JPH0931047A - 新規なキシリレンジチオール誘導体 - Google Patents
新規なキシリレンジチオール誘導体Info
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- JPH0931047A JPH0931047A JP18401495A JP18401495A JPH0931047A JP H0931047 A JPH0931047 A JP H0931047A JP 18401495 A JP18401495 A JP 18401495A JP 18401495 A JP18401495 A JP 18401495A JP H0931047 A JPH0931047 A JP H0931047A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 下記式（１）または（２）で表される新
規なキシリレンジチオール誘導体。 【効果】 良好な光学物性、高い屈折率および優れた耐
擦傷性をもつ光学用レンズ樹脂を与える新規な重合性モ
ノマーを提供する。
規なキシリレンジチオール誘導体。 【効果】 良好な光学物性、高い屈折率および優れた耐
擦傷性をもつ光学用レンズ樹脂を与える新規な重合性モ
ノマーを提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、良好な光学物性、
高い屈折率及び優れた耐擦傷性をもつ光学用レンズ樹脂
などの原料として有用な新規なキシリレンジチオール誘
導体に関する。
高い屈折率及び優れた耐擦傷性をもつ光学用レンズ樹脂
などの原料として有用な新規なキシリレンジチオール誘
導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックレンズは、無機レンズに比
べ軽量で割れ難く、染色が可能なため近年、眼鏡レン
ズ、カメラレンズ等の光学素子に急速に普及してきてい
る。現在、これらの目的に広く用いられる樹脂として
は、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）
（以下、D.A.C と言う）をラジカル重合させたものがあ
る。この樹脂は、耐熱性に優れていること、軽量である
こと、染色性に優れていること、切削性、研磨性等の加
工性が良好であること等、種々の特徴を有している。し
かしながら、この樹脂は、無機ガラスに比べ、屈折率が
小さく、ガラスレンズと同等の光学特性を得るために
は、レンズの中心厚、コバ厚及び曲率を大きくする必要
があり、全体に肉厚になることが避けられない。このた
め、より屈折率の高いレンズ用樹脂が望まれていた。
べ軽量で割れ難く、染色が可能なため近年、眼鏡レン
ズ、カメラレンズ等の光学素子に急速に普及してきてい
る。現在、これらの目的に広く用いられる樹脂として
は、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）
（以下、D.A.C と言う）をラジカル重合させたものがあ
る。この樹脂は、耐熱性に優れていること、軽量である
こと、染色性に優れていること、切削性、研磨性等の加
工性が良好であること等、種々の特徴を有している。し
かしながら、この樹脂は、無機ガラスに比べ、屈折率が
小さく、ガラスレンズと同等の光学特性を得るために
は、レンズの中心厚、コバ厚及び曲率を大きくする必要
があり、全体に肉厚になることが避けられない。このた
め、より屈折率の高いレンズ用樹脂が望まれていた。
【０００３】D.A.C 樹脂よりも屈折率が高いレンズとし
て、ポリウレタン系レンズが知られている。例えば、特
開昭63-46213号において、キシリレンジイソシアネート
化合物とポリチオール化合物とからなるポリウレタン系
レンズが提案されている。また、特開平2-270859号公報
には、特定のポリチオール化合物とイソシアネート化合
物の組み合わせにより、高屈折率で、軽量、耐衝撃性に
優れたポリウレタン系レンズが提案されている。しかし
ながら、これらの樹脂によるレンズは、耐擦傷性が十分
ではなく、レンズの表面が傷つきやすいという欠点を有
している。また、光学的に均質なレンズを得るためには
重合時間が長くなり、作業性が繁雑になることがあっ
た。このため、これらの問題点を解決すべくさらなる改
良が望まれていた。
て、ポリウレタン系レンズが知られている。例えば、特
開昭63-46213号において、キシリレンジイソシアネート
化合物とポリチオール化合物とからなるポリウレタン系
レンズが提案されている。また、特開平2-270859号公報
には、特定のポリチオール化合物とイソシアネート化合
物の組み合わせにより、高屈折率で、軽量、耐衝撃性に
優れたポリウレタン系レンズが提案されている。しかし
ながら、これらの樹脂によるレンズは、耐擦傷性が十分
ではなく、レンズの表面が傷つきやすいという欠点を有
している。また、光学的に均質なレンズを得るためには
重合時間が長くなり、作業性が繁雑になることがあっ
た。このため、これらの問題点を解決すべくさらなる改
良が望まれていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、良好
