JPH048098Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、搬送コンベアに懸吊されて連続的
に供給される瓦の施釉処理を確実に行う瓦の施釉
用搬送装置に関する。

〔従来技術〕

従来のこの種の一般的な装置においては、瓦の
表面側のみを施釉することが一般的であるが、降
雪の多い地域等では吸水による凍害を防止するた
めに瓦の裏側まで施釉することがあり、釉薬タン
クに釉薬を満たしておいてこのタンク中に瓦を所
定位置まで漬けて表裏同時に施釉を行うドブ漬式
施釉を行うものがある。

従来の施釉装置の一つは、第１図イやロに示さ
れるように、Ｌ形ハンガーH₁に人手により瓦Ｋ
をたて掛けて釉薬タンクＴに漬けて施釉を行うこ
とが広く知られていた。

また、第２図および第３図に示されるような挟
着機構を備えたハンガーH₂が搬送コンベアＣに
懸吊された装置も知られていた（実公昭54−1481
号公報参照）。

〔考案が解決しようとする問題点〕

従来の装置のうち、前者についてはＬ形ハンガ
ーH₁を瓦Ｋと共に釉薬タンクＴに漬けるため、
釉薬ＹがＬ形ハンガーH₁に付着堆積して多数の
Ｌ形ハンガーH₁を毎回掃除する必要があり、そ
の作業が面倒であつたので、この点の改善が望ま
れていた。

また、後者については、ドブ漬方式の施釉目的
のものではない。

そこで、これを利用してドブ漬方式の施釉を行
つた場合、瓦の姿勢制御の把持機構つまりハンガ
ーH₂が不完全であるため、搬送コンベアＣによ
る瓦Ｋの進行に際して釉薬タンクＴ中の釉薬Ｙの
抵抗によつて瓦Ｋが第３図に示されるように傾斜
し、瓦ＫがハンガーH₂から外れて落ちたり、釉
薬境界線の表裏の差が著しくなり、十分に表裏の
施釉ができないなど、ドブ漬方式の施釉に対応で
きない問題点があつた。

〔問題点を解決するための手段〕

この考案は、上記の問題点を解決するために、
その基本的構成は次のとおり構成されている。

一定方向に循環自在な無端状の搬送コンベアに
一定の間隔を隔てて瓦引掛部、施釉部、乾燥部お
よび瓦外し部が設けられ、瓦引掛部と施釉部には
夫々下方に向けて円弧状に弯曲された弯曲部が設
けられ、瓦引掛部の下方には瓦用たて起こし機、
施釉部の下方には釉薬タンクを夫々設けてなる瓦
の施釉用搬送装置において、 屈曲部を有する略くの字状の弓状杆が設けら
れ、この弓状杆の一側に搬送コンベア用の支持孔
が設けられ、弓状杆の他側の屈曲部側に支え板が
装着され、弓状杆の略中央部に弓状杆に対して直
角方向に設けられた支点ピンを介してＬ形杆が倒
立状態であつてかつ支点ピンを支点として回動自
在に設けられ、Ｌ形杆の略中央部の両側に弓状杆
と直角方向にガイドピンが突設され、弓状杆の前
記の支持孔側において弓状杆の両側にレバーが前
記した弓状杆の支持孔側の後上方に臨ませて固定
され、両レバーの他側端にローラーが回転自在に
設けられてなるハンガーが設けられ、 搬送コンベアにおける瓦外し部側の瓦引掛部の
下方に瓦引掛部の円弧に沿わせて前記したハンガ
ーの一対のローラーの間隔に対応させて一対のガ
イドレールが設けられると共に、このガイドレー
ルの施釉部側に近接させ瓦引掛部の弯曲部の大部
分に沿わせてその下方に前記したハンガーの一対
のガイドピンの間隔に対応させて一対のガイドレ
ールが設けられ、 前記した搬送コンベアの施釉部の下方に施釉部
の弯曲部に沿わせて前記したハンガーの一対のロ
ーラーの間隔に対応させて一対のガイドレールが
設けられ、 弓状杆の支持孔を介してハンガーの多数個が一
定の間隔毎に搬送コンベアの進行側に弓状杆を向
け、かつレバーが搬送コンベアの進行方向と反対
側に向けて懸吊されると共に、 瓦外し部側の瓦引掛部１においてハンガーの一
対のローラーがガイドレール上に当接され、瓦引
掛部の弯曲部においてハンガーの両ガイドピンが
ガイドレール上に当接され、搬送コンベアの施釉
部においてハンガーの両ローラーがガイドレール
の下面に夫々当接制御されてなるもので、搬送コ
ンベアの瓦引掛部において立起された瓦がハンガ
ーのＬ字杆と支え板とにより確実にかつ垂直方向
に挟着されたまま、施釉部へ搬送され、施釉部で
は、ハンガーの両ローラーが進行方向と反対側の
ガイドレールの下面に支持されてＬ字杆と支え板
が常に開かないように制御してなるものである。

