JPH0812329B2 - 投影レンズ - Google Patents
投影レンズInfo
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- JPH0812329B2 JPH0812329B2 JP61262729A JP26272986A JPH0812329B2 JP H0812329 B2 JPH0812329 B2 JP H0812329B2 JP 61262729 A JP61262729 A JP 61262729A JP 26272986 A JP26272986 A JP 26272986A JP H0812329 B2 JPH0812329 B2 JP H0812329B2
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- lens
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- convex surface
- surface facing
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Links
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
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- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
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Landscapes
- Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、IC、LSI等の集積回路を製造する投影露光
装置で、特に波長248.5nmを発光スペクトルとするエキ
シマレーザーを光源とする投影レンズに関するものであ
る。
装置で、特に波長248.5nmを発光スペクトルとするエキ
シマレーザーを光源とする投影レンズに関するものであ
る。
（従来の技術と問題点） 露光波長が短くなれば、レンズによる吸収が問題であ
り、使用できる材質も制限される。248.5nmの波長に
は、溶融石英が用いられるが、溶融石英は屈折率が低い
ので、ペッツバール和を小さくし、全面均一な超高解像
力を有するレンズを少ない構成枚数で実現するのが困難
である。レンズの構成枚数を増やすことは、高性能化の
手法であるが、吸収が大きくなり製造上、組立調整上好
ましくない。
り、使用できる材質も制限される。248.5nmの波長に
は、溶融石英が用いられるが、溶融石英は屈折率が低い
ので、ペッツバール和を小さくし、全面均一な超高解像
力を有するレンズを少ない構成枚数で実現するのが困難
である。レンズの構成枚数を増やすことは、高性能化の
手法であるが、吸収が大きくなり製造上、組立調整上好
ましくない。
（問題点を解決するための手段） ステッパーのレンズは、きわめて高性能な全面の均一
性が必要である。これを実現する基本の条件はペッツバ
ール和が小さいことであるが、ペッツバール和を小さく
する手段は系中の負の屈折面を強くするのでサジタルフ
レアの原因になりやすい。そのため本発明のレンズは第
１、第２群を夫々小さな負のパワーとし、２つの群の主
点間隔を負にとることで合成パワーが正となるような構
成にしてペッツバール和を小さくした。さらに物体側像
側の主点間隔を負の大きな値とすることにより、物像間
距離と縮小倍率が一定であっても全系の焦点距離が大き
くでき、したがって系を構成する個々のレンズのパワー
が小さくできる。
性が必要である。これを実現する基本の条件はペッツバ
ール和が小さいことであるが、ペッツバール和を小さく
する手段は系中の負の屈折面を強くするのでサジタルフ
レアの原因になりやすい。そのため本発明のレンズは第
１、第２群を夫々小さな負のパワーとし、２つの群の主
点間隔を負にとることで合成パワーが正となるような構
成にしてペッツバール和を小さくした。さらに物体側像
側の主点間隔を負の大きな値とすることにより、物像間
距離と縮小倍率が一定であっても全系の焦点距離が大き
くでき、したがって系を構成する個々のレンズのパワー
が小さくできる。
本発明では第１群レンズを物体側に凸面を向けた１枚
の負レンズで構成し、第２群レンズを負の焦点距離で、
２−１、２−２、２−３の３部分で構成し、２−１部は
２枚の正レンズとし、２−２部は物体側から順に物体に
凸面を向けた負のメニスカスレンズ、負レンズ、像側に
凸面を向けた負のメニスカスレンズで、２−３部は少な
くとも３枚のメニスカスレンズを有する正レンズのみの
構成で、物像間の共役距離をＬ、全系の焦点距離をｆ、
第１、第２群の焦点距離を夫々f1、f2、２−２部の焦点
距離と中心厚をそれぞれf22、Ｄとするとき （１） 0.2L＜ｆ＜0.5L （２） 0.8＜f1/f2＜2.5 （３） 2.5＜|D/f22|＜3.2 なる条件を満足させることで解決した。
の負レンズで構成し、第２群レンズを負の焦点距離で、
２−１、２−２、２−３の３部分で構成し、２−１部は
２枚の正レンズとし、２−２部は物体側から順に物体に
凸面を向けた負のメニスカスレンズ、負レンズ、像側に
凸面を向けた負のメニスカスレンズで、２−３部は少な
くとも３枚のメニスカスレンズを有する正レンズのみの
構成で、物像間の共役距離をＬ、全系の焦点距離をｆ、
第１、第２群の焦点距離を夫々f1、f2、２−２部の焦点
距離と中心厚をそれぞれf22、Ｄとするとき （１） 0.2L＜ｆ＜0.5L （２） 0.8＜f1/f2＜2.5 （３） 2.5＜|D/f22|＜3.2 なる条件を満足させることで解決した。
（作用） 全系の焦点距離が大きいことは画角を小さくできるこ
とであって、全面の均一性の実現を容易にする。系を構
成する個々のレンズパワーが小さいことは良好な収差補
正及び構成枚数を少なくできる可能性にほかならない。