な光学物性、高い屈折率および優れた耐擦傷性をもつ光
学用レンズ樹脂などの原料として有用な新規なキシリレ
ンジチオール誘導体を提供するものである。
な光学物性、高い屈折率および優れた耐擦傷性をもつ光
学用レンズ樹脂などの原料として有用な新規なキシリレ
ンジチオール誘導体を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために、鋭意検討した結果、本発明に至った
ものである。即ち、本発明は、新規な式（１）（化３）
で表されるキシリレンジチオール誘導体および式（２）
（化３）で表されるキシリレンジチオール誘導体に関す
るものである。
を解決するために、鋭意検討した結果、本発明に至った
ものである。即ち、本発明は、新規な式（１）（化３）
で表されるキシリレンジチオール誘導体および式（２）
（化３）で表されるキシリレンジチオール誘導体に関す
るものである。
【０００６】
【化３】 （上式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表す）
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
式（１）で表されるキシリレンジチオール誘導体、即
ち、１，４−ビス（メルカプトプロピルチオメチル）ベ
ンゼンは、次の方法で得られる。即ち、 先ず、ｐ−キシリレンジクロライドとチオ尿素とを、
水溶媒中で反応させて、ｐ−キシリレンジチオールを
得、 次いで、ｐ−キシリレンジチオールを水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等でアルカリ塩とした後、１−ブロ
モ−３−クロロプロパンを、溶媒中で反応させ、Ｓ，
Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−キシリレンジチオ
エーテルを得、 得られたＳ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−キ
シリレンジチオエーテルとチオ尿素とを、溶媒中で反応
させることにより、本願の式（１）で表されるキシリレ
ンジチオール誘導体を得る。
式（１）で表されるキシリレンジチオール誘導体、即
ち、１，４−ビス（メルカプトプロピルチオメチル）ベ
ンゼンは、次の方法で得られる。即ち、 先ず、ｐ−キシリレンジクロライドとチオ尿素とを、
水溶媒中で反応させて、ｐ−キシリレンジチオールを
得、 次いで、ｐ−キシリレンジチオールを水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等でアルカリ塩とした後、１−ブロ
モ−３−クロロプロパンを、溶媒中で反応させ、Ｓ，
Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−キシリレンジチオ
エーテルを得、 得られたＳ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−キ
シリレンジチオエーテルとチオ尿素とを、溶媒中で反応
させることにより、本願の式（１）で表されるキシリレ
ンジチオール誘導体を得る。
【０００８】反応において、チオ尿素の使用量は、ｐ
−キシリレンジクロライド１モルに対して２〜２．５モ
ル、好ましくは２〜２．１モルであり、水の使用量は、
ｐ−キシリレンジクロライド１モルに対して６００〜１
０００ｍｌ、好ましくは７００〜９００ｍｌである。ま
た、反応温度は１００〜１０５℃であり、反応時間は４
〜６時間である。反応終了後、生成物をトルエン、ベン
ゼン等の有機溶媒に溶解し、有機層をよく洗浄した後、
溶媒を留去して生成物を得る。この生成物は必要に応じ
て、公知の方法により、さらに精製することもできる。
−キシリレンジクロライド１モルに対して２〜２．５モ
ル、好ましくは２〜２．１モルであり、水の使用量は、
ｐ−キシリレンジクロライド１モルに対して６００〜１
０００ｍｌ、好ましくは７００〜９００ｍｌである。ま
た、反応温度は１００〜１０５℃であり、反応時間は４
〜６時間である。反応終了後、生成物をトルエン、ベン
ゼン等の有機溶媒に溶解し、有機層をよく洗浄した後、
溶媒を留去して生成物を得る。この生成物は必要に応じ
て、公知の方法により、さらに精製することもできる。
【０００９】反応において、１−ブロモ−３−クロロ
プロパンの使用量は、ｐ−キシリレンジチオール１モル
に対して２〜２．５モル、好ましくは２〜２．１モルで
ある。反応の際用いられる溶媒は、原料等と反応性がな
い溶媒であればよく、例えば、水、エタノール、非プロ
トン性溶剤のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げら
れる。溶媒の使用量は、ｐ−キシリレンジチオール１モ
ルに対して３００〜３０００ｍｌ、好ましくは８００〜
２０００ｍｌである。また、反応温度は５〜１２０℃、
好ましくは３０〜１００℃で、反応時間は１〜２０時
間、好ましくは２〜１０時間である。この時、必要に応
じて、界面活性剤や相間移動触媒等を用いても良い。反
応終了後、生成物をトルエン、ベンゼン等の有機溶媒に
溶解し、有機層をよく洗浄した後、溶媒を留去して生成
