rの第２物体側のレンズ面の曲率半径、ｆ22は第
２レンズ群中の負の屈折力を持つ第２レンズの焦点距
離、ｆ23は第２レンズ群中の負の屈折力を持つ第３レン
ズの焦点距離、ｒ5Rは第５レンズ群の最も第２物体側に
配置される負レンズの第２物体側の曲率半径、ｒ6Fは第
６レンズ群の最も第１物体側に配置されるレンズの第１
物体側の曲率半径、ｄ56は第５レンズ群と第６レンズ群
との間のレンズ群間隔、ｄ6 は第６レンズ群の最も第１
物体側のレンズ面から第２物体までの軸上距離、ｒ5Fは
第５レンズ群中の最も第２物体側に設けられた負レンズ
における第１物体側の曲率半径、ｆ21は第２レンズ群内
の中間レンズ群における正の屈折力の第１レンズの焦点
距離、ｆ2Fは第２レンズ群中の最も第１物体側に配置さ
れて第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ前方レ
ンズの焦点距離、ｆ2Rは第２レンズ群中の最も第２物体
側に配置されて第１物体側に凹面を向けた負の屈折力を
持つ後方レンズの焦点距離を表している。
【００５９】
【表１】 〔第１実施例〕
【００６０】
【表２】 〔第１実施例の条件対応値〕 （１）ｆ1 ／Ｌ＝ 0.113 （２）ｆ2 ／Ｌ＝ -0.0290 （３）ｆ3 ／Ｌ＝ 0.0956 （４）ｆ4 ／Ｌ＝ -0.0644 （５）ｆ5 ／Ｌ＝ 0.0991 （６）ｆ6 ／Ｌ＝ 0.142 （７）（ｒ2Ff −ｒ2Fr ）／（ｒ2Ff ＋ｒ2Fr ）＝ 1.
27 （８）（ｒ2Rf −ｒ2Rr ）／（ｒ2Rf ＋ｒ2Rr ）＝ -1.
00 （９）Ｉ／Ｌ＝ 3.21 （１０）ｆ22／ｆ23＝ 1.30 （１１）（ｒ5R−ｒ6F）／（ｒ5R＋ｒ6F）＝ -0.0618 （１２）ｄ56／Ｌ＝ 0.00492 （１３）ｄ6 ／ｒ6F＝ 1.17 （１４）（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＝ 0.816 （１５）ｆ21／Ｌ＝ 0.307 （１６）ｆ2F／ｆ2R＝ 1.04
【００６１】
【表３】 〔第２実施例〕
【００６２】
【表４】 〔第２実施例の条件対応値〕 （１）ｆ1 ／Ｌ＝ 0.108 （２）ｆ2 ／Ｌ＝ -0.0277 （３）ｆ3 ／Ｌ＝ 0.0929 （４）ｆ4 ／Ｌ＝ -0.0595 （５）ｆ5 ／Ｌ＝ 0.0953 （６）ｆ6 ／Ｌ＝ 0.150 （７）（ｒ2Ff −ｒ2Fr ）／（ｒ2Ff ＋ｒ2Fr ）＝ 1.0
2 （８）（ｒ2Rf −ｒ2Rr ）／（ｒ2Rf ＋ｒ2Rr ）＝-1.1
5 （９）Ｉ／Ｌ＝ 3.22 （１０）ｆ22／ｆ23＝ 1.12 （１１）（ｒ5R−ｒ6F）／（ｒ5R＋ｒ6F）＝ -0.0773 （１２）ｄ56／Ｌ＝ 0.00558 （１３）ｄ6 ／ｒ6F＝ 1.10 （１４）（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＝ 0.798 （１５）ｆ21／Ｌ＝ 0.233 （１６）ｆ2F／ｆ2R＝ 0.988
【００６３】
【表５】 〔第３実施例〕
【００６４】
【表６】 〔第３実施例の条件対応値〕 （１）ｆ1 ／Ｌ＝ 0.108 （２）ｆ2 ／Ｌ＝ -0.0266 （３）ｆ3 ／Ｌ＝ 0.0878 （４）ｆ4 ／Ｌ＝ -0.0637 （５）ｆ5 ／Ｌ＝ 0.0941 （６）ｆ6 ／Ｌ＝ 0.161 （７）（ｒ2Ff −ｒ2Fr ）／（ｒ2Ff ＋ｒ2Fr ）＝ 1.1
4 （８）（ｒ2Rf −ｒ2Rr ）／（ｒ2Rf ＋ｒ2Rr ）＝-1.1
2 （９）Ｉ／Ｌ＝ 3.36 （１０）ｆ22／ｆ23＝ 1.11 （１１）（ｒ5R−ｒ6F）／（ｒ5R＋ｒ6F）＝ -0.0651 （１２）ｄ56／Ｌ＝ 0.00477 （１３）ｄ6 ／ｒ6F＝ 1.00 （１４）（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＝ 0.883 （１５）ｆ21／Ｌ＝ 0.254 （１６）ｆ2F／ｆ2R＝ 0.967 なお、Ｌを物体面（レチクル面）から像面（ウェハ面）
までの距離（物像間距離）とし、φを第６レンズ群Ｇ6
中のレンズ面の屈折力とするとき、上述の第１実施例に
おいて、正レンズＬ61の物体側のレンズ面では１／｜φ
Ｌ｜＝0.196 、負レンズＬ62の物体側のレンズ面では１
／｜φＬ｜＝ 0.239、正レンズＬ63の物体側のレンズ面
では１／｜φＬ｜＝0.139 であり、各レンズ面とも条件
（１７）を満足している。第２実施例において、正レン
ズＬ61の物体側のレンズ面では１／｜φＬ｜＝ 0.193で
あり、負レンズＬ62の物体側のレンズ面では１／｜φＬ
｜＝ 0.402、正レンズＬ63の物体側のレンズ面では１／
｜φＬ｜＝0.150 であり、各レンズ面とも条件（１７）
を満足している。第３実施例において、正レンズＬ 61の
物体側のレンズ面では１／｜φＬ｜＝ 0.179であり、負
レンズＬ62の物体側のレンズ面では１／｜φＬ｜＝ 0.8
49、正レンズＬ63の物体側のレンズ面では１／｜φＬ｜
＝0.129 であり、各レンズ面とも条件（１７）を満足し
ている。
【００６５】このように、各実施例の第６レンズ群Ｇ6
は、条件（１７）を満足するレンズ面を持つ３枚以下の
レンズから構成されている。以上の各実施例の諸元の値
より、各実施例のものは、大きな開口数と広い露光領域
とを確保しながら、物体側（レチクルＲ側）及び像側
（ウェハＷ側）において良好なテレセントリック性が実
現されていることが理解できる。
【００６６】また、図５乃至図７は、それぞれ本実施例
による第１乃至第３実施例における諸収差図を示してい
