JPH09311200A - 放射線像変換パネル及び放射線像読取方法 - Google Patents
放射線像変換パネル及び放射線像読取方法Info
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- JPH09311200A JPH09311200A JP8153224A JP15322496A JPH09311200A JP H09311200 A JPH09311200 A JP H09311200A JP 8153224 A JP8153224 A JP 8153224A JP 15322496 A JP15322496 A JP 15322496A JP H09311200 A JPH09311200 A JP H09311200A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 両面集光読取方式を利用する放射線像記録再
生方法に用いるのに特に適した放射線像変換パネルを提
供すること。 【解決手段】 ４００〜８００ｎｍの波長領域の光に対
する全透過率が７０％以上、かつヘイズ度が１０〜３０
の範囲にある支持体の上に輝尽性蛍光体粒子を含む蛍光
体層が設けられてなる両面集光読取方式に用いるための
放射線像変換パネル。そして、この放射線像変換パネル
を用い、両面集光による読取操作そして消光操作を並行
して行なうことを特徴とする方法。
生方法に用いるのに特に適した放射線像変換パネルを提
供すること。 【解決手段】 ４００〜８００ｎｍの波長領域の光に対
する全透過率が７０％以上、かつヘイズ度が１０〜３０
の範囲にある支持体の上に輝尽性蛍光体粒子を含む蛍光
体層が設けられてなる両面集光読取方式に用いるための
放射線像変換パネル。そして、この放射線像変換パネル
を用い、両面集光による読取操作そして消光操作を並行
して行なうことを特徴とする方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、輝尽性蛍光体の輝尽特
性を利用した両面集光読取方式の放射線像読取方法およ
びその方法に有利に利用できる放射線像変換パネルに関
するものである。本発明は特に、両面集光読取方式によ
る輝尽発光の検出工程の直後に、少なくとも一方の表面
の側からの消去光の照射による消去工程を行なう両面集
光読取方式の放射線像読取方法、およびその方法に有利
に用いることのできる放射線像変換パネルに関するもの
である。
性を利用した両面集光読取方式の放射線像読取方法およ
びその方法に有利に利用できる放射線像変換パネルに関
するものである。本発明は特に、両面集光読取方式によ
る輝尽発光の検出工程の直後に、少なくとも一方の表面
の側からの消去光の照射による消去工程を行なう両面集
光読取方式の放射線像読取方法、およびその方法に有利
に用いることのできる放射線像変換パネルに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】放射線像を画像として得る方法として従
来より利用されてきた銀塩乳剤層を有する放射線写真フ
ィルムと増感紙との組合わせを用いる放射線写真法に代
る方法として、たとえば特開昭５５−１２１４５号公報
などに記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射
線像記録再生方法が利用されている。放射線像記録再生
方法は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル（蓄
積性蛍光体シートとも称する）を利用するもので、被写
体を透過した放射線、あるいは被検体から発せられた放
射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後に輝
尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）
で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体中に
蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）と
して放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号
を得たのち、この電気信号を画像化する放射線像変換方
法である。
来より利用されてきた銀塩乳剤層を有する放射線写真フ
ィルムと増感紙との組合わせを用いる放射線写真法に代
る方法として、たとえば特開昭５５−１２１４５号公報
などに記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射
線像記録再生方法が利用されている。放射線像記録再生
方法は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル（蓄
積性蛍光体シートとも称する）を利用するもので、被写
体を透過した放射線、あるいは被検体から発せられた放
射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後に輝
尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）
で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体中に
蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）と
して放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号
を得たのち、この電気信号を画像化する放射線像変換方
法である。
【０００３】上記放射線像記録再生方法によれば、従来
の放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができ
るという利点がある。従って、この放射線像記録再生方
法は、特に医療診断を目的とするＸ線撮影等の直接医療
用放射線撮影において利用価値の非常に高い。
の放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができ
るという利点がある。従って、この放射線像記録再生方
法は、特に医療診断を目的とするＸ線撮影等の直接医療
用放射線撮影において利用価値の非常に高い。
【０００４】上記放射線像記録再生方法に用いられる放
射線像変換パネルは、一般に支持体とその片面に設けら
れた輝尽性蛍光体層とからなる基本構造を持ち、通常長
方形あるいは正方形のシート状の形状を有する。また、
この輝尽性蛍光体層の支持体とは反対側の表面（即ち、
支持体に面していない側の表面）には一般に、透明な保
護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるい
は物理的な衝撃から保護している。
射線像変換パネルは、一般に支持体とその片面に設けら
れた輝尽性蛍光体層とからなる基本構造を持ち、通常長
方形あるいは正方形のシート状の形状を有する。また、
この輝尽性蛍光体層の支持体とは反対側の表面（即ち、
支持体に面していない側の表面）には一般に、透明な保
護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるい
は物理的な衝撃から保護している。
【０００５】輝尽性蛍光体層は、一般に輝尽性蛍光体粒
子とこれを分散状態で含有固定するバインダ（結合剤あ
るいは結着材ともいう）とから構成される。この輝尽性
蛍光体は、Ｘ線などの放射線を吸収したのち可視光線、
あるいは赤外線などの電磁波（励起光）の照射を受ける
と発光（輝尽発光）を示す性質を有するものである。従
って、被写体を透過した、あるいは被検体から発した放
射線は、その放射線量に比例して放射線像変換パネルの
