JPH09309876A - イミド化合物の製造法 - Google Patents

イミド化合物の製造法

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JPH09309876A
JPH09309876A JP8125107A JP12510796A JPH09309876A JP H09309876 A JPH09309876 A JP H09309876A JP 8125107 A JP8125107 A JP 8125107A JP 12510796 A JP12510796 A JP 12510796A JP H09309876 A JPH09309876 A JP H09309876A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カルボン酸無水物とアミン化合物からのイミ
ド化合物の製造法及びアミド酸からのイミド化合物の製
造法。 【解決手段】 式（１） 【化１】 〔式中、Ｘ及びＹは、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を意味し、 【化２】 は単結合又は二重結合を意味し、ｎは０〜３の整数を意
味する。〕で表わされるカルボン酸無水物を、式（２） 【化３】 〔式中、Ｒは、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を意味する。〕で表
わされるアミン化合物と、ジシラザン化合物及びルイス
酸触媒の存在下反応させることを特徴とする 式（３） 【化４】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、ｎ及び 【化５】

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医・農薬等生理活
性物質及び機能性ポリマー等の重要な中間体であるイミ
ド化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】イミド化合物は、医・農薬中間体として
使用される他、染料、塗料、接着剤、洗剤等への添加剤
として使用される重要中間体である。例えば、特開昭51
-1459号公報にはペプチド合成における活性エステル化
剤として、特開昭63-66118号公報にはパップ剤の粘着性
を増加させる添加剤として、特開昭54-4942号公報には
熱硬化性ポリマーの原料として、特開平5-185725号公報
には感熱記録材料としての用途が開示されている。
【０００３】従来、イミド化合物の製造法として環状の
カルボン酸無水物から合成する方法が知られており、例
えば、J. Org. Chem., 24, 7 (1959)、J. Org. Chem.,
54,4243 (1989)、Chem. Lett., 6, 879 (1983) 等で
は、無水コハク酸等とアミン化合物の反応によりコハク
酸イミド誘導体が得られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の方法は、一般的
に無溶媒で２００℃以上で反応させたり、ＤＭＦ等の高
沸点溶媒中で還流反応させる等高い反応温度を必要とし
ている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、イミド化合
物の製造法について鋭意検討を重ねた結果、カルボン酸
無水物から温和な条件でイミド化合物が得られることを
見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、
式（１）
【０００６】
【化１０】
【０００７】〔式中、Ｘ及びＹは、独立に置換されてい
てもよいＣ1〜Ｃ6アルキル基（該置換基としてはＣ1〜
Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、
ハロゲン原子を意味する。）、置換されていてもよいＣ
2〜Ｃ6アルケニル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキ
ル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原
子を意味する。）、置換されていてもよいフェニル基
（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アル
コキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ 基、ハロゲ
ン原子を意味する。）を意味し、又はＸ及びＹは一緒に
なってＣ4〜Ｃ8の環やベンゼン環を形成してもよい。
【０００８】
【化１１】
【０００９】は単結合又は二重結合を意味し、ｎは０〜
３の整数を意味する。〕で表わされるカルボン酸無水物
を、式（２）
【００１０】
【化１２】
【００１１】〔式中、Ｒは、置換されていてもよいＣ1
〜Ｃ6アルキル基（該置換基としてはＣ 1〜Ｃ6アルキル
基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシル
基、ハロゲン原子を意味する。）、置換されていてもよ
いＣ2〜Ｃ6アルケニル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6ア
ルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲ
ン原子を意味する。）、置換されていてもよいフェニル
基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ア
ルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲ
ン原子を意味する。）、置換されていてもよいベンジル
基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ア
ルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲ
ン原子を意味する。）、ヒドロキシル基を意味する。〕
で表わされるアミン化合物と、ジシラザン化合物及びル
イス酸触媒の存在下反応させることを特徴とする 式（３）
【００１２】
【化１３】
【００１３】〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、ｎ及び
【００１４】
【化１４】
【００１５】は前記に同じ。〕で表わされるイミド化合
物の製造法、式（４）
【００１６】
【化１５】
【００１７】〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、ｎ及び
【００１８】
【化１６】
【００１９】は前記に同じ。〕で表わされるアミド酸
を、ジシラザン化合物及びルイス酸触媒の存在反応させ
ることを特徴とする 式（３）
【００２０】
【化１７】
【００２１】〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、ｎ及び
【００２２】
【化１８】
【００２３】は前記に同じ。〕で表わされるイミド化合
物の製造法に関するものである。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、更に詳細に本発明を説明す
る。先ず、置換基Ｘ、Ｙ及びＲについて説明する。Ｃ1
〜Ｃ6アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基，ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ア
ミル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００２５】Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基，ｉ−プロポキシ
基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキ
シ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−アミロキシ基、ｉ−
アミロキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオ
キシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。Ｃ2
〜Ｃ6アルケニル基としては、ビニル基、イソプロペニ
ル基、アリル基、メタリル基、１−ブテニル基、３−ヘ
キセニル基、１−シクロペンテニル基、１−シクロヘキ
セニル基、メトキシビニル基、エトキシビニル基等が挙
げられる。
【００２６】Ｃ4〜Ｃ8の環としては、シクロブタン環、
シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン
環、シクロオクタン環等が挙げられる。ハロゲン原子と
しては、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が
挙げられる。次に、イミド化合物の製造法について説明
する。
【００２７】式（１）のカルボン酸無水物の具体例とし
ては、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル酸無
水物、グルタル酸無水物等が挙げられる。式（２）のア
ミン化合物の具体例としては、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、アリル
アミン、アニリン、ベンジルアミン、α−メチルベンジ
ルアミン、α−フェネチルアミン、２−フェニルエチル
アミン、３−フェニルプロピルアミン、グリシノール、
バリノール等が挙げられる。
【００２８】式（２）のアミン化合物の使用量は、式
（１）のカルボン酸無水物に対して０．１〜１０倍モル
の範囲、好ましくは０．５〜５倍モルの範囲、より好ま
しくは等モル倍が良い。又、式（４）のアミド酸として
は、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル酸無水
物、グルタル酸無水物等のカルボン酸無水物と、イソプ
ロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシ
ルアミン、アリルアミン、アニリン、ベンジルアミン、
α−メチルベンジルアミン、α−フェネチルアミン、２
−フェニルエチルアミン、３−フェニルプロピルアミ
ン、グリシノール、バリノール等のアミン化合物から合
成されるアミド酸が挙げられる。
【００２９】アミド酸は無溶媒又は適当な溶媒中で式
（１）のカルボン酸無水物と式（２）のアミン化合物を
反応させることにより容易に合成することができる。反
応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制
限はなく、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ブチロニトリル等のニトリル類、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベ
ンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デ
カン等の脂肪族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−
ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、
１，３−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素
等の尿素類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフ
ラン、ベンゼン、ジクロロメタン等が挙げられる。
【００３０】以下、式（１）のカルボン酸無水物と式
（２）のアミン化合物から式（３）のイミド化合物を得
る反応条件及び操作法と式（４）のアミド酸からの式
（３）のイミド化合物を得る反応条件及び操作法は、ほ
ぼ同一であるのでまとめて説明する。ジシラザン化合物
としては、ヘキサメチルジシラザン、ジ−ｎ−プロピル
テトラメチルジシラザン、ジ−ｎ−ブチルテトラメチル
ジシラザン、ジ−ｉ−ブチルテトラメチルジシラザン、
ジ−ｎ−ヘキシルテトラメチルジシラザン、ジ−ｎ−オ
クチルテトラメチルジシラザン等が挙げられ、好ましく
はヘキサメチルジシラザンが挙げられる。
【００３１】ジシラザン化合物の使用量は、式（１）の
カルボン酸無水物又は式（４）のアミド酸に対して、
０．１〜１０倍モルの範囲、好ましくは０．５〜５倍モ
ルの範囲が良い。ルイス酸としては、塩化亜鉛、臭化亜
鉛、沃化亜鉛、塩化アルミ、臭化アルミ、塩化第一鉄、
臭化第一鉄、塩化第二鉄、臭化第二鉄、塩化第一銅、臭
化第一銅、沃化第一銅、塩化第二銅、臭化第二銅、沃化
第二銅、塩化第一錫、臭化第一錫、沃化化第一錫、塩化
第二錫、臭化第二錫、沃化化第二錫等が挙げられ、好ま
しくは塩化亜鉛、臭化亜鉛、沃化化亜鉛、塩化第一錫、
塩化第二錫が挙げられる。
【００３２】ルイス酸の使用量は、式（１）のカルボン
酸無水物又は式（４）のアミド酸に対して、０．０１〜
５当量の範囲、好ましくは、０．１〜２当量の範囲が良
い。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば
特に制限はなく、例えば、アセトニトリル、プロピオニ
トリル、ブチロニトリル等のニトリル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロ
ルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素
類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ
−デカン等の脂肪族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエー
テル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド
類、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル
尿素等の尿素類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒド
ロフラン、ベンゼン、ジクロロメタン等が挙げられる。
【００３３】これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使
用することも出来る。反応温度は、特に制限はなく、通
常０℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好ま
しくは２０℃から１００℃の範囲で行うのが良い。反応
時間は、通常０．１〜１０００時間である。反応終了後
は、反応液に水を加えて適当な溶媒により目的物を抽出
し、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得るか、或いは適当な
溶媒から目的物を固体として析出させて粗製物を得るこ
とができる。
【００３４】更に、再結晶又はシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー等の常法による精製を行なうことにより純
粋なイミド化合物を得ることができる。
【００３５】
【実施例】以下、実施例を挙げて更に本発明を詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ アルゴン雰囲気下、ベンゼン３ｍｌ中に、無水コハク酸
２６ｍｇ（０．２６ミリモル）を加え、しばらく攪拌
後、ベンジルアミン２９μｌ（０．２６ミリモル）を滴
下し、そのまま室温で１時間攪拌した。
【００３６】次に、塩化亜鉛３６ｍｇ（０．５２ミリモ
ル）を加え、更にベンゼン２ｍｌを加え加熱した。還流
が開始したら、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチル
ジシラザン０．１１ｍｌ（０．５３ミリモル）を加え、
４時間還流した。反応は薄層クロマトグラフィーで追跡
し、アミド酸のテーリングが消失したところを終点とし
た。
【００３７】反応終了後、白色沈殿を取り除き、溶媒を
減圧下濃縮し粗製のＮ−ベンジルコハク酸イミドを得
た。この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝６／４）で精
製したところ、Ｎ−ベンジルコハク酸イミドの収量は３
７ｍｇ（収率７３％）であった。
【００３８】融点１０７．５〜１０８．５℃ 実施例２ 無水マレイン酸２６ｍｇ（０．２６ミリモル）とベンジ
ルアミン２９μｌ（０．２６ミリモル）、塩化亜鉛３６
ｍｇ（０．２６ミリモル）、１，１，１，３，３，３−
ヘキサメチルジシラザン０．１１ｍｌ（０．５３ミリモ
ル）から合成する他は、実施例１と同様に反応及び後処
理を行ない粗製のＮ−ベンジルマレインイミドを得た。
【００３９】この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／