物を得る。この生成物は、必要に応じて、公知の方法に
より、さらに精製することもできる。
プロパンの使用量は、ｐ−キシリレンジチオール１モル
に対して２〜２．５モル、好ましくは２〜２．１モルで
ある。反応の際用いられる溶媒は、原料等と反応性がな
い溶媒であればよく、例えば、水、エタノール、非プロ
トン性溶剤のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げら
れる。溶媒の使用量は、ｐ−キシリレンジチオール１モ
ルに対して３００〜３０００ｍｌ、好ましくは８００〜
２０００ｍｌである。また、反応温度は５〜１２０℃、
好ましくは３０〜１００℃で、反応時間は１〜２０時
間、好ましくは２〜１０時間である。この時、必要に応
じて、界面活性剤や相間移動触媒等を用いても良い。反
応終了後、生成物をトルエン、ベンゼン等の有機溶媒に
溶解し、有機層をよく洗浄した後、溶媒を留去して生成
物を得る。この生成物は、必要に応じて、公知の方法に
より、さらに精製することもできる。
【００１０】反応において、チオ尿素の使用量は、
Ｓ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−キシリレンジ
チオエーテル１モルに対して２〜２．５モル、好ましく
は２〜２．１モルである。反応の際用いられる溶媒は、
原料等と反応性がない溶媒であればよく、例えば、水、
エタノール、非プロトン性溶剤のＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドやジメチルスルホキシド等が挙げられる。溶媒
の使用量は、Ｓ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−
キシリレンジチオエーテル１モルに対して２００〜１０
００ｍｌ、好ましくは６００〜９００ｍｌである。ま
た、反応温度は３０〜１２０℃、好ましくは６０〜９０
℃で、反応時間は１〜１５時間、好ましくは２〜５時間
である。この時、必要に応じて、ヨウ化カリウム、臭化
カリウム等のハロゲン置換剤、界面活性剤、相間移動触
媒等を用いても良い。反応終了後、生成物をトルエン、
ベンゼン等の有機溶媒に溶解し、有機層をよく洗浄した
後、溶媒を留去して生成物を得る。この生成物は、必要
に応じて、公知の方法により、さらに精製することもで
きる。
Ｓ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−キシリレンジ
チオエーテル１モルに対して２〜２．５モル、好ましく
は２〜２．１モルである。反応の際用いられる溶媒は、
原料等と反応性がない溶媒であればよく、例えば、水、
エタノール、非プロトン性溶剤のＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドやジメチルスルホキシド等が挙げられる。溶媒
の使用量は、Ｓ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−ｐ−
キシリレンジチオエーテル１モルに対して２００〜１０
００ｍｌ、好ましくは６００〜９００ｍｌである。ま
た、反応温度は３０〜１２０℃、好ましくは６０〜９０
℃で、反応時間は１〜１５時間、好ましくは２〜５時間
である。この時、必要に応じて、ヨウ化カリウム、臭化
カリウム等のハロゲン置換剤、界面活性剤、相間移動触
媒等を用いても良い。反応終了後、生成物をトルエン、
ベンゼン等の有機溶媒に溶解し、有機層をよく洗浄した
後、溶媒を留去して生成物を得る。この生成物は、必要
に応じて、公知の方法により、さらに精製することもで
きる。
【００１１】また、式（２）で表されるキシリレンジチ
オール誘導体、即ち、１，４−ビス（メルカプトプロピ
ルチオメチル）ベンゼンと（メタ）アクリル酸とのジエ
ステルは、上記の方法で得られた式（１）で表されるジ
チオールに、公知の方法、即ち、アクリル酸クロライド
またはメタクリル酸クロライドを、アセトン、トルエ
ン、クロロホルム等の原料等と反応性がない溶媒中で、
塩酸補集剤の存在下に反応させることにより得られる。
アクリル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライドの
使用量は、式（１）で表されるジチオール１モルに対し
て２〜２．５モルである。反応温度は−１０〜３５℃に
保ち、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶
液、トリエチルアミン、ピリジン等の塩酸補集剤を加え
て反応を進める。反応終了後、生成物をトルエン、ベン
ゼン等の有機溶媒に溶解し、有機層をよく洗浄した後、
溶媒を留去して生成物を得る。この生成物は、必要に応
じて、公知の方法により、さらに精製することもでき
る。
オール誘導体、即ち、１，４−ビス（メルカプトプロピ
ルチオメチル）ベンゼンと（メタ）アクリル酸とのジエ
ステルは、上記の方法で得られた式（１）で表されるジ
チオールに、公知の方法、即ち、アクリル酸クロライド
またはメタクリル酸クロライドを、アセトン、トルエ
ン、クロロホルム等の原料等と反応性がない溶媒中で、
塩酸補集剤の存在下に反応させることにより得られる。