〔考案の構成〕

この考案の構成の詳細を以下に添付図面を参照
する。

第４図にこの考案の概略が平面図として表され
ている。

無端状の搬送コンベア４は一定方向に循環自在
に設けられ、公知のとおり施釉を行う瓦を一定方
向に搬送できるように設けられている。

したがつて、瓦引掛部１、施釉部２、乾燥部
３、瓦外し部５が搬送コンベア４上に順次一定の
間隔を置いて設けられている。

なお、第４図には図示されていないが、この実
施例では瓦引掛部１と施釉部２において搬送コン
ベア４は下方に向けて夫々円弧状に弯曲されてい
るものであるが、この構成については第６図およ
び第７図を参照してその詳細を後述する。

この考案において重要な構成要素である瓦２２
を把持するためのハンガー１７の詳細を第５図を
参照して説明する。

屈曲部を有する略くの字状の弓状杆６が設けら
れ、この弓状杆６の一側に搬送コンベア用の支持
孔７が設けられ、弓状杆６の他側の屈曲部側に支
え板８が装着されている。

ここに弓状杆６の形態が「略くの字状」とは平
仮名の「く」の文字の形態のみに制限する趣旨で
はなく、第５図に示された中央部の垂直部の両側
にテーパー状に傾斜した部分を備えた「弓形」の
形態のものについても含む概念であることはいう
までもない。

弓状杆６の略中央部であつて弓状杆６に対して
直角方向に設けられた支点ピン１３を介してＬ形
杆１４が倒立状態であつてかつ支点ピン１３を支
点として回動自在に設けられている。

Ｌ形杆１４の略中央部の両側に弓状杆６と直角
方向にガイドピン１５が突設されている。

この両側のガイドピン１５は、第６図を参照す
ることにより理解できるようにハンガー１７が搬
送コンベア４の瓦引掛部１に位置したときに搬送
コンベア４の瓦引掛部１の弯曲部２３の下方に配
置された円弧状の一対のガイドレール１８（図面
上一側のガイドレール１８のみが表され、他側の
レールは省略されている）に対して直角方向に支
持されるものである。

弓状杆６の前記の支持孔７側において弓状杆６
の両側に弓状杆６に対して直角方向に軸９が固定
され、この軸９の両側端に軸９と直角方向にレバ
ー１０の一側端が夫々固着され、これらの両レバ
ー１０は前記した弓状杆６の支持孔７側の後上方
に臨ませて設けられ、両レバー１０の他側端にロ
ーラー１２がローラーピン１１を介して回転自在
に設けられてなる。

次に搬送コンベア４の瓦引掛部１におけるコン
ベア機構と前記したハンガー１７との結合および
瓦２２の挟着機構を第６図を参照して説明する。

第６図は搬送コンベア４中の瓦引掛部１の拡大
正面図を示している。

瓦引掛部１は搬送コンベア４の回転方向の斜め
下方に向けて降下され（図面上の矢印Ａを参照）、
引続き円弧を描いて弯曲部を２３が設けられ、再
びコンベア４が斜め上方に向けて上昇されている
（図面上の矢印Ｂを参照）。

