JPH09324144A - 近赤外線カットフィルター形成用組成物及び近赤外線カットフィルター - Google Patents

近赤外線カットフィルター形成用組成物及び近赤外線カットフィルター

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JPH09324144A
JPH09324144A JP8251160A JP25116096A JPH09324144A JP H09324144 A JPH09324144 A JP H09324144A JP 8251160 A JP8251160 A JP 8251160A JP 25116096 A JP25116096 A JP 25116096A JP H09324144 A JPH09324144 A JP H09324144A
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transmittance
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cut filter
infrared cut
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Masaaki Kunimatsu
正昭 国松
Yuji Yamazaki
雄治 山▲崎▼
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Dai Nippon Toryo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 波長７００〜１４００ｎｍの近赤外領域にお
ける光透過率が高い。 【解決手段】 結合剤（ｉ）、光透過率比〔（波長５５
０ｎｍの光に対する透過率）／（波長１１８０ｎｍの光
に対する透過率）〕が３以上の金属酸化物又は無機酸化
物粉末（ii）、及び光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光
に対する透過率）／（波長７４０〜９３０ｎｍの光に対
する透過率）〕が２．７以上の染料（iii）、を必須成
分として含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、近赤外線カットフ
ィルターを形成するための組成物、すなわち可視光には
透過性を示し、かつ選択的に近赤外線をカットオフする
機能をもった塗膜やフィルム状成形物であるフィルター
を形成するための組成物及びフィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】近赤外線カットフィルターは、各種ＩＣ
の誤動作防止手段として、またカードや金券等の偽造防
止手段として、さらに冷暖房熱効率向上のための近赤外
線反射膜として広く利用されるようになってきた。
【０００３】ところで、可視領域の波長４００〜６９９
ｎｍの光に対して透過性であって、近赤外線領域の波長
７００〜２２００ｎｍの光に対して吸収性である近赤外
線カットオフする機能を有するフィルターの代表的なも
のとして光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透
過率）／（波長１１８０ｎｍの光に対する透過率）〕が
３以上の錫ドープ酸化インジウム（以下、ＩＴＯとい
う）やアンチモンドープ酸化錫（以下、ＡＴＯという）
などの金属酸化物の薄膜を蒸着法にてガラス基板上に形
成したものが知られている。しかしながら、この近赤外
線カットフィルターは、高真空や高い精度の雰囲気制御
が必要な蒸着装置を使用しなければならないため、製造
コストが高くなり、また量産性に劣り、汎用性に乏しい
問題点があった。
【０００４】そこで低コストで量産可能なＩＴＯ粉末あ
るいはＡＴＯ粉末と結合剤を含有する近赤外線カットフ
ィルター形成用組成物が開発され注目されている（例え
ば、特開平7-24957号公報、特開平7-70363号公報、特開
平7-70481号公報、特開平7-70482号公報、特開平7-7044
5号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ＩＴＯ粉末あるいはＡＴＯ粉末と結合剤を含有する近赤
外線カットフィルター形成用組成物より得られる近赤外
線カットフィルターは、波長１４００ｎｍを超える近赤
外領域における光透過率は非常に低いが、波長７００〜
１４００ｎｍの近赤外領域における光透過率が若干高
く、その為この近赤外領域における光透過率をさらに低
くした近赤外線カットフィルターが市場において要望さ
