JPH09309735A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents
石英ガラスの製造方法Info
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Abstract
合成石英ガラスの製造方法を提供する。 【解決手段】 シラン化合物の火炎加水分解で得た水酸
基を含むシリカ多孔質ガラス体とハロゲン化シランと
を、不活性ガス雰囲気中で温度300 〜800 ℃で反応させ
た後、850 ℃以上かつ焼結開始温度以下の温度で減圧排
気し、次いで1600℃以上の高温減圧下で緻密化して透明
な石英ガラス体とする。
Description
って作られた多孔質体を処理して得られる石英ガラスの
製造方法に関する。
化珪素の火炎加水分解により得られた多孔質体を、高温
で緻密化して製造する方法がよく知られている。このよ
うにして得られる合成石英ガラスは、火炎加水分解工程
を経ているため、多孔質体内に大量のOH基を含んでい
る。石英ガラス中にOH基が多量に存在すると、ガラス
の粘度を下げ、耐熱性が下がり、かつ通信用光ファイバ
ーの母材ガラスとして用いるにも近赤外線領域に吸収を
生じ好ましくない。
では、ガラス形成原料を熱酸化または加水分解して、支
持棒の端面に二酸化珪素(SiO2) を主成分とするガラス
形成物質を付着させ、多孔質ガラス焼結体を作製し、こ
の多孔質ガラス焼結体を、800 〜1000℃でハロゲン元素
を含むガラス形成原料ガスにさらした後、透明ガラス化
して、無水ガラス母材を作製することを開示している。
ガラス形成原料としては、SiCl4 、SiBr4 、GeCl4 、BB
r3、 POCl3、PCl3等を例示している。
水分解により製造した多孔質プリフォームの脱OH基反応
を、透明ガラス化を起こさずに脱OH基反応を起こすこと
ができる400 〜 500℃の温度で、ハロゲン化合物を含む
Heの雰囲気中で行い、その後、1000〜 1600 ℃の温度で
透明ガラス化するものである。
バーナー炎により、二酸化珪素(SiO2) を主成分とする
ガラス形成物質を支持棒に付着させ、多孔質ガラス体を
得ている。次いで、ヘリウムガス(He) 2 l/min と、
液体状の塩素含有化合物( S2Cl2、SCl2、SiCl4 、PC
l3、CCl4等)を加熱炉に送り込み、発生した蒸気を熱分
解して得られた塩素ガス雰囲気中にて、多孔質ガラス体
を1500℃に加熱して透明ガラス化を行う。このとき、透
明ガラス化に先立ち、多孔質ガラス体を800 ℃で、塩素
ガスで予備脱水処理を予め行っておくことが好ましい、
ことを開示している。
得られる合成石英ガラスは、不純物が少ないことから光
通信用の光ファイバーとして使用されてきたが、未だに
高温での粘度が天然水晶を原料とする石英ガラスよりも
低く、高温作業工程における変形が大きな欠点として認
識されていた。このため、石英ガラスを大量に使用する
半導体工業分野にあってもその用途が限られていた。本
発明の目的は、天然石英ガラス並みの高温粘度特性を有
する合成石英ガラスの製造方法を提供することにある。
得られる合成石英ガラスは、加水分解反応をともなうた
め、得られる多孔質体中に多量のOH基を含む。このOH基
は、ガラスの粘度を下げ、かつ特定波長に吸収を有し、
光ファイバー用母材ガラスとして好ましくないため、通
常、上記したように、塩素系のガスを使用して、多孔質
体中のOH基と反応させて除去する脱水処理が行われてい
る。しかしながら、塩素系のガスを使用する脱水処理に
よって、多孔質体中には相当量の塩素が残ることとな
る。
中に残留する塩素が、加熱処理して緻密化した石英ガラ
スの高温での粘度を下げる一因となっていることを見出
し、高温での粘度を上げるには、多孔質体の脱水処理か
ら緻密化工程に入るまでの間に、脱水を完全に実施する
とともに、残留する塩素濃度を粘度に対する影響がでな
いレベルまで低減すればよいことを見出し、上記課題を
解決した。本発明の石英ガラスの製造方法は、シラン化
合物の火炎加水分解で得た水酸基を含むシリカ多孔質ガ
ラス体とハロゲン化シランとを、不活性ガス雰囲気中で
温度300 〜800 ℃で反応させた後、850 ℃以上かつ焼結
