JPH09293462A - 画像表示装置 - Google Patents
画像表示装置Info
- Publication number
- JPH09293462A JPH09293462A JP10516996A JP10516996A JPH09293462A JP H09293462 A JPH09293462 A JP H09293462A JP 10516996 A JP10516996 A JP 10516996A JP 10516996 A JP10516996 A JP 10516996A JP H09293462 A JPH09293462 A JP H09293462A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image display
- display device
- metal back
- electron
- spacer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子放出素子が形成されたリアプレートと、
これに対向した面上に蛍光体とメタルバックとを有する
フェースプレートと、2つのプレートを略平行に保持す
るために設けられたスペーサを有する画像表示装置等に
おいて、フェースプレートと導電性スペーサとの電気的
接続及び機械的接続の双方を同時に信頼性高く満足する
画像表示装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 電子放出素子とメタルバックとを内包
し、内部を減圧状態に維持してなる外囲器と、該外囲器
内に配置され、該外囲器を大気圧から支持するスペーサ
とで構成される画像表示装置において、前記スペーサが
導電性であり、該スペーサの端部が前記メタルバックに
当接しており、該当接部が、メタルバック存在部分とメ
タルバック非存在部分とで構成されていることを特徴と
する画像表示装置。
これに対向した面上に蛍光体とメタルバックとを有する
フェースプレートと、2つのプレートを略平行に保持す
るために設けられたスペーサを有する画像表示装置等に
おいて、フェースプレートと導電性スペーサとの電気的
接続及び機械的接続の双方を同時に信頼性高く満足する
画像表示装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 電子放出素子とメタルバックとを内包
し、内部を減圧状態に維持してなる外囲器と、該外囲器
内に配置され、該外囲器を大気圧から支持するスペーサ
とで構成される画像表示装置において、前記スペーサが
導電性であり、該スペーサの端部が前記メタルバックに
当接しており、該当接部が、メタルバック存在部分とメ
タルバック非存在部分とで構成されていることを特徴と
する画像表示装置。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子放出素子を用
いた画像表示装置に関し、特に耐大気圧構造部材を具備
する画像表示装置に関する。
いた画像表示装置に関し、特に耐大気圧構造部材を具備
する画像表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、電子を用いる画像表示装置にお
いては、真空または減圧雰囲気を維持する外囲器、電子
を発生させる電子源とその駆動回路、電子の衝突により
発光する蛍光体等を有する画像形成部材、電子を画像形
成部材に向けて加速するための加速電極とその高圧電源
等が必要である。また、薄型画像表示装置のように偏平
な外囲器を用いる画像表示装置においては、耐大気圧構
造体としてスペーサーが用いられることが多い。
いては、真空または減圧雰囲気を維持する外囲器、電子
を発生させる電子源とその駆動回路、電子の衝突により
発光する蛍光体等を有する画像形成部材、電子を画像形
成部材に向けて加速するための加速電極とその高圧電源
等が必要である。また、薄型画像表示装置のように偏平
な外囲器を用いる画像表示装置においては、耐大気圧構
造体としてスペーサーが用いられることが多い。
【0003】冷陰極電子源を用いた画像表示装置とし
て、図17に断面を示すような装置が知られている(例
えば、特開平2−299136号公報)。この画像表示
装置は、表面伝導型電子放出素子と呼ばれる冷陰極電子
源を用いたもので、リアプレート1301上には電子放
出素子1305(電極1302および電極1304と、
該電極間に形成された電子放出部1303からなる。)
が形成されており、該リアプレート1301と対向して
配置されるフェースプレート1310は、ガラス板13
07、このガラス板の内側の面に形成された蛍光面13
08およびこの蛍光面1308の表面を覆うように形成
されたメタルバック1309からなっている。蛍光面1
308は、カラー画像表示装置では、パターニングされ
たブラックストライプと蛍光体から構成されている。
て、図17に断面を示すような装置が知られている(例
えば、特開平2−299136号公報)。この画像表示
装置は、表面伝導型電子放出素子と呼ばれる冷陰極電子
源を用いたもので、リアプレート1301上には電子放
出素子1305(電極1302および電極1304と、
該電極間に形成された電子放出部1303からなる。)
が形成されており、該リアプレート1301と対向して
配置されるフェースプレート1310は、ガラス板13
07、このガラス板の内側の面に形成された蛍光面13
08およびこの蛍光面1308の表面を覆うように形成
されたメタルバック1309からなっている。蛍光面1
308は、カラー画像表示装置では、パターニングされ
たブラックストライプと蛍光体から構成されている。
【0004】メタルバックの機能は、(1)比抵抗が一般
に1010〜1012Ω・cmと高い蛍光体に電荷(電子)が溜
まることによる電位の低下の防止、(2)電子ビームの加
速電極としての働き、(3)蛍光体からの発光のうち装置
内面側への光を鏡面反射することによる輝度の向上、
(4)蛍光体が負イオンの衝突によってダメージを受ける
ことを防ぐ保護膜としての働き、等である。この目的に
適した材料として通常はAlが用いられている。メタル
バックの形成は、ブラツクストライプと蛍光体のパター
ン形成後フイルミングと呼ばれる処理(有機膜をブラッ
クストライプと蛍光体上に塗布する処理)の後、Alを
真空装置で形成し、その後有機膜を焼成徐去して行われ
る。しかし、このメタルバック面は機械的強度が小さ
く、指でこすると剥がれるほど弱い。
に1010〜1012Ω・cmと高い蛍光体に電荷(電子)が溜
まることによる電位の低下の防止、(2)電子ビームの加
速電極としての働き、(3)蛍光体からの発光のうち装置
内面側への光を鏡面反射することによる輝度の向上、
(4)蛍光体が負イオンの衝突によってダメージを受ける
ことを防ぐ保護膜としての働き、等である。この目的に
適した材料として通常はAlが用いられている。メタル
バックの形成は、ブラツクストライプと蛍光体のパター
ン形成後フイルミングと呼ばれる処理(有機膜をブラッ
クストライプと蛍光体上に塗布する処理)の後、Alを
真空装置で形成し、その後有機膜を焼成徐去して行われ
る。しかし、このメタルバック面は機械的強度が小さ
く、指でこすると剥がれるほど弱い。
【0005】また、この画像表示装置においては、リア
プレート1301とフェースプレート1310が、大気
圧で破壊されるのを防止し、またリアプレートとフェー
スプレートの間隔をほぼ一定に保つため、耐大気圧のた
めの支持部材としてスペーサ1306が複数個配設され
ている。
プレート1301とフェースプレート1310が、大気
圧で破壊されるのを防止し、またリアプレートとフェー
スプレートの間隔をほぼ一定に保つため、耐大気圧のた
めの支持部材としてスペーサ1306が複数個配設され
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前記の画像表示装置の
ように、スペーサとして絶縁体を用いると、電子源から
の放出電子や蛍光体等からの2次電子等によってスペー
サが帯電し、表示装置内の電場が変化することにより、
電子ビーム軌道のずれが生じてしまい、その結果蛍光体
の発光位置や発光形状に変化が生じる問題がある。すで
に本発明者らは、スペーサ表面に導電性を持たせた導電
性スペーサを導電性フリットガラスを用いて接続する
と、これらの問題を防止できることを見いだしている。
ように、スペーサとして絶縁体を用いると、電子源から
の放出電子や蛍光体等からの2次電子等によってスペー
サが帯電し、表示装置内の電場が変化することにより、
電子ビーム軌道のずれが生じてしまい、その結果蛍光体
の発光位置や発光形状に変化が生じる問題がある。すで
に本発明者らは、スペーサ表面に導電性を持たせた導電
性スペーサを導電性フリットガラスを用いて接続する
と、これらの問題を防止できることを見いだしている。
【0007】この装置は、例えば図18(b)の断面図
に示すように、対向するフェースプレート1503とリ
アプレート1514との間に導電性スペーサ1520
(絶縁性基材1507の表面が導電体層1508および
1509によってコートされている)が設けられてい
る。この導電体スペーサは導電性ガラスフリット151
1(低融点ガラスに導電性フィラー1512が混合され
ている)を用いてフェースプレートおよびリアプレート
と接着されている。同時に、導電性フリットガラス15
11は、導電性スペーサとフェースプレート上のメタル
バック1506の間、および導電性スペーサとリアプレ
ートの配線等の導体1513とを電気的に接続してい
る。
に示すように、対向するフェースプレート1503とリ
アプレート1514との間に導電性スペーサ1520
(絶縁性基材1507の表面が導電体層1508および
1509によってコートされている)が設けられてい
る。この導電体スペーサは導電性ガラスフリット151
1(低融点ガラスに導電性フィラー1512が混合され
ている)を用いてフェースプレートおよびリアプレート
と接着されている。同時に、導電性フリットガラス15
11は、導電性スペーサとフェースプレート上のメタル
バック1506の間、および導電性スペーサとリアプレ
ートの配線等の導体1513とを電気的に接続してい
る。
【0008】しかし、導電性スペーサとフェースプレー
トの接合領域をリアプレート側からフェースプレート側
を見ると、図18(a)のように、この装置では導電性
スペーサがフェースプレートに押し当たる部分101
(以下、スペーサが押し当たることを当接といい、押し
当たる部分を当接部という。)と、メタルバックが存在
しない領域102とは略一致しているため次のような問
題点が生ずることがあった。
トの接合領域をリアプレート側からフェースプレート側
を見ると、図18(a)のように、この装置では導電性
スペーサがフェースプレートに押し当たる部分101
(以下、スペーサが押し当たることを当接といい、押し
当たる部分を当接部という。)と、メタルバックが存在
しない領域102とは略一致しているため次のような問
題点が生ずることがあった。
【0009】即ち、当接部101にメタルバックがまっ
たく存在しない場合には、導電性スペーサ1520はブ
ラックストライプ1505(またはブラックマトリク
ス)と直接接続される。ブラックストライプ(またはブ