れていた。
【０００６】本発明は、従来技術の、ＩＴＯ粉末やＡＴ
Ｏ粉末と結合剤を含有する近赤外線カットフィルター形
成用組成物の上記のような問題点を解決するものであ
り、即ち本発明は、可視光領域の光に対して透過性があ
り、また低コストで量産可能な近赤外線カットフィルタ
ーを製造することが可能であり、かつ波長７００〜１４
００ｎｍの近赤外領域においても光透過率の低い、近赤
外線カットフィルターを製造することが可能な近赤外線
カットフィルター形成用組成物及びフィルターを提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために種々の研究を行なった結果、特定の
染料を配合すれば波長７００〜１４００ｎｍの近赤外領
域においても光透過率の低い近赤外線カットフィルター
が得られるという知見を得て本発明を完成した。
【０００８】即ち、本発明は、結合剤（ｉ）、光透過率
比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透過率）／（波長１
１８０ｎｍの光に対する透過率）〕が３以上の金属酸化
物又は無機酸化物粉末（以下、これらを総称して酸化物
粉末という）（ii）、及び光透過率比〔（波長５５０ｎ
ｍの光に対する透過率）／（波長７４０〜９３０ｎｍの
光に対する透過率）〕が２．７以上の染料（iii）、を
必須成分として含有する近赤外線カットフィルター形成
用組成物及び該組成物から形成された近赤外線カットフ
ィルターを提供するものである。
【０００９】以下、本発明を具体的に説明する。
【００１０】本発明の近赤外線カットフィルター形成用
組成物は、結合剤、酸化物粉末及び染料を必須成分とし
て含有し、さらに必要に応じて溶媒や硬化促進剤、消泡
剤、湿潤剤、粘性調整剤等の各種添加剤などを配合した
ものから構成される。
【００１１】本発明において使用される結合剤（ｉ）と
しては、通常塗料用や成形用等に利用されている可視光
領域の光に対して透過性がある各種有機系結合剤が特に
制限なく使用出来、具体的にはアクリル樹脂，ポリエス
テル樹脂，アルキド樹脂，ウレタン樹脂，シリコーン樹
脂，フッ素樹脂，エポキシ樹脂，ポリカーボネート樹
脂，ポリ塩化ビニル樹脂，ポリビニルアルコール，ポリ
ブチルアルコール等の各種有機樹脂やラジカル重合性の
オリゴマーやモノマー（場合により硬化剤やラジカル重
合開始剤と併用する）が代表的なものとして挙げられ
る。これら結合剤は、常温で液状であるものやホットメ
ルトタイプのものである場合は、必ずしも後述する溶媒
は必要でなく、無溶剤型として使用可能である。
【００１２】また溶媒に溶解もしくは分散させた場合
は、有機溶剤型や水希釈型として使用可能である。
【００１３】これら結合剤は常温硬化型、焼付硬化型、
紫外線硬化型あるいは冷凍、解凍硬化型等各種硬化タイ
プのものが使用可能である。
【００１４】また結合剤として、Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒある
いはＡｌのアルコキシドもしくは、これらの部分加水分
解縮合物等の無機系材料も使用可能である。具体的には
エチルシリケート，チタニウムテトライソプロポキシ
ド，ジルコニウムテトラブトキシド，アルミニウムトリ
イソプロポキシドなどや、これら金属アルコキシドに少
量の水及び／又は酸を添加して金属アルコキシドの部分
加水分解縮合物としたものが代表的なものとして挙げら
れる。
【００１５】本発明において使用する酸化物粉末（ii）
としては、可視光領域の光に対して透過性があり、かつ
近赤外線をカットオフするために、光透過率比〔（波長
５５０ｎｍの光に対する透過率／（波長１１８０ｎｍの
光に対する透過率）〕が３以上で、平均一次粒子径が
０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下の酸化物粉
末を使用する。
【００１６】このような酸化物粉末としては、ＩＴＯ粉
末，ＡＴＯ粉末，酸化錫等の金属酸化物粉末やガラス粉
末等の無機酸化物粉末が代表的なものとして挙げられ
る。
【００１７】特に本発明においては、波長１４００ｎｍ
を超える近赤外領域における光透過率の非常に低いＩＴ
Ｏ粉末，ＡＴＯ粉末が好適である。ＩＴＯ粉末は、例え
ば特開平７−７０４８２号公報等に記載の方法により製
造される。
【００１８】すなわち、例えばＳｎ／（Ｓｎ＋Ｉｎ）の
モル比が約０．０１〜０．１５となる割合でＩｎとＳｎ
の水溶性化合物（塩化物、硝酸塩等）を水に溶解させた
水溶液をアルカリ水溶液（アルカリ金属又は、アンモニ
ウムの水酸化物、炭酸塩等の水溶液）と反応させて加水