１）で精製したところ、Ｎ−ベンジルマレインイミドの
収量は４６ｍｇ（収率９３％）であった。 融点６９．５〜７１．２℃ 実施例３ 無水フタル酸２７ｍｇ（０．１８ミリモル）とベンジル
アミン２０μｌ（０．１８ミリモル）、塩化亜鉛２５ｍ
ｇ（０．１８ミリモル）、１，１，１，３，３，３−ヘ
キサメチルジシラザン０．０８ｍｌ（０．３６ミリモ
ル）から合成する他は、実施例１と同様に反応及び後処
理を行ない粗製のＮ−ベンジルフタル酸イミドを得た。
【００４０】この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／
１）で精製したところ、Ｎ−ベンジルフタル酸イミドの
収量は３９ｍｇ（収率８９％）であった。 融点１２０．５〜１２１．５℃ 実施例４ 無水マレイン酸３０ｍｇ（０．３１ミリモル）と（Ｓ）
−α−メチルベンジルアミン４０μｌ（０．３１ミリモ
ル）、塩化亜鉛４２ｍｇ（０．３１ミリモル）、１，
１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン０．１３
ｍｌ（０．６２ミリモル）から合成する他は、実施例１
と同様に反応及び後処理を行ない粗製のＮ−（Ｓ）−α
−メチルベンジルマレインイミドを得た。
【００４１】この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／
１）で精製したところ、油状のＮ−（Ｓ）−α−メチル
ベンジルマレインイミドの収量は５４ｍｇ（収率８６
％）であった。 実施例５ 無水マレイン酸２８ｍｇ（０．２９ミリモル）とイソプ
ロピルアミン２５μｌ（０．２９ミリモル）、塩化亜鉛
４０ｍｇ（０．２９ミリモル）、１，１，１，３，３，
３−ヘキサメチルジシラザン０．１２ｍｌ（０．５８ミ
リモル）から合成する他は、実施例１と同様に反応及び
後処理を行ない粗製のＮ−イソプロピルマレインイミド
を得た。
【００４２】この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／
１）で精製したところ、油状のＮ−イソプロピルマレイ
ンイミドの収量は２８ｍｇ（収率６９％）であった。 実施例６ 無水マレイン酸３２ｍｇ（０．３３ミリモル）とアリル
アミン２５μｌ（０．３３ミリモル）、塩化亜鉛４５ｍ
ｇ（０．３３ミリモル）、１，１，１，３，３，３−ヘ
キサメチルジシラザン０．１４ｍｌ（０．６６ミリモ
ル）から合成する他は、実施例１と同様に反応及び後処
理を行ない粗製のＮ−アリルマレインイミドを得た。
【００４３】この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝８５
／１５）で精製したところ、Ｎ−アリルマレインイミド
の収量は３３ｍｇ（収率７３％）であった。 融点４２．５〜４３．５℃ 実施例７ 無水グルタル酸２６ｍｇ（０．２３ミリモル）とベンジ
ルアミン２５μｌ（０．２３ミリモル）、塩化亜鉛３１
ｍｇ（０．２３ミリモル）、１，１，１，３，３，３−
ヘキサメチルジシラザン０．１０ｍｌ（０．４６ミリモ
ル）から合成する他は、実施例１と同様に反応及び後処
理を行ない粗製のＮ−ベンジルグルタルイミドを得た。
【００４４】この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝６／
４）で精製したところ、Ｎ−ベンジルグルタルイミドの
収量は３２ｍｇ（収率６９％）であった。 融点４９．０〜５０．０℃ 実施例８ アルゴン雰囲気下、ベンゼン５ｍｌ中に、Ｎ−ベンジル
スクシンアミド酸５０ｍｇ（０．２４ミリモル）を加
え、しばらく攪拌後、塩化亜鉛３３ｍｇ（０．２４ミリ
モル）をすばやく加え加熱し、還流が開始したら、１，
１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン７７μｌ
（０．４８ミリモル）を加え、２時間還流した。
【００４５】反応は薄層クロマトグラフィーで追跡し、
アミド酸のテーリングが消失したところを終点とした。
反応終了後、白色沈殿を取り除き、溶媒を減圧下濃縮し
粗製のＮ−ベンジルコハク酸イミドを得た。この粗製物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ
−ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）で精製したところ、
Ｎ−ベンジルコハク酸イミドの収量は４３ｍｇ（収率９
４％）であった。 実施例９〜１１ 実施例８の塩化亜鉛、１，１，１，３，３，３−ヘキサ
メチルジシラザン（ＨＭＤＳ）の当量数及び還流時間を
変化させた他は、実施例８と同様に反応、後処理及び精
製を行ないＮ−ベンジルコハク酸イミドを得た。結果を
表１に示す。
【００４６】
【表１】 表 １ 実施例 塩化亜鉛(当量) HMDS(当量) 還流時間(Hr) 収率(％) ──────────────────────────────── ９ １．０ １．５ ２ ９４ １０ １．０ １．２ ４ ９４ １１ ０．５ ２．０ ５ ８９ ──────────────────────────────── 実施例１２〜１６ 実施例８の塩化亜鉛を他のルイス酸に代え、還流時間を
変化させた他は、実施例８と同様に反応、後処理及び精
製を行ないＮ−ベンジルコハク酸イミドを得た。結果を
表２に示す。
【００４７】
【表２】 表 ２ 実施例 ルイス酸 還流時間(Hr) 収率(％) ────────────────────────── １２ 臭化亜鉛 ０．５ ９４ １３ 沃化亜鉛 １．５ ９４ １４ 塩化アルミ ４．０ ９４ １５ 塩化第２錫 ５．０ ７０ １６ 塩化第１錫 ２．５ ６５ ────────────────────────── 実施例１７ Ｎ−ベンジルマレインアミド酸５５ｍｇ（０．２６ミリ