ラックマトリクス)は、黒色のガラス成分や黒鉛で形成
されているので、機械的接続強度は高く信頼性は高い
が、絶縁性または高抵抗であるので、導電性スペーサと
メタルバック間の電気的接続は導電性フリットガラスを
介して水平方向ないしは斜め方向でなされる。従って垂
直方向の接続と比較すると、導通のとれる確率が小さく
なってしまうので、ごくまれに電気的接続が不十分にな
る結果、長時間画像を表示させたりすると、スペーサ表
面が帯電し、電場が変化して、電子ビーム軌道のずれが
生じ、光位置や発光形状の変化が生じてしまう場合があ
った。図18(b)においては、スペーサ左上では導通
がとれているが、右上ではとれていない。また、導通が
とれていても接続抵抗が大きいと、接続部分近傍の微小
間隔での電位差が大きいためリアプレートからフェイス
プレート側への均一な電界分布が乱れ、表示に悪影響を
与えることがある。
たく存在しない場合には、導電性スペーサ1520はブ
ラックストライプ1505(またはブラックマトリク
ス)と直接接続される。ブラックストライプ(またはブ
ラックマトリクス)は、黒色のガラス成分や黒鉛で形成
されているので、機械的接続強度は高く信頼性は高い
が、絶縁性または高抵抗であるので、導電性スペーサと
メタルバック間の電気的接続は導電性フリットガラスを
介して水平方向ないしは斜め方向でなされる。従って垂
直方向の接続と比較すると、導通のとれる確率が小さく
なってしまうので、ごくまれに電気的接続が不十分にな
る結果、長時間画像を表示させたりすると、スペーサ表
面が帯電し、電場が変化して、電子ビーム軌道のずれが
生じ、光位置や発光形状の変化が生じてしまう場合があ
った。図18(b)においては、スペーサ左上では導通
がとれているが、右上ではとれていない。また、導通が
とれていても接続抵抗が大きいと、接続部分近傍の微小
間隔での電位差が大きいためリアプレートからフェイス
プレート側への均一な電界分布が乱れ、表示に悪影響を
与えることがある。
【0010】一方、当接部のメタルバックを除去しない
で、メタルバックが全面に存在している状態で接続を行
った場合には、電気的接続は垂直方向で行われるので信
頼性は高いが、メタルバックの密着力が低いためにわず
かな力でもメタルバックの部分から剥れることもあり、
機械的強度が万全ではないので、スペーサによる大気圧
支持が十分に行われない場合がある。
で、メタルバックが全面に存在している状態で接続を行
った場合には、電気的接続は垂直方向で行われるので信
頼性は高いが、メタルバックの密着力が低いためにわず
かな力でもメタルバックの部分から剥れることもあり、
機械的強度が万全ではないので、スペーサによる大気圧
支持が十分に行われない場合がある。
【0011】本発明は、上記の欠点に鑑み、フェースプ
レートと導電性スペーサとの電気的接続及び機械的接続
の双方を同時に信頼性高く満足する画像表示装置を提供
することを目的とする。
レートと導電性スペーサとの電気的接続及び機械的接続
の双方を同時に信頼性高く満足する画像表示装置を提供
することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の画
像表示装置における上述の問題点を解決して、本発明の
目的を達成すべく、鋭意研究を重ねた結果、完成に至っ
たものである。
像表示装置における上述の問題点を解決して、本発明の
目的を達成すべく、鋭意研究を重ねた結果、完成に至っ
たものである。
【0013】即ち、本発明は、電子放出素子とメタルバ
ックとを内包し、内部を減圧状態に維持してなる外囲器
と、該外囲器内に配置され、該外囲器を大気圧から支持
するスペーサとで構成される画像表示装置において、前
記スペーサが導電性であり、該スペーサの端部が前記メ
タルバックに当接しており、該当接部が、メタルバック
存在部分とメタルバック非存在部分とで構成されている
ことを特徴とする画像表示装置に関する。
ックとを内包し、内部を減圧状態に維持してなる外囲器
と、該外囲器内に配置され、該外囲器を大気圧から支持
するスペーサとで構成される画像表示装置において、前
記スペーサが導電性であり、該スペーサの端部が前記メ
タルバックに当接しており、該当接部が、メタルバック
存在部分とメタルバック非存在部分とで構成されている
ことを特徴とする画像表示装置に関する。
【0014】本発明では、メタルバック非存在部分は、
強度の高い部分(例えばブラックストライプまたはブラ
ックマトリクスの一部)が表面に露出しているのでスペ
ーサと接続が強固になされ、機械的信頼性が高い。一
方、メタルバック存在部分では、導電性スペーサとメタ
ルバックとが垂直方向で接続されるので電気的接続の信
頼性が高い。即ち、本発明によればフェースプレートと
導電性スペーサとを、機械的接続の信頼性と電気的接続
の信頼性の両方を満足させるように接続することが可能
であり、この結果きわめて表示性能の優れた画像表示装
置を提供することができる。
強度の高い部分(例えばブラックストライプまたはブラ
ックマトリクスの一部)が表面に露出しているのでスペ
ーサと接続が強固になされ、機械的信頼性が高い。一
方、メタルバック存在部分では、導電性スペーサとメタ
ルバックとが垂直方向で接続されるので電気的接続の信
頼性が高い。即ち、本発明によればフェースプレートと
導電性スペーサとを、機械的接続の信頼性と電気的接続
の信頼性の両方を満足させるように接続することが可能
であり、この結果きわめて表示性能の優れた画像表示装
置を提供することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施態様の1例
を図1および図3を用いて説明する。
を図1および図3を用いて説明する。
【0016】図3は本発明の画像表示装置の一部を破断
した斜視図である。ここでは、フェースプレート80
6、リアプレート801および外枠802で外囲器80
8が構成されており、内部は1×10-5乃至は1×10
-7torr程度の真空度が維持され、導電性スペーサ8
09がフェースプレート806とリアプレート801を
略平行に保持するために耐大気圧構造部材として配置さ
れている。
した斜視図である。ここでは、フェースプレート80
6、リアプレート801および外枠802で外囲器80
8が構成されており、内部は1×10-5乃至は1×10
-7torr程度の真空度が維持され、導電性スペーサ8
09がフェースプレート806とリアプレート801を
略平行に保持するために耐大気圧構造部材として配置さ
れている。
【0017】リアプレートは通常青板(ソーダライム)
ガラス、SiO2を表面に形成した青板ガラス等が基板
として用いられ、この上に電子放出素子704および電
子放出素子を駆動する信号を供給する配線702および
703が基板上に形成されている。一方、フェースプレ
ートは、通常前述のガラス等が基板として用いられ、こ
のガラス基板803の内面に蛍光体804と例えば黒色
体でできた非発光部810がマトリクス状(ブラックマ
トリクス)またはストライプ状(ブラックストライプ)
に形成され、さらにメタルバック805(電子加速電
極)が形成されている。導電性スペーサは導電性フリッ
トガラス811によって、リアプレートおよびフェース
プレートに接続されている。電子放出素子から放出され
た電子は、メタルバックに印加された高電圧で加速さ
れ、蛍光体に衝突し、蛍光体を発光させる。メタルバッ
クの導電性が十分でないときは補助的手段として、ガラ
ス基板と、ブラックストライプ(ブラックマトリクス)
および蛍光体との間に透明導電層を設けることもある。
ガラス、SiO2を表面に形成した青板ガラス等が基板
として用いられ、この上に電子放出素子704および電
子放出素子を駆動する信号を供給する配線702および
703が基板上に形成されている。一方、フェースプレ
ートは、通常前述のガラス等が基板として用いられ、こ
のガラス基板803の内面に蛍光体804と例えば黒色
体でできた非発光部810がマトリクス状(ブラックマ
トリクス)またはストライプ状(ブラックストライプ)
に形成され、さらにメタルバック805(電子加速電
極)が形成されている。導電性スペーサは導電性フリッ
トガラス811によって、リアプレートおよびフェース
プレートに接続されている。電子放出素子から放出され
た電子は、メタルバックに印加された高電圧で加速さ
れ、蛍光体に衝突し、蛍光体を発光させる。メタルバッ
クの導電性が十分でないときは補助的手段として、ガラ
ス基板と、ブラックストライプ(ブラックマトリクス)
および蛍光体との間に透明導電層を設けることもある。
【0018】ここで、導電性スペーサの形状、数、配置
場所は適宜設定することができるもので、図3に示すよ
うに平板状に限る必要はないし、また、平行に3枚のス
ペーサが並ぶものに限る必要もない。
場所は適宜設定することができるもので、図3に示すよ
うに平板状に限る必要はないし、また、平行に3枚のス
ペーサが並ぶものに限る必要もない。
【0019】図1(a)は図3の画像表示装置の当接部
をリアプレート側からフェースプレート側を見た平面図
(スペーサは不図示)である。図1(a)において、破
線で囲まれた101の部分はスペーサがフェースプレー
トに押し当たる部分(当接部)であり、実線で囲まれた
102はメタルバック非存在部分である。従って、当接
部のなかで102の領域以外は、メタルバック存在部分
である。
をリアプレート側からフェースプレート側を見た平面図
(スペーサは不図示)である。図1(a)において、破
線で囲まれた101の部分はスペーサがフェースプレー
トに押し当たる部分(当接部)であり、実線で囲まれた
102はメタルバック非存在部分である。従って、当接
部のなかで102の領域以外は、メタルバック存在部分
である。
【0020】図1(b)および(c)は、それぞれ図1
(a)中のA−A’断面図、B−B’断面図である。図
1(b)、(c)において、103はフェースプレー
ト、110はガラス基板、104は蛍光体(厚さ20〜
30μm)、105はブラックストライプまたはブラッ
クマトリクス(ガラス質で厚さおよそ10μm)、10
6はメタルバック(Alで厚さおよそ0.2μm)、1
20は絶縁性基材107の側面に半導電膜108及び上
下面(端部)に導電膜109が形成された導電性スペー
サ、111は例えば導電体が表面に形成されたフイラー
112を含む導電性フリットガラスである。
(a)中のA−A’断面図、B−B’断面図である。図
1(b)、(c)において、103はフェースプレー
ト、110はガラス基板、104は蛍光体(厚さ20〜
30μm)、105はブラックストライプまたはブラッ
クマトリクス(ガラス質で厚さおよそ10μm)、10
6はメタルバック(Alで厚さおよそ0.2μm)、1
20は絶縁性基材107の側面に半導電膜108及び上
下面(端部)に導電膜109が形成された導電性スペー
サ、111は例えば導電体が表面に形成されたフイラー
112を含む導電性フリットガラスである。
【0021】図1(b)のようにメタルバック存在部分
においては、垂直方向に導通するので電気的接続の信頼
性が高く、一方図1cのようにメタルバック非存在部分
においては、ブラックストライプまたはブラックマトリ
クス上で接続されるために機械的接続の信頼性が高い。
即ち、当接部のフェースプレート側領域が、メタルバッ
ク存在部分とメタルバック非存在部分とで構成されてい