輝尽性蛍光体層に吸収され、放射線像変換パネル上には
被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの
蓄積像（潜像）として形成される。この蓄積像は、上記
電磁波でパネルを時系列的に励起することにより輝尽発
光として放射させることができ、この輝尽発光を光電的
に読み取って電気信号に変換し、放射線エネルギーの蓄
積像を画像化することが可能となる。なお、輝尽性蛍光
体層における蛍光体粒子は必ずしもバインダで結着され
ている必要はなく、輝尽性蛍光体の焼結層や蒸着層など
も放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層として使用する
ことができる。
子とこれを分散状態で含有固定するバインダ（結合剤あ
るいは結着材ともいう）とから構成される。この輝尽性
蛍光体は、Ｘ線などの放射線を吸収したのち可視光線、
あるいは赤外線などの電磁波（励起光）の照射を受ける
と発光（輝尽発光）を示す性質を有するものである。従
って、被写体を透過した、あるいは被検体から発した放
射線は、その放射線量に比例して放射線像変換パネルの
輝尽性蛍光体層に吸収され、放射線像変換パネル上には
被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの
蓄積像（潜像）として形成される。この蓄積像は、上記
電磁波でパネルを時系列的に励起することにより輝尽発
光として放射させることができ、この輝尽発光を光電的
に読み取って電気信号に変換し、放射線エネルギーの蓄
積像を画像化することが可能となる。なお、輝尽性蛍光
体層における蛍光体粒子は必ずしもバインダで結着され
ている必要はなく、輝尽性蛍光体の焼結層や蒸着層など
も放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層として使用する
ことができる。
【０００６】放射線像記録再生方法は、通常、放射線像
変換パネルに画像情報を有する放射線を照射して、パネ
ルに放射線像を記録する手段（記録手段）と、放射線像
が記録されたパネルに励起光を照射しパネルを輝尽発光
させて放射線像を光電的に読み取る手段（読取手段）
と、この読取り後のパネルに消去光を照射してパネルに
残存する放射線像を消去する手段（消去手段）と、これ
ら処理手段の間を連結して各処理手段に向けてパネルを
搬送する搬送系とが一つの装置に組込まれた一体型の放
射線像記録読取装置を用いて、あるいは記録手段と読取
手段および消去手段とが分離された装置、すなわち放射
線像記録装置（撮影装置）と消去機能を有する放射線像
読取装置を用いて実施される。いずれの場合も消去後の
パネルは放射線像記録に使用可能なものであるので、パ
ネルは繰り返し使用され、特に前者の放射線像記録読取
装置においてはパネルは装置内で搬送移動を繰り返しな
がら循環再使用される。
変換パネルに画像情報を有する放射線を照射して、パネ
ルに放射線像を記録する手段（記録手段）と、放射線像
が記録されたパネルに励起光を照射しパネルを輝尽発光
させて放射線像を光電的に読み取る手段（読取手段）
と、この読取り後のパネルに消去光を照射してパネルに
残存する放射線像を消去する手段（消去手段）と、これ
ら処理手段の間を連結して各処理手段に向けてパネルを
搬送する搬送系とが一つの装置に組込まれた一体型の放
射線像記録読取装置を用いて、あるいは記録手段と読取
手段および消去手段とが分離された装置、すなわち放射
線像記録装置（撮影装置）と消去機能を有する放射線像
読取装置を用いて実施される。いずれの場合も消去後の
パネルは放射線像記録に使用可能なものであるので、パ
ネルは繰り返し使用され、特に前者の放射線像記録読取
装置においてはパネルは装置内で搬送移動を繰り返しな
がら循環再使用される。
【０００７】放射線像記録再生方法における読み取り工
程では一般に、放射線像変換パネルの一方の表面側から
励起光を照射し、蛍光体粒子から発せられる輝尽光（輝
尽発光光）を、その励起光照射側に備えた集光ガイドで
取り出し、光電変換して読み取る方法が利用されてい
る。しかし、輝尽性蛍光体粒子から発せられる輝尽光を
できるだけ多く取り出したい場合、あるい輝尽性蛍光体
層内に形成された放射線エネルギーの蓄積像が該層内で
その深さ方向でエネルギー強度分布が変化している時に
そのエネルギー強度分布の変化を放射線画像情報として
得たい場合などには、放射線像変換パネルの両側から輝
尽光を集光する方法（両面集光読取方法）を利用するこ
とがある。この両面集光読取方法については、たとえば
特開昭５５−８７９７０号公報に記載がある。
程では一般に、放射線像変換パネルの一方の表面側から
励起光を照射し、蛍光体粒子から発せられる輝尽光（輝
尽発光光）を、その励起光照射側に備えた集光ガイドで
取り出し、光電変換して読み取る方法が利用されてい
る。しかし、輝尽性蛍光体粒子から発せられる輝尽光を
できるだけ多く取り出したい場合、あるい輝尽性蛍光体
層内に形成された放射線エネルギーの蓄積像が該層内で
その深さ方向でエネルギー強度分布が変化している時に
そのエネルギー強度分布の変化を放射線画像情報として
得たい場合などには、放射線像変換パネルの両側から輝
尽光を集光する方法（両面集光読取方法）を利用するこ
とがある。この両面集光読取方法については、たとえば
特開昭５５−８７９７０号公報に記載がある。
【０００８】このような両面集光系を利用する放射線像
記録再生方法の読み取り装置の構成の例を図１に示す。
図１において、放射線像変換パネルは１１で示されてお
り、放射線像変換パネル１１を移動搬送させるための一
対のニップローラが１２ａ、１２ｂで示されている。レ
ーザビーム等の励起光１３は一方の側より照射され、放
射線像変換パネル１１内から発せられる輝尽光は、その
両表面側に進み、この内でパネル１１の下方側に進んだ
輝尽光１４ａは、下方側に設けられている集光ガイド１
５ａにより集光され、その集光ガイド１５ａの基部に備
えられた光電変換装置（フォトマルチプライヤ）１６ａ
で電気信号に変換され、増幅器１７ａで増幅され信号処
理装置１８に送られる。一方、放射線像変換パネル１１
の上方側に進んだ輝尽光１４ｂは、直接あるいはミラー
１９で反射されて、上方に設けられた集光ガイド１５ｂ
により集光され、その集光ガイド１５ｂの基部に備えら
れた光電変換装置（フォトマルチプライヤ）１６ｂにて
電気信号に変換され、増幅器１７ｂで増幅され信号処理
装置１８に送られる。信号処理装置１８では、増幅器１
７ａと増幅機１７ｂとから送られてきた電気信号につい
て、目的とする放射線画像の種類に基づいて予め決めら
れている加算あるいは減算などの演算処理を行ない、処
理後の信号を画像信号として送り出す。
記録再生方法の読み取り装置の構成の例を図１に示す。
図１において、放射線像変換パネルは１１で示されてお
り、放射線像変換パネル１１を移動搬送させるための一
対のニップローラが１２ａ、１２ｂで示されている。レ
ーザビーム等の励起光１３は一方の側より照射され、放
射線像変換パネル１１内から発せられる輝尽光は、その
両表面側に進み、この内でパネル１１の下方側に進んだ
輝尽光１４ａは、下方側に設けられている集光ガイド１
５ａにより集光され、その集光ガイド１５ａの基部に備
えられた光電変換装置（フォトマルチプライヤ）１６ａ
で電気信号に変換され、増幅器１７ａで増幅され信号処
理装置１８に送られる。一方、放射線像変換パネル１１
の上方側に進んだ輝尽光１４ｂは、直接あるいはミラー
１９で反射されて、上方に設けられた集光ガイド１５ｂ
により集光され、その集光ガイド１５ｂの基部に備えら
れた光電変換装置（フォトマルチプライヤ）１６ｂにて
電気信号に変換され、増幅器１７ｂで増幅され信号処理
装置１８に送られる。信号処理装置１８では、増幅器１
７ａと増幅機１７ｂとから送られてきた電気信号につい
