JPH09309778A - 瓦素地の施釉システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 瓦素地の頭側の端面に残留する釉薬によって
生ずる弊害を解消することにある。 【解決手段】 施釉装置から一定の間隔を隔てて瓦素地
を傾斜させることのできる姿勢変位制御機構が搬送コン
ベアの傍らに設けられてなるものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、瓦素地の施釉シ
ステムに関する。この発明をさらに詳しく説明すると施
釉後の瓦素地の頭側の端面に残存しがちな釉薬の解消可
能な施釉システムに関する。とりわけ、平板瓦や軒瓦な
どの瓦のように比較的面積の広い頭側の端面を備えた瓦
素地用の施釉システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の施釉システムは、たとえ
ば実公昭５４ー１４８１号公報記載の考案により知られ
ている。この従来例は、搬送コンベアＣに吊持された瓦
素地用のハンガーＨに瓦素地Ｗがその頭側の端面Ｅを下
方にして鉛直方向に吊持されることにより、釉薬Ｆを塗
布するようにしている。

【０００３】したがって、瓦素地Ｗの頭側の端面Ｅはほ
ぼ水平状態を呈している（図７、図８を参照）。このよ
うな状態で瓦素地Ｗに施釉が行われることにより、釉薬
Ｆは尻側から頭側にかけて流下することはいうまでもな
い。

【０００４】その結果、釉薬Ｆの余剰分は頭側の端面Ｅ
から自然落下するものの、釉薬Ｆの表面張力の作用によ
り、垂れ下がって該端面Ｅに付着した釉薬ｆは瓦素地Ｗ
の端面Ｅに残留することを回避できない。とりわけ、釉
薬Ｆの濃度が高い場合は、釉薬ｆが端面Ｅに著しく残留
することは明らかである。

【０００５】そのため、端面Ｅに釉薬ｆが残留されたま
ま、施釉工程から焼成工程に向けて瓦素地Ｗが搬送され
る結果、頭側の端面Ｅに残留した釉薬ｆはそのまま乾燥
され、頭側の端面Ｅに乾燥された釉薬ｆが凹凸状をなし
て残存し、瓦素地Ｗを焼成しても残存する釉薬ｆの凹凸
状は依然として解消できなかった（図７、図８を参
照）。

【０００６】このため、瓦素地Ｗの頭側の端面Ｅに前記
した釉薬ｆによる凹凸状のものが表れ、その凹凸状のも
が残存する瓦は美観上、違和感を与えるものであるにも
かかわらず屋根瓦として使用上容認せざるを得なかった
というのが産業界の実情であった。

【０００７】平板瓦や軒瓦などの瓦のように比較的面積
の広い頭側の端面を備えた形態の瓦については、とりわ
け、頭側の端面に釉薬ｆが残留しがちであった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】この発明が解決しよう
とする問題点は、従来の瓦素地の施釉システムによる施
釉後の瓦素地の処理では、瓦素地の頭側の端面に釉薬が
残留するものの、その残留する釉薬を解消しないまま瓦
が生産されるので、頭側の端面に凹凸状のものが残存す
る結果、美観的に好ましくない瓦を生産せざるを得なか
った点である。

【０００９】この発明の目的は、施釉後の瓦素地の頭側
の端面に凹凸状に残留する釉薬を解消できる施釉システ
ムを提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段および作用効果】この発明
の第１番目の施釉システムは、瓦素地用の把持ハンガー
が循環駆動自在な搬送コンベアに一定の間隔を隔てて回
動自在に設けられ、搬送コンベアの傍らに少なくとも瓦
素地用の施釉装置が設けられてなる瓦素地の施釉システ
ムにおいて、瓦素地用の施釉装置を基準として、該施釉
装置から一定の間隔を隔て、搬送コンベアの下流側の傍
らに瓦素地用の姿勢変位制御機構が設けられ、該姿勢変
位制御機構により制御される被案内体が把持ハンガーに
設けられてなることを特徴とするものである。

【００１１】まず、鉛直状態に吊持されている瓦素地用
の把持ハンガーに施釉前の瓦素地の頭側を下方に向け、
かつ瓦素地の表面側を搬送コンベアの下流側つまり搬送
コンベアの搬送方向に向けて吊持させる。続いて搬送コ
ンベアの循環駆動により瓦素地が施釉装置に到達した際
に液状の釉薬を瓦素地の表面側に塗布させる。