分解し、Ｉｎ−Ｓｎ共沈混合水酸化物を析出させる。こ
のようにして得た含水状態のＩｎ−Ｓｎ共沈混合水酸化
物を乾燥して水分を除去した無水の混合水酸化物又は脱
水をさらに進めて少なくとも部分的に酸化物とした混合
（水）酸化物を原料として用いる。該原料を、酸素遮断
下の加圧不活性ガス雰囲気中で完全に酸化物になるまで
焼成するとＩＴＯ粉末が得られる。
【００１９】ＡＴＯ粉末は、例えば特公平４−５８５１
１号公報等に記載の方法により製造される。
【００２０】すなわち、アンチモンが０．１〜２０重量
％で、残りが実質的に酸化錫となる割合で、アルコー
ル，塩酸水溶液，アセトンあるいはこれらの混合液に塩
化錫と塩化アンチモンとを溶解させて得られる溶液を加
熱水中に加え、Ｓｂ含有のＳｎＯ2の沈澱物を析出さ
せ、これを濾別洗浄した後、焼成、粉砕するとＡＴＯ粉
末が得られる。
【００２１】本発明において使用する染料（iii）は、
酸化物粉末単独の場合の波長７００〜１４００ｎｍの近
赤外領域における光透過率が若干高い課題を解消する為
に配合するものであり、そのため光透過率比〔（波長５
５０ｎｍの光に対する透過率）／（波長７４０〜９３０
ｎｍの光に対する透過率）〕が２．７以上の染料であ
る。
【００２２】このような染料としては、ＨＲ−１７５，
ＨＲ−１８１，ＨＲ−１８０，ＭＩＲ−３１６，ＳＩＲ
−１１４，ＳＩＲ−１３０，ＳＩＲ−１３２，ＳＩＲ−
１５９，ＰＡ−１００１（以上いずれも三井東圧化学社
製商品名）、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲ−７５０，Ｋａｙ
ａｓｏｒｂ ＩＲ−８２０，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ
−００２，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−００３，Ｋａｙ
ａｓｏｒｂ ＩＲＧ−０２２，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲ
Ｇ−０２３，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−２，Ｋａｙａｓ
ｏｒｂ ＣＹ−４，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−９，Ｋａ
ｙａｓｏｒｂＣＹ−２０（以上いずれも日本化薬社製商
品名）等が代表的なものとして挙げられる。
【００２３】特に本発明においては、下記の（イ）、
（ロ）、（ハ）及び（ニ）からなる混合染料が、波長７
００〜１４００ｎｍの近赤外領域において光透過率の低
い近赤外線カットフィルターが得られるので好ましい。
【００２４】すなわち、（イ）光透過率比〔（波長５５
０ｎｍの光に対する透過率）／（波長７４０ｎｍの光に
対する透過率）〕が３．５以上の染料（例えば前述のＨ
Ｒ−１７５、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲ−７５０等）、
（ロ）光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透過
率）／（波長７７８ｎｍの光に対する透過率）〕が６以
上の染料（例えば前述のＨＲ−１８１、Ｋａｙａｓｏｒ
ｂ ＩＲ−７５０、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−９等）、
（ハ）光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透過
率）／（波長７９４ｎｍの光に対する透過率）〕が７以
上の染料（例えば前述のＨＲ−１８０、Ｋａｙａｓｏｒ
ｂ ＩＲ−８２０、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−９等）及
び（ニ）光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透
過率）／（波長９３０ｎｍの光に対する透過率）〕が
２．７以上の染料（例えば前述のＭＩＲ３１６、Ｋａｙ
ａｓｏｒｂ ＩＲＧ−００２、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲ
Ｇ−０２２等）からなる混合染料で、かつその重量混合
割合が〔１：（０．０２〜２００）：（０．０２〜２０
０）：（０．２〜１０００）〕、特に好ましくは〔１：
（１〜１０）：（１〜２０）：（２〜２０）〕のものが
前記近赤外領域における光透過率を低くする効果が顕著
である。
【００２５】本発明の近赤外線カットフィルター形成用