アクリル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライドの
使用量は、式（１）で表されるジチオール１モルに対し
て２〜２．５モルである。反応温度は−１０〜３５℃に
保ち、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶
液、トリエチルアミン、ピリジン等の塩酸補集剤を加え
て反応を進める。反応終了後、生成物をトルエン、ベン
ゼン等の有機溶媒に溶解し、有機層をよく洗浄した後、
溶媒を留去して生成物を得る。この生成物は、必要に応
じて、公知の方法により、さらに精製することもでき
る。
【００１２】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれによりなんら制限されるもので
はない。尚、例中に示す部はすべて重量部を示す。 実施例１ 反応：ｐ−キシリレンジチオールの合成 ｐ−キシリレンジクロライド７８．５部、チオ尿素７
１．５部、水２７５部を混合し、反応液温１０２℃に保
ち、５時間攪拌した。反応終了後、冷却し、窒素雰囲気
下で、５０ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液１４４部を加
え、反応液温１００℃に保ち、３０分間攪拌した。次い
で、反応液を４０℃に冷却し、濃塩酸１８０部を加え、
そのまま３０分間攪拌した。反応終了後、トルエン２０
０部を加え、抽出し、有機層を分離した。有機層を水１
５０部で洗浄した後、濃縮、蒸留を行い、蒸留物として
ｐ−キシリレンジチオールを得た。無色の固体、収量５
９部。
明するが、本発明はこれによりなんら制限されるもので
はない。尚、例中に示す部はすべて重量部を示す。 実施例１ 反応：ｐ−キシリレンジチオールの合成 ｐ−キシリレンジクロライド７８．５部、チオ尿素７
１．５部、水２７５部を混合し、反応液温１０２℃に保
ち、５時間攪拌した。反応終了後、冷却し、窒素雰囲気
下で、５０ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液１４４部を加
え、反応液温１００℃に保ち、３０分間攪拌した。次い
で、反応液を４０℃に冷却し、濃塩酸１８０部を加え、
そのまま３０分間攪拌した。反応終了後、トルエン２０
０部を加え、抽出し、有機層を分離した。有機層を水１
５０部で洗浄した後、濃縮、蒸留を行い、蒸留物として
ｐ−キシリレンジチオールを得た。無色の固体、収量５
９部。
【００１３】反応：Ｓ，Ｓ’−ビス（クロロプロピ
ル）−ｐ−キシリレンジチオエーテルの合成 １−ブロモ−３−クロロプロパン１１２部、エタノール
１３０部に、反応で得られたｐ−キシリレンジチオー
ル５９部と水酸化カリウム４７部をエタノール３００部
中で反応させた溶液を、反応液温６０〜７０℃に保ちな
がら、１．５時間かけて滴下した。滴下後、還流下で３
０分間反応した。反応終了後、水４６０部、トルエン４
００部を加え、抽出し、有機層を分離した。有機層を水
３５０部で洗浄した後、濃縮した。濃縮物をクロマトグ
ラフ法で精製し、淡赤色のシロップ状のＳ，Ｓ’−ビス
（クロロプロピル）−ｐ−キシリレンジチオエーテル８
１部を得た。
ル）−ｐ−キシリレンジチオエーテルの合成 １−ブロモ−３−クロロプロパン１１２部、エタノール
１３０部に、反応で得られたｐ−キシリレンジチオー
ル５９部と水酸化カリウム４７部をエタノール３００部
中で反応させた溶液を、反応液温６０〜７０℃に保ちな
がら、１．５時間かけて滴下した。滴下後、還流下で３
０分間反応した。反応終了後、水４６０部、トルエン４
００部を加え、抽出し、有機層を分離した。有機層を水
３５０部で洗浄した後、濃縮した。濃縮物をクロマトグ
ラフ法で精製し、淡赤色のシロップ状のＳ，Ｓ’−ビス
（クロロプロピル）−ｐ−キシリレンジチオエーテル８
１部を得た。
【００１４】反応：式（１）で表されるジチオールの
合成 反応で得られたＳ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−
ｐ−キシリレンジチオエーテル１９．５部、チオ尿素
９．５部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３５部を、液
温８０〜８５℃に保ち、５時間攪拌し、反応させた。反
応終了後、１０ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液３００部
を加え、常温で３０分間攪拌した。次いで、１０ｗｔ％
塩酸２５０部を加え、常温で３０分間攪拌した。その
後、トルエン１６０部を加え、抽出し、有機層を分離し
た。有機層を水２５０部で洗浄した後、濃縮した。濃縮
物をクロマトグラフ法で精製して、無色のシロップ状の
下記式（１）（化４）で表されるジチオール８部を得
た。
合成 反応で得られたＳ，Ｓ’−ビス（クロロプロピル）−
ｐ−キシリレンジチオエーテル１９．５部、チオ尿素
９．５部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３５部を、液
温８０〜８５℃に保ち、５時間攪拌し、反応させた。反