るために、全体として電気的接続の信頼性と機械的接続
の信頼性の双方を同時に満足し高い表示性能を有する画
像表示装置を提供することができる。
においては、垂直方向に導通するので電気的接続の信頼
性が高く、一方図1cのようにメタルバック非存在部分
においては、ブラックストライプまたはブラックマトリ
クス上で接続されるために機械的接続の信頼性が高い。
即ち、当接部のフェースプレート側領域が、メタルバッ
ク存在部分とメタルバック非存在部分とで構成されてい
るために、全体として電気的接続の信頼性と機械的接続
の信頼性の双方を同時に満足し高い表示性能を有する画
像表示装置を提供することができる。
【0022】メタルバック存在部分および非存在部分の
2つの領域の形成方法は一般的なパターン形成方法であ
ればいずれも用いることができるが、例えばマスク蒸着
法や、ドライエッチング、レーザエッチングなどを用い
ることができる。
2つの領域の形成方法は一般的なパターン形成方法であ
ればいずれも用いることができるが、例えばマスク蒸着
法や、ドライエッチング、レーザエッチングなどを用い
ることができる。
【0023】尚、当接部におけるメタルバックの存在部
分および非存在部分との関係は図1(a)に限るもので
はなく、例えば、図2(b)、(d)に示す様に、当接
部が複数のメタルバックの非存在部分にまたがっている
態様でも良く、あるいは、図2cに示す様に、メタルバ
ックの非存在部分が当接部に覆われる様な態様でも良
い。また、本発明に求められるのは、スペーサの当接部
内に必ずメタルバックが存在し、かつスペーサとメタル
バックとの導通が十分に確保されていれば良いので、メ
タルバックの存在しない領域の形状および、スペーサの
当接面の形状は図1、図2に示した様な矩形あるいは一
部円形には限定されず、適宜選択できる。
分および非存在部分との関係は図1(a)に限るもので
はなく、例えば、図2(b)、(d)に示す様に、当接
部が複数のメタルバックの非存在部分にまたがっている
態様でも良く、あるいは、図2cに示す様に、メタルバ
ックの非存在部分が当接部に覆われる様な態様でも良
い。また、本発明に求められるのは、スペーサの当接部
内に必ずメタルバックが存在し、かつスペーサとメタル
バックとの導通が十分に確保されていれば良いので、メ
タルバックの存在しない領域の形状および、スペーサの
当接面の形状は図1、図2に示した様な矩形あるいは一
部円形には限定されず、適宜選択できる。
【0024】また、当接部におけるメタルバックの非存
在部分と存在部分の面積の比率は、十分な導通と、強固
な接続が確保できる範囲で適宜選択することができる
が、通常は、非存在部分と存在部分の面積比が100:
1〜1:10、好ましくは10:1〜2:1である。
在部分と存在部分の面積の比率は、十分な導通と、強固
な接続が確保できる範囲で適宜選択することができる
が、通常は、非存在部分と存在部分の面積比が100:
1〜1:10、好ましくは10:1〜2:1である。
【0025】本発明で用いられる、導電性スペーサとし
ては、前述した構成に限らず、例えば、後述するリーク
電流を考慮してスペーサ全体を適当な抵抗値を有する1
つの抵抗体や半導体で形成しても良いし、あるいは、そ
れらの組み合わせでも良いが、後述する封着時に必要と
する高温プロセスにおける熱膨張等を踏まえると、フェ
ースプレートやリアプレートを構成する材料と同等の熱
膨張率を有するものが好ましい。このようなものとし
て、図1に示すように、青板ガラス等の絶縁性基材10
7の側面に半導電膜108を形成し、上下面に導電膜1
09が形成されているものが好ましい。半導電膜は、抵
抗が高すぎると帯電防止効果が十分でなく、抵抗が低す
ぎるとメタルバックからリアプレート側に流れるリ一ク
電流による消費電力が大きくなるので、その表面抵抗値
が105〜1013Ω/□のシート抵抗値を持つものが望まし
い。さらに好適には、108〜1012Ω/□である。その材
料としては、例えば、金属及び複数の金属よりなる合金
による島状金属膜やSnO2、ZnO、NiO等の導電性酸化物を
掲げることができる。導電膜109を上下面に形成する
のは、上下面を等電位面として電気的接続を確実に行う
ためである。この導電膜は金属膜等の導電性の材料で形
成される。
ては、前述した構成に限らず、例えば、後述するリーク
電流を考慮してスペーサ全体を適当な抵抗値を有する1
つの抵抗体や半導体で形成しても良いし、あるいは、そ
れらの組み合わせでも良いが、後述する封着時に必要と
する高温プロセスにおける熱膨張等を踏まえると、フェ
ースプレートやリアプレートを構成する材料と同等の熱
膨張率を有するものが好ましい。このようなものとし
て、図1に示すように、青板ガラス等の絶縁性基材10
7の側面に半導電膜108を形成し、上下面に導電膜1
09が形成されているものが好ましい。半導電膜は、抵
抗が高すぎると帯電防止効果が十分でなく、抵抗が低す
ぎるとメタルバックからリアプレート側に流れるリ一ク
電流による消費電力が大きくなるので、その表面抵抗値
が105〜1013Ω/□のシート抵抗値を持つものが望まし
い。さらに好適には、108〜1012Ω/□である。その材
料としては、例えば、金属及び複数の金属よりなる合金
による島状金属膜やSnO2、ZnO、NiO等の導電性酸化物を
掲げることができる。導電膜109を上下面に形成する
のは、上下面を等電位面として電気的接続を確実に行う
ためである。この導電膜は金属膜等の導電性の材料で形
成される。
【0026】また、スペーサ全体を1つの導電体(抵抗
体)や半導体で形成する場合には、スペーサ上面から下
面までの抵抗値が、前述の絶縁性基材表面に導体をコー
トしたスペーサと同じ程度になるように材料と形状を適
宜選択する。
体)や半導体で形成する場合には、スペーサ上面から下
面までの抵抗値が、前述の絶縁性基材表面に導体をコー
トしたスペーサと同じ程度になるように材料と形状を適
宜選択する。
【0027】本発明に用いる導電性フリットガラスは、
導電性のフィラーが低融点ガラスに混合されたものであ
って融着後の体積抵抗率が105Ω・cm以下となるよ
うなものであれば特に制限はない。導電性のフィラーと
しては、Au、Ag、Pt等の金属や絶縁体の表面に導
電体が形成されたもの等が挙げられる。絶縁体の表面に
導電体が形成されたフィラーは、例えば直径5〜50μmの
シリカあるいはソーダライム等のガラス球表面にメッキ
法等により金属膜を形成することにより得ることができ
る。
導電性のフィラーが低融点ガラスに混合されたものであ
って融着後の体積抵抗率が105Ω・cm以下となるよ
うなものであれば特に制限はない。導電性のフィラーと
しては、Au、Ag、Pt等の金属や絶縁体の表面に導
電体が形成されたもの等が挙げられる。絶縁体の表面に
導電体が形成されたフィラーは、例えば直径5〜50μmの
シリカあるいはソーダライム等のガラス球表面にメッキ
法等により金属膜を形成することにより得ることができ
る。
【0028】この導電フィラーを20wt%程度を低融
点ガラスに混合し、溶剤とバインダを加えてペースト状
にしたものをディスペンサー等を用いて、導電性スペー
サとフェースプレートの接続部分に塗布し、400〜4
50℃で加圧しながら焼成することにより電気的接続及
び機械的固定を行うことができる。
点ガラスに混合し、溶剤とバインダを加えてペースト状
にしたものをディスペンサー等を用いて、導電性スペー
サとフェースプレートの接続部分に塗布し、400〜4
50℃で加圧しながら焼成することにより電気的接続及
び機械的固定を行うことができる。
【0029】また、スペーサとリアプレートとの接続
は、通常はリアプレート上に形成した電極上で行われ
る。この電極には通常0V程度の電位を与える。そうす
ると、導電性スペーサは高電位のメタルバック(数kV
の電位)および低電位のリアパネル上の電極に接続され
るので、導電性スペーサに微小電流が流れ、スペーサの
帯電を防止できると同時に表示装置内の均一性の高い電
界分布が確保できるので表示の乱れを防止できる。ま
た、この電極として、リアパネル上に設けられた、素子
を駆動するための配線702または703を用いると、
別途電極を形成する必要がないので好ましい。
は、通常はリアプレート上に形成した電極上で行われ
る。この電極には通常0V程度の電位を与える。そうす
ると、導電性スペーサは高電位のメタルバック(数kV
の電位)および低電位のリアパネル上の電極に接続され
るので、導電性スペーサに微小電流が流れ、スペーサの
帯電を防止できると同時に表示装置内の均一性の高い電
界分布が確保できるので表示の乱れを防止できる。ま
た、この電極として、リアパネル上に設けられた、素子
を駆動するための配線702または703を用いると、
別途電極を形成する必要がないので好ましい。
【0030】また、図3の画像表示装置のフェースプレ
ートに形成された蛍光膜を模式的に示すと図4のように
なっている。蛍光膜804はモノクロームの場合は蛍光
体のみから構成することができる。カラー表示の場合
は、混色等を目だたなくするため、必要な三原色蛍光体
902の間を非発光部901とする。非発光部は黒色体
とすると外光反射によるコントラストの低下も抑制する
ことができるので好ましい。非発光部のパターンは、画
素配列に合わせてストライプ状やマトリクス状とするこ
とが好ましい。
ートに形成された蛍光膜を模式的に示すと図4のように
なっている。蛍光膜804はモノクロームの場合は蛍光
体のみから構成することができる。カラー表示の場合
は、混色等を目だたなくするため、必要な三原色蛍光体
902の間を非発光部901とする。非発光部は黒色体
とすると外光反射によるコントラストの低下も抑制する
ことができるので好ましい。非発光部のパターンは、画
素配列に合わせてストライプ状やマトリクス状とするこ
とが好ましい。
【0031】ガラス基板803に蛍光体を塗布する方法
としては、モノクロームでもカラーの場合でも、沈澱
法、印刷法、スラリー法等が採用できる。蛍光膜804
の内面側には、通常メタルバック805が設けられる。
カラーの場合は各色蛍光体と電子放出素子とを対応させ
る必要があり、十分な位置合わせが不可欠となる。
としては、モノクロームでもカラーの場合でも、沈澱
法、印刷法、スラリー法等が採用できる。蛍光膜804
の内面側には、通常メタルバック805が設けられる。
カラーの場合は各色蛍光体と電子放出素子とを対応させ
る必要があり、十分な位置合わせが不可欠となる。
【0032】用いられる電子放出素子としては制限はな
く、熱電子源および冷陰極電子源を用いることができる
が、特に好ましいのは冷陰極電子源である表面伝導型電
子放出素子であり、図5に示すような平面型表面伝導型
電子放出素子、図6に示す垂直型表面伝導型電子放出素
子を用いることができる。図5aは平面図、図5bは断
面図で301は基板、302と303は素子電極、30
4は導電性薄膜、305は電子放出部である。図6にお
いては、421は段差形成部で、基板401、素子電極
402及び403、導電性薄膜404、電子放出部40
5などから構成される。平面型表面伝導型電子放出素
子、垂直型表面伝導型電子放出素子はいずれも公知の方
法によって製造することができる。
く、熱電子源および冷陰極電子源を用いることができる
が、特に好ましいのは冷陰極電子源である表面伝導型電