て、目的とする放射線画像の種類に基づいて予め決めら
れている加算あるいは減算などの演算処理を行ない、処
理後の信号を画像信号として送り出す。
【０００９】放射線像変換パネル１１は、ニップローラ
１２ａ、１２ｂにより矢印の方向に順次移動してゆき、
励起工程に供せられた領域は次いで、ナトリウムランプ
などの消去光源２０を利用する消去工程（両面あるいは
片面から消去光を照射する工程）に供せられる。即ち、
励起工程の後でも放射線像変換パネルの蛍光体層に残存
している放射線エネルギーが、この消去工程で放出除去
され、次の放射線画像形成工程において、残存放射線エ
ネルギーによる潜像が悪影響を及ぼさないようにされ
る。
１２ａ、１２ｂにより矢印の方向に順次移動してゆき、
励起工程に供せられた領域は次いで、ナトリウムランプ
などの消去光源２０を利用する消去工程（両面あるいは
片面から消去光を照射する工程）に供せられる。即ち、
励起工程の後でも放射線像変換パネルの蛍光体層に残存
している放射線エネルギーが、この消去工程で放出除去
され、次の放射線画像形成工程において、残存放射線エ
ネルギーによる潜像が悪影響を及ぼさないようにされ
る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】図１で示すような励起
工程と消去工程とを同一の放射線像変換パネルに対して
並行して行なう放射線像変換方法では、得られる放射線
画像にノイズが入りやすい。このノイズは、消去光源か
ら発せられ、放射線像変換パネルに照射される消去光
が、パネル内に入射したのちパネル内の透明支持体内を
伝播して励起光照射領域にまで届くために発生すること
が既に判明している。従って、このノイズの発生を回避
するためには、同一の放射線像変換パネルについて励起
工程と消去工程とを並行して実施することを止めればよ
いが、このような励起工程と消去工程との並行実施は放
射線像変換方法の短時間での実施を可能とし、また装置
の小型化に有用であるため、それを取りやめることは望
ましくない。
工程と消去工程とを同一の放射線像変換パネルに対して
並行して行なう放射線像変換方法では、得られる放射線
画像にノイズが入りやすい。このノイズは、消去光源か
ら発せられ、放射線像変換パネルに照射される消去光
が、パネル内に入射したのちパネル内の透明支持体内を
伝播して励起光照射領域にまで届くために発生すること
が既に判明している。従って、このノイズの発生を回避
するためには、同一の放射線像変換パネルについて励起
工程と消去工程とを並行して実施することを止めればよ
いが、このような励起工程と消去工程との並行実施は放
射線像変換方法の短時間での実施を可能とし、また装置
の小型化に有用であるため、それを取りやめることは望
ましくない。
【００１１】特開昭７−２８７１００号公報には、同一
の放射線像変換パネルについて励起工程と消去工程とを
並行して実施しても、前記のノイズの発生などのトラブ
ルが発生しにくい放射線像変換方法に用いる放射線像変
換パネルとして、（１）輝尽性蛍光体粒子を含む蛍光体
層（輝尽性蛍光体層）の片側表面に、輝尽発光光は透過
させながら、消去光を吸収するように着色された消去光
吸収層が備えられた両面集光読取方式用の放射線像変換
パネル、（２）輝尽性蛍光体層の片側表面に、輝尽発光
光を透過させながら、消去光を輝尽性蛍光体層との界面
において拡散する消去光拡散層が備えられた両面集光読
取方式用の放射線像変換パネル、そして（３）輝尽性蛍
光体層の片側表面に、入射角が３０度以上の光のみを直
進的に通過させる光路制御層が備えられた両面集光読取
方式用の放射線像変換パネルが提案されている。
の放射線像変換パネルについて励起工程と消去工程とを
並行して実施しても、前記のノイズの発生などのトラブ
ルが発生しにくい放射線像変換方法に用いる放射線像変
換パネルとして、（１）輝尽性蛍光体粒子を含む蛍光体
層（輝尽性蛍光体層）の片側表面に、輝尽発光光は透過
させながら、消去光を吸収するように着色された消去光
吸収層が備えられた両面集光読取方式用の放射線像変換
パネル、（２）輝尽性蛍光体層の片側表面に、輝尽発光
光を透過させながら、消去光を輝尽性蛍光体層との界面
において拡散する消去光拡散層が備えられた両面集光読
取方式用の放射線像変換パネル、そして（３）輝尽性蛍
光体層の片側表面に、入射角が３０度以上の光のみを直
進的に通過させる光路制御層が備えられた両面集光読取
方式用の放射線像変換パネルが提案されている。
【００１２】上記の消去光吸収層、消去光拡散層あるい
は光路制御層などの消去光の伝播を制御する補助層を備
えた放射線像変換パネルは、放射線像変換方法におい
て、同一の放射線像変換パネルについて励起工程と消去
工程とを並行して実施しても、前記のノイズの発生など
のトラブルが発生しにくいため、両面集光読取方式の放
射線像変換方法に用いる放射線像変換パネルとして有用
なものであるが、本発明者の検討によると、これらの放
射線像変換パネルを用いた場合、消去光の伝播による放
射線像のノイズの発生は明らかに低減するが、一方で
は、それらの消去光の蛍光体層への侵入が制限されるた
め、消去効率が低下し、消去時間を長めに設定しなけれ
ばならなくなるという欠点があることが判明した。
は光路制御層などの消去光の伝播を制御する補助層を備
えた放射線像変換パネルは、放射線像変換方法におい
て、同一の放射線像変換パネルについて励起工程と消去
工程とを並行して実施しても、前記のノイズの発生など
のトラブルが発生しにくいため、両面集光読取方式の放
射線像変換方法に用いる放射線像変換パネルとして有用
なものであるが、本発明者の検討によると、これらの放
射線像変換パネルを用いた場合、消去光の伝播による放
射線像のノイズの発生は明らかに低減するが、一方で
は、それらの消去光の蛍光体層への侵入が制限されるた
め、消去効率が低下し、消去時間を長めに設定しなけれ
ばならなくなるという欠点があることが判明した。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、４００〜８０
０ｎｍの波長領域の光に対する全透過率が７０％以上
で、かつヘイズ度が１０〜３０の範囲にある支持体の上
に輝尽性蛍光体粒子を含む蛍光体層が設けられてなる両
面集光読取方式に用いるための放射線像変換パネルにあ
る。
０ｎｍの波長領域の光に対する全透過率が７０％以上
で、かつヘイズ度が１０〜３０の範囲にある支持体の上
に輝尽性蛍光体粒子を含む蛍光体層が設けられてなる両
面集光読取方式に用いるための放射線像変換パネルにあ
る。
【００１４】上記の本発明の放射線像変換パネルは、放
射線像変換方法において、両面集光読取操作と両面消去
操作とを平行して行なう場合、すなわち、放射線像を潜
像として有する輝尽性蛍光体層を含む放射線像変換パネ
ルの表面に励起光を照射することにより、輝尽性蛍光体
層中の放射線エネルギーを輝尽発光光として時系列的に
放出させ、この輝尽発光光を放射線像変換パネルの両方
の表面側からそれぞれ光電的に読み取る工程と、この励
起光の照射が終了した放射線像変換パネルの領域に、該
変換パネルの少なくとも一方の表面側から消去光を照射
して放射線像変換パネルに残存する放射線エネルギーを
除去する工程とを同一の放射線像変換パネルに対して並
行して実施する両面集光読取方式の放射線像読取方法に
おいて、特に有利に用いることができる。
射線像変換方法において、両面集光読取操作と両面消去
操作とを平行して行なう場合、すなわち、放射線像を潜
像として有する輝尽性蛍光体層を含む放射線像変換パネ
ルの表面に励起光を照射することにより、輝尽性蛍光体
層中の放射線エネルギーを輝尽発光光として時系列的に
放出させ、この輝尽発光光を放射線像変換パネルの両方
の表面側からそれぞれ光電的に読み取る工程と、この励
起光の照射が終了した放射線像変換パネルの領域に、該
変換パネルの少なくとも一方の表面側から消去光を照射