応終了後、１０ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液３００部
を加え、常温で３０分間攪拌した。次いで、１０ｗｔ％
塩酸２５０部を加え、常温で３０分間攪拌した。その
後、トルエン１６０部を加え、抽出し、有機層を分離し
た。有機層を水２５０部で洗浄した後、濃縮した。濃縮
物をクロマトグラフ法で精製して、無色のシロップ状の
下記式（１）（化４）で表されるジチオール８部を得
た。
【００１５】
【化４】
【００１６】実施例２ ジメタクリレートの合成 実施例１で得られた式（１）で表されるジチオール８
部、アセトン４０部、２０ｗｔ％水酸化ナトリウム１
１．６部を混合し、反応液温１０〜２０℃に保ちなが
ら、メタクリル酸クロライド５．７部を滴下した。滴下
終了後、３０分間攪拌した。次いで、水２００部、トル
エン８０部を加え、抽出し、有機層を分離した。有機層
を５ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液１００部、水１５
０部で洗浄した後、濃縮した。濃縮物をクロマトグラフ
法で精製して、無色のシロップ状の下記式（３）（化
５）で表されるジメタクリレート１．６部を得た。
部、アセトン４０部、２０ｗｔ％水酸化ナトリウム１
１．６部を混合し、反応液温１０〜２０℃に保ちなが
ら、メタクリル酸クロライド５．７部を滴下した。滴下
終了後、３０分間攪拌した。次いで、水２００部、トル
エン８０部を加え、抽出し、有機層を分離した。有機層
を５ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液１００部、水１５
０部で洗浄した後、濃縮した。濃縮物をクロマトグラフ
法で精製して、無色のシロップ状の下記式（３）（化
５）で表されるジメタクリレート１．６部を得た。
【００１７】
【化５】
【００１８】実施例３ ジアクリレートの合成 実施例２のメタクリル酸クロライド５．７部をアクリル
酸クロライド５．０部に代え、反応温度を５℃にした以
外は、実施例２と同様にして、無色のシロップ状の下記
式（４）（化６）で表されるジアクリレート０．５部を
得た。
酸クロライド５．０部に代え、反応温度を５℃にした以
外は、実施例２と同様にして、無色のシロップ状の下記
式（４）（化６）で表されるジアクリレート０．５部を
得た。
【００１９】
【化６】
【００２０】参考例１ 実施例２で得られたジメタクリレート３５部に対して、
ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−
エチルヘキサノエート３５ｍｇを添加してよく混合し
た。これを十分脱泡した後、ガラスモールドとガスケッ
トよりなるモールド型に注入した。３０〜１２０℃まで
１時間かけて昇温し、さらに１２０℃で１時間加熱し
た。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモールドより
取り出した。得られた成形体は、無色透明であり、屈折
率ｎd ＝１．６３、アッベ数νd ＝４０であった。ま
た、耐擦傷性についても非常に優れており、評価は○で
あった。尚、屈折率、アッベ数、耐擦傷性、外観、耐衝
撃性は以下の試験法により評価した。 ＊屈折率、アッベ数：プルフリッヒ屈折計を用いて２０
℃で測定した。 ＊耐擦傷性：樹脂の表面を＃００００のスチールウール
で摩擦して、表面の傷つき難さを調べ、次のように判定
した。 ○：強く摩擦しても全く傷つかない △：強く摩擦すると少し傷つく ×：弱い摩擦でも傷つく ＊外観：目視により観察した。 ＊耐衝撃性：作製したレンズの中心部に高さ１２７ｃｍ
から鉄球を落下させて耐衝撃性を評価した。
ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−
エチルヘキサノエート３５ｍｇを添加してよく混合し
た。これを十分脱泡した後、ガラスモールドとガスケッ
トよりなるモールド型に注入した。３０〜１２０℃まで
１時間かけて昇温し、さらに１２０℃で１時間加熱し
た。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモールドより
取り出した。得られた成形体は、無色透明であり、屈折
率ｎd ＝１．６３、アッベ数νd ＝４０であった。ま
た、耐擦傷性についても非常に優れており、評価は○で
あった。尚、屈折率、アッベ数、耐擦傷性、外観、耐衝
撃性は以下の試験法により評価した。 ＊屈折率、アッベ数：プルフリッヒ屈折計を用いて２０
℃で測定した。 ＊耐擦傷性：樹脂の表面を＃００００のスチールウール
で摩擦して、表面の傷つき難さを調べ、次のように判定
した。 ○：強く摩擦しても全く傷つかない △：強く摩擦すると少し傷つく ×：弱い摩擦でも傷つく ＊外観：目視により観察した。 ＊耐衝撃性：作製したレンズの中心部に高さ１２７ｃｍ
から鉄球を落下させて耐衝撃性を評価した。
【００２１】参考例２ 実施例３で得られたジアクリレート３５部に対して、ラ
ジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−エ
