JPH03109223A - 石英ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
石英ガラスおよびその製造方法Info
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- JPH03109223A JPH03109223A JP24518289A JP24518289A JPH03109223A JP H03109223 A JPH03109223 A JP H03109223A JP 24518289 A JP24518289 A JP 24518289A JP 24518289 A JP24518289 A JP 24518289A JP H03109223 A JPH03109223 A JP H03109223A
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- Japan
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- quartz glass
- reducing atmosphere
- porous
- heating
- glass body
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
- C03B2201/03—Impurity concentration specified
- C03B2201/04—Hydroxyl ion (OH)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術の分野］
本発明は、水分含有量の少ない石英ガラスおよびその製
造方法に関する。
造方法に関する。
［従来の技術］
従来より、合成石英ガラスを製造する方法の一つとして
、気相反応法により多孔質石英ガラスを形成し、これを
加熱してガラス化する方法が知られている。すなわち、
四塩化珪素等の珪素化合物を酸水素炎中で加水分解させ
、基材上にシリカ微粒子を付着、堆積させて多孔質石英
ガラスを形成する。ついで、この多孔質体を加熱炉にい
れ、ヒータで加熱して多孔質体を焼結することによりガ
ラス化する方法である。この方法で合成された石英ガラ
スは、−Ｍの溶融石英ガラスに比べ純度が極めて高く各
種の光学部品等に用いられている。しかしながら、この
方法で合成された石英ガラスは、水分含有量が１００〜
１５００ｐｐｍと溶融品に比べ多いという問題点を有し
ていた。
、気相反応法により多孔質石英ガラスを形成し、これを
加熱してガラス化する方法が知られている。すなわち、
四塩化珪素等の珪素化合物を酸水素炎中で加水分解させ
、基材上にシリカ微粒子を付着、堆積させて多孔質石英
ガラスを形成する。ついで、この多孔質体を加熱炉にい
れ、ヒータで加熱して多孔質体を焼結することによりガ
ラス化する方法である。この方法で合成された石英ガラ
スは、−Ｍの溶融石英ガラスに比べ純度が極めて高く各
種の光学部品等に用いられている。しかしながら、この
方法で合成された石英ガラスは、水分含有量が１００〜
１５００ｐｐｍと溶融品に比べ多いという問題点を有し
ていた。
この問題点を解決するため、光フイイバーなどの製造に
際して採用されているＶＡＤ法においては、ガラス化す
る前工程として塩素ガス等による脱水処理が行なわれて
いる。しかしながら、このような脱水処理を行なうと、
水分含有量は低減されるものの、脱水剤として用いられ
る塩素がガラス中に残留することにより、真空雰囲気や
高温雰囲気下での使用時に塩素ガスの拡散・放出がおこ
ることが懸念されることから、使用条件が制約されてい
た。また、塩素系ガスが腐食性であることから製造設備
の配管等への金属材料の使用をさける必要があるなど設
備面の制約も大きくコストアップの要因となっていた。
際して採用されているＶＡＤ法においては、ガラス化す
る前工程として塩素ガス等による脱水処理が行なわれて
いる。しかしながら、このような脱水処理を行なうと、
水分含有量は低減されるものの、脱水剤として用いられ
る塩素がガラス中に残留することにより、真空雰囲気や
高温雰囲気下での使用時に塩素ガスの拡散・放出がおこ
ることが懸念されることから、使用条件が制約されてい