【００１２】その結果、釉薬は自然落下により徐々に尻
側から頭側にかけて流下し、大部分の余剰の釉薬は、瓦
素地が姿勢変位制御機構に到達するに先立って頭側から
落下する。

【００１３】しかし、瓦を屋根に葺いた際に最も目立
ち、美観上重要な部分を占める頭側には依然として釉薬
の一部がその表面張力により残留している。

【００１４】そこで、搬送コンベアの循環駆動により、
瓦素地が姿勢変位制御機構の位置に到達した際に、姿勢
変位制御機構を介して把持ハンガーの被案内体を制御さ
せることにより、回動自在な把持ハンガーを瓦素地を保
持した状態で尻側が搬送コンベアの上流側に、頭側が下
流側に向けて傾倒するようにその姿勢を変位させる（以
下この傾斜状態を説明の便宜上、断りのない限り単に
「前傾」という）。

【００１５】よって、瓦素地は姿勢変位制御機構の制御
に基づき、把持ハンガーの回動に追従し、鉛直状態から
尻側が搬送コンベアの上流側に、頭側が下流側に向けて
傾斜される。

【００１６】この結果、瓦素地の頭側の端面は瓦素地本
体の傾斜方向と反対に水平状態であった状態から搬送コ
ンベアの下流側が高く、上流側を低くした状態に変位
し、瓦素地の裏面と頭側の端面との境界の隅部（以下説
明の便宜のため断りのない限り単に「隅部」という）は
最も低い位置となる（図６を参照）。

【００１７】かくして、頭側の端面に表面張力により残
留した釉薬は、前記した隅部にその大部分が集中的に移
動する。

【００１８】そして、釉薬が隅部に釉薬が集中し、水滴
状態の塊となるのでその大部分は自然落下する。

【００１９】以上の次第であるから、一部の釉薬が隅部
に残留してもその残留する釉薬は施釉工程に向けて搬送
される途上において少なくとも乾燥され、隅部に凝集さ
れることになるものの、その凝集物は目立つほどのもの
ではない。

【００２０】また、その凝集物の残存位置は隅部である
から、この瓦を屋根に葺いて使用しても従来の瓦の呈す
る状態と比較して目立つことがないので、格別、違和感
を生じないため、美観上すぐれた瓦を提供できる。

【００２１】この発明の第２番目の施釉システムは、第
１番目の施釉システムにおいて、瓦素地用の姿勢変位制
御機構が搬送コンベアの上流側から下流側にかけて下方
に傾斜された上流側傾斜部と、上流側傾斜部に続いて水
平方向に設けられた水平部とを少なくとも備えた把持ハ
ンガー誘導用ガイドであることを特徴とするものであ
る。

【００２２】したがって、この発明は、第１番目の施釉
システムの発明が奏する作用効果のほかに、把持ハンガ
ーの被案内体が把持ハンガー誘導用ガイドの上流側傾斜
部に追従して徐々に傾斜するから、瓦素地の表面に塗布
された釉薬が飛散するような不都合がなく、頭側の端面
に残留している釉薬を頭側の隅部に確実に移動させるこ
とができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図面を参
照して説明する。図１はこの発明の実施の形態を示す瓦
素地の施釉システムの概略側面図、図２はこの発明の実
施の形態を示す瓦素地の施釉システムの概略平面図、図
３は図１のＡーＡ線断面図、図４は把持ハンガーの斜視
図、図５は瓦素地の姿勢変位制御機構の概略側面図、図
６は瓦素地の表面側に塗布された釉薬の流下状況を示す
説明図、図７は従来の瓦素地の施釉システムの要部を示
す概略側面図、図８は図７の正面図である。

【００２４】この実施の形態の瓦素地の施釉システムに
は、従来例と同様に循環駆動自在な搬送コンベア１０が
配設されている（図１、図２を参照）。

【００２５】搬送コンベア１０の一部には知られている
ように下方に向けて円弧状に湾曲された湾曲部１８が設
けられている（図１を参照）。

【００２６】そして、搬送コンベア１０には、詳細につ
いては追って説明するが、瓦素地Ｗを把持する把持ハン
ガー１２が搬送コンベア１０側を基点として回動自在に
多数吊持されている。