子放出素子であり、図5に示すような平面型表面伝導型
電子放出素子、図6に示す垂直型表面伝導型電子放出素
子を用いることができる。図5aは平面図、図5bは断
面図で301は基板、302と303は素子電極、30
4は導電性薄膜、305は電子放出部である。図6にお
いては、421は段差形成部で、基板401、素子電極
402及び403、導電性薄膜404、電子放出部40
5などから構成される。平面型表面伝導型電子放出素
子、垂直型表面伝導型電子放出素子はいずれも公知の方
法によって製造することができる。
【0033】図3に示した画像表示装置は単純マトリッ
クス配置となっている。これを模式的に示すと図7のよ
うになっている。図7において、701は基板、702
はX方向配線、703はY方向配線である。704は表
面伝導型電子放出素子、705は結線である。なお、表
面伝導型電子放出素子704は、前述した平面型あるい
は垂直型のどちらであってもよい。
クス配置となっている。これを模式的に示すと図7のよ
うになっている。図7において、701は基板、702
はX方向配線、703はY方向配線である。704は表
面伝導型電子放出素子、705は結線である。なお、表
面伝導型電子放出素子704は、前述した平面型あるい
は垂直型のどちらであってもよい。
【0034】m本のX方向配線702は、Dx1,Dx
2,・・・・,Dxmからなり、真空蒸着法、印刷法、
スパッタ法等を用いて形成された導電性金属等で構成す
ることができる。配線の材料、膜厚、巾は、適宜設計さ
れる。Y方向配線703は、Dy1,Dy2,・・・,
Dynのn本の配線よりなり、X方向配線702と同様
に形成される。これらm本のX方向配線702とn本の
Y方向配線703との間には、不図示の層間絶縁層が設
けられており、両者を電気的に分離している(m,nは
共に正の整数)。
2,・・・・,Dxmからなり、真空蒸着法、印刷法、
スパッタ法等を用いて形成された導電性金属等で構成す
ることができる。配線の材料、膜厚、巾は、適宜設計さ
れる。Y方向配線703は、Dy1,Dy2,・・・,
Dynのn本の配線よりなり、X方向配線702と同様
に形成される。これらm本のX方向配線702とn本の
Y方向配線703との間には、不図示の層間絶縁層が設
けられており、両者を電気的に分離している(m,nは
共に正の整数)。
【0035】表面伝導型放出素子704を構成する一対
の電極(不図示)は、m本のX方向配線702とn本の
Y方向配線703と導電性金属等からなる結線705に
よって電気的に接続されている。
の電極(不図示)は、m本のX方向配線702とn本の
Y方向配線703と導電性金属等からなる結線705に
よって電気的に接続されている。
【0036】X方向配線702には、X方向に配列した
表面伝導型放出素子704の行を、選択するための走査
信号を印加する不図示の走査信号印加手段が接続され
る。一方、Y方向配線703にはY方向に配列した表面
伝導型放出素子704の各列を入力信号に応じて、変調
するための不図示の変調信号発生手段が接続されてい
る。各電子放出素子に印加される駆動電圧は、当該素子
に印加される走査信号と変調信号の差電圧として供給さ
れる。
表面伝導型放出素子704の行を、選択するための走査
信号を印加する不図示の走査信号印加手段が接続され
る。一方、Y方向配線703にはY方向に配列した表面
伝導型放出素子704の各列を入力信号に応じて、変調
するための不図示の変調信号発生手段が接続されてい
る。各電子放出素子に印加される駆動電圧は、当該素子
に印加される走査信号と変調信号の差電圧として供給さ
れる。
【0037】上記構成において、単純なマトリックス配
線を用いて、個別の素子を選択し、独立に駆動可能とす
ることができる。
線を用いて、個別の素子を選択し、独立に駆動可能とす
ることができる。
【0038】次に、単純マトリクス配置の電子源を用い
て構成した表示パネルに、NTSC方式のテレビ信号に
基づいたテレビジョン表示を行うための駆動回路の構成
例について、図8を用いて説明する。図8において、1
001は表示パネル、1002は走査回路、1003は
制御回路、1004はシフトレジスタである。1005
はラインメモリ、1006は同期信号分離回路、100
7は変調信号発生器、Vx及びVaは直流電圧源であ
る。
て構成した表示パネルに、NTSC方式のテレビ信号に
基づいたテレビジョン表示を行うための駆動回路の構成
例について、図8を用いて説明する。図8において、1
001は表示パネル、1002は走査回路、1003は
制御回路、1004はシフトレジスタである。1005
はラインメモリ、1006は同期信号分離回路、100
7は変調信号発生器、Vx及びVaは直流電圧源であ
る。
【0039】このような構成をとり得る本発明の画像表
示装置においては、各電子放出素子に、容器外端子Do
x1乃至Doxm、Doy1乃至Doynを介して電圧
を印加することにより、電子放出が生ずる。高圧端子H
vを介してメタルバック805、あるいは透明電極(不
図示)に高圧(数kVから十数kV)を印加し、電子ビ
ームを加速する。加速された電子は、蛍光膜804に衝
突し、発光が生じて画像が形成される。
示装置においては、各電子放出素子に、容器外端子Do
x1乃至Doxm、Doy1乃至Doynを介して電圧
を印加することにより、電子放出が生ずる。高圧端子H
vを介してメタルバック805、あるいは透明電極(不
図示)に高圧(数kVから十数kV)を印加し、電子ビ
ームを加速する。加速された電子は、蛍光膜804に衝
突し、発光が生じて画像が形成される。
【0040】ここで述べた画像表示装置の構成例は一例
であり、本発明の技術思想に基づいて種々の変形が可能
である。入力信号については、NTSC方式に限られる
ものではなく、PAL,SECAM方式等や、これより
も多数の走査線からなるTV信号(例えば、MUSE方
式をはじめとする高品位TV)方式をも採用できる。
であり、本発明の技術思想に基づいて種々の変形が可能
である。入力信号については、NTSC方式に限られる
ものではなく、PAL,SECAM方式等や、これより
も多数の走査線からなるTV信号(例えば、MUSE方
式をはじめとする高品位TV)方式をも採用できる。
【0041】さらに本発明は、はしご型配置の電子源を
備えた画像表示装置に適用することができる。これを図
9及び図10を用いて説明する。
備えた画像表示装置に適用することができる。これを図
9及び図10を用いて説明する。
【0042】図9は、はしご型配置の電子源の一例を示
す模式図である。図9において、1100は電子源基
板、1101は電子放出素子である。1102(Dx1
〜Dx10)は、電子放出素子1101に接続する共通
配線である。電子放出素子1101は、基板1100上
に、X方向に並列に複数個配されている(これを素子行
と呼ぶ)。この素子行が複数個配されて、電子源を構成
している。各素子行の共通配線間に駆動電圧を印加する
ことで、各素子行を独立に駆動させることができる。す
なわち、電子ビームを放出させたい素子行には、電子放
出しきい値以上の電圧を、電子ビームを放出しない素子
行には、電子放出しきい値以下の電圧を印加する。各素
子行間の共通配線Dx2〜Dx9を、例えばDx2,D
x3を同一配線とすることもできる。
す模式図である。図9において、1100は電子源基
板、1101は電子放出素子である。1102(Dx1
〜Dx10)は、電子放出素子1101に接続する共通
配線である。電子放出素子1101は、基板1100上
に、X方向に並列に複数個配されている(これを素子行
と呼ぶ)。この素子行が複数個配されて、電子源を構成
している。各素子行の共通配線間に駆動電圧を印加する
ことで、各素子行を独立に駆動させることができる。す
なわち、電子ビームを放出させたい素子行には、電子放
出しきい値以上の電圧を、電子ビームを放出しない素子
行には、電子放出しきい値以下の電圧を印加する。各素
子行間の共通配線Dx2〜Dx9を、例えばDx2,D
x3を同一配線とすることもできる。
【0043】図10は、はしご型配置の電子源を備えた
画像表示装置におけるパネルの構造の一例を示す模式図
である。1200はグリッド電極、1201は電子が通
過するための空孔、1202はDox1,Dox2,・
・・Doxmよりなる容器外端子である。1203は、
グリッド電極1200と接続されたG1,G2,・・・
・,Gnからなる容器外端子である。図10において
は、図3、図9に示した部位と同じ部位には、これらの
図に付したのと同一の符号を付している。ここに示した
画像表示装置と、図3に示した単純マトリックス配置の
画像表示装置の大きな違いは、電子源基板1110とフ
ェースプレート806の間にグリッド電極1200を備
えているか否かである。
画像表示装置におけるパネルの構造の一例を示す模式図
である。1200はグリッド電極、1201は電子が通
過するための空孔、1202はDox1,Dox2,・
・・Doxmよりなる容器外端子である。1203は、
グリッド電極1200と接続されたG1,G2,・・・
・,Gnからなる容器外端子である。図10において
は、図3、図9に示した部位と同じ部位には、これらの
図に付したのと同一の符号を付している。ここに示した
画像表示装置と、図3に示した単純マトリックス配置の
画像表示装置の大きな違いは、電子源基板1110とフ
ェースプレート806の間にグリッド電極1200を備
えているか否かである。
【0044】グリッド電極1200は、表面伝導型電子
放出素子から放出された電子ビームを変調するものであ
り、はしご型配置の素子行と直交して設けられたストラ
イプ状の電極に電子ビームを通過させるため、各素子に
対応して1個ずつ円形の開口1201が設けられてい
る。グリッドの形状や設置位置は図10に示したものに
限定されるものではない。例えば、開口としてメッシュ
状に多数の通過口を設けることもでき、グリッドを表面
伝導型電子放出素子の周囲や近傍に設けることもでき
る。
放出素子から放出された電子ビームを変調するものであ
り、はしご型配置の素子行と直交して設けられたストラ
イプ状の電極に電子ビームを通過させるため、各素子に
対応して1個ずつ円形の開口1201が設けられてい
る。グリッドの形状や設置位置は図10に示したものに
限定されるものではない。例えば、開口としてメッシュ
状に多数の通過口を設けることもでき、グリッドを表面
伝導型電子放出素子の周囲や近傍に設けることもでき
る。
【0045】容器外端子1202及びグリッド容器外端
子1203は、不図示の制御回路と電気的に接続されて
いる。
子1203は、不図示の制御回路と電気的に接続されて
いる。
【0046】本例の画像表示装置では素子行を1列ずつ
順次駆動(走査)していくのと同期してグリッド電極列
に画像の1ライン分の変調信号を同時に印加する。これ
により、各電子ビームの蛍光体への照射を制御し、画像
を1ラインずつ表示することができる。
順次駆動(走査)していくのと同期してグリッド電極列
に画像の1ライン分の変調信号を同時に印加する。これ
により、各電子ビームの蛍光体への照射を制御し、画像
を1ラインずつ表示することができる。
【0047】このようなはしご型配置の電子源を備えた
画像表示装置の場合には、導電性スペーサを、グリッド
の電子通過孔(開口)のない領域上に配置し、前述の画
像表示装置の製造と同じようにして作製することができ