た。また、塩素系ガスが腐食性であることから製造設備
の配管等への金属材料の使用をさける必要があるなど設
備面の制約も大きくコストアップの要因となっていた。
［発明の解決しようとする課題］
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、光学
部品等に使用可能な高純度で水分含有量の少ない石英ガ
ラスおよびその製造方法を提供することにある。
部品等に使用可能な高純度で水分含有量の少ない石英ガ
ラスおよびその製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明は、ガラス形成原料を加熱加水分解させて形成さ
れる多孔質石英ガラス体を加熱して透明ガラス化して石
英ガラスを製造する方法において、前記多孔質石英ガラ
ス体を還元性雰囲気中で加熱処理する工程を含むことを
特徴とする水分含有量の少ない石英ガラスの製造方法を
提供するものである。
れる多孔質石英ガラス体を加熱して透明ガラス化して石
英ガラスを製造する方法において、前記多孔質石英ガラ
ス体を還元性雰囲気中で加熱処理する工程を含むことを
特徴とする水分含有量の少ない石英ガラスの製造方法を
提供するものである。
また本発明はガラス形成原料を加熱加水分解させて形成
される多孔質石英ガラス体を加熱して透明ガラス化して
得られる石英ガラスにおいて、還元性雰囲気中で加熱処
理されていることを特徴とする水分含有量の少ない石英
ガラスを提供するものである。
される多孔質石英ガラス体を加熱して透明ガラス化して
得られる石英ガラスにおいて、還元性雰囲気中で加熱処
理されていることを特徴とする水分含有量の少ない石英
ガラスを提供するものである。
本発明においては、予めガラス形成原料を加熱加水分解
して得られるシリカ微粒子を基材に堆積・成長させた多
孔質石英ガラス体を還元性雰囲気中で加熱処理し透明ガ
ラス化する。用いられるガラス原料としては、ガス化可
能な原料であれば特に制限されるものではないが、５ｉ
Ｃ１４，５ｉＨＣ１ｘ、 ５ｉｔｌａＣ：ｌ□、 ＳＬ
（ＣＩｌａ）Ｃ１３等の塩化物、ＳｉＦ４．５ｉｌｌ
Ｆ、 ５ｉＬＦｚ等のフッ化物、ＳｉＢｒ４゜５ｉＨＢ
ｒ＋等の臭化物、５ｉ１４等の沃化物などのハロゲン化
珪素化合物が作業性やコストの面から好ましい。多孔質
石英ガラス体は、これらのガラス形成原料を通常の酸素
水素火炎中での加水分解法や、間接加熱方式による水蒸
気との気相反応法等により加水分解し、基材上に堆積さ
せることにより形成される。このようにして得られる多
孔質石英ガラス体は、還元性雰囲気中で加熱処理する工
程を経たのちに、透明ガラス化温度まで昇温されてガラ
ス化を完了することにより、水分含有量の少ない石英ガ
ラスとされる。
して得られるシリカ微粒子を基材に堆積・成長させた多
孔質石英ガラス体を還元性雰囲気中で加熱処理し透明ガ
ラス化する。用いられるガラス原料としては、ガス化可
能な原料であれば特に制限されるものではないが、５ｉ
Ｃ１４，５ｉＨＣ１ｘ、 ５ｉｔｌａＣ：ｌ□、 ＳＬ
（ＣＩｌａ）Ｃ１３等の塩化物、ＳｉＦ４．５ｉｌｌ
Ｆ、 ５ｉＬＦｚ等のフッ化物、ＳｉＢｒ４゜５ｉＨＢ
ｒ＋等の臭化物、５ｉ１４等の沃化物などのハロゲン化
珪素化合物が作業性やコストの面から好ましい。多孔質
石英ガラス体は、これらのガラス形成原料を通常の酸素
水素火炎中での加水分解法や、間接加熱方式による水蒸
気との気相反応法等により加水分解し、基材上に堆積さ
せることにより形成される。このようにして得られる多
孔質石英ガラス体は、還元性雰囲気中で加熱処理する工
程を経たのちに、透明ガラス化温度まで昇温されてガラ
ス化を完了することにより、水分含有量の少ない石英ガ
ラスとされる。
還元性雰囲気下での加熱処理は、通常ヒーターを用いた
電気炉で行なうが、還元性の雰囲気を保つことができれ
ば特に制限はない。炭化珪素ヒーター等の還元性雰囲気
に弱い材質を用いる場合等には必要に応じて炉心管を用
いることも出来る。還元性雰囲気としては、特に制約は
ないが水素、アンモニア、一酸化炭素等の還元性ガスを
雰囲気ガスに添加することにより形成する方法が雰囲気
制御の面から好ましい。特に水素ガスを用いた場合には
、濃度として０．１〜２０％程度添加することが好まし
く、またアンモニアガスを用いた場合には、濃度として