【００２７】前記した搬送コンベア１０の湾曲部１８の
傍らには、瓦素地Ｗに施釉を行うために施釉装置２０が
設けられている。

【００２８】また、この施釉装置２０には進退自在なノ
ズル２２が装着され、ノズル２２は瓦素地Ｗの表面１３
に釉薬Ｆを塗布する機能を備えている（図１を参照）。

【００２９】施釉装置２０を基準として搬送コンベア１
０の上流側の傍らに施釉前の瓦素地Ｗを把持ハンガー１
２に把持させる把持装置１６が設けられている（図２を
参照）。

【００３０】そして、施釉装置２０を基準として、搬送
コンベア１０の下流側に水平な搬送経路が形成され、さ
らに下流側に瓦素地Ｗを把持ハンガー１２から取り外す
ための取外し装置３８が設けられている（図２を参
照）。

【００３１】搬送コンベア１０の施釉装置２０寄りが湾
曲部１８として構成されていることを先に説明したが、
湾曲部１８の下流側の搬送コンベア１０は図示のように
水平に設けられている（図１を参照）。

【００３２】この搬送コンベア１０の水平部分におい
て、施釉装置２０側が第一搬送部２４として構成され、
第一搬送部２４に続いて搬送コンベア１０の下流側が第
二搬送部２６として構成されている（図１、図２を参
照）。

【００３３】詳細については、追って説明するが、第一
搬送部２４は、瓦素地Ｗに塗布された余剰の釉薬の大部
分を自然落下させるための区域として設けられており、
第二搬送部２６は瓦素地Ｗの頭側の端面１４に残留して
いる釉薬を隅部に移動させる区域として設けられてい
る。

【００３４】そして、瓦素地Ｗは表面１３が搬送コンベ
ア１０の下流側に、裏面１５が上流側に向けられ、かつ
頭側が下方に向けられ、把持装置１６によって把持ハン
ガー１２に把持されるが、施釉された瓦素地Ｗは尻側を
搬送コンベア１０の上流側に、頭側を下流側に向けて傾
斜させるために瓦素地用Ｗの姿勢変位制御機構２９によ
って制御される把持ハンガー１２が姿勢変位制御機構２
９に有機的に結合されている。

【００３５】そこで、姿勢変位制御機構２９の具体的構
成について敷衍すると、姿勢変位制御機構２９は、施釉
装置２０を基準として搬送コンベア１０の上流側から下
流側にかけて下方に傾斜された上流側傾斜部３０と、上
流側傾斜部３０に続いて水平方向に設けられた水平部３
２と、この水平部３２に続いて下流側に上流側傾斜部３
０の傾斜方向と反対に、上流側から下流側にかけて上方
に傾斜された下流側傾斜部３４を備えた把持ハンガー誘
導用ガイド２８の一対が搬送コンベア１０の傍らであっ
て幅方向の両側に設けられたものである。

【００３６】そして、詳細については追って説明する
が、一側にローラ状の一対の被案内体３６を備えた把持
ハンガー１２が設けられ、その被案内体３６が前記した
把持ハンガー誘導用ガイド２８の下面に支持されている
（図５を参照）。

【００３７】したがって、把持ハンガー１２は前記した
把持ハンガー誘導用ガイド２８の上流側傾斜部３０、水
平部３２および下流側傾斜部３４によってそれぞれ誘導
され、鉛直状態から徐々に前傾しつつ、搬送コンベア１
０を介して下流側に搬送され、引続きその前傾状態が水
平部３２によって誘導され、次いで前傾状態の把持ハン
ガー１２が下流側傾斜部３４によって誘導され、次工程
の作業の便宜などのために鉛直状態に復元すするように
制御される。

【００３８】次に前記した把持ハンガー１２の具体的構
成を図４を参照して説明すると、略「く」の字状の弓状
杆４０が設けられ、弓状杆４０の一端に搬送コンベア１
０に装着するための支持孔４２が設けられ、弓状杆４０
の他端に支承板４４が鉛直方向に取り付けられている。

【００３９】弓状杆４０の略中央部であって、直角方向
に設けられた支点軸４６を介して二股部分を備えたＬ字
状杆４８は倒立状態であって、かつ支点軸４６を支点と
して回動自在に設けられている。

【００４０】そして、このＬ字状杆４８の前記した支承
板４４側に弓状杆４０と直角方向に押さえ板４９が取り
付けられている。

【００４１】また、弓状杆４０に設けられた支承板４４
は、Ｌ字状杆４８の設けられた押さ板４９の取り付け位
置を超えて長く設けられている。支承板４４を前記した
ように長く設けることにより、瓦素地Ｗが第二搬送部２
６で前傾されるとき、瓦素地Ｗの自重で瓦素地Ｗが破損
しないように意図されている。