そしてこの搬送コンベア４の弯曲部２３におけ
る瓦外し部５側の下方に比較的短いガイドレール
１８′の一対が前記のコンベア４の弯曲部２３に
ほぼ沿わせて設けられている。

前記したガイドレール１８′は一側のみが図示
され他側のガイドレールは省略されているが、一
対のガイドレール１８′の間隔は前記したハンガ
ー１７の両ローラー１２間の間隔に対応されてお
り、一対のローラー１２が夫々一対のガイドレー
ル１８′上を回転する。

また、前記した比較的短いガイドレール１８′
の前方つまり搬送コンベア４の進行側にコンベア
の弯曲部２３に沿わせて搬送コンベア４の下方に
円弧状に弯曲された別のガイドレール１８が設け
られており、この別のガイドレール１８の前記し
た比較的短いガイドレール１８′側の端は図面に
示されるように水平部１６として設けられてい
る。

このように構成された搬送コンベア４の瓦引掛
部１における機能について説明すると、弓状杆６
の支持孔７にピン２０を介し、Ｌ形杆１４を搬送
コンベア４の進行側に向けて搬送コンベア４に懸
吊された多数個のハンガー１７は、第６図の左側
を参照することにより理解できるように、搬送コ
ンベア４の回転に追従してハンガー１７の一対の
レバー１０の先端に回転自在に支持された一対の
ローラー１２は一対の比較的短いガイドレール１
８′上を回転しつつ搬送コンベア４の回転応力を
受けてレバー１０はガイドレール１８′の後方側
に規制される。

したがつて、図面上から明らかなようにレバー
１０はガイドレール１８′とほぼ平行な水平方向
に規制されることになる。

他方、レバー１０の基部に設けられた軸９は弓
状杆６に固定されているから、レバー１０がガイ
ドレバー１８′の後方に規制されるに従つて弓状
杆６は図示されるように弓状杆６がピン２０の進
行よりも遅れた状態、即ち搬送コンベア４の進行
側に前傾斜状態となる。

この場合Ｌ字杆１４に設けられた両側のガイド
ピン１５は共にガイドレール１８′に接すること
なく自由な状態にある。

そして、搬送コンベア４の進行によりハンガー
１７は搬送コンベア４の弯曲部２３側に向けて進
行することになり、遂にはハンガー１７がガイド
レール１８′の先端から外れることにより、レバ
ー１０に対するガイドレール１８′の規制が解除
されるが、その解除の直前にその結果図面に示さ
れるように、ハンガー１７のうちＬ形杆１４のガ
イドピン１５が近接する別のガイドレール１８に
乗る。

そのガイドレール１８の後方端が水平に設けら
れているため、Ｌ形杆１４のガイドピン１５は進
行方向に移動しつつあるものの、安定した状態で
素早くガイドレール１８上に移載される。

よつてハンガー１７は前傾姿勢を保つたままガ
イドレール１８′からガイドレール１８により規
制を受けることになる。

そして搬送コンベア４の進行に追従してガイド
レール１８′の規制を解除されたレバー１０は図
示されるようにＬ形杆１４のガイドピン１５のみ
が別のガイドレール１８の進行側において支持さ
れることになるから、Ｌ形杆１４は支点ピン１３
を支点に自重により弓状杆６の先端部の支え板８
との当接を解き離れる方向に回転するため、弓状
杆６とＬ形杆１４との間は大きく開放され、その
結果図示のように瓦２２を挟着し易い状態にな
る。