開始温度以下の温度で減圧排気し、次いで1600℃以上の
高温減圧下で緻密化して透明な石英ガラス体とすること
を特徴としている。
トリクロロシランまたはテトラクロロシランを用いるの
が好ましい。前記シリカ多孔質ガラス体に反応ガスを供
給するに先立ち、シリカ多孔質ガラス体を減圧雰囲気中
でかつ反応温度以下で予熱するのが好ましい。さらに、
前記シリカ多孔質ガラス体として、ハロゲン化珪素単
独、またはハロゲン化珪素とハロゲン化アルミニウムと
の混合物を火炎加水分解して得られた多孔質体を用いる
ことができる。特公平7-115881号公報に開示されている
ように微量のアルミニウムを含んだ合成石英ガラスは高
温での粘度が向上するが、本発明の方法を適用すること
で更に粘度を向上させることができ、より耐熱性を上げ
ることができる。
を、反応ガスとして使用するハロゲン化シランとして、
メチルトリクロロシラン(SiCH3Cl3)を用いた態様を例
に詳細に説明する。先ず、公知の方法でテトラクロロシ
ランを加水分解して、シリカ微粒子を堆積させて多孔質
体を作る。この多孔質体を、電気炉内に設けられた石英
ガラス製の炉芯管内にセットし、所定の温度まで昇温す
る。このとき、多孔質体を反応温度以下で一定時間保持
することにより多孔質体に吸着している水分を除くこと
が好ましい。
ガスで希釈しながら流し、多孔質体と結合しているOH基
とメチルトリクロロシランとを反応させる。このとき次
のような反応が起こると考えられる。式中、Meはメチル
基を表す。 Si-OH + SiMeCl3 → Si-O-SiMeCl2 + HCl 反応の終了した多孔質体を1×10-3mmHg以下の減圧雰囲
気内に移し、加熱する。加熱温度が約 600℃を超えると
多孔質体内でSi-O結合とSi-C結合の交換が起こり、メチ
ルトリクロロシランの塩素は、例えば、Cl2MeSiOSiMeCl2
などの分子の一部となって排出されるため、加熱は、排
気しながら600 ℃〜焼結開始温度まで充分な時間をかけ
ることが望ましい。
度まで昇温し、多孔質体を緻密な透明ガラスとする。こ
のとき、Cl2MeSiOSiMeCl2 のような大きな分子は、ガラ
ス内に溶け込むことができずに排出される結果、残留塩
素が極めて少なくなる。一方、従来の方法によって脱水
反応を行った場合は、多孔質体内のOH基と塩素原子の置
換反応が主体となるため、多孔質体の緻密化を行う加熱
工程において、加熱により塩素分子が生成し、この塩素
分子はガラス中に溶け込むのに充分なほど小さいため、
ガラス中に残留することになる。
応温度は、300 〜 800℃が好ましい。300 ℃未満では反
応が進行せず、 800℃を超えると多孔質体にメチルトリ
クロロシランが大量に吸着され、その後の加熱により熱
分解して炭素微粒子を発生し、得られた石英ガラスが着
色することがある。より炭素数の多いエチルトリクロロ
シラン等を使用する場合、あるいはジメチルジクロロシ
ランのような2以上の置換体を使用する場合には、同様
に熱分解炭素が発生したり、シラン分子が大きくなるこ
とにより脱水反応が遅くなる場合があるので、使用する
シラン化合物によって反応時間や加熱速度を適宜調整す
ることが必要である。
ンを使用することも可能である。この場合、メチルトリ
クロロシランを使用した場合よりも多少残留塩素が多く
なり、それにともなって若干粘度の向上幅が小さくなる
傾向がみられるが、テトラクロロシランは多孔質体製造
の原料としても使用されているため、わざわざ他の材料
を使用することもなく製造上好都合である。また、テト
ラクロロシランは熱分解して炭素を発生することもな
く、反応温度を上げて短時間で脱水処理を終わらせるこ
ともできる。
化シランとの反応終了後、多孔質体を850 〜1000℃の温
度で減圧排気し、次いで、1600℃以上の高温減圧下で緻
密化することによって透明な石英ガラス体が得られる。
なお、1000℃は、実質的に多孔質体の焼結が始まる温度
である。以下、本発明を実施例にもとづき説明する。
って得た、直径100 mmの柱状をした石英ガラスの多孔質
体約1kgを、電気炉内に装着された石英ガラス製の炉芯
管(直径200 mm)内にセットした。次いで、炉芯管内を
排気した後、300 ℃に加熱し(加熱しながら排気しても