【００４２】さらに、Ｌ字状杆４０の略中央部の両側に
弓状杆４０と直角方向にガイド軸５０が突設されてい
る。

【００４３】このガイド軸５０は、把持装置１６による
瓦素地Ｗの把持ハンガー１２への把持や取り外し装置３
８による把持ハンガー１２からの瓦素地Ｗの取り外しの
際に機能するものである。

【００４４】また、弓状杆４０の支持孔４２側において
弓状杆４０の両側に弓状杆４０に対して直角方向に支軸
５２が固定され、この支軸５２の両側端に支軸５２と直
角方向にレバー５４がそれぞれが設けられている。

【００４５】これらのレバー５４は弓状杆４０の支持孔
４２側の後上方側に臨ませて設けられ、両レバー５４の
他側端にローラ状の被案内体３６が回転自在に設けられ
ていいる。

【００４６】被案内体３６は先に説明したとおり、把持
ハンガー誘導用ガイド２８に支持されることにより制御
されるものである。把持ハンガー１２が把持ハンガー誘
導用ガイド２８によって円滑に誘導されるため、被案内
体３６はローラのような転動自在なものが好ましい。

【００４７】また、必要に応じて第一搬送部２４および
第二搬送部２６の下方に落下する余剰の釉薬を回収する
ために、釉薬回収コンベア５６を配設することにより余
剰の釉薬を回収するようにしてもよい。さらに、瓦素地
Ｗの前傾後、瓦素地Ｗの頭側の端面にシリコンゴムなど
の弾性体を備えた仕上げ機構を設けることにより（図示
を省略）、瓦素地Ｗの成形時に瓦素地Ｗの頭側の端面に
バリが発生するようなことがあっても、該弾性体をその
端面に当接させ、釉薬とともにバリを頭側の端面に馴染
ませることにより、一層頭側の端面の好ましい仕上げを
行うことも意図されている。

【００４８】この実施の形態に係る施釉システムは、瓦
素地Ｗに残留する釉薬ｆを確実に解消できる利点がある
ことのほかに、従来の既存の施釉システムを利用し、把
持ハンガー１２に被案内体３６を設け、搬送コンベア１
０の第二搬送部２６に把持ハンガー誘導用ガイド２８を
設けるという比較的簡単な改造により実施できる。した
がって、既存の従来の施釉システムをそのまま活用でき
る利点をも有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態を示す瓦素地の施釉シス
テムの概略側面図である。

【図２】この発明の実施の形態を示す瓦素地の施釉シス
テムの概略平面図である。

【図３】図１のＡーＡ線断面図である。

【図４】把持ハンガーの斜視図である。

【図５】瓦素地の姿勢変位制御機構の概略側面図であ
る。

【図６】瓦素地の表面側に塗布された釉薬の流下状況を
示す説明図である。

【図７】従来の瓦素地の施釉システムの要部を示す概略
側面図である。

【図８】図７の正面図である。

【符号の説明】

１０ 搬送コンベア １２ 把持ハンガー ２０ 施釉装置 ２８ 把持ハンガー誘導用ガイド ２９ 瓦素地用の姿勢変位制御機構 ３０ 上流傾斜部 ３２ 水平部 ３６ 被案内体 Ｗ 瓦素地

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 瓦素地用の把持ハンガーが循環駆動自在
   な搬送コンベアに一定の間隔を隔てて回動自在に設けら
   れ、搬送コンベアの傍らに少なくとも瓦素地用の施釉装
   置が設けられてなる瓦素地の施釉システムにおいて、 瓦素地用の施釉装置を基準として、該施釉装置から一定
   の間隔を隔て、搬送コンベアの下流側の傍らに瓦素地用
   の姿勢変位制御機構が設けられ、 該姿勢変位制御機構により制御される被案内体が把持ハ
   ンガーに設けられてなることを特徴とする瓦素地の施釉
   システム。
2. 【請求項２】 瓦素地用の姿勢変位制御機構が搬送コン
   ベアの上流側から下流側にかけて下方に傾斜された上流
   側傾斜部と、上流側傾斜部に続いて水平方向に設けられ
   た水平部とを少なくとも備えた把持ハンガー誘導用ガイ
   ドであることを特徴とする請求項１記載の瓦素地の施釉
   システム。