条件（１）の下限をこえるときは上述した効果が充分で
なく、上限を外れるとコマ収差の悪化とステッパーに要
求されるテレセントリック条件からのずれが大きくなる
ので好ましくない。
とであって、全面の均一性の実現を容易にする。系を構
成する個々のレンズパワーが小さいことは良好な収差補
正及び構成枚数を少なくできる可能性にほかならない。
条件（１）の下限をこえるときは上述した効果が充分で
なく、上限を外れるとコマ収差の悪化とステッパーに要
求されるテレセントリック条件からのずれが大きくなる
ので好ましくない。
条件（２）は、第１群と第２群のパワーの関係を与え
るものである。
るものである。
下限をこえれば第１群のパワーが第２群に対し強くな
るので、第２群中の正のパワーの負担が増大し、収差補
正の全面均一性が保てず、構成枚数を増やすなどの対策
が必要である。
るので、第２群中の正のパワーの負担が増大し、収差補
正の全面均一性が保てず、構成枚数を増やすなどの対策
が必要である。
第２群は負の焦点距離であるが全体の構成形状は補正
能力の大きいガウス型に類似したものである。ガウス型
の構成における収差上の問題点はサジタルフレアの発生
であるが、これはガウス型の向かい合った強い凹面が原
因になっている。しかし、この負パワーを小さくすれば
ペッツバール和が増大し、またf2＜０の条件が実現でき
ない。
能力の大きいガウス型に類似したものである。ガウス型
の構成における収差上の問題点はサジタルフレアの発生
であるが、これはガウス型の向かい合った強い凹面が原
因になっている。しかし、この負パワーを小さくすれば
ペッツバール和が増大し、またf2＜０の条件が実現でき
ない。
そこで向かい合った凹面の中間に負レンズを配し、外
側の負レンズの形状を同心状に近づけることにより、ペ
ッツバール和の増加を防ぎサジタルのフレア補正の効果
を高めた。しかも２−２部の中心厚Ｄを条件（３）のよ
うに大きく与えることにより２−２部を構成する個々の
パワーを小さくすると共に両外側の正の屈折面における
軸上光束と斜光束の光線高の差を大きくしてフレア除去
の効果を高めた。下限をこえるときはフレアの除去の効
果が十分でなく上限をこえるときは、コンパクトさが失
われるので好ましくない。
側の負レンズの形状を同心状に近づけることにより、ペ
ッツバール和の増加を防ぎサジタルのフレア補正の効果
を高めた。しかも２−２部の中心厚Ｄを条件（３）のよ
うに大きく与えることにより２−２部を構成する個々の
パワーを小さくすると共に両外側の正の屈折面における
軸上光束と斜光束の光線高の差を大きくしてフレア除去
の効果を高めた。下限をこえるときはフレアの除去の効
果が十分でなく上限をこえるときは、コンパクトさが失
われるので好ましくない。
（実施例） 以下実施例を示す。
第１図は第１実施例のレンズ構成図、第２図は第２実
施例のレンズ構成図、第３図及び第４図は第１実施例及
び第２実施例における各収差を表す収差図である。
施例のレンズ構成図、第３図及び第４図は第１実施例及
び第２実施例における各収差を表す収差図である。
実施例においてriは物体側より順に第ｉ番目のレンズ
面の曲率半径、diは物体側より順に第ｉ番目のレンズ間
隔及び空気間隔である。
面の曲率半径、diは物体側より順に第ｉ番目のレンズ間
隔及び空気間隔である。
硝材のSiO2は溶融石英であり波長248.5nmでの屈折率
は1.521130である。
は1.521130である。
各実施例は何れも縮小倍率1/5、NA＝0.3、有効な像面
範囲10×10mmのものである。
範囲10×10mmのものである。
第１実施例 第２実施例 （発明の効果） 本発明の投影レンズは以上の条件を満足することでフ
レアを発生することなくペッツバール和を小さくでき、
全面均一な解像力を実現することができた。
レアを発生することなくペッツバール和を小さくでき、
全面均一な解像力を実現することができた。
【図面の簡単な説明】 第１図は第１実施例のレンズ構成図、第２図及び第３図
は第１実施例及び第２実施例における各収差を表す収差
図である。 図中、Ｉ、IIは各々第１、第２レンズ群、II1、II2、II
3は各々第２−１、第２−２、第２−３レンズ群、Ｙは
像高、Ｍはメリデオナル像面、Ｓはサジタル像面であ
る。
は第１実施例及び第２実施例における各収差を表す収差
図である。 図中、Ｉ、IIは各々第１、第２レンズ群、II1、II2、II
3は各々第２−１、第２−２、第２−３レンズ群、Ｙは
像高、Ｍはメリデオナル像面、Ｓはサジタル像面であ
る。
Claims (1)
- 【請求項１】第１群レンズは物体側に凸面を向けた１枚
の負レンズよりなり、第２群レンズは負の焦点距離であ
って、２−１、２−２、２−３の３部分で構成されてお
り、２−１部は２枚の正レンズよりなり、２−２部は物
体側から順に物体に凸面を向けた負のメニスカスレン
ズ、負レンズ、像側に凸面を向けた負のメニスカスレン
ズよりなり、２−３部は少なくとも３枚のメニスカスレ
ンズを有する正レンズのみの構成であって、物像間の共
役距離をＬ、全系の焦点距離をｆ、第１、第２群の焦点
距離を夫々f1、f2、２−２部の焦点距離と中心厚をそれ
ぞれf22、Ｄとするとき （１） 0.2L＜ｆ＜0.5L （２） 0.8＜f1/f2＜2.5 （３） 2.5＜|D/f22|＜3.2 なる条件を満足することを特徴とする投影レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61262729A JPH0812329B2 (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | 投影レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61262729A JPH0812329B2 (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | 投影レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63118115A JPS63118115A (ja) | 1988-05-23 |