チルヘキサノエート１７．５ｍｇ、増感剤として２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン３５ｍｇを添加してよく混合した。これを十分脱泡し
た後、ガラスモールドとガスケットよりなるモールド型
に注入した。冷却しながら、紫外線を５分間照射した
後、３０〜１２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１
２０℃で１時間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、
成形体をモールドより取り出した。得られた成形体は、
無色透明であり、屈折率ｎd ＝１．６４、アッベ数νd
＝３５であった。また、耐擦傷性については非常に優れ
ており、評価は○であった。
ジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−エ
チルヘキサノエート１７．５ｍｇ、増感剤として２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン３５ｍｇを添加してよく混合した。これを十分脱泡し
た後、ガラスモールドとガスケットよりなるモールド型
に注入した。冷却しながら、紫外線を５分間照射した
後、３０〜１２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１
２０℃で１時間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、
成形体をモールドより取り出した。得られた成形体は、
無色透明であり、屈折率ｎd ＝１．６４、アッベ数νd
＝３５であった。また、耐擦傷性については非常に優れ
ており、評価は○であった。
【００２２】参考例３ 実施例２で得られたジメタクリレート３２部に対して、
ポリエチレングリコールジメタクリレート〔ｎ＝９、新
中村化学工業（株）製：ＮＫエステル９Ｇ〕８ｇ、ラジ
カル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−エチ
ルヘキサノエート１７．５ｍｇ、増感剤として２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
７０ｍｇを添加してよく混合した。これを十分脱泡した
後、ガラスモールドとガスケットよりなるモールド型に
注入した。冷却しながら、紫外線を５分間照射した後、
３０〜１２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１２０
℃で１時間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、成形
体をモールドより取り出した。得られた成形体は、無色
透明であり、屈折率ｎd ＝１．５９、アッベ数νd＝４
２であった。また、耐擦傷性については非常に優れてお
り、評価は○であった。さらに、参考例１で得られた成
形体よりも耐衝撃性は向上していた。
ポリエチレングリコールジメタクリレート〔ｎ＝９、新
中村化学工業（株）製：ＮＫエステル９Ｇ〕８ｇ、ラジ
カル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−エチ
ルヘキサノエート１７．５ｍｇ、増感剤として２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
７０ｍｇを添加してよく混合した。これを十分脱泡した
後、ガラスモールドとガスケットよりなるモールド型に
注入した。冷却しながら、紫外線を５分間照射した後、
３０〜１２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１２０
℃で１時間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、成形
体をモールドより取り出した。得られた成形体は、無色
透明であり、屈折率ｎd ＝１．５９、アッベ数νd＝４
２であった。また、耐擦傷性については非常に優れてお
り、評価は○であった。さらに、参考例１で得られた成
形体よりも耐衝撃性は向上していた。
【００２３】参考例４ 実施例３で得られたジアクリレート３５部に対して、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート〔ｎ＝９、新中
村化学工業（株）製：ＮＫエステル９Ｇ〕１５ｇ、ラジ
カル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−エチ
ルヘキサノエート１７．５ｍｇ、増感剤として２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
７０ｍｇを添加してよく混合した。これを十分脱泡した
後、ガラスモールドとガスケットよりなるモールド型に
注入した。冷却しながら、紫外線を５分間照射した後、
３０〜１２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１２０
℃で１時間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、成形
体をモールドより取り出した。得られた成形体は、無色