０．１〜３０％程度添加するのが好ましい。この濃度未
満では添加量が不足し十分な還元性雰囲気が形成されず
、この濃度を超えて添加してもその効果は変わらない。
電気炉で行なうが、還元性の雰囲気を保つことができれ
ば特に制限はない。炭化珪素ヒーター等の還元性雰囲気
に弱い材質を用いる場合等には必要に応じて炉心管を用
いることも出来る。還元性雰囲気としては、特に制約は
ないが水素、アンモニア、一酸化炭素等の還元性ガスを
雰囲気ガスに添加することにより形成する方法が雰囲気
制御の面から好ましい。特に水素ガスを用いた場合には
、濃度として０．１〜２０％程度添加することが好まし
く、またアンモニアガスを用いた場合には、濃度として
０．１〜３０％程度添加するのが好ましい。この濃度未
満では添加量が不足し十分な還元性雰囲気が形成されず
、この濃度を超えて添加してもその効果は変わらない。
また、これらのガスを添加するベースガスとしてはヘリ
ウムガス等の石英ガラス中における透過係数の大きなガ
スが好ましい。電気炉による加熱処理を行なう場合には
、例えば予め多孔質ガラス体を雰囲気制御可能な電気炉
内に装着し、ついで加熱昇温を開始する。多孔質体の温
度が所定温度に到達したのち、還元性雰囲気を作るため
前述の雰囲気ガスを炉内に導入する。そして、さらにガ
ラス化温度まで昇温し透明ガラス化を完了させる。これ
らのガスの導入は、ガラス化温度に到達する以前に行な
われる必要がある。すなわち、多孔質石英ガラス体を透
明ガラス化するため加熱していくと通常外部加熱の場合
、多孔翼体表層部よりガラス化は進行する。このように
多孔翼体表層部に緻密なガラス層が形成されたのち多孔
質体内部の雰囲気を還元性にしても、多孔質体内部は還
元雰囲気とならず、還元雰囲気が有効に作用しない。し
たがって、ガラス化は通常１４００〜１６００℃で行な
われるが、表層部のガラス化が始まる１２００℃以下好
ましくは８００℃以下から導入をはじめることが好まし
い。また、これらのガスの導入は、完全にガラス化が完
了する前に停止しても良いが、ガラス化完了まで導入を
続けても良い。また、当然のことながら、このような加
熱処理以外にも、一定の温度分布を有する炉内を多孔質
体を移動させながら加熱処理してもよく、その場合には
少なくともガラス化する温度域よりも低い部分に還元性
雰囲気を作る必要がある。また、還元性雰囲気での加熱
処理と、透明ガラス化処理とを別の設備で行なうことも
可能であるが、その場合には、加熱処理設備から、透明
ガラス化設備に多孔質体を移送する際に水分が再吸着し
ないように注意する必要がある。多孔質石英ガラス体を
以上の如く還元性雰囲気下で加熱処理することにより焼
結・ガラス化後の水分含有量は、２０ｐｐｍ以下に低減
する。この脱水機構については明確ではないが次のよう
に推定される。すなわち、加熱加水分解された多孔質石
英ガラスには多くの化学的および物理的吸着水が含まれ
ている。これらの多くは、加熱昇温過程において脱離し
、また焼結過程においては縮重合の過程（−３Ｌ−０１
（〜０）ｌ−５ｉ−→−５ｉ −０−Ｓｉ −＋ Ｈｚ
Ｏ）で脱離するものと推定される。しかしながら通常の
焼結・ガラス化方法では、重縮合過程での脱離速度が、
ガラスの焼結速度に対し十分に早（ないため脱離が不十
分となり水分が１００〜１５００ｐｐｍ程度残留するも
のと推定される。これに対し、本発明の方法即ち還元性
雰囲気下での熱処理を加えることにより、−ＯＨ基の脱
離が加速されるものと考えられる。以下、本発明の詳細
について実施例により説明するが、本発明の内容は当然
のことながらこれら実施例に限定されるものではない。
ウムガス等の石英ガラス中における透過係数の大きなガ
スが好ましい。電気炉による加熱処理を行なう場合には
、例えば予め多孔質ガラス体を雰囲気制御可能な電気炉
内に装着し、ついで加熱昇温を開始する。多孔質体の温
度が所定温度に到達したのち、還元性雰囲気を作るため
前述の雰囲気ガスを炉内に導入する。そして、さらにガ
ラス化温度まで昇温し透明ガラス化を完了させる。これ
らのガスの導入は、ガラス化温度に到達する以前に行な
われる必要がある。すなわち、多孔質石英ガラス体を透
明ガラス化するため加熱していくと通常外部加熱の場合
、多孔翼体表層部よりガラス化は進行する。このように