組成物は、以上説明した結合剤（ｉ），酸化物粉末（i
i）及び染料（iii）を必須成分として含有し、これらの
配合割合は、〔１００：（１〜１００）：（０．０１〜
５）〕、特に好ましくは〔１００：（５〜５０）：
（０．０２〜２）〕が望ましい。
【００２６】なお、酸化物粉末（ii）が前記範囲より少
ないと近赤外領域の波長の光透過率が高くなり、近赤外
線カットオフする機能が低下し、逆に多過ぎると可視領
域の波長の光透過率が低くなり、透明性が低下し、さら
に得られるフィルターの物理的・化学的特性が低下する
傾向にある。
【００２７】また染料（iii）が前記範囲より少ないと
波長７００〜１４００ｎｍの近赤外領域の光透過率を低
下させる効果が少なくなり、逆に多過ぎると可視領域の
波長の光透過率が低くなり、透明性が低下する傾向にあ
る。
【００２８】本発明の近赤外線カットフィルター形成用
組成物において、必要に応じて配合する溶媒としては、
結合剤が溶解もしくは安定に分散するような溶媒を適宜
選択すればよく、具体的には水；メタノール，エタノー
ル，プロパノール，ヘキサノール，エチレングリコール
等のアルコール；キシレン，トルエン等の芳香族系炭化
水素；シクロヘキサン等の脂環式炭化水素；アセトン，
メチルエチルケトン等のケトン；酢酸エチル，酢酸ブチ
ル，セロソルブアセテート等のエステル；セロソルブ，
ブチルセロソルブ等のエーテル等あるいはこれらの混合
物が代表的なものとして挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
【００２９】なお、溶媒の量は、塗装（印刷）作業性等
を考慮し、任意に決定されるが、通常組成物の固形分が
１０〜１００重量％になるような量が適当である。
【００３０】本発明の近赤外線カットフィルター形成用
組成物は、近赤外線をカットオフしたい基材に直接塗装
もしくは印刷して、近赤外線カットフィルターとしての
硬化塗膜を形成させる方法；本発明の組成物をフィルム
状や板状等に成形し、その成形物を近赤外線カットフィ
ルターとして近赤外線をカットオフしたい基材に積層も
しくは包囲する方法；本発明の組成物から得られた前述
の塗膜や成形物を透明なガラス製もしくはプラスチック
製基板に積層させ、その積層体を近赤外線カットフィル
ターとして近赤外線をカットオフしたい基材に積層もし
くは包囲する方法等により適用される。
【００３１】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の近赤外線カ
ットフィルター形成用組成物は、可視光に対する透過性
があり、かつ近赤外線に対する高いカットオフ機能を有
し、しかも低コストで、量産性に優れたフィルターを製
造することが可能となる。
【００３２】従って、各種ＩＣ装置の誤動作防止用とし
て、またカード等の偽造防止用として、さらに各種窓等
において近赤外線を吸収する近赤外線吸収用等に広く利
用出来る。
【００３３】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。なお、実施例中「部」は「重量部」を意味する
ものである。 ＜実施例１〜４＞及び＜比較例１〜４＞表１に示す結合
剤、ＩＴＯ粉末又はＡＴＯ粉末、染料、溶媒及び分散剤
を均一に混合、分散し、近赤外線カットフィルター用組
成物を調製した。
【００３４】各組成物を、透明ガラス基板上に乾燥膜厚
１００μｍになるように塗布し、フィルターを作製し
た。
【００３５】得られたフィルターにつき、自記分光光度
計３２３型（日立製作所社製）を用いて分光測定し、求
めた分光透過率曲線を図１、図２、図３に示した。
【００３６】図１、図２、図３より明らかな通り、本発
明の組成物を使用した実施例１〜４より得られたフィル
ターは、可視領域の波長４００〜６９９ｎｍの光に対す
る透過性があり、かつ近赤外線領域の波長７００ｎｍ以
上の光に対して光透過率が低く、近赤外線カットフィル
ターとして有用であることが確認出来た。
【００３７】一方、染料を含まない組成物を使用した比
較例１，３，４より得られたフィルターは、近赤外領域
の波長７００〜１４００ｎｍの光に対して光透過率が高
いものであった。またＩＴＯ粉末もしくはＡＴＯ粉末を
含まない組成物を使用した比較例２より得られたフィル
ターは近赤外領域の波長約１１００ｎｍ以上の光に対し
て光透過率が高いものであった。
【００３８】なお、得られたフィルタの光最大透過率比
〔（波長４００〜６９９ｎｍの光に対する最大透過率）
／（波長７００〜２２００ｎｍの光に対する最大透過
率）〕は、表１の下欄に示す通りであった。
【００３９】