る。ここで、各収差図において、ＮＡは投影光学系の開
口数、Ｙは像高を示しており、また、各非点収差図にお
いて、破線は子午的像面（メリジオナル像面）を表し、
実線は球欠的像面（サジタル像面）を表している。
【００６７】各収差図の比較より、各実施例とも大きな
開口数及び広い露光領域（像高）を持つにもかかわら
ず、諸収差がバランス良く補正され、特にディストーシ
ョンが像全体にわたり殆ど零に近い状態まで極めて良好
に補正され、広い露光領域において高解像力を持つ投影
光学系が達成されていることが理解される。なお、上述
の各実施例では、ｉ線(365nm) の露光光を供給する水銀
ランプを光源として用いた例を示したが、これに限るこ
となく例えばｇ線(435nm) の露光光を供給する水銀ラン
プ、193nm,248nm の光を供給するエキシマレーザ等の極
紫外光源を用いたものに適用しうることは言うまでもな
い。
【００６８】また、以上の各実施例では、投影光学系を
構成するレンズが非貼合せであることにより、貼合せ面
が経時変化するという問題点を回避することができる。
そして、上述の各実施例において、投影光学系を構成す
るレンズを複数の光学材料から構成しているが、光源の
波長域が広帯域でない場合には、単一硝材、例えば石英
（ＳｉＯ2 ）から構成しても良い。
【００６９】さらに、第１〜第３実施例の投影光学系
は、図１に示す如く、スキャン型の露光装置に用いられ
るものとして示したが、本発明の投影光学系は、これに
限ることなく、例えば、図８に示す如く、レチクルＲの
パターンをウエハＷ上に一括露光する一括露光方式の露
光装置に適用できることは言うまでもない。
【００７０】
【効 果】以上のように、本発明による投影光学系によ
れば、比較的広い露光領域を確保して、両側テレセント
リックな光学系としながら、諸収差がバランス良く補正
され、特にディストーションが極めて良好に補正されて
いる。さらには、投影光学系に大きな開口数を持たせな
がら、高次の球面収差及び高次のコマ収差をも十分に補
正されるため、極めて良好なる解像力を持つ投影光学系
が達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による投影光学系をスキャン型露光装置
に適用した際の概略的な構成を示す図である。
【図２】本発明による第１実施例のレンズ構成図であ
る。
【図３】本発明による第２実施例のレンズ構成図であ
る。
【図４】本発明による第３実施例のレンズ構成図であ
る。
【図５】本発明による第１実施例の諸収差図である。
【図６】本発明による第２実施例の諸収差図である。
【図７】本発明による第３実施例の諸収差図である。
【図８】本発明による投影光学系を一括露光方式の露光
装置に適用した際の概略的な構成を示す図である。
【符号の説明】
G1 … 第１レンズ群、 G2 … 第２レンズ群、 G3 … 第３レンズ群、 G4 … 第４レンズ群、 G5 … 第５レンズ群、 G6 … 第６レンズ群、 Ｌ2F … 第２レンズ群中の前方レンズ、 Ｌ2R … 第２レンズ群中の後方レンズ、 Ｇ2M … 第２レンズ群中の中間レンズ群

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】第１物体の像を第２物体上に投影する投影
    光学系において、 前記投影光学系は、前記第１物体側から順に、正の屈折
    力を持つ第１レンズ群と、負の屈折力を持つ第２レンズ
    群と、正の屈折力を持つ第３レンズ群と、負の屈折力を
    持つ第４レンズ群と、正の屈折力を持つ第５レンズ群
    と、正の屈折力を持つ第６レンズ群とを有し、 前記第２レンズ群は、最も前記第１物体側に配置されて
    前記第２物体側に凹面を向けた負屈折力の前方レンズ
    と、最も前記第２物体側に配置されて前記第１物体側に
    凹面を向けた負屈折力の後方レンズと、前記前方レンズ
    と前記後方レンズとの間に配置される中間レンズ群を含
    み、 前記中間レンズ群は、前記第１物体側から順に、正の屈
    折力を持つ第１レンズと、負の屈折力を持つ第２レンズ
    と、負の屈折力を持つ第３レンズとを少なくとも有し、 前記第１レンズ群の焦点距離をｆ1 、前記第２レンズ群
    の焦点距離をｆ2 、前記第３レンズ群の焦点距離を
    ｆ3 、前記第４レンズ群の焦点距離をｆ4 、前記第５レ
    ンズ群の焦点距離をｆ5 、前記第６レンズ群の焦点距離
    をｆ6 、前記第１物体から前記第２物体までの距離を
    Ｌ、前記前方レンズの第１物体側の面の曲率半径をｒ
    2Ff 、前記前方レンズの第２物体側の面の曲率半径をｒ
    2Fr 前記後方レンズの第１物体側の面の曲率半径をｒ
    2Rf 、前記後方レンズの第２物体側の面の曲率半径をｒ
    2Rr するとき、以下の条件を満足することを特徴とする
    投影光学系。 （１） ｆ1 ／Ｌ＜０．８ （２） −０．１０＜ｆ2 ／Ｌ （３） ０．０１＜ｆ3 ／Ｌ＜１．０ （４） ｆ4 ／Ｌ＜−０．００５ （５） ０．０１＜ｆ5 ／Ｌ＜０．９ （６） ０．０２＜ｆ6 ／Ｌ＜１．６ （７） １．００≦（ｒ2Ff −ｒ2Fr ）／（ｒ2Ff ＋
    ｒ2Fr ）＜５．０ （８） −１０．０＜（ｒ2Rf −ｒ2Rr ）／（ｒ2Rf ＋
    ｒ2Rr ）≦−１．００
  2. 【請求項２】前記第１物体から前記投影光学系全体の第
    １物体側焦点までの軸上距離をＩとし、前記第１物体か
    ら前記第２物体までの距離をＬとするとき、以下の条件
    を満足することを特徴とする請求項１記載の投影光学