多孔翼体表層部に緻密なガラス層が形成されたのち多孔
質体内部の雰囲気を還元性にしても、多孔質体内部は還
元雰囲気とならず、還元雰囲気が有効に作用しない。し
たがって、ガラス化は通常１４００〜１６００℃で行な
われるが、表層部のガラス化が始まる１２００℃以下好
ましくは８００℃以下から導入をはじめることが好まし
い。また、これらのガスの導入は、完全にガラス化が完
了する前に停止しても良いが、ガラス化完了まで導入を
続けても良い。また、当然のことながら、このような加
熱処理以外にも、一定の温度分布を有する炉内を多孔質
体を移動させながら加熱処理してもよく、その場合には
少なくともガラス化する温度域よりも低い部分に還元性
雰囲気を作る必要がある。また、還元性雰囲気での加熱
処理と、透明ガラス化処理とを別の設備で行なうことも
可能であるが、その場合には、加熱処理設備から、透明
ガラス化設備に多孔質体を移送する際に水分が再吸着し
ないように注意する必要がある。多孔質石英ガラス体を
以上の如く還元性雰囲気下で加熱処理することにより焼
結・ガラス化後の水分含有量は、２０ｐｐｍ以下に低減
する。この脱水機構については明確ではないが次のよう
に推定される。すなわち、加熱加水分解された多孔質石
英ガラスには多くの化学的および物理的吸着水が含まれ
ている。これらの多くは、加熱昇温過程において脱離し
、また焼結過程においては縮重合の過程（−３Ｌ−０１
（〜０）ｌ−５ｉ−→−５ｉ −０−Ｓｉ −＋ Ｈｚ
Ｏ）で脱離するものと推定される。しかしながら通常の
焼結・ガラス化方法では、重縮合過程での脱離速度が、
ガラスの焼結速度に対し十分に早（ないため脱離が不十
分となり水分が１００〜１５００ｐｐｍ程度残留するも
のと推定される。これに対し、本発明の方法即ち還元性
雰囲気下での熱処理を加えることにより、−ＯＨ基の脱
離が加速されるものと考えられる。以下、本発明の詳細
について実施例により説明するが、本発明の内容は当然
のことながらこれら実施例に限定されるものではない。
［実施例］
実施例１
前記した公知の方法により作成した、直径８ ｃｍ、長
さ２０ｃｍの多孔質石英ガラス体を、第１図に示すよう
な管状炉１０（炉芯管カーボン１１、保護管ムライト１
２）の中央部にセットし、炉芯管の両端部にシール蓋を
装着した。続いて通電を開始し、炉温か８００℃となっ
た時点でガス供給口１３からヘリウム９０％、水素ｌＯ
％組成の混合ガスの供給を開始した。引き続き昇温を続
け、１５００℃となった時点でその温度で２時間保持し
焼成を終了した。自然冷却後、試料を取り出したところ
、試料は透明なガラス体となっており、透明ガラス化は
完了していた。この石英ガラスに含まれる水分量を赤外
分光法により測定したところ、４ ｐｐｍであった。
さ２０ｃｍの多孔質石英ガラス体を、第１図に示すよう
な管状炉１０（炉芯管カーボン１１、保護管ムライト１
２）の中央部にセットし、炉芯管の両端部にシール蓋を
装着した。続いて通電を開始し、炉温か８００℃となっ
た時点でガス供給口１３からヘリウム９０％、水素ｌＯ
％組成の混合ガスの供給を開始した。引き続き昇温を続
け、１５００℃となった時点でその温度で２時間保持し
焼成を終了した。自然冷却後、試料を取り出したところ
、試料は透明なガラス体となっており、透明ガラス化は
完了していた。この石英ガラスに含まれる水分量を赤外
分光法により測定したところ、４ ｐｐｍであった。
実施例２〜４
それぞれ焼成温度、昇温速度、供給ガス組成を変えた以
外は同一の条件下で多孔質石英ガラス体の焼成を行い、
含水量を評価した結果を実施例１の結果とともに表１に
示す。また、比較の為、供給ガスとしてヘリウムのみを
用いた結果を同じく表１に示す。
外は同一の条件下で多孔質石英ガラス体の焼成を行い、
含水量を評価した結果を実施例１の結果とともに表１に
示す。また、比較の為、供給ガスとしてヘリウムのみを
用いた結果を同じく表１に示す。
表１．実施例１〜４および比較例の焼成条件と含水量実
施例５ 前記した公知の方法により作成した、石英製の種棒１４
に形成された直径３５ｃｍ、長さ １００ｃｍの多孔質
石英ガラス体１５を、第２図（Ａ）に示すように、ガス
供給口１３を有する、密閉構造の加熱炉２１内に上方よ
り挿入した。ガス供給口１３からは、ヘリウム９０％、