透明であり、屈折率ｎd ＝１．６０、アッベ数νd＝４
０であった。また、耐擦傷性については非常に優れてお
り、評価は○であった。さらに、参考例２で得られた成
形体よりも耐衝撃性は向上していた。
リエチレングリコールジメタクリレート〔ｎ＝９、新中
村化学工業（株）製：ＮＫエステル９Ｇ〕１５ｇ、ラジ
カル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−エチ
ルヘキサノエート１７．５ｍｇ、増感剤として２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
７０ｍｇを添加してよく混合した。これを十分脱泡した
後、ガラスモールドとガスケットよりなるモールド型に
注入した。冷却しながら、紫外線を５分間照射した後、
３０〜１２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１２０
℃で１時間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、成形
体をモールドより取り出した。得られた成形体は、無色
透明であり、屈折率ｎd ＝１．６０、アッベ数νd＝４
０であった。また、耐擦傷性については非常に優れてお
り、評価は○であった。さらに、参考例２で得られた成
形体よりも耐衝撃性は向上していた。
【００２４】参考比較例１ 下記式（５）（化７）で表されるジメタクリレート３５
部に対して、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパー
オキシ−２−エチルヘキサノエート３５ｍｇを添加して
よく混合した。これを十分脱泡した後、ガラスモールド
とガスケットよりなるモールド型に注入した。３０〜１
２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１２０℃で１時
間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモー
ルドより取り出した。得られた成形体は、無色透明であ
り、屈折率ｎd ＝１．６３、アッベ数νd ＝３４であ
り、耐擦傷性の評価は△であった。
部に対して、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパー
オキシ−２−エチルヘキサノエート３５ｍｇを添加して
よく混合した。これを十分脱泡した後、ガラスモールド
とガスケットよりなるモールド型に注入した。３０〜１
２０℃まで１時間かけて昇温し、さらに１２０℃で１時
間加熱した。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモー
ルドより取り出した。得られた成形体は、無色透明であ
り、屈折率ｎd ＝１．６３、アッベ数νd ＝３４であ
り、耐擦傷性の評価は△であった。
【００２５】
【化７】
【００２６】参考比較例２ ｐ−ベンゼンジチオールジメタクリレート３５部に対し
て、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−
２−エチルヘキサノエート３５ｍｇを添加してよく混合
した。これを十分脱泡した後、ガラスモールドとガスケ
ットよりなるモールド型に注入した。３０〜１２０℃ま
で１時間かけて昇温し、さらに１２０℃で１時間加熱し
た。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモールドより
取り出した。得られた成形体は、無色透明であり、屈折
率ｎd ＝１．６６、アッベ数νd＝２４であり、耐擦傷
性の評価は×であった。
て、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−
２−エチルヘキサノエート３５ｍｇを添加してよく混合
した。これを十分脱泡した後、ガラスモールドとガスケ
ットよりなるモールド型に注入した。３０〜１２０℃ま
で１時間かけて昇温し、さらに１２０℃で１時間加熱し
た。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモールドより
取り出した。得られた成形体は、無色透明であり、屈折
率ｎd ＝１．６６、アッベ数νd＝２４であり、耐擦傷
性の評価は×であった。
【００２７】
【発明の効果】本発明の式（１）表されるジチオールお
よび式（２）で表されるそのジ（メタ）アクリレート
は、良好な光学物性、高い屈折率および優れた耐擦傷性
をもつ光学用レンズ樹脂を与えることができる。
よび式（２）で表されるそのジ（メタ）アクリレート
は、良好な光学物性、高い屈折率および優れた耐擦傷性
をもつ光学用レンズ樹脂を与えることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 誠一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 笹川 勝好 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 藤井 謙一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 式（１）（化１）で表されるキシリレン