    系。 （９） １．０＜Ｉ／Ｌ
  3. 【請求項３】前記第５レンズ群は、少なくとも７枚の正
    レンズを有することを特徴とする請求項１または請求項
    ２記載の投影光学系。
  4. 【請求項４】前記第５レンズ群は、さらに、少なくとも
    １枚の負レンズを有することを特徴とする請求項３記載
    の投影光学系。
  5. 【請求項５】前記第２レンズ群中の負の屈折力を持つ第
    ２レンズの焦点距離をｆ22とし、前記第２レンズ群中の
    負の屈折力を持つ第３レンズの焦点距離をｆ23とすると
    き、以下の条件を満足することを特徴とする請求項１乃
    至請求項４の何れか一項記載の投影光学系。 （１０） ０．１＜ｆ22／ｆ23＜１０
  6. 【請求項６】前記第５レンズ群は、最も第２物体側に配
    置されて第２物体側に凹面を向けた負レンズを有し、第
    ６レンズ群は、最も第１物体側に配置されて第１物体側
    に凸面を向けたレンズを有し、前記第５レンズ群の最も
    第２物体側に配置される負レンズの第２物体側の曲率半
    径をｒ5Rとし、前記第６レンズ群の最も第１物体側に配
    置されるレンズの第１物体側の曲率半径をｒ6Fとすると
    き、以下の条件を満足することを特徴とする請求項１乃
    至請求項５の何れか一項記載の投影光学系。 （１１） −０．９０＜（ｒ5R−ｒ6F）／（ｒ5R＋
    ｒ6F）＜−０．００１
  7. 【請求項７】前記第５レンズ群と前記第６レンズ群との
    間のレンズ群間隔をｄ56とし、前記第１物体と前記第２
    物体までの距離をＬとするとき、以下の条件を満足する
    ことを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか一項記
    載の投影光学系。 （１２） ｄ56／Ｌ＜０．０１７
  8. 【請求項８】前記第６レンズ群の最も第１物体側のレン
    ズ面の曲率半径をｒ6Fとし、第６レンズ群の最も第１物
    体側のレンズ面から第２物体までの軸上距離をｄ6 とす
    るとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求項
    １乃至請求項７の何れか一項記載の投影光学系。 （１３） ０．５０＜ｄ6 ／ｒ6F＜１．５０
  9. 【請求項９】前記第５レンズ群は、最も第２物体側に配
    置されて第２物体側に凹面を向けた負レンズを有し、前
    記第５レンズ群中の最も第２物体側に設けられた負レン
    ズにおける第１物体側の曲率半径をｒ5F、前記第５レン
    ズ群中の最も第２物体側に設けられた負レンズにおける
    第２物体側の曲率半径をｒ5Rとするとき、以下の条件を
    満足することを特徴とする請求項１乃至請求項８の何れ
    か一項記載の投影光学系。 （１４） ０．３０＜（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋
    ｒ5R）＜１．２８
  10. 【請求項１０】前記第２レンズ群中の中間レンズ群にお
    ける正の屈折力の第１レンズの焦点距離をｆ21とし、前
    記第１物体から前記第２物体までの距離をＬとすると
    き、以下の条件を満足することを特徴とする請求項１乃
    至請求項９の何れか一項記載の投影光学系。 （１５） ０．２３０＜ｆ21／Ｌ＜０．４０
  11. 【請求項１１】前記第２レンズ群中の最も第１物体側に
    配置されて前記第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を
    持つ前方レンズの焦点距離をｆ2F、前記第２レンズ群中
    の最も第２物体側に配置されて前記第１物体側に凹面を
    向けた負の屈折力を持つ後方レンズの焦点距離をｆ2Rと
    するとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求
    項１乃至１０の何れか一項記載の投影光学系。 （１６） ０≦ｆ2F／ｆ2R＜１８
  12. 【請求項１２】前記第２レンズ群中の中間レンズ群は、
    負の屈折力を持つことを特徴とする請求項１乃至１１の
    何れか一項記載の投影光学系。
  13. 【請求項１３】前記第１レンズ群は、少なくとも２枚の
    正レンズを有し、前記第３レンズ群は、少なくとも３枚
    の正レンズを有し、前記第４レンズ群は、少なくとも３
    枚の負レンズを有し、前記第６レンズ群は、少なくとも
    １枚の正レンズを有することを特徴とする請求項１乃至
    請求項１２の何れか一項記載の投影光学系。
  14. 【請求項１４】前記第６レンズ群は、以下の条件を満足
    するレンズ面を少なくとも一面有する３枚以下のレンズ
    からなることを特徴とする請求項１乃至請求項１３の何
    れか一項記載の投影光学系。 （１７） １／｜φＬ｜＜２０ 但し、φ：前記レンズ面の屈折力、 Ｌ：前記第１物体と前記第２物体までの物像間距離、 である。
  15. 【請求項１５】前記投影光学系のレンズ面の曲率半径を
    ｒとし、前記投影光学系のレンズ面間隔をｄとし、屈折
    率をｎとするとき、以下の諸元を満足することを特徴と
    する請求項１記載の投影光学系。
  16. 【請求項１６】前記投影光学系のレンズ面の曲率半径を
    ｒとし、前記投影光学系のレンズ面間隔をｄとし、屈折
    率をｎとするとき、以下の諸元を満足することを特徴と