水素ｌＯ％よりなる組成の混合ガスを供給し、炉内の雰
囲気を一定に保った。加熱炉２１の内部には環状のヒー
タ２２が配置されており、ヒータの上下方向の長さは６
０ｃｍであった。ヒータ２２には上部が１２００℃程度
、中央部が１４５０℃程度、下部が１４００℃程度とな
るように温度勾配が設けられていた。
施例５ 前記した公知の方法により作成した、石英製の種棒１４
に形成された直径３５ｃｍ、長さ １００ｃｍの多孔質
石英ガラス体１５を、第２図（Ａ）に示すように、ガス
供給口１３を有する、密閉構造の加熱炉２１内に上方よ
り挿入した。ガス供給口１３からは、ヘリウム９０％、
水素ｌＯ％よりなる組成の混合ガスを供給し、炉内の雰
囲気を一定に保った。加熱炉２１の内部には環状のヒー
タ２２が配置されており、ヒータの上下方向の長さは６
０ｃｍであった。ヒータ２２には上部が１２００℃程度
、中央部が１４５０℃程度、下部が１４００℃程度とな
るように温度勾配が設けられていた。
引き続き、第２図（Ｂ）に示すように、種棒１４を図中
矢印で示す如（回転しながら下降し、多孔質石英ガラス
体１５をその下端部からヒータ２２内に５０ｍｍ／時の
速度で徐々に挿入した。挿入された多孔質石英ガラス体
１５は、下端部から徐々に加熱溶融し、脱泡がなされて
透明ガラス化し、石英ガラス体２３となった。ついで、
第２図（Ｃ）に示す如く、種棒１４の下端部がヒータ２
２の上端の手前にきたとき、下降は停止してガラス化を
終了させた。
矢印で示す如（回転しながら下降し、多孔質石英ガラス
体１５をその下端部からヒータ２２内に５０ｍｍ／時の
速度で徐々に挿入した。挿入された多孔質石英ガラス体
１５は、下端部から徐々に加熱溶融し、脱泡がなされて
透明ガラス化し、石英ガラス体２３となった。ついで、
第２図（Ｃ）に示す如く、種棒１４の下端部がヒータ２
２の上端の手前にきたとき、下降は停止してガラス化を
終了させた。
このようにして、ガラス化を完了した石英ガラス中に含
まれる水分量を赤外分光法により測定したところ、１０
ｐｐｍであった。
まれる水分量を赤外分光法により測定したところ、１０
ｐｐｍであった。
［発明の効果］
本発明によれば水分含有量の極めて少ない石英ガラスを
製造することができる。また本発明によれば脱水処理に
塩素ガスを用いた従来の石英ガラスとは異り塩素ガスを
含まない石英ガラスが得られる。従って本発明の石英ガ
ラスは真空雰囲気や高温雰囲気下での使用時に塩素ガス
の拡散・放出が起こらず、周辺設備等の腐食のおそれが
ない。
製造することができる。また本発明によれば脱水処理に
塩素ガスを用いた従来の石英ガラスとは異り塩素ガスを
含まない石英ガラスが得られる。従って本発明の石英ガ
ラスは真空雰囲気や高温雰囲気下での使用時に塩素ガス
の拡散・放出が起こらず、周辺設備等の腐食のおそれが
ない。
第１図、第２図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は本発明の焼成
方法の実施例を工程に従って示す説明図である。ＩＯは
管状炉、１１は炉心管、１２は保護管、１３はガス供給
口、１４は種棒、１５は多孔質石英ガラス体、２１は加
熱炉、２２はヒータ、２３は石英ガラスである。 冬 １ 図
方法の実施例を工程に従って示す説明図である。ＩＯは
管状炉、１１は炉心管、１２は保護管、１３はガス供給
口、１４は種棒、１５は多孔質石英ガラス体、２１は加
熱炉、２２はヒータ、２３は石英ガラスである。 冬 １ 図
Claims (8)
- （１）ガラス形成原料を加熱加水分解させて形成される
多孔質石英ガラス体を加熱して透明ガラス化して石英ガ
ラスを製造する方法において、前記多孔質石英ガラス体
を還元性雰囲気中で加熱処理する工程を含むことを特徴
とする水分含有量の少ない石英ガラスの製造方法。 - （２）請求項１において、還元性雰囲気が、水素ガス、
アンモニアガス、一酸化炭素ガスから選ばれる少なくと
も一種類以上のガスを含む雰囲気であることを特徴とす
る水分含有量の少ない石英ガラスの製造方法。 - （３）請求項１ないし２において、ガラス形成原料とし
て、ハロゲン化珪素をもちいることを特徴とする水分含
有量の少ない石英ガラスの製造方法。 - （４）請求項２において、還元性雰囲気が、０．１〜２
０％の水素を含む雰囲気であることを特徴とする水分含