る。
画像表示装置の場合には、導電性スペーサを、グリッド
の電子通過孔(開口)のない領域上に配置し、前述の画
像表示装置の製造と同じようにして作製することができ
る。
【0048】本発明の画像表示装置は、テレビジョンン
放送の表示装置、テレビ会議システムやコンピュータ等
の表示装置の他、感光性ドラム等を用いて構成された光
プリンターとしての画像表示装置としても用いることが
できる。
放送の表示装置、テレビ会議システムやコンピュータ等
の表示装置の他、感光性ドラム等を用いて構成された光
プリンターとしての画像表示装置としても用いることが
できる。
【0049】
【実施例】以下に、本発明の実施例について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【0050】[実施例1]電子放出素子として平面型表
面伝導型電子放出素子を用い、単純マトリクス配置した
電子源を用いた画像表示装置を作製した例を図1,図2
(a),図11,図12,図13,図14を用いて示
す。
面伝導型電子放出素子を用い、単純マトリクス配置した
電子源を用いた画像表示装置を作製した例を図1,図2
(a),図11,図12,図13,図14を用いて示
す。
【0051】電子源の一部の平面図を図11に示す。ま
た、図中A−A’断面図を図12に、製造手順を図13
及び図14に示す。ただし、図11、図12、図13、
図14において同じ符号は同じ部材を示す。
た、図中A−A’断面図を図12に、製造手順を図13
及び図14に示す。ただし、図11、図12、図13、
図14において同じ符号は同じ部材を示す。
【0052】ここで1は基板、72はX方向配線(下配
線とも呼ぶ)、73はY方向配線(上配線とも呼ぶ)、
3は電子放出部を含む薄膜、2,3は素子電極、151
は層間絶縁層、152は素子電極3と下配線72と電気
的接続のためのコンタクトホールである。
線とも呼ぶ)、73はY方向配線(上配線とも呼ぶ)、
3は電子放出部を含む薄膜、2,3は素子電極、151
は層間絶縁層、152は素子電極3と下配線72と電気
的接続のためのコンタクトホールである。
【0053】次に製造方法を、図13及び図14に基づ
いて工程順にしたがって具体的に説明する。なお、以下
の各工程a〜hは図13及び図14の(a)〜(h)に
対応するものである。
いて工程順にしたがって具体的に説明する。なお、以下
の各工程a〜hは図13及び図14の(a)〜(h)に
対応するものである。
【0054】工程−a 清浄化した青板ガラス上に厚さ0.5ミクロンのシリコ
ン酸化膜をスパッタ法で形成した基板1上に真空蒸着に
より、厚さ50オングストロームのCr、厚さ6000
オングストロームのAuを順次積層した後、ホストレジ
スト(AZ1370・ヘキスト社製)をスピンナーによ
り回転塗布し、ベークした後、ホトマスク像を露光、現
像して、下配線72のレジストパターンを形成し、Au
/Cr堆積膜をウエットエッチングして、所望の形状の
下配線72を形成した。
ン酸化膜をスパッタ法で形成した基板1上に真空蒸着に
より、厚さ50オングストロームのCr、厚さ6000
オングストロームのAuを順次積層した後、ホストレジ
スト(AZ1370・ヘキスト社製)をスピンナーによ
り回転塗布し、ベークした後、ホトマスク像を露光、現
像して、下配線72のレジストパターンを形成し、Au
/Cr堆積膜をウエットエッチングして、所望の形状の
下配線72を形成した。
【0055】工程−b 次に、厚さ1.0ミクロンのシリコン酸化膜からなる層
間絶縁層151をRFスパッタ法により堆積した。
間絶縁層151をRFスパッタ法により堆積した。
【0056】工程−c 工程bで堆積したシリコン酸化膜にコンタクトホール1
52を形成するためのホトレジストパターンを作り、こ
れをマスクとして層間絶縁層151をエッチングしてコ
ンタクトホール152を形成した。エッチングはCF4
とH2 ガスを用いてRIE(Reactive Ion Etching)法
によった。
52を形成するためのホトレジストパターンを作り、こ
れをマスクとして層間絶縁層151をエッチングしてコ
ンタクトホール152を形成した。エッチングはCF4
とH2 ガスを用いてRIE(Reactive Ion Etching)法
によった。
【0057】工程−d その後、素子電極2,3と素子電極間ギャップLとなる
べきパターンをホトレジスト(RD−2000N−41
・日立化成社製)で形成し、真空蒸着法により、厚さ5
0オングストロームのTi、厚さ1000オングストロ
ームのNiを順次堆積した。ホトレジストパターンを有
機溶剤で溶解し、Ni/Ti堆積膜をリフトオフし、素
子電極間隔L1が3ミクロメーター、幅W1が300ミ
クロンの素子電極2,3を形成した。
べきパターンをホトレジスト(RD−2000N−41
・日立化成社製)で形成し、真空蒸着法により、厚さ5
0オングストロームのTi、厚さ1000オングストロ
ームのNiを順次堆積した。ホトレジストパターンを有
機溶剤で溶解し、Ni/Ti堆積膜をリフトオフし、素
子電極間隔L1が3ミクロメーター、幅W1が300ミ
クロンの素子電極2,3を形成した。
【0058】工程−e 素子電極2,3の上に上配線73用のホトレジストパタ
ーンを形成した後、厚さ50オングストロームのTi、
厚さ5000オングストロームのAuを順次真空蒸着に
より堆積し、リフトオフにより不要の部分を除去して、
所望の形状の上配線73を形成した。
ーンを形成した後、厚さ50オングストロームのTi、
厚さ5000オングストロームのAuを順次真空蒸着に
より堆積し、リフトオフにより不要の部分を除去して、
所望の形状の上配線73を形成した。
【0059】工程−f 次に、膜厚1000オングストロームのCr膜153を
真空蒸着により堆積・パターニングし、その上に有機P
d(ccp4230・奥野製薬(株)社製)をスピンナ
ーにより回転塗布し、300℃で10分間の加熱焼成処
理をした。また、こうして形成された主元素がPdの微
粒子からなる薄膜4の膜厚は100オングストローム、
シート抵抗値は5×104 Ω/□であった。なお、ここ
で述べる微粒子とは、上述したように、複数の微粒子が
集合した膜であり、その微細構造として、微粒子が個々
に分散配置した状態のみならず、微粒子が互いに隣接、
あるいは、重なり合った状態(島状も含む)の膜を指
し、その粒径とは、上記状態で粒子形状が認識可能な微
粒子についての径をいう。
真空蒸着により堆積・パターニングし、その上に有機P
d(ccp4230・奥野製薬(株)社製)をスピンナ
ーにより回転塗布し、300℃で10分間の加熱焼成処
理をした。また、こうして形成された主元素がPdの微
粒子からなる薄膜4の膜厚は100オングストローム、
シート抵抗値は5×104 Ω/□であった。なお、ここ
で述べる微粒子とは、上述したように、複数の微粒子が
集合した膜であり、その微細構造として、微粒子が個々
に分散配置した状態のみならず、微粒子が互いに隣接、
あるいは、重なり合った状態(島状も含む)の膜を指
し、その粒径とは、上記状態で粒子形状が認識可能な微
粒子についての径をいう。
【0060】工程−g Cr膜153及び焼成後の薄膜4を酸エッチャントによ
りエッチングして所望のパターンを形成した。
りエッチングして所望のパターンを形成した。
【0061】工程−h コンタクトホール152部分以外にレジストを塗布して
パターンを形成し、真空蒸着により厚さ50オングスト
ロームのTi、厚さ5000オングストロームのAuを
順次堆積した。リフトオフにより不要の部分を除去する
ことにより、コンタクトホール152を埋め込んだ。以
上の工程によりフォーミング前の電子源基板71を作製
した。
パターンを形成し、真空蒸着により厚さ50オングスト
ロームのTi、厚さ5000オングストロームのAuを
順次堆積した。リフトオフにより不要の部分を除去する
ことにより、コンタクトホール152を埋め込んだ。以
上の工程によりフォーミング前の電子源基板71を作製
した。
【0062】次にフェースプレート側を以下に示すよう
に作製した。
に作製した。
【0063】まず、透明ガラス基板110の上に、通常
良く用いられる黒鉛を主成分とする材料を用いてストラ
イプ状に黒色体(ブラックストライプ105)を印刷法
により形成した。このブラックストライプの間隙部に各
色蛍光体をスラリー法で塗布して蛍光膜104を作製し
た。
良く用いられる黒鉛を主成分とする材料を用いてストラ
イプ状に黒色体(ブラックストライプ105)を印刷法
により形成した。このブラックストライプの間隙部に各
色蛍光体をスラリー法で塗布して蛍光膜104を作製し
た。
【0064】次いで蛍光膜104の内側にマスク蒸着法
で0.2μmのAlのメタルバックパターンを形成し
た。メタルバックパターンは、当接部において、メタル
バック存在部分と非存在部分とからなるもので、位置関
係は図1および図2(a)のパターンである。なお、図
1(a)と図2(a)は同じものを示す。
で0.2μmのAlのメタルバックパターンを形成し
た。メタルバックパターンは、当接部において、メタル
バック存在部分と非存在部分とからなるもので、位置関
係は図1および図2(a)のパターンである。なお、図
1(a)と図2(a)は同じものを示す。
【0065】図2(a)、図1(a)において、101
は波線で囲まれた導電性スペーサ当接部であり、102
は実線で囲まれたメタルバックが存在しない領域であ
る。本実施例では、導電性スペーサの寸法は当接面がX
1=40mm、Y2=0.25mmで、高さ4mmであ
り、メタルバックが存在しない領域は、X2=30m
m、Y1=0.30mmである。したがって、101の
当接部で102の領域以外は、メタルバックが存在する
領域である。なお、本実施例において、図1(a)にお
けるA−A’断面、及びB−B’断面をそれぞれ図1
(b)及び図1(c)に示した。
は波線で囲まれた導電性スペーサ当接部であり、102
は実線で囲まれたメタルバックが存在しない領域であ
る。本実施例では、導電性スペーサの寸法は当接面がX
1=40mm、Y2=0.25mmで、高さ4mmであ
り、メタルバックが存在しない領域は、X2=30m
m、Y1=0.30mmである。したがって、101の
当接部で102の領域以外は、メタルバックが存在する
領域である。なお、本実施例において、図1(a)にお
けるA−A’断面、及びB−B’断面をそれぞれ図1
(b)及び図1(c)に示した。
【0066】次いで、このようにして形成したフェース
プレートに導電性スペーサの固定を行った。
プレートに導電性スペーサの固定を行った。
【0067】本実施例においては、図1(b)、(c)
のように導電性スペーサは、幅0.25×長さ40×高
さ4mmのプレート状で、青板ガラス基材107の側面
に半導電膜108としてNiO及び上下面に導電膜10
9としてAlが形成されている。導電性フィラー112
には、平均粒径20μmのシリカ球表面にメッキ法によ
りAuを形成したものを用い、導電性フィラー112を
フリットガラス粉末に対して20重量%混合し(導電性
フリット粉末)、溶剤とバインダーを加えてペースト状
にしたものをディスペンサーにより、導電性スペーサ当
接部に幅0.3mm、長さ40mmで塗布し、大気中で
加圧しながら440℃で10分以上焼成することによ