    する請求項１記載の投影光学系。
  17. 【請求項１７】前記投影光学系のレンズ面の曲率半径を
    ｒとし、前記投影光学系のレンズ面間隔をｄとし、屈折
    率をｎとするとき、以下の諸元を満足することを特徴と
    する請求項１記載の投影光学系。
  18. 【請求項１８】前記投影光学系の倍率は、１／４である
    ことを特徴とする請求項１５乃至１７の何れか一項記載
    の投影光学系。
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KR1019960018480A KR100446130B1 (ko) 1996-04-25 1996-05-29 투영광학계및노광장치와그노광방법
EP96108775A EP0803755B1 (en) 1996-04-25 1996-05-31 Projection optical system and exposure apparatus with the same
DE69629277T DE69629277T2 (de) 1996-04-25 1996-05-31 Optisches Projektionssystem und damit ausgerüstetes Belichtungsgerät
US08/901,681 US5781278A (en) 1996-04-25 1997-07-28 Projection optical system and exposure apparatus with the same

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001051193A (en) * 1999-06-03 2001-02-23 Nikon Corp Projection optical system projection exposing device provided with the system and manufacture of device

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE38465E1 (en) 1994-12-14 2004-03-16 Nikon Corporation Exposure apparatus
JP3500745B2 (ja) * 1994-12-14 2004-02-23 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JPH116957A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Nikon Corp 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JP3925576B2 (ja) 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
US6198576B1 (en) * 1998-07-16 2001-03-06 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus
DE59913116D1 (de) * 1998-11-30 2006-04-20 Zeiss Carl Smt Ag Hochaperturiges projektionsobjektiv mit minimalem blendenfehler
DE19855157A1 (de) 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
DE19855108A1 (de) 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und -Verfahren
DE19901756B4 (de) * 1999-01-18 2004-02-05 Siemens Ag Verfahren zum Betrieb einer eine Teilnehmeranschlußleitung teilnehmerseitig oder vermittungsseitig abschließenden Einrichtung in einem Datenübertragungsnetz
US6600550B1 (en) * 1999-06-03 2003-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, a photolithography method, and a device manufactured by the same
WO2001023933A1 (en) 1999-09-29 2001-04-05 Nikon Corporation Projection optical system
EP1139138A4 (en) 1999-09-29 2006-03-08 Nikon Corp PROJECTION EXPOSURE PROCESS, DEVICE AND OPTICAL PROJECTION SYSTEM
KR100866818B1 (ko) * 2000-12-11 2008-11-04 가부시키가이샤 니콘 투영광학계 및 이 투영광학계를 구비한 노광장치