ジチオール誘導体。 【化１】 - 【請求項２】 式（２）（化２）で表されるキシリレン
ジチオール誘導体。 【化２】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表す）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18401495A JP3688021B2 (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 新規なキシリレンジチオール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18401495A JP3688021B2 (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 新規なキシリレンジチオール誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0931047A true JPH0931047A (ja) | 1997-02-04 |
| JP3688021B2 JP3688021B2 (ja) | 2005-08-24 |
Family
ID=16145831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18401495A Expired - Lifetime JP3688021B2 (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 新規なキシリレンジチオール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3688021B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002097223A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Mitsui Chemicals Inc | 含硫（メタ）アクリル酸チオエステル化合物およびその用途 |
| JP2008174757A (ja) * | 2008-03-12 | 2008-07-31 | Tokuyama Corp | 含硫黄重合性アダマンタン化合物 |
| JP2012031090A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | （メタ）アクリル酸チオエステルの製造方法 |
| JP2012233046A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 硬化性組成物および光学接着剤 |
| JP2012233047A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 硬化性組成物および光学接着剤 |
| JP2013155144A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ジチオール化合物及び環状ジスルフィド化合物の製造方法 |
-
1995
- 1995-07-20 JP JP18401495A patent/JP3688021B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002097223A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Mitsui Chemicals Inc | 含硫（メタ）アクリル酸チオエステル化合物およびその用途 |
| JP2008174757A (ja) * | 2008-03-12 | 2008-07-31 | Tokuyama Corp | 含硫黄重合性アダマンタン化合物 |
| JP2012031090A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | （メタ）アクリル酸チオエステルの製造方法 |
| JP2012233046A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 硬化性組成物および光学接着剤 |
| JP2012233047A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 硬化性組成物および光学接着剤 |
| JP2013155144A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ジチオール化合物及び環状ジスルフィド化合物の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
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| JP3688021B2 (ja) | 2005-08-24 |
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