り、導電性スペーサのフェースプレート103への電気
的接続及び機械的接続を行った。
のように導電性スペーサは、幅0.25×長さ40×高
さ4mmのプレート状で、青板ガラス基材107の側面
に半導電膜108としてNiO及び上下面に導電膜10
9としてAlが形成されている。導電性フィラー112
には、平均粒径20μmのシリカ球表面にメッキ法によ
りAuを形成したものを用い、導電性フィラー112を
フリットガラス粉末に対して20重量%混合し(導電性
フリット粉末)、溶剤とバインダーを加えてペースト状
にしたものをディスペンサーにより、導電性スペーサ当
接部に幅0.3mm、長さ40mmで塗布し、大気中で
加圧しながら440℃で10分以上焼成することによ
り、導電性スペーサのフェースプレート103への電気
的接続及び機械的接続を行った。
【0068】続いて、多数の表面伝導型電子放出素子を
設けた基板をリアプレートとし、不図示の排気管を固定
した支持枠と、前記導電性スペーサを接合したフェース
プレートと、上記リアプレートとの接合部にフリットガ
ラスを塗布し、大気中で450℃で10分間保持し焼成
することで封着し、図3に示した画像表示装置と同様な
外囲器を作製した。なお、上記導電性スペーサとリアプ
レートとの接合は、前記上配線72と、接合するように
行い、フリットガラスとしては前記した導電性スペーサ
とフェースプレートとの接合に用いたものと同じものを
用いた。
設けた基板をリアプレートとし、不図示の排気管を固定
した支持枠と、前記導電性スペーサを接合したフェース
プレートと、上記リアプレートとの接合部にフリットガ
ラスを塗布し、大気中で450℃で10分間保持し焼成
することで封着し、図3に示した画像表示装置と同様な
外囲器を作製した。なお、上記導電性スペーサとリアプ
レートとの接合は、前記上配線72と、接合するように
行い、フリットガラスとしては前記した導電性スペーサ
とフェースプレートとの接合に用いたものと同じものを
用いた。
【0069】フェースプレート806には、さらに蛍光
膜104の導伝性を高めるために、蛍光膜104の外面
側に透明電極(不図示)が設けられる場合もあるが、本
実施例ではメタルバック106のみで充分な導伝性が得
られたので省略した。
膜104の導伝性を高めるために、蛍光膜104の外面
側に透明電極(不図示)が設けられる場合もあるが、本
実施例ではメタルバック106のみで充分な導伝性が得
られたので省略した。
【0070】前述の封着を行う際、カラーの場合は各色
蛍光体と電子放出素子とを対応させなくてはいけないた
め、充分な位置合わせを行った。
蛍光体と電子放出素子とを対応させなくてはいけないた
め、充分な位置合わせを行った。
【0071】以上のようにして完成した外囲器内の雰囲
気を充分な真空度に達した後、容器外端子Dx1乃至D
xmとDy1乃至Dynを通じ素子電極2,3間に電圧
を印加し、導電性薄膜をフォーミング処理することで電
子放出部を作製した。
気を充分な真空度に達した後、容器外端子Dx1乃至D
xmとDy1乃至Dynを通じ素子電極2,3間に電圧
を印加し、導電性薄膜をフォーミング処理することで電
子放出部を作製した。
【0072】フォーミング処理の電圧波形は、図15と
した。また、本実施例ではT1を1ミリ秒とし、T2を
10ミリ秒として、三角波の波高値を0.1Vステップ
で徐々に増加させてフォーミングを行った。フォーミン
グ処理中は同時にT2間に0.1Vの抵抗測定パルスを
挿入し抵抗を測定した。フォーミングの終了は抵抗測定
パルスでの測定値が約1MΩ以上になったときとして、
同時に素子への電圧印加を終了した。なお、排気はロー
タリーポンプを使用し排気管から排気し、約1×10-5
torr以下の真空雰囲気下で行った。
した。また、本実施例ではT1を1ミリ秒とし、T2を
10ミリ秒として、三角波の波高値を0.1Vステップ
で徐々に増加させてフォーミングを行った。フォーミン
グ処理中は同時にT2間に0.1Vの抵抗測定パルスを
挿入し抵抗を測定した。フォーミングの終了は抵抗測定
パルスでの測定値が約1MΩ以上になったときとして、
同時に素子への電圧印加を終了した。なお、排気はロー
タリーポンプを使用し排気管から排気し、約1×10-5
torr以下の真空雰囲気下で行った。
【0073】次に、波高値14V、パルス幅30マイク
ロ秒で、真空度2×10-5の真空度で、素子電流If、
放出電流Ieを測定しながら、活性化工程を行った。
ロ秒で、真空度2×10-5の真空度で、素子電流If、
放出電流Ieを測定しながら、活性化工程を行った。
【0074】以上のようにフォーミング工程、活性化工
程を行い、電子放出部を有する表面伝導型電子放出素7
4を作製した。
程を行い、電子放出部を有する表面伝導型電子放出素7
4を作製した。
【0075】その後、イオンポンプ等のオイルを使用し
ないポンプ系の超高真空排気装置に切り換え、120℃
で充分な時間ベーキングし、安定加工を行った。ベーキ
ング後の真空度は1×10-6.5torr程度で、有機物
分圧は1×10-7.5torr程度であった。
ないポンプ系の超高真空排気装置に切り換え、120℃
で充分な時間ベーキングし、安定加工を行った。ベーキ
ング後の真空度は1×10-6.5torr程度で、有機物
分圧は1×10-7.5torr程度であった。
【0076】さらに排気管の封止を行う前に、外囲器全
体を真空排気しながら約130℃に加熱しながら脱ガス
を行った。
体を真空排気しながら約130℃に加熱しながら脱ガス
を行った。
【0077】そして、5×10-7torr程度の真空度
で、排気管をガスバーナーで熱することで溶着し外囲器
の封止を行った。
で、排気管をガスバーナーで熱することで溶着し外囲器
の封止を行った。
【0078】最後に封止後の真空度を維持するために、
ゲッタ処理を行った。これは、封止を行う直前あるいは
封止後に、抵抗加熱あるいは高周波加熱等の加熱法によ
り、外囲器内の所定の位置(不図示)に配置されたゲッ
タを加熱し、蒸着膜を形成する処理である。ゲッタは通
常Ba等が主成分であり、該蒸着膜の吸着作用により、
真空度を維持するものである。
ゲッタ処理を行った。これは、封止を行う直前あるいは
封止後に、抵抗加熱あるいは高周波加熱等の加熱法によ
り、外囲器内の所定の位置(不図示)に配置されたゲッ
タを加熱し、蒸着膜を形成する処理である。ゲッタは通
常Ba等が主成分であり、該蒸着膜の吸着作用により、
真空度を維持するものである。
【0079】以上のように形成した外囲器に不図示の画
像表示用の駆動回路を取り付け、完成した本発明の画像
表示装置において、各電子放出素子には、容器外端子D
x1乃至DxmとDy1乃至Dynを通じ、電圧を印加
することにより、電子放出させ、高圧端子Hvを通じ、
メタルバックに5kVの高圧を印加し、電子ビームを加
速し、蛍光膜84に衝突させ、励起・発光させることで
画像を表示した。画像は均一に優れ安定した良質のもの
であった。
像表示用の駆動回路を取り付け、完成した本発明の画像
表示装置において、各電子放出素子には、容器外端子D
x1乃至DxmとDy1乃至Dynを通じ、電圧を印加
することにより、電子放出させ、高圧端子Hvを通じ、
メタルバックに5kVの高圧を印加し、電子ビームを加
速し、蛍光膜84に衝突させ、励起・発光させることで
画像を表示した。画像は均一に優れ安定した良質のもの
であった。
【0080】また、このようにして製造された画像表示
装置は、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接
続の信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足
するものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体
の発光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがな
く、耐大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
装置は、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接
続の信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足
するものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体
の発光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがな
く、耐大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
【0081】[実施例2]当接部付近のメタルバックの
パターンとして図2(b)(リアプレート側からフェー
スプレート側を見た平面図)に示した形状とした以外は
実施例1と同様にして画像表示装置を作製した。
パターンとして図2(b)(リアプレート側からフェー
スプレート側を見た平面図)に示した形状とした以外は
実施例1と同様にして画像表示装置を作製した。
【0082】図2bにおいて、101は波線で囲まれた
導電性スペーサ当接部であり、102は実線で囲まれた
メタルバックが存在しない領域である。本実施例では、
導電性スペーサの寸法は、実施例1と同一で当接面がX
1=40mm、Y3=0.25mmで、高さが4mmで
あり、メタルバックが存在しない領域は、3箇所ありそ
れぞれX3=10mm、Y1=0.3mmであり、それ
ぞれの間隔はX4=5mmである。したがって、101
は当接部で102の領域以外は、メタルバックが存在す
る領域である。
導電性スペーサ当接部であり、102は実線で囲まれた
メタルバックが存在しない領域である。本実施例では、
導電性スペーサの寸法は、実施例1と同一で当接面がX
1=40mm、Y3=0.25mmで、高さが4mmで
あり、メタルバックが存在しない領域は、3箇所ありそ
れぞれX3=10mm、Y1=0.3mmであり、それ
ぞれの間隔はX4=5mmである。したがって、101
は当接部で102の領域以外は、メタルバックが存在す
る領域である。
【0083】このようにして製造された画像表示装置
は、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続の
信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足する
ものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがなく、耐
大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
は、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続の
信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足する
ものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがなく、耐
大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
【0084】[実施例3]当接部付近のメタルバックの