| JPH0812329B2 true JPH0812329B2 (ja) | 1996-02-07 |
Family
ID=17379776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61262729A Expired - Lifetime JPH0812329B2 (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | 投影レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0812329B2 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3396935B2 (ja) * | 1993-11-15 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 投影光学系及び投影露光装置 |
| JP3360387B2 (ja) * | 1993-11-15 | 2002-12-24 | 株式会社ニコン | 投影光学系及び投影露光装置 |
| JP3395801B2 (ja) | 1994-04-28 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法 |
| USRE38438E1 (en) | 1994-08-23 | 2004-02-24 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same |
| JPH08179204A (ja) | 1994-11-10 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 投影光学系及び投影露光装置 |
| USRE38465E1 (en) | 1994-12-14 | 2004-03-16 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
| JP3500745B2 (ja) * | 1994-12-14 | 2004-02-23 | 株式会社ニコン | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 |
| JP3454390B2 (ja) * | 1995-01-06 | 2003-10-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 |
| JP3819048B2 (ja) * | 1995-03-15 | 2006-09-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びに露光方法 |
| JP3624973B2 (ja) | 1995-10-12 | 2005-03-02 | 株式会社ニコン | 投影光学系 |
| JP3750123B2 (ja) * | 1996-04-25 | 2006-03-01 | 株式会社ニコン | 投影光学系 |
| JP3864399B2 (ja) * | 1996-08-08 | 2006-12-27 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 |
| US5852490A (en) * | 1996-09-30 | 1998-12-22 | Nikon Corporation | Projection exposure method and apparatus |
| JP3757536B2 (ja) * | 1996-10-01 | 2006-03-22 | 株式会社ニコン | 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法 |
| JPH116957A (ja) * | 1997-04-25 | 1999-01-12 | Nikon Corp | 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法 |
| JP3925576B2 (ja) | 1997-07-24 | 2007-06-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法 |
| US6700645B1 (en) | 1998-01-22 | 2004-03-02 | Nikon Corporation | Projection optical system and exposure apparatus and method |
| JPH11214293A (ja) | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5336326B2 (ja) * | 1972-12-26 | 1978-10-02 | ||
| JPS60140310A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | Canon Inc | 投影レンズ |
-
1986
- 1986-11-06 JP JP61262729A patent/JPH0812329B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63118115A (ja) | 1988-05-23 |
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Legal Events
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| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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