DE10064685A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-04 Zeiss Carl Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系，該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR20170028451A (ko) 2004-05-17 2017-03-13 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
US7511798B2 (en) 2004-07-30 2009-03-31 Asml Holding N.V. Off-axis catadioptric projection optical system for lithography
US20080019574A1 (en) * 2006-07-20 2008-01-24 Anthony Scalise Machine-controlled image cropping with default
KR101407076B1 (ko) 2012-05-24 2014-06-13 주식회사 비엘시스템 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치
CN116736494B (zh) * 2023-08-14 2023-11-03 武汉高明兰光电科技有限公司 微光夜视镜头

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5336326B2 (ja) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS59149312A (ja) * 1983-02-16 1984-08-27 Asahi Optical Co Ltd 大口径比写真レンズ
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JPS60188917A (ja) * 1984-03-07 1985-09-26 Asahi Optical Co Ltd 近距離撮影用レンズ系
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) * 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JPH0442208A (ja) * 1990-06-08 1992-02-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd テレセントリック投影レンズ
JP3041939B2 (ja) * 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
US5172275A (en) * 1990-12-14 1992-12-15 Eastman Kodak Company Apochromatic relay lens systems suitable for use in a high definition telecine apparatus
US5572364A (en) * 1991-09-13 1996-11-05 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Projection lens system
JP3298131B2 (ja) * 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
JPH06300965A (ja) * 1993-04-13 1994-10-28 Nikon Corp 広角レンズ
US5589988A (en) * 1993-04-26 1996-12-31 Nikon Corporation Retrofocus-type wide angle lens system having a fixed front lens group and a movable rear lens group
JP3255490B2 (ja) * 1993-06-08 2002-02-12 富士写真光機株式会社 レトロフォーカス型大口径レンズ
US5557472A (en) * 1993-06-16 1996-09-17 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Fast aspherical lens system
US5404247A (en) * 1993-08-02 1995-04-04 International Business Machines Corporation Telecentric and achromatic f-theta scan lens system and method of use

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001051193A (en) * 1999-06-03 2001-02-23 Nikon Corp Projection optical system projection exposing device provided with the system and manufacture of device

Also Published As

Publication number Publication date
DE69629277T2 (de) 2004-05-13
DE69629277D1 (de) 2003-09-04
EP0803755B1 (en) 2003-07-30
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