して放射線像変換パネルに残存する放射線エネルギーを
除去する工程とを同一の放射線像変換パネルに対して並
行して実施する両面集光読取方式の放射線像読取方法に
おいて、特に有利に用いることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の放射線像変換パネルの構
成の代表的な例を図面を参照しながら、次に説明する。
成の代表的な例を図面を参照しながら、次に説明する。
【００１６】図２は、輝尽性蛍光体粒子を含む蛍光体層
２１の片側表面に、本発明の特徴的構成要件である消去
光の透過性が高く、かつヘイズ度が一定の範囲にある支
持体２２が備えられており、一方、蛍光体層２１の他の
側の表面には、透明樹脂からなる薄い保護層２３が設け
られる。
２１の片側表面に、本発明の特徴的構成要件である消去
光の透過性が高く、かつヘイズ度が一定の範囲にある支
持体２２が備えられており、一方、蛍光体層２１の他の
側の表面には、透明樹脂からなる薄い保護層２３が設け
られる。
【００１７】次に本発明の放射線像変換パネルの製造法
について記載する。本発明の放射線像変換パネルの代表
的な構成は図２に示すごとくであり、輝尽性蛍光体を含
む蛍光体層、消去光の透過性が高く、かつヘイズ度が一
定の範囲にある支持体、そして透明な保護層から構成さ
れている。輝尽性蛍光体を含む蛍光体層は通常、ガラス
板あるいはプラスチック板などの仮支持体の上に、輝尽
性蛍光体とバインダとからなる塗布液を塗布し、乾燥
し、その後、仮支持体からはがし取ることによって蛍光
体シートとして形成し、次いで支持体の上に接着させて
製造する。勿論、支持体の上で直接蛍光体層を形成させ
ることも可能である。
について記載する。本発明の放射線像変換パネルの代表
的な構成は図２に示すごとくであり、輝尽性蛍光体を含
む蛍光体層、消去光の透過性が高く、かつヘイズ度が一
定の範囲にある支持体、そして透明な保護層から構成さ
れている。輝尽性蛍光体を含む蛍光体層は通常、ガラス
板あるいはプラスチック板などの仮支持体の上に、輝尽
性蛍光体とバインダとからなる塗布液を塗布し、乾燥
し、その後、仮支持体からはがし取ることによって蛍光
体シートとして形成し、次いで支持体の上に接着させて
製造する。勿論、支持体の上で直接蛍光体層を形成させ
ることも可能である。
【００１８】輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線
を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光
体であるが、実用的な面からは波長が４００〜９００ｎ
ｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波
長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが望ましい。
本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体
には特に限定はなく、公知のものを用いることができ
る。なかでも特に二価ユーロピウム賦活またはセリウム
賦活のアルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、および
セリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体等の希土
類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体は高輝度
の輝尽発光を示すので特に好ましい。ただし、本発明に
用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるもの
ではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した場
合に、輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであ
ってもよい。輝尽性蛍光体層のバインダは各種のものが
知られており、それらのバインダから適宜選択して使用
することができる。
を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光
体であるが、実用的な面からは波長が４００〜９００ｎ
ｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波
長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが望ましい。
本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体
には特に限定はなく、公知のものを用いることができ
る。なかでも特に二価ユーロピウム賦活またはセリウム
賦活のアルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、および
セリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体等の希土
類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体は高輝度
の輝尽発光を示すので特に好ましい。ただし、本発明に
用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるもの
ではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した場
合に、輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであ
ってもよい。輝尽性蛍光体層のバインダは各種のものが
知られており、それらのバインダから適宜選択して使用
することができる。
【００１９】本発明の放射線像変換パネルの支持体とし
ては、通常の消去光の波長領域に該当する４００〜８０
０ｎｍの波長領域の光に対する全透過率が７０％以上で
あって、かつヘイズ度が１０〜３０の範囲にあるプラス
チックフィルム（シート）を用いる。このような高い光
透過率を持ちながら、特定の範囲のヘイズ度を持つプラ
スチックフィルムは、たとえば、通常のプラスチックフ
ィルムの表面を、光透過性の低下を抑えながら、上記の
好適なヘイズ度の範囲になるようにマット化処理する方
法により得ることができる。そのようなプラスチックフ
ィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミドなどか
ら別途形成した透明な薄膜を挙げることができる。この
ようなプラスチックフィルムのマット処理は、サンドブ
ラスト法などの公知のマット化処理法を利用して行なう
ことができる。なお、上記の消去光の透過性が高く、か
つ適度なヘイズ度を持つ支持体は、プラスチックフィル
ムの形成材料および製造時の条件の設定（たとえば、延
伸条件の調節、あるいはプラスチック材料の混合使用な
ど）によっても得ることができる。本発明の放射線像変
換パネルの上記の支持体の厚さは、５０〜２０００μｍ
の範囲にあることが好ましく、特に１００〜１０００μ
ｍの範囲にあることが好ましい。
ては、通常の消去光の波長領域に該当する４００〜８０
０ｎｍの波長領域の光に対する全透過率が７０％以上で
あって、かつヘイズ度が１０〜３０の範囲にあるプラス
チックフィルム（シート）を用いる。このような高い光
透過率を持ちながら、特定の範囲のヘイズ度を持つプラ
スチックフィルムは、たとえば、通常のプラスチックフ
ィルムの表面を、光透過性の低下を抑えながら、上記の
好適なヘイズ度の範囲になるようにマット化処理する方
法により得ることができる。そのようなプラスチックフ
ィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミドなどか
ら別途形成した透明な薄膜を挙げることができる。この
ようなプラスチックフィルムのマット処理は、サンドブ
ラスト法などの公知のマット化処理法を利用して行なう
ことができる。なお、上記の消去光の透過性が高く、か
つ適度なヘイズ度を持つ支持体は、プラスチックフィル
ムの形成材料および製造時の条件の設定（たとえば、延
伸条件の調節、あるいはプラスチック材料の混合使用な
ど）によっても得ることができる。本発明の放射線像変
換パネルの上記の支持体の厚さは、５０〜２０００μｍ
の範囲にあることが好ましく、特に１００〜１０００μ
ｍの範囲にあることが好ましい。
【００２０】蛍光体上に通常設けられる保護膜は、厚さ
３０μｍ以下、そして厚さ２μｍ以上の薄い透明プラス
チックフィルム層である。透明プラスチックフィルム層
は、例えば酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセ
ルロース誘導体、あるいはポリメチルメタクリレート、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカ
ーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル
コポリマー、フルオロオレフィン・ビニルエ−テルコポ
リマーなどの合成高分子物質のような透明な高分子物質
を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体の表面に
塗布する方法により形成することができる。あるいはポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレン、塩
化ビニリデン、ポリアミドなどから別途形成した透明な
薄膜を蛍光体シートの表面に適当な接着剤を用いて接着
するなどの方法によっても形成することができる。
３０μｍ以下、そして厚さ２μｍ以上の薄い透明プラス
チックフィルム層である。透明プラスチックフィルム層
は、例えば酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセ
ルロース誘導体、あるいはポリメチルメタクリレート、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカ
ーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル
コポリマー、フルオロオレフィン・ビニルエ−テルコポ
リマーなどの合成高分子物質のような透明な高分子物質
を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体の表面に
塗布する方法により形成することができる。あるいはポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレン、塩
化ビニリデン、ポリアミドなどから別途形成した透明な
薄膜を蛍光体シートの表面に適当な接着剤を用いて接着
するなどの方法によっても形成することができる。
【００２１】
［実施例１］輝尽性二価ユーロピウム賦活弗化臭化バリ
ウム蛍光体（ＢａＦＢｒ：Ｅｕ2+）の粒子２００ｇ、ポ
リウレタン樹脂（パンデックスＴ５２６５Ｍ、大日本イ
ンキ化学工業（株）製）の２０重量％メチルエチルケト
ン溶液４０ｇ、そしてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
２ｇメチルエチルケトンに加え、プロペラミキサを用い
て分散溶解させて、バインダと蛍光体粒子との混合比が
１ :２０（重量比）の蛍光体層形成用塗布液を得た。こ
の塗布液を、ガラス板上に水平に置き、接着固定したポ
リエチレンテレフタレートシート（表面に離型剤処理が
されている仮支持体、厚さ：２５０μｍ）の上にドクタ
ーブレードを用いて均一に塗布した。そして塗布後に、
塗膜が形成された支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器
の内部の温度を２５℃から１００℃に徐々に上昇させて
塗膜の乾燥を行なった。このようにして、厚さ２２０μ
ｍの輝尽性蛍光体層を形成した。この蛍光体層からポリ
エチレンテレフタレートをはがして、輝尽性蛍光体シー
トを得た。
ウム蛍光体（ＢａＦＢｒ：Ｅｕ2+）の粒子２００ｇ、ポ
リウレタン樹脂（パンデックスＴ５２６５Ｍ、大日本イ
ンキ化学工業（株）製）の２０重量％メチルエチルケト
ン溶液４０ｇ、そしてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
２ｇメチルエチルケトンに加え、プロペラミキサを用い
て分散溶解させて、バインダと蛍光体粒子との混合比が
１ :２０（重量比）の蛍光体層形成用塗布液を得た。こ
の塗布液を、ガラス板上に水平に置き、接着固定したポ
リエチレンテレフタレートシート（表面に離型剤処理が
されている仮支持体、厚さ：２５０μｍ）の上にドクタ
ーブレードを用いて均一に塗布した。そして塗布後に、
塗膜が形成された支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器
の内部の温度を２５℃から１００℃に徐々に上昇させて
塗膜の乾燥を行なった。このようにして、厚さ２２０μ
ｍの輝尽性蛍光体層を形成した。この蛍光体層からポリ
エチレンテレフタレートをはがして、輝尽性蛍光体シー
トを得た。
【００２２】透明なポリエチレンテレフタレートフィル
ム（厚み：２５０μｍ）の片側表面を珪砂を用いたサン
ドブラスト法によりマット化処理し、次いでその反対側
の表面に軟質アクリル樹脂塗布液（２０％メチルエチル
ケトン溶液）を塗布、乾燥することで接着層を形成し
て、塗布層付き支持体（塗布層形成前の支持体のヘイズ
度：１１、４００〜８００ｎｍの波長領域の光に対する
全透過率（以下、単に全透過率という）：８１％）を得
た。この支持体の塗布層の上に上記の蛍光体シートを貼
り合せ、次いで、その蛍光体シートの上にポリエチレン
テレフタレートフィルム（保護膜、厚み：１０μｍ）を
接着剤で貼り付けて、本発明の放射線像変換パネルを得
た。
ム（厚み：２５０μｍ）の片側表面を珪砂を用いたサン
ドブラスト法によりマット化処理し、次いでその反対側
の表面に軟質アクリル樹脂塗布液（２０％メチルエチル
ケトン溶液）を塗布、乾燥することで接着層を形成し
て、塗布層付き支持体（塗布層形成前の支持体のヘイズ
度：１１、４００〜８００ｎｍの波長領域の光に対する
全透過率（以下、単に全透過率という）：８１％）を得
た。この支持体の塗布層の上に上記の蛍光体シートを貼
り合せ、次いで、その蛍光体シートの上にポリエチレン
テレフタレートフィルム（保護膜、厚み：１０μｍ）を
接着剤で貼り付けて、本発明の放射線像変換パネルを得
た。
【００２３】［実施例２］支持体としてヘイズ度が２０
で、全透過率が７８％のマット化処理ポリエチレンテレ
フタレートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以外
は実施例１と同様な操作を行なって、本発明の放射線像
変換パネルを得た。
で、全透過率が７８％のマット化処理ポリエチレンテレ
フタレートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以外
は実施例１と同様な操作を行なって、本発明の放射線像
変換パネルを得た。
【００２４】［実施例３］支持体としてヘイズ度が２８
で、全透過率が７２％のマット化処理ポリエチレンテレ
フタレートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以外
は実施例１と同様な操作を行なって、本発明の放射線像
変換パネルを得た。
で、全透過率が７２％のマット化処理ポリエチレンテレ
フタレートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以外
は実施例１と同様な操作を行なって、本発明の放射線像
変換パネルを得た。
【００２５】［比較例１］シリコーンパウダー（平均粒
子径：１μｍ）０．３ｇと軟質アクリル樹脂溶液（２０
％メチルエチルケトン溶液）５０ｇとを１００ｇのメチ
ルエチルケトンに加えて、混合し、塗布液を調製し、こ
の塗布液を透明ポリエチレンテレフタレートフィルム
（厚み：２５０μｍ）の一方の表面にドクターブレード
を用いて塗布し、乾燥することにより厚さ１０μｍの白
色フィラー含有皮膜（内側拡散層）を形成した。次に、
このポリエチレンテレフタレートフィルム他の側の表面
に、群青（平均粒子径：０．８μｍ）０．３ｇ、フッ素
系樹脂溶液（フルオロオレフィン−ビニルエーテル共重
合体の４０％溶液）３０ｇ、そしてイソシアネート系架
橋剤溶液（７０％溶液）５ｇを、１００ｇのメチルエチ
ルケトンに加え、混合して塗布液を調製し、この塗布液
をドクターブレードを用いて塗布し、乾燥することによ
って厚さ１０μｍの青色皮膜を形成した。上記のように
して得た白色フィラー含有皮膜と青色皮膜とを有するポ
リエチレンテレフタレートフィルム（ヘイズ度：５０、
全透過率：５９％）の白色フィラー含有皮膜の上に、実
施例１に記載の方法で製造した輝尽性蛍光体シートを接
着剤で貼り合せ、次いでその上にポリエチレンテレフタ
レート透明フィルム（厚さ：１０μｍ）を接着剤で貼り
合せることにより、比較用の放射線像変換パネルを製造
した。
子径：１μｍ）０．３ｇと軟質アクリル樹脂溶液（２０
％メチルエチルケトン溶液）５０ｇとを１００ｇのメチ
ルエチルケトンに加えて、混合し、塗布液を調製し、こ
の塗布液を透明ポリエチレンテレフタレートフィルム
（厚み：２５０μｍ）の一方の表面にドクターブレード
を用いて塗布し、乾燥することにより厚さ１０μｍの白
色フィラー含有皮膜（内側拡散層）を形成した。次に、
このポリエチレンテレフタレートフィルム他の側の表面
に、群青（平均粒子径：０．８μｍ）０．３ｇ、フッ素
系樹脂溶液（フルオロオレフィン−ビニルエーテル共重
合体の４０％溶液）３０ｇ、そしてイソシアネート系架
橋剤溶液（７０％溶液）５ｇを、１００ｇのメチルエチ
ルケトンに加え、混合して塗布液を調製し、この塗布液
をドクターブレードを用いて塗布し、乾燥することによ
って厚さ１０μｍの青色皮膜を形成した。上記のように
して得た白色フィラー含有皮膜と青色皮膜とを有するポ
リエチレンテレフタレートフィルム（ヘイズ度：５０、
全透過率：５９％）の白色フィラー含有皮膜の上に、実
施例１に記載の方法で製造した輝尽性蛍光体シートを接
着剤で貼り合せ、次いでその上にポリエチレンテレフタ
レート透明フィルム（厚さ：１０μｍ）を接着剤で貼り
合せることにより、比較用の放射線像変換パネルを製造
した。
【００２６】［比較例２］支持体としてヘイズ度が７８
で、全透過率が２３％の乳白色不透明のポリエチレンテ
レフタレートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以
外は実施例１と同様な操作を行なって、比較用の放射線
像変換パネルを得た。
で、全透過率が２３％の乳白色不透明のポリエチレンテ
レフタレートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以
外は実施例１と同様な操作を行なって、比較用の放射線
像変換パネルを得た。
【００２７】［比較例３］支持体としてヘイズ度が４０
で、全透過率が５０％の不透明のポリエチレンテレフタ
レートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以外は実
施例１と同様な操作を行なって、比較用の放射線像変換
パネルを得た。
で、全透過率が５０％の不透明のポリエチレンテレフタ
レートフィルム（厚み：２５０μｍ）を用いた以外は実
施例１と同様な操作を行なって、比較用の放射線像変換
パネルを得た。
【００２８】［比較例４］支持体としてヘイズ度が７２
で、全透過率が７４％となるように強くマット化処理し
た透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：
２５０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様な操作を行
なって、比較用の放射線像変換パネルを得た。
で、全透過率が７４％となるように強くマット化処理し
た透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：
２５０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様な操作を行
なって、比較用の放射線像変換パネルを得た。
【００２９】［比較例５］支持体としてヘイズ度が６５
で、全透過率が７０％となるように強くマット化処理し
た透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：
２５０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様な操作を行
なって、比較用の放射線像変換パネルを得た。
で、全透過率が７０％となるように強くマット化処理し
た透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：
２５０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様な操作を行
なって、比較用の放射線像変換パネルを得た。
【００３０】［放射線像変換パネルの平面方向での消去
光伝播の評価］図３に示す消去光伝播測定装置を用い、
放射線像変換パネルの支持体（３１）側の表面の一端部
にナトリウムランプ（３２）からスリット（３３）を通
して消去光を照射し、平面方向の５０ミリメートル離れ
た位置にて、支持体内の消去光の伝播をフォトダイオー
ド（３４、有効直径：８ｍｍ）を用いて測定した。その
測定結果を図４にグラフとして示す。なお、測定結果
は、各距離（Ｌ）での消去光検出強度を照射強度に対す
る下記の比の値で示した。 （フォトダイオーロで検出される光強度：ｍＷ）／（入
射光強度：ｍＷ） 図４の消去光検出強度（漏れ光強度）からこの消去値か
ら、実用的に優れた消去光漏れ防止特性（１０-7以下）
を得るためには、放射線像変換パネルの支持体のヘイズ
度を１０以上とすることが好ましいことがわかる。
光伝播の評価］図３に示す消去光伝播測定装置を用い、
放射線像変換パネルの支持体（３１）側の表面の一端部
にナトリウムランプ（３２）からスリット（３３）を通
して消去光を照射し、平面方向の５０ミリメートル離れ
た位置にて、支持体内の消去光の伝播をフォトダイオー
ド（３４、有効直径：８ｍｍ）を用いて測定した。その
測定結果を図４にグラフとして示す。なお、測定結果
は、各距離（Ｌ）での消去光検出強度を照射強度に対す
る下記の比の値で示した。 （フォトダイオーロで検出される光強度：ｍＷ）／（入
射光強度：ｍＷ） 図４の消去光検出強度（漏れ光強度）からこの消去値か
ら、実用的に優れた消去光漏れ防止特性（１０-7以下）
を得るためには、放射線像変換パネルの支持体のヘイズ
度を１０以上とすることが好ましいことがわかる。
【００３１】［放射線像変換パネルの消去容易性の評
価］放射線像変換パネルの保護層側に管電圧８０ｋＶｐ
のＸ線を照射したのち、その放射線像変換パネルにＨｅ
−Ｎｅレーザ光（波長：６３２．８ｎｍ）を照射して、
発生する輝尽発光量を検知し、この輝尽発光量に対応す
る電流値（Ｉ1 ）を読み取った。次に図５に示す消去ユ
ニットを用いて、放射線像変換パネル（５１）の両側か
ら白色蛍光灯（５２ａ、５２ｂ）の光を照射した（照射