パターンとして図2(c)(リアプレート側からフェー
スプレート側を見た平面図)に示した形状とした以外は
実施例1と同様にして画像表示装置を作製した。
パターンとして図2(c)(リアプレート側からフェー
スプレート側を見た平面図)に示した形状とした以外は
実施例1と同様にして画像表示装置を作製した。
【0085】図2(c)において、101は波線で囲ま
れた導電性スペーサ当接部であり、102は実線で囲ま
れたメタルバックが存在しない領域である。本実施例で
は、導電性スペーサの寸法は、実施例1と同一で当接面
がX1=40mm、Y1=0.25mmで、高さが4m
mであり、メタルバックが存在しない領域は、X5=4
0mm、Y5=0.2mm(Y6=0.025mm)で
ある。したがって、101は当接部で102の領域以外
は、メタルバックが存在する領域である。なお、本実施
例で、メタルバックのパターン形成は、まず全面にAl
を0.2μmの厚さで形成した後ドライエッチング法を
用いて、メタルバック不要部分を除去することで行っ
た。
れた導電性スペーサ当接部であり、102は実線で囲ま
れたメタルバックが存在しない領域である。本実施例で
は、導電性スペーサの寸法は、実施例1と同一で当接面
がX1=40mm、Y1=0.25mmで、高さが4m
mであり、メタルバックが存在しない領域は、X5=4
0mm、Y5=0.2mm(Y6=0.025mm)で
ある。したがって、101は当接部で102の領域以外
は、メタルバックが存在する領域である。なお、本実施
例で、メタルバックのパターン形成は、まず全面にAl
を0.2μmの厚さで形成した後ドライエッチング法を
用いて、メタルバック不要部分を除去することで行っ
た。
【0086】このようにして製造された画像表示装置
も、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続の
信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足する
ものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがなく、耐
大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
も、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続の
信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足する
ものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがなく、耐
大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
【0087】[実施例4]当接部付近のメタルバックの
パターンとして図2(d)(リアプレート側からフェー
スプレート側を見た平面図)に示した形状とした以外は
実施例1と同様にして画像表示装置を作製した。
パターンとして図2(d)(リアプレート側からフェー
スプレート側を見た平面図)に示した形状とした以外は
実施例1と同様にして画像表示装置を作製した。
【0088】図2(d)において、101は波線で囲ま
れた導電性スペーサ当接部であり、102は実線で囲ま
れたメタルバックが存在しない領域であり、それ以外は
メタルバックが存在する領域である。本実施例では、導
電性スペーサの寸法は、実施例1と同一で当接面がX1
=40mm、Y1=0.25mmで、高さが4mmであ
る。また、X6=9.88mm、X7=0.16mm、
Y7=0.3mm、ΦD=0.2mmである。なお、図
2(d)においてメタルバックが存在しない領域は、本
質的ではないが、上下左右対称である。
れた導電性スペーサ当接部であり、102は実線で囲ま
れたメタルバックが存在しない領域であり、それ以外は
メタルバックが存在する領域である。本実施例では、導
電性スペーサの寸法は、実施例1と同一で当接面がX1
=40mm、Y1=0.25mmで、高さが4mmであ
る。また、X6=9.88mm、X7=0.16mm、
Y7=0.3mm、ΦD=0.2mmである。なお、図
2(d)においてメタルバックが存在しない領域は、本
質的ではないが、上下左右対称である。
【0089】なお、メタルバックのパターンは実施例3
と同様にドライエッチング法を用いて、0.2μmのパ
ターンを形成した。
と同様にドライエッチング法を用いて、0.2μmのパ
ターンを形成した。
【0090】このようにして製造された画像表示装置
も、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続の
信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足する
ものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがなく、耐
大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
も、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続の
信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足する
ものであり、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じてしまうことがなく、耐
大気圧支持も充分な画像表示装置であった。
【0091】[実施例5]本実施例では、電子放出素子
として電界放出型を用いた。
として電界放出型を用いた。
【0092】図16に電界放出型電子放出素子の構造を
示す。同図において40は負電極、41は正電極であ
り、44はその先端を鋭角にした電子を放出させる電子
放出部、43は絶縁層である。このような構成において
正電極41と負電極40に電圧を印加すると電子放出部
44に電界が集中し電子放出部44より電子を放出す
る。本例の電界放出型電子放出素子においては、負電極
40、正電極44として厚さ1μmのAuを用い、電子
放出部44の先端角は45度、一画素に対応する電子放
出素子には100個の電子放出部44を持ち、絶縁層4
3として厚さ1μmのSiO2 を用いた。作製方法は、
AuとSiO2 はスパッタ法によって堆積させ、加工は
フォトリソグラフィ技術(エッチング、リフトオフ等の
加工技術も含む)によって行った。電界放出型電子放出
素子は実施例1の表面伝導型電子放出素子と入れ換え、
正電極41と負電極40をぞれぞれ配線に接続し、その
他の構造、大きさは実施例1と同じであった。
示す。同図において40は負電極、41は正電極であ
り、44はその先端を鋭角にした電子を放出させる電子
放出部、43は絶縁層である。このような構成において
正電極41と負電極40に電圧を印加すると電子放出部
44に電界が集中し電子放出部44より電子を放出す
る。本例の電界放出型電子放出素子においては、負電極
40、正電極44として厚さ1μmのAuを用い、電子
放出部44の先端角は45度、一画素に対応する電子放
出素子には100個の電子放出部44を持ち、絶縁層4
3として厚さ1μmのSiO2 を用いた。作製方法は、
AuとSiO2 はスパッタ法によって堆積させ、加工は
フォトリソグラフィ技術(エッチング、リフトオフ等の
加工技術も含む)によって行った。電界放出型電子放出
素子は実施例1の表面伝導型電子放出素子と入れ換え、
正電極41と負電極40をぞれぞれ配線に接続し、その
他の構造、大きさは実施例1と同じであった。
【0093】さらに電子放出素子の作製方法、真空排気
方法、排気後の圧力、加熱脱ガス、ゲッタフラッシュ、
排気管の封じ切りを実施例1と同様に行い画像表示装置
を作製した。ただし、スペーサの高さ(フェースプレー
トとリアプレート間隔)を1mmとした。外部駆動回路
(不図示)とをそれぞれフラットケーブル(不図示)で
繋ぎ、画像電気信号を本電界放出型電子放出素子に送
り、同時に蛍光体とメタルバックに高圧電源(不図示)
より1kV印加して画像を表示した。本例においても優
れた画像を表示し得た。
方法、排気後の圧力、加熱脱ガス、ゲッタフラッシュ、
排気管の封じ切りを実施例1と同様に行い画像表示装置
を作製した。ただし、スペーサの高さ(フェースプレー
トとリアプレート間隔)を1mmとした。外部駆動回路
(不図示)とをそれぞれフラットケーブル(不図示)で
繋ぎ、画像電気信号を本電界放出型電子放出素子に送
り、同時に蛍光体とメタルバックに高圧電源(不図示)
より1kV印加して画像を表示した。本例においても優
れた画像を表示し得た。
【0094】
【発明の効果】以上説明したように、フェースプレート
と導電性スペーサの当接部が、メタルバックが存在する
領域と存在しない領域からなり、導電性スペーサがフェ
ースプレートと導電性フリットガラスを介して接続され
ていることより、メタルバックが非存在部分では、導電
性スペーサと強度(密着力)の高いブラックストライプ
との接続となるので、機械的強度の信頼性が高く、メタ
ルバックが存在部分では、電気的接続が垂直方法で行わ
れるために電気的接続の信頼性が高い。即ち本発明によ
れば、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続
の信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足す
る。従って、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じることがなく、耐大気圧
支持も充分な画像表示装置を提供することができる。
と導電性スペーサの当接部が、メタルバックが存在する
領域と存在しない領域からなり、導電性スペーサがフェ
ースプレートと導電性フリットガラスを介して接続され
ていることより、メタルバックが非存在部分では、導電
性スペーサと強度(密着力)の高いブラックストライプ
との接続となるので、機械的強度の信頼性が高く、メタ
ルバックが存在部分では、電気的接続が垂直方法で行わ
れるために電気的接続の信頼性が高い。即ち本発明によ
れば、フェースプレートと導電性スペーサの電気的接続
の信頼性及び機械的接続の信頼性の双方を同時に満足す
る。従って、電子ビーム軌道のずれが生じて蛍光体の発
光位置や発光形状の変化が生じることがなく、耐大気圧
支持も充分な画像表示装置を提供することができる。
【図1】本発明のフェースプレートと導電性スペーサと
の当接部の平面図と断面図である。
の当接部の平面図と断面図である。
【図2】本発明の当接部の平面図である。
【図3】本発明の画像表示装置の1例の断面図である。
【図4】蛍光膜の一例を示す模式図である。
【図5】本発明に用いられる平面型表面伝導型電子放出
素子の模式図である。
素子の模式図である。
【図6】本発明に用いられる垂直型表面伝導型電子放出
素子の模式図である。
素子の模式図である。
【図7】本発明に用いられるマトリクス配置型の電子源
基板の一例を示す模式図である。
基板の一例を示す模式図である。
【図8】画像表示装置にNTSC方式のテレビ信号に応
じて表示を行うための駆動回路の一例を示すブロック図
である。
じて表示を行うための駆動回路の一例を示すブロック図