この場合、ハンガー１７のローラー１２はガイ
ドレール１８に当接することなく、図示のように
搬送コンベア４側に反転し、搬送コンベア４を挟
む状態を呈する。

そこで、搬送コンベア４の弯曲部２３の下方に
設けられたベルトコンベア２１上を搬送されてく
る瓦２２はベルトコンベア２１の前部にあるフオ
ーク状のたて起こし機１９によつてＬ形杆１４が
口を閉じる位置までたて起こされ待機しているの
で、立て起こされた瓦２２はハンガー１７のＬ形
杆１４と支え板８とによつてその水返し部２２′
を挟着し、その姿勢で瓦引掛部１を上昇すること
になる（瓦の挟着状態の詳細については更に第８
図を参照）。

かくして瓦引掛部１ではハンガー１７が確実に
挟着機能を奏するため瓦２２は確実にハンガー１
７に懸吊され、次工程の施釉部２へ供給されるも
のである。

次に確実にハンガー１７に挟着された瓦引掛部
１の瓦２２を施釉工程へ供給させ、施釉処理する
機構を第７図を参照して説明する。

第７図は搬送コンベア４の施釉部２の拡大正面
図である。

搬送コンベア４の施釉部２の直下には釉薬タン
ク２６が設けられており、この釉薬タンク２６の
直上に位置する搬送コンベア４の一部は前記した
釉薬タンク２６に向けて図示されるように円弧状
に弯曲されている。

そして、搬送コンベア４の弯曲部２４に沿わせ
かつその弯曲部２４の下方に一定の間隔を隔てて
一対のガイドレール２５が円弧状に弯曲して設け
られている。

そこで、前記した瓦２２を垂直方向に向けて挟
着したハンガー１７は瓦引掛部１側から施釉部２
へ進行してくるが、この場合、施釉部２のガイド
レール２５が円弧を描いて弯曲しているから、ハ
ンガー１７のレバー１０のローラー１２は常に搬
送コンベア４の進行方向と反対側に向けて位置し
つつガイドレール２５の下面に当接されることに
なる。

かくして、ローラー１２がガイドレール２５に
接していることにより、レバー１０は弓状杆６に
固定されているため、弓状杆６は決して妄動する
ことなく搬送コンベア４の進行側に向けて確実に
制御規制される。

この場合、図示されるようにＬ字杆１４のガイ
ドピン１５は常にガイドレール２５の下方に位置
し、ガイドレール２５に当接することはない。

そのため、Ｌ形杆１４との間において挟着した
瓦２２を垂直方向の姿勢を保つたまま確実にかつ
安定して搬送コンベア４の進行側へ供給できる。

したがつて、瓦２２を挟着したハンガー１７群
が搬送コンベア４の施釉部２を通過する間、瓦２
２はハンガー１７から脱落したり、その制御姿勢
が従来の手段のように釉薬２７の抵抗を受けて搬
送コンベア４の進行側と反対側に向けて傾斜した
りすることは一切なくなるものである。

なお、第７図における施釉部２を参照すること
により理解できるように、ハンガー１７の構成部
分のうちガイドピン１５は前記した瓦引掛部１に
おいてのみ機能するものであり、施釉部２におい
ては必須の構成ではないことを明らかにする。

〔考案の効果〕

この考案は、上記の構成であるから、以下の利
点を奏する。

この考案のハンガーには、弓状杆の両側に一対
のレバーが固定され、これらの両レバーの先端に
ローラーが回転自在に設けられているから、この
ハンガーを搬送コンベアに懸吊させることによ
り、ハンガーの搬送コンベアの回転時に前記した
レバーのローラーが施釉部における弯曲部下方の
円弧状のガイドレールの下面において搬送コンベ
アの進行方向と反対側に位置しつつ必ず当接して
追従するので、弓状杆を開くことのないように規
制する。

したがつて、弓状杆とＬ形杆によつて挟着され
た瓦は常に垂直方向に確実に把持されるから、搬
送コンベアの進行により釉薬タンク中に瓦が進行
しても従来のように瓦が釉薬の抵抗を受けて搬送
コンベアの進行方向と反対側に傾斜したり、ハン
ガーから脱落したりすることがない。