光量：両側合計１００万Ｌｘ・秒）。次いで、この放射
線像変換パネルに、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光（波長：６３
２．８ｎｍ）を照射して、発生する輝尽発光量を検知
し、この輝尽発光量に対応する電流値（Ｉ2 ）を読み取
った。そして、上記の各電流値から、消去値（Ｉ2 ／Ｉ
1 ）を求めた。なお、消去値が小さい程、消去効率が高
かったことを意味する。望ましい消去値は実用性を考慮
すると、１０-4以下である。
価］放射線像変換パネルの保護層側に管電圧８０ｋＶｐ
のＸ線を照射したのち、その放射線像変換パネルにＨｅ
−Ｎｅレーザ光（波長：６３２．８ｎｍ）を照射して、
発生する輝尽発光量を検知し、この輝尽発光量に対応す
る電流値（Ｉ1 ）を読み取った。次に図５に示す消去ユ
ニットを用いて、放射線像変換パネル（５１）の両側か
ら白色蛍光灯（５２ａ、５２ｂ）の光を照射した（照射
光量：両側合計１００万Ｌｘ・秒）。次いで、この放射
線像変換パネルに、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光（波長：６３
２．８ｎｍ）を照射して、発生する輝尽発光量を検知
し、この輝尽発光量に対応する電流値（Ｉ2 ）を読み取
った。そして、上記の各電流値から、消去値（Ｉ2 ／Ｉ
1 ）を求めた。なお、消去値が小さい程、消去効率が高
かったことを意味する。望ましい消去値は実用性を考慮
すると、１０-4以下である。
【００３２】求められた消去値を図６に示す。この消去
値から、実用的に優れた消去特性を得るためには、放射
線像変換パネルの支持体の全透過率を７０％以上とする
のが有利であり、この結果とそれぞれの支持体のヘイズ
度とを考慮すると、本発明で規定した全透過率７０％以
上で、ヘイズ度が１０〜３０の範囲にある支持体を用い
た放射線像変換パネルが両面集光読取方式の放射線像変
換方法のおいて特に有利に用いることができることがわ
かる。
値から、実用的に優れた消去特性を得るためには、放射
線像変換パネルの支持体の全透過率を７０％以上とする
のが有利であり、この結果とそれぞれの支持体のヘイズ
度とを考慮すると、本発明で規定した全透過率７０％以
上で、ヘイズ度が１０〜３０の範囲にある支持体を用い
た放射線像変換パネルが両面集光読取方式の放射線像変
換方法のおいて特に有利に用いることができることがわ
かる。
【００３３】［放射線像変換方法の実施における評価］
実施例１〜３で製造した放射線像変換パネルを用い、図
１に示した装置により両面集光と両面消去とを並行して
行なう放射線像変換方法を実施したところ、得られる放
射線再生画像の画質に悪影響を与えることなく、高い消
去効率で残留放射線像の消去が達成されることが確認さ
れた。
実施例１〜３で製造した放射線像変換パネルを用い、図
１に示した装置により両面集光と両面消去とを並行して
行なう放射線像変換方法を実施したところ、得られる放
射線再生画像の画質に悪影響を与えることなく、高い消
去効率で残留放射線像の消去が達成されることが確認さ
れた。
【００３４】
【発明の効果】本発明の放射線像変換パネルは、従来の
透明支持体を備えた放射線像変換パネルを用いた場合に
比べて、輝尽発光光の透過性はわずかに低下するが、消
去光の平面方向の伝播が明らかに低減し、更に高い消去
特性を有する。従って、本発明の放射線像変換パネルを
両面集光読取方式の放射線像読取方法に用いると、その
消去工程が励起工程における画像形成に悪影響を与えに
くくなり、しかも消去操作の時間の実質的な延長を引き
起すことがない。
透明支持体を備えた放射線像変換パネルを用いた場合に
比べて、輝尽発光光の透過性はわずかに低下するが、消
去光の平面方向の伝播が明らかに低減し、更に高い消去
特性を有する。従って、本発明の放射線像変換パネルを
両面集光読取方式の放射線像読取方法に用いると、その
消去工程が励起工程における画像形成に悪影響を与えに
くくなり、しかも消去操作の時間の実質的な延長を引き
起すことがない。
【図１】放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体の輝尽性を
利用する放射線像読取方法に用いられる両面集光型読取
装置の一例を示す概念図である。
利用する放射線像読取方法に用いられる両面集光型読取
装置の一例を示す概念図である。
【図２】本発明に従う放射線像変換パネルの構成を示す
模式図である。
模式図である。
【図３】放射線像変換パネルの平面方向の消去光の漏れ
を調べるために用いられた消去光伝播測定装置の構成を
示す図である。
を調べるために用いられた消去光伝播測定装置の構成を
示す図である。
【図４】本発明の放射線像変換パネルと比較用の放射線
像変換パネルにおける支持体のヘイズ度と各パネルの消
去特性（消去光伝播性）との関係を示す図である。
像変換パネルにおける支持体のヘイズ度と各パネルの消
去特性（消去光伝播性）との関係を示す図である。
【図５】放射線像変換パネルの消去値を調べるために用
いられた消去ユニットの構成を示す図である。
いられた消去ユニットの構成を示す図である。
【図６】本発明の放射線像変換パネルと比較用の放射線
像変換パネルにおける支持体のヘイズ度と各パネルの消
去効率（消去の容易さ）との関係を示す図である。
像変換パネルにおける支持体のヘイズ度と各パネルの消
去効率（消去の容易さ）との関係を示す図である。
１１ 放射線像変換パネル １２ａ、１２ｂ ニップローラ １３ 励起光 １４ａ、１４ｂ 輝尽光 １５ａ、１５ｂ 集光ガイド １６ａ、１６ｂ 光電変換装置 １７ａ、１７ｂ 増幅器 １８ａ、１８ｂ 信号処理装置 １９ ミラー ２１ 輝尽性蛍光体層 ２２ 支持体 ２３ 透明保護層 ３１ 支持体 ３２ 光源（ナトリウムランプ） ３３ スリット ３４ フォトダイオード ５１ 放射線像変換パネル ５２ａ、５２ｂ 白色蛍光灯
Claims (4)
- 【請求項１】 ４００〜８００ｎｍの波長領域の光に対
する全透過率が７０％以上で、かつヘイズ度が１０〜３
０の範囲にある支持体の上に輝尽性蛍光体粒子を含む蛍
光体層が設けられてなる両面集光読取方式に用いるため
の放射線像変換パネル。 - 【請求項２】 支持体が設けられていない側の蛍光体層
表面に透明な樹脂材料からなる保護膜が設けられている
請求項１に記載の放射線像変換パネル。 - 【請求項３】 支持体の厚さが５０〜２０００μｍの範
囲にある請求項１に記載の両面集光読取方式に用いるた
めの放射線像変換パネル。 - 【請求項４】 放射線像を潜像として有する輝尽性蛍光
体層を含む放射線像変換パネルの表面に励起光を照射す
ることにより、輝尽性蛍光体層中の放射線エネルギーを
輝尽発光光として時系列的に放出させ、この輝尽発光光
を放射線像変換パネルの両方の表面側からそれぞれ光電
的に読み取る工程と、この励起光の照射が終了した放射
線像変換パネルの領域に、該変換パネルの少なくとも一
方の表面側から消去光を照射して放射線像変換パネルに
残存する放射線エネルギーを除去する工程とを同一の放
射線像変換パネルに対して並行して実施する両面集光読
取方式の放射線像読取方法において、放射線像変換パネ
ルとして、請求項１乃至３のうちの一項に記載の放射線
像変換パネルを用いることを特徴とする方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8153224A JPH09311200A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 放射線像変換パネル及び放射線像読取方法 |
