JPH09304917A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH09304917A5 JPH09304917A5 JP1996143516A JP14351696A JPH09304917A5 JP H09304917 A5 JPH09304917 A5 JP H09304917A5 JP 1996143516 A JP1996143516 A JP 1996143516A JP 14351696 A JP14351696 A JP 14351696A JP H09304917 A5 JPH09304917 A5 JP H09304917A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- mask
- exposure method
- light
- condenser lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14351696A JPH09304917A (ja) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14351696A JPH09304917A (ja) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | 露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09304917A JPH09304917A (ja) | 1997-11-28 |
| JPH09304917A5 true JPH09304917A5 (2) | 2004-08-26 |
Family
ID=15340565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14351696A Pending JPH09304917A (ja) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09304917A (2) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4685545B2 (ja) * | 2005-08-17 | 2011-05-18 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | フォトマスク及びレンズ |
| JP5217367B2 (ja) * | 2007-11-09 | 2013-06-19 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フォトマスク及びそれを使用した凸状パターン形成方法 |
| JP5224341B2 (ja) * | 2008-05-15 | 2013-07-03 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置及びフォトマスク |
| CN109799673B (zh) * | 2019-01-04 | 2022-09-23 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 一种掩膜板及其制备方法 |
-
1996
- 1996-05-14 JP JP14351696A patent/JPH09304917A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW200813485A (en) | Method for manufacturing microlens | |
| JP2004509361A5 (2) | ||
| CA2116805A1 (en) | Mask and method for manufacturing the same | |
| JPS6060724A (ja) | 半導体露光装置 | |
| JPH0950131A (ja) | 斜入射照明用アパーチャ及びこれを利用した投影露光装置 | |
| JP3321194B2 (ja) | フォトマスク | |
| TW257876B (en) | Focusing method of photoengraving | |
| JPH0756324A (ja) | 拡散型フォトマスク及びそれを使用する光学部品の製造法 | |
| JPS6283337A (ja) | マイクロレンズアレ−の製造方法 | |
| KR100513440B1 (ko) | 반도체소자 제조용 노광장비의 조명장치 및 이를 이용한 변형조명방법 | |
| TWI512390B (zh) | 微影系統、微影遮罩、及微影方法 | |
| US20040241555A1 (en) | Method of forming photoresist pattern free from side-lobe phenomenon | |
| JPS5754939A (en) | Optical mask and its manufacture | |
| JPH11151758A (ja) | マイクロレンズの製造方法 | |
| JPH09304917A (ja) | 露光方法 | |
| KR100276688B1 (ko) | 노광장비용 조리개 및 그 제조 방법 | |
| JPH10246808A (ja) | 回折光学素子の製造方法 | |
| JPH081809A (ja) | マイクロレンズの形成方法 | |
| KR100422958B1 (ko) | 아르곤이온주입처리를통한미세패턴형성방법 | |
| JPH05217841A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2682430B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH04369208A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH0319334A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| KR20010002724A (ko) | 파리눈 렌즈를 구비하는 사입사 조명계 및 그 제조 방법 | |
| JPH03228306A (ja) | 微細パターンの形成方法 |