である。
【図9】本発明で用いられる梯子配置型電子源基板の一
例を示す模式図である。
例を示す模式図である。
【図10】本発明の画像表示装置の表示パネルの一例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図11】本発明で用いられる電子源基板の模式図であ
る。
る。
【図12】本発明の電子源基板の断面図である。
【図13】本発明の電子源基板の製造工程図である。
【図14】本発明の電子源基板の製造工程図である。
【図15】本発明に用いられる平面型表面伝導型電子放
出素子の製造に際して採用できる通電フォーミング処理
における電圧波形の一例を示す模式図である。
出素子の製造に際して採用できる通電フォーミング処理
における電圧波形の一例を示す模式図である。
【図16】本発明に用いられる電界放出型電子放出素子
である。
である。
【図17】従来の画像表示装置の断面図である。
【図18】従来の画像表示装置の当接部の平面図および
断面図である。
断面図である。
101 当接部 102 メタルバック非存在部分 103、806 フェースプレート 104、804 蛍光体 110、803 ガラス基板 106、805 メタルバック 107 絶縁性基材 108 半導電膜 109 導電膜 111 導電性フリットガラス 112 導電性フィラー 120 導電性スペーサ 702 X方向配線 703 Y方向配線 704 表面伝導型電子放出素子 801 リアプレート 802 支持枠 807 高圧端子 808 外囲器 901 黒色部材 902 蛍光体
Claims (15)
- 【請求項1】 電子放出素子とメタルバックとを内包
し、内部を減圧状態に維持してなる外囲器と、該外囲器
内に配置され、該外囲器を大気圧から支持するスペーサ
とで構成される画像表示装置において、 前記スペーサが導電性であり、 該スペーサの端部が前記メタルバックに当接しており、 該当接部が、メタルバック存在部分とメタルバック非存
在部分とで構成されていることを特徴とする画像表示装
置。 - 【請求項2】 前記電子放出素子が基板上に形成され、
前記スペーサのメタルバックに当接している側とは反対
側の端部が該基板と当接していることを特徴とする請求
項1記載の画像表示装置。 - 【請求項3】 前記スペーサのメタルバックに当接して
いる側とは反対側の端部が、前記基板上に形成された電
極と当接していることを特徴とする請求項1または2に
記載の画像表示装置。 - 【請求項4】 前記電極が、電子放出素子を駆動するた
めの配線であることを特徴とする請求項3記載の画像表
示装置。 - 【請求項5】 前記基板が前記外囲器の一部で構成され
ていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載
の画像表示装置。 - 【請求項6】 前記のメタルバック非存在部分が非発光
部であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記
載の画像表示装置。 - 【請求項7】 前記非発光部がブラックストライプまた
はブラックマトリクスであることを特徴とする請求項1
〜5のいずれかに記載の画像表示装置。 - 【請求項8】 前記蛍光体が前記外囲器の内面上に形成
され、さらにその上に前記メタルバックが形成されてい
ることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の画
像表示装置。 - 【請求項9】 前記スペーサが導電体または半導体で構
成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか
に記載の画像表示装置。 - 【請求項10】 前記スペーサが、絶縁性基材表面を導
電体および/または半導体で被覆したものであることを
特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の画像表示装
置。 - 【請求項11】 前記スペーサの全体が、すべて導電体
または半導体で構成されていることを特徴とする請求項
1〜6のいずれかに記載の画像表示装置。 - 【請求項12】 前記電子放出素子が前記基板上に複数
個配列形成されていることを特徴とする請求項1〜9の
いずれかに記載の画像表示装置。 - 【請求項13】 前記電子放出素子が前記基板上に複数
個マトリクス上に配列形成されていることを特徴とする
請求項12記載の画像表示装置。 - 【請求項14】 前記電子放出素子が表面伝導型電子放
出素子であることを特徴とする請求項1〜11のいずれ
かに記載の画像表示装置。 - 【請求項15】 前記電子放出素子が電界放出型電子放
出素子であることを特徴とする請求項1〜11のいずれ
かに記載の画像表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10516996A JPH09293462A (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10516996A JPH09293462A (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 画像表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09293462A true JPH09293462A (ja) | 1997-11-11 |
Family
ID=14400189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10516996A Pending JPH09293462A (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 画像表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09293462A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000054307A1 (en) * | 1999-03-05 | 2000-09-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
| KR100560509B1 (ko) * | 1999-04-22 | 2006-03-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 디스플레이와 이 평판 디스플레이의 제조방법 |
-
1996
- 1996-04-25 JP JP10516996A patent/JPH09293462A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000054307A1 (en) * | 1999-03-05 | 2000-09-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
| US6879096B1 (en) | 1999-03-05 | 2005-04-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Image formation apparatus |
| US7323814B2 (en) | 1999-03-05 | 2008-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Image formation apparatus having fluorescent material and black material |
| US7737617B2 (en) | 1999-03-05 | 2010-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Image formation apparatus having getters spacers and wires |
| KR100560509B1 (ko) * | 1999-04-22 | 2006-03-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 디스플레이와 이 평판 디스플레이의 제조방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0886294B1 (en) | Electron beam apparatus | |
| JPH08315723A (ja) | 電子線発生装置、及び、それを用いた画像形成装置 | |
| JP3113150B2 (ja) | 電子線発生装置および該電子線発生装置を用いた画像形成装置 | |
| JP3217629B2 (ja) | 電子源、該電子源を用いた画像形成装置、前記電子源の製造方法および前記画像形成装置の製造方法 | |
| JPWO2000052727A1 (ja) | 電子線放出装置及び画像形成装置 | |
| JPH0945266A (ja) | 画像形成装置 | |
| JPH08153460A (ja) | 電子源及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JPH10188863A (ja) | 画像表示装置 | |
| JP3397738B2 (ja) | 電子源および画像形成装置 | |
| JPH09293462A (ja) | 画像表示装置 | |
| USRE40103E1 (en) | Electron beam apparatus and image forming apparatus | |
| JP2000021298A (ja) | 真空外囲器および画像表示装置 | |
| JP2909702B2 (ja) | 電子放出素子、電子源、画像形成装置及びこれらの製造方法 | |
| JPH08162001A (ja) | 電子源基板、電子源、画像形成装置及びそれらの製造方法 | |
| JP3332673B2 (ja) | 電子源基板および画像形成装置ならびにそれらの製造方法 | |
| JP3205176B2 (ja) | 電子源とその制御方法並びに画像形成装置及び画像形成方法 | |
| JP3450565B2 (ja) | 電子源基板および画像形成装置の製造方法 | |
| JP3572001B2 (ja) | 電子線発生装置 | |
| JP3450581B2 (ja) | 配線基板および画像形成装置の製造方法 | |
| JP2000090860A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP3450533B2 (ja) | 電子源基板および画像形成装置の製造方法 | |
| JP3459705B2 (ja) | 電子源基板の製造方法、及び画像形成装置の製造方法 | |
| JPH10255692A (ja) | 画像形成装置とその製造方法及び該装置を用いた画像表示装置 | |
| JPH07320632A (ja) | 電子源及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JPH08180800A (ja) | 電子源及び画像表示装置の製造方法 |