モル）、塩化亜鉛３６ｍｇ（０．２６ミリモル）、１，
１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン０．１１
ｍｌ（０．５３ミリモル）から合成する他は、実施例８
と同様に反応及び後処理を行ない粗製のＮ−ベンジルマ
レインイミドを得た。 この粗製物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エ
チル＝９／１）で精製したところ、Ｎ−ベンジルマレイ
ンイミドの収量は４５ｍｇ（収率９０％）であった。 実施例１８ Ｎ−ベンジルグルタルアミド酸５３ｍｇ（０．２４ミリ
モル）、塩化亜鉛３３ｍｇ（０．２４ミリモル）、１，
１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン０．１０
ｍｌ（０．４８ミリモル）から合成する他は、実施例８
と同様に反応及び後処理を行ない粗製のＮ−ベンジルグ
ルタル酸イミドを得た。
【００４８】この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝６／
４）で精製したところ、Ｎ−ベンジルグルタル酸イミド
の収量は３６ｍｇ（収率７５％）であった。 参考例１ アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン３０ｍｌ中に、
無水コハク酸３．０ｇ（３０ミリモル）を加え、しばら
く攪拌後、ベンジルアミン３．３ｍｌ（３０ミリモル）
を滴下し、そのまま室温で１５分間攪拌した。
【００４９】反応終了後、白色沈殿を濾過し、ヘキサン
５ｍｌで５回洗浄し乾燥した。この粗製物を酢酸エチル
と少量のメタノールから再結晶を行ったところ、白色の
Ｎ−ベンジルコハク酸アミド酸の収量は５．７ｇ（収率
９０％）であった。 融点１４２．０〜１４３．５℃ 参考例２ 無水マレイン酸１．０ｇ（１０ミリモル）とベンジルア
ミン１．１ｍｌ（１０ミリモル）から合成する他は、参
考例１と同様に反応及び後処理を行なったところ、白色
のＮ−ベンジルマレインアミド酸の収量は１．８ｇ（収
率８８％）であった。
【００５０】融点１３７．０〜１３９．０℃ 参考例３ 無水グルタル酸１．０ｇ（８．６ミリモル）とベンジル
アミン０．９ｍｌ（８．６ミリモル）から合成する他
は、参考例１と同様に反応及び後処理を行なったとこ
ろ、黄色のＮ−ベンジルグルタルアミド酸の収量は１．
７ｇ（収率８８％）であった。
【００５１】融点１０１．５〜１０２．５℃
【００５２】
【発明の効果】本発明により、式（１）のカルボン酸無
水物と式（２）のアミン化合物から穏和な条件で式
（３）のイミド化合物を製造することができ、更に式
（４）のアミド酸からも穏和な条件で式（３）のイミド
化合物の製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 223/10 Ｃ０７Ｄ 223/10 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式（１） 【化１】 〔式中、Ｘ及びＹは、独立に置換されていてもよいＣ1
    〜Ｃ6アルキル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル
    基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子
    を意味する。）、置換されていてもよいＣ2〜Ｃ6アルケ
    ニル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜
    Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味す
    る。）、置換されていてもよいフェニル基（該置換基と
    してはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フ
    ェニル基、ニトロ基、シアノ 基、ハロゲン原子を意味
    する。）を意味し、又はＸ及びＹは一緒になってＣ4〜
    Ｃ8の環やベンゼン環を形成してもよい。 【化２】 は単結合又は二重結合を意味し、ｎは０〜３の整数を意
    味する。〕で表わされるカルボン酸無水物を、 式（２） 【化３】 〔式中、Ｒは、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキル
    基（該置換基としてはＣ 1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ア
    ルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原
    子を意味する。）、置換されていてもよいＣ2〜Ｃ6アル
    ケニル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1
    〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味
    する。）、置換されていてもよいフェニル基（該置換基
    としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、
    フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味
    する。）、置換されていてもよいベンジル基（該置換基
    としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、
    フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味
    する。）、ヒドロキシル基を意味する。〕で表わされる
    アミン化合物と、ジシラザン化合物及びルイス酸触媒の
    存在下反応させることを特徴とする 式（３） 【化４】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、ｎ及び 【化５】 は前記に同じ。〕で表わされるイミド化合物の製造法。
  2. 【請求項２】 式（４） 【化６】 〔式中、Ｘ及びＹは、独立に置換されていてもよいＣ1
    〜Ｃ6アルキル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル
    基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子
    を意味する。）、置換されていてもよいＣ2〜Ｃ6アルケ
    ニル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜
    Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味す
    る。）、置換されていてもよいフェニル基（該置換基と
    しては Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、
    フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味
    する。）を意味し、又はＸ及びＹは一緒になってＣ4〜
    Ｃ8の環やベンゼン環を形成してもよい。Ｒは、置換さ
    れていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキル基（該置換基としては
    Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル
    基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を意味する。）、置
    換されていてもよいＣ2〜Ｃ6アルケニル基（該置換基と
    してはＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フ
    ェニル基、ハロゲン原子を意味する。）、置換されてい
    てもよいフェニル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキ
    ル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、
    シアノ基、ハロゲン原子を意味する。）、置換されてい
    てもよいベンジル基（該置換基としてはＣ1〜Ｃ6アルキ
    ル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、
    シアノ基、ハロゲン原子を意味する。）、ヒドロキシル
    基を意味し、 【化７】 は単結合又は二重結合を意味し、ｎは０〜３の整数を意
    味する。〕で表わされるアミド酸を、ジシラザン化合物
    及びルイス酸触媒の存在反応させることを特徴とする 式（３） 【化８】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、ｎ及び 【化９】 は前記に同じ。〕で表わされるイミド化合物の製造法。
  3. 【請求項３】 ジシラザン化合物が１，１，１，３，
    ３，３−ヘキサメチルジシラザンである請求項１〜２記
    載の製造法。
  4. 【請求項４】 ルイス酸が、ハロゲン化亜鉛又はハロゲ
    ン化錫である請求項１〜２記載の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005336157A (ja) * 2004-04-30 2005-12-08 Arigen Inc 光学活性サリドマイドおよびその誘導体の製造法
JP2017149868A (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン及びその製造方法
JP2017149865A (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 信越化学工業株式会社 硬化性組成物、その硬化物及び物品
WO2017145668A1 (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン及びその製造方法並びに硬化性組成物

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005336157A (ja) * 2004-04-30 2005-12-08 Arigen Inc 光学活性サリドマイドおよびその誘導体の製造法
JP2017149868A (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン及びその製造方法
JP2017149865A (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 信越化学工業株式会社 硬化性組成物、その硬化物及び物品
WO2017145668A1 (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン及びその製造方法並びに硬化性組成物

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