【表１】 注1) 平均一次粒子径 0.2μm 、光透過率比〔（波長55
0nm の光に対する透過率）／（波長1180nmの光に対する
透過率）〕５ 注2) 平均一次粒子径 0.2μm 、光透過率比〔（波長55
0nm の光に対する透過率）／（波長1180nmの光に対する
透過率）〕４．６ 注3) 光透過率比〔（波長550nm の光に対する透過率）
／（波長740nm の光に対する透過率）〕45の染料〔「HR
-175」（三井東圧化学社製商品名）〕 注4) 光透過率比〔（波長550nm の光に対する透過率）
／（波長778nm の光に対する透過率）〕33の染料〔「HR
-181」（三井東圧化学社製商品名）〕 注5) 光透過率比〔（波長550nm の光に対する透過率）
／（波長794nm の光に対する透過率）〕10の染料〔「HR
-180」（三井東圧化学社製商品名）〕 注6) 光透過率比〔（波長550nm の光に対する透過率）
／（波長930nm の光に対する透過率）〕3.5 の染料
〔「MIR-316 」（三井東圧化学社製商品名）〕 注7) （波長400〜699nm の光の最大光透過率）／（波
長700〜2200nm の光の最大光透過率）
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１，２及び比較例１，２のフィルターに
ついての分光透過率曲線図である。
【図２】実施例３及び比較例３のフィルターについての
分光透過率曲線図である。
【図３】実施例４及び比較例４のフィルターについての
分光透過率曲線図である。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 結合剤（ｉ）、光透過率比〔（波長５５
    ０ｎｍの光に対する透過率）／（波長１１８０ｎｍの光
    に対する透過率）〕が３以上の金属酸化物又は無機酸化
    物粉末（ii）、及び光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光
    に対する透過率）／（波長７４０〜９３０ｎｍの光に対
    する透過率）〕が２．７以上の染料（iii）、を必須成
    分として含有する近赤外線カットフィルター形成用組成
    物。
  2. 【請求項２】 結合剤（ｉ）１００重量部に対して、金
    属酸化物又は無機酸化物粉末（ii）を１〜１００重量
    部、染料（iii）を０．０２〜５重量部含有する、請求
    項１に記載の近赤外線カットフィルター形成用組成物。
  3. 【請求項３】 染料（iii）が下記の（イ）、（ロ）、
    （ハ）及び（ニ）の染料からなり、それらの重量混合割
    合が〔１：（０．０２〜２００）：（０．０２〜２０
    ０）：（０．２〜１０００）〕からなる混合染料であ
    る、請求項１又は請求項２に記載の近赤外線カットフィ
    ルター形成用組成物。 （イ）光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透過
    率）／（波長７４０ｎｍの光に対する透過率）〕が３．
    ５以上の染料 （ロ）光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透過
    率）／（波長７７８ｎｍの光に対する透過率）〕が６以
    上の染料 （ハ）光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透過
    率）／（波長７９４ｎｍの光に対する透過率）〕が７以
    上の染料 （ニ）光透過率比〔（波長５５０ｎｍの光に対する透過
    率）／（波長９３０ｎｍの光に対する透過率）〕が２．
    ７以上の染料
  4. 【請求項４】 金属酸化物粉末（ii）が錫ドープ酸化イ
    ンジウム、アンチモンドープ酸化錫又はこれらの混合物
    である、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の
    近赤外線カットフィルター形成用組成物。
  5. 【請求項５】 請求項１乃至請求項４のいずれか１項に
    記載の近赤外線カットフィルター形成用組成物から形成
    された近赤外線カットフィルター。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008528313A (ja) * 2005-01-07 2008-07-31 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 太陽光制御多層フィルム