また、施釉処理中に瓦が傾斜することがないか
ら、瓦の表裏表面に釉薬処理による「むら」や較
差を発生しない。

【図面の簡単な説明】

第１図はイは従来例概略側面断面図、第１図ロ
は第１図イの概略正面断面図、第２図は他の従来
例のハンガーの斜視図、第３図は第２図の概略側
面断面図、第４図はこの考案の概略平面図、第５
図はこの考案のハンガーの斜視図、第６図は搬送
コンベアの瓦引掛部の拡大正面図、第７図は搬送
コンベアの施釉部の拡大正面図、第８図はハンガ
ーによる瓦の挟着状態の側面図である。 主要部分の符号の説明、４……搬送コンベア、
６……弓状杆、７……支持孔、８……支え板、９
……軸、１０……レバー、１２……ローラー、１
４……Ｌ形杆、１５……ガイドピン、１７……ハ
ンガー、２５……ガイドレール、２６……釉薬タ
ンク。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 一定方向に循環自在な無端状の搬送コンベア４
   に一定の間隔を隔てて瓦引掛部１、施釉部２、乾
   燥部３および瓦外し部５が設けられ、瓦引掛部１
   と施釉部２には夫々下方に向けて円弧状に弯曲さ
   れた弯曲部２３，２４が設けられ、瓦引掛部１の
   下方には瓦用たて起こし機１９、施釉部の下方に
   は釉薬タンク２６を夫々設けてなる瓦の施釉用搬
   送装置において、 屈曲部を有する略くの字状の弓状杆６が設けら
   れ、この弓状杆６の一側に搬送コンベア用の支持
   孔７が設けられ、弓状杆６の他側の屈曲部側に支
   え板８が装着され、弓状杆６の略中央部に弓状杆
   ６に対して直角方向に設けられた支点ピン１３を
   介してＬ形杆１４が倒立状態であつてかつ支点ピ
   ン１３を支点として回動自在に設けられ、Ｌ形杆
   １４の略中央部の両側に弓状杆６と直角方向にガ
   イドピン１５が突設され、弓状杆６の前記の支持
   孔７側において弓状杆６の両側にレバー１０が前
   記した弓状杆６の支持孔７側の後上方に臨ませて
   固定され、両レバー１０の他側端にローラー１２
   が回転自在に設けられてなるハンガー１７が設け
   られ、 搬送コンベア４における瓦外し部５側の瓦引掛
   部１の下方に瓦引掛部１の円弧に沿わせて前記し
   たハンガー１７の一対のローラー１２の間隔に対
   応させて一対のガイドレール１８′が設けられる
   と共に、このガイドレール１８′の施釉部２側に
   近接させ瓦引掛部１の弯曲部２３の大部分に沿わ
   せてその下方に前記したハンガー１７の一対のガ
   イドピン１５の間隔に対応させて一対のガイドレ
   ール１８が設けられ、 前記した搬送コンベア４の施釉部２の下方に施
   釉部２の弯曲部２４に沿わせて前記したハンガー
   １７の一対のローラー１２の間隔に対応させて一
   対のガイドレール２５が設けられ、 弓状杆６の支持孔７を介してハンガー１７の多
   数個が一定の間隔毎に搬送コンベア４の進行側に
   弓状杆６を向け、かつレバー１０が搬送コンベア
   ４の進行方向と反対側に向けて懸吊されると共
   に、 瓦外し部５側の瓦引掛部１においてハンガー１
   ７の一対のローラー１２がガイドレール１８′上
   に当接され、瓦引掛部１の弯曲部２３においてハ
   ンガー１７の両ガイドピン１５がガイドレール１
   ８上に当接され、施釉部２においてハンガー１７
   の両ローラー１２がガイドレール２５の下面に
   夫々当接制御されてなることを特徴とするドブ漬
   式施釉可能な瓦把持搬送装置。