有量の少ない石英ガラスの製造方法。 - （５）請求項２において、還元性雰囲気が、０．１〜３
０％のアンモニアを含む雰囲気であることを特徴とする
水分含有量の少ない石英ガラスの製造方法。 - （６）ガラス形成原料を加熱加水分解させて形成される
多孔質石英ガラス体を加熱して透明ガラス化して得られ
る石英ガラスにおいて、還元性雰囲気中で加熱処理され
ていることを特徴とする水分含有量の少ない石英ガラス
。 - （７）請求項６において、水分含有量が２０ｐｐｍ以下
であることを特徴とする石英ガラス。 - （８）請求項６において、ガラス形成原料として、ハロ
ゲン化珪素をもちいることを特徴とする水分含有量の少
ない石英ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24518289A JPH03109223A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 石英ガラスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24518289A JPH03109223A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 石英ガラスおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03109223A true JPH03109223A (ja) | 1991-05-09 |
Family
ID=17129834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24518289A Pending JPH03109223A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 石英ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03109223A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5229336A (en) * | 1990-09-28 | 1993-07-20 | Tosoh Corporation | Method of producing oxynitride glass |
| JPH092835A (ja) * | 1995-06-07 | 1997-01-07 | Corning Inc | 高純度溶融シリカガラスの非多孔性ボディの製造方法 |
| JP2001146434A (ja) * | 1999-01-21 | 2001-05-29 | Tosoh Corp | 紫外線用光学材料およびその製造方法 |
| EP1114799A1 (en) * | 2000-01-05 | 2001-07-11 | Lucent Technologies Inc. | Process for heat treatment of a shaped article with gaseous reactants |
| JP2003176141A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学機器部品用石英ガラスブランク、その製造方法及びその使用 |
| JP2004523454A (ja) * | 2000-12-22 | 2004-08-05 | コーニング インコーポレイテッド | 還元剤を用いたスート・プリフォームの処理 |
| WO2008032698A1 (en) | 2006-09-11 | 2008-03-20 | Tosoh Corporation | Fused quartz glass and process for producing the same |
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-
1989
- 1989-09-22 JP JP24518289A patent/JPH03109223A/ja active Pending
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