| US08/861,810 US5880476A (en) | 1996-05-23 | 1997-05-22 | Radiation image storage panel and radiation image reading method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8153224A JPH09311200A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 放射線像変換パネル及び放射線像読取方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09311200A true JPH09311200A (ja) | 1997-12-02 |
Family
ID=15557777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8153224A Pending JPH09311200A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 放射線像変換パネル及び放射線像読取方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5880476A (ja) |
| JP (1) | JPH09311200A (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11352614A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 残留放射線画像消去方法 |
| EP0964269A3 (en) * | 1998-06-10 | 2006-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image read-out method and apparatus |
| JP2000028799A (ja) * | 1998-07-07 | 2000-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 両面集光読取方法用放射線像変換パネルと放射線像読取方法 |
| EP1033587A3 (en) * | 1999-02-26 | 2004-09-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image storage panel for double-side reading system |
| JP3952117B2 (ja) * | 2000-01-21 | 2007-08-01 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像読取装置 |
| US20010019115A1 (en) * | 2000-03-01 | 2001-09-06 | Kenji Tajima | Radiation image information reading apparatus |
| JP4244098B2 (ja) * | 2000-05-22 | 2009-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
| DE10147420A1 (de) * | 2001-09-26 | 2003-04-17 | Siemens Ag | Röntgenbildspeicher und Verfahren zur Untersuchung eines Patienten nach dem Prinzip der Subtraktionsangiographie |
| US7223989B2 (en) * | 2003-10-21 | 2007-05-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Radiation image conversion panel |
| EP1533816A3 (en) * | 2003-11-18 | 2008-02-13 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Radiation image conversion panel and preparation method thereof |
| BRPI0508687A (pt) * | 2004-03-12 | 2007-09-11 | Avery Dennison Corp | sistema de iluminação |
| CN100410703C (zh) * | 2004-03-12 | 2008-08-13 | 艾利丹尼森公司 | 具有被动磷光光源的照明系统 |
| BRPI0508567B1 (pt) * | 2004-03-12 | 2016-12-27 | Avery Dennison Corp | letreiro de informação de emergência e método para preparar o mesmo |
| US20060292576A1 (en) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Quest Diagnostics Investments Incorporated | Non-in situ hybridization method for detecting chromosomal abnormalities |
| US8184294B2 (en) * | 2009-03-09 | 2012-05-22 | Honeywell International Inc. | Apparatus and method for measuring haze of sheet materials or other materials |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5932900A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-22 | 化成オプトニクス株式会社 | 放射線像変換シ−ト |
| JPS5942500A (ja) * | 1982-09-01 | 1984-03-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
| US5023461A (en) * | 1987-08-18 | 1991-06-11 | Konica Corporation | Radiation image storage panel having low refractive index layer and protective layer |
| US5483801A (en) * | 1992-02-17 | 1996-01-16 | Ezarc Pty., Ltd. | Process for extracting vapor from a gas stream |
| JPH07287100A (ja) * | 1994-04-15 | 1995-10-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル及び放射線像読取方法 |
-
1996
- 1996-05-23 JP JP8153224A patent/JPH09311200A/ja active Pending
-
1997
- 1997-05-22 US US08/861,810 patent/US5880476A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5880476A (en) | 1999-03-09 |
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
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