よい)、この温度で60分間予熱した。その後、反応温度
まで昇温し、多孔質体中のOH基との反応ガスとしてメチ
ルトリクロロシラン蒸気あるいはテトラクロロシラン蒸
気を、N2 ガスで希釈しながら供給し、反応させた。な
お、実施例1及び5で使用した多孔質体は、テトラクロ
ロシランとハロゲン化アルミニウムとの混合気体を火炎
加水分解して得たものであり、その使用量比は多孔質体
内にアルミニウムが 5重量ppm 程度含まれるように調整
した。他の実施例及び後述の比較例は、テトラクロロシ
ランのみを火炎加水分解して得た多孔質体を使用した。
反応条件は、表1に示したとおりである。
れた反応時間の間その温度にて保持して行った。なお、
N2 ガスの流量は 1 mol/hr である。反応終了後、処理
された多孔質体を真空炉内に移し、900 ℃まで昇温し、
1 ×10-3mmHg以下に減圧後、1時間保持し、さらに1600
℃まで昇温して緻密化された透明石英ガラスを得た。
応ガスに従来の塩素ガスを用いて脱水反応を行った。比
較例2は、反応ガスを使用しないで多孔質体の緻密化を
行ったものである。他の処理条件は実施例と同じであ
り、表1に示したとおりである。なお、天然品は、天然
水晶を酸水素火炎により溶融して石英ガラスとしたもの
である。
をそれぞれ赤外吸光分光及び比濁塩素分析法を用いて測
定し、さらに1280℃に加熱してビームベンディング法に
よりその温度における粘度を測定した。その結果を表2
に示す。
時の粘度は、いずれも天然水晶を原料とする天然品の粘
度と比較して、同程度ないしそれ以上であり、高温環境
下にあっても変形し難いものであった。また、多孔質体
の原料としてテトラクロロシランとハロゲン化アルミニ
ウムの混合物を使用した実施例1と5の石英ガラスは、
さらに高温時の粘度が増大し、極めて耐熱性が向上し
た。これに対して、比較例1の石英ガラスは、脱水は充
分になされていたが、塩素の残留濃度が高く、比較例2
の石英ガラスは、真空での緻密化により多少減少しては
いるもののOHが残留していた。そのため比較例1,2で
得られた石英ガラスの高温時の粘度は、かなり低いもの
となった。なお、天然水晶を原料とした天然品は、OH濃
度が高いにもかかわらず高温時の粘度が高いのは、出発
原料の差異にもとづくガラス構造の違いに起因してい
る。
リカ多孔質ガラス体を、メチルトリクロロシランまたは
テトラクロロシランと不活性ガス雰囲気中で温度300 〜
800 ℃で反応させた後、850 ℃以上かつ焼結開始温度以
下の温度で減圧排気し、次いで1600℃以上の高温減圧下
で緻密化することによつて、天然水晶を原料とする天然
品の高温時の粘度と比較しても遜色のない高い粘度を有
する石英ガラスが得られた。
Claims (4)
- 【請求項1】 シラン化合物の火炎加水分解で得た水酸
基を含むシリカ多孔質ガラス体とハロゲン化シランと
を、不活性ガス雰囲気中で温度300 〜800 ℃で反応させ
た後、850 ℃以上かつ焼結開始温度以下の温度で減圧排
気し、次いで1600℃以上の高温減圧下で緻密化して透明
な石英ガラス体とすることを特徴とする石英ガラスの製
造方法。 - 【請求項2】 前記ハロゲン化シランが、メチルトリク
ロロシランまたはテトラクロロシランであることを特徴
とする請求項1に記載の石英ガラスの製造方法。 - 【請求項3】 前記シリカ多孔質ガラス体に反応ガスを
供給するに先立ち、シリカ多孔質ガラス体を減圧雰囲気
中でかつ反応温度以下で予熱することを特徴とする請求
項1に記載の石英ガラスの製造方法。 - 【請求項4】 前記シリカ多孔質ガラス体として、ハロ
ゲン化珪素単独、またはハロゲン化珪素とハロゲン化ア
ルミニウムとの混合物を火炎加水分解して得られた多孔
質体を用いることを特徴とする請求項1または3に記載
の石英ガラスの製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP12526496A JP3818603B2 (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 石英ガラスの製造方法 |
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