US8038786B2 (en) 2003-03-17 2011-10-18 Hae-Wook Lee Composition for cutting off heat-ray, film formed therefrom, and method for forming the composition and the film
WO2016181786A1 (ja) * 2015-05-08 2016-11-17 Jsr株式会社 光センサ装置、光センサ装置を含む電子機器及び赤外線吸収性組成物、並びに赤外線カットフィルタ層の作製方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11320769A (ja) * 1998-05-20 1999-11-24 Tomoegawa Paper Co Ltd 透明性赤外線カットオフフィルム
JP2000117906A (ja) * 1998-10-16 2000-04-25 Tomoegawa Paper Co Ltd 赤外線カットオフフィルム
GB2345540B (en) * 1999-01-07 2001-03-21 Infrared Integrated Syst Ltd Spectrometer/spectrophotometer using multiple filter based detector array
JP4190657B2 (ja) * 1999-05-14 2008-12-03 リンテック株式会社 赤外線遮蔽フィルム
KR100444332B1 (ko) * 1999-12-20 2004-08-16 도요 보세키 가부시키가이샤 적외선 흡수필터
DE10006208A1 (de) * 2000-02-11 2001-08-16 Bayer Ag IR-absorbierende Zusammensetzungen
DE10022037A1 (de) * 2000-05-05 2001-11-08 Bayer Ag IR-absorbierende Zusammensetzungen
ATE350677T1 (de) 2000-11-14 2007-01-15 Cpfilms Inc Optisch aktive schichtzusammensetzung
US6911254B2 (en) 2000-11-14 2005-06-28 Solutia, Inc. Infrared absorbing compositions and laminates
JP5052716B2 (ja) * 2001-03-27 2012-10-17 三菱樹脂株式会社 赤外線フィルター
KR20030017311A (ko) * 2002-04-19 2003-03-03 주식회사 옴니켐 근적외선 차단 성능이 우수한 자외선 경화형 투명 수지조성물 및 그 피막
EP1541012B1 (en) * 2002-08-21 2015-10-07 Sumitomo Metal Mining Company Limited Heat insulation material for agricultural and horticultural facility
JP4512940B2 (ja) 2003-12-24 2010-07-28 三菱マテリアル株式会社 錫ドープ酸化インジウム微粒子分散液とその製造方法、および該分散液を用いた熱線遮蔽性を有する合わせガラス用中間膜、ならびにその合わせガラス
IN2007KN00518A (ja) * 2004-08-13 2007-07-06 Lee Hai Ouk
WO2006102669A1 (en) * 2005-03-24 2006-09-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for uniformly dispersing particles in a polymer
US8871335B2 (en) * 2005-08-31 2014-10-28 Kuraray America Inc. Solar control laminate
US7550193B2 (en) * 2006-05-05 2009-06-23 Nanofilm Ltd Infrared radiation blocking laminate
US20090130451A1 (en) * 2007-11-19 2009-05-21 Tony Farrell Laser-weldable thermoplastics, methods of manufacture, and articles thereof
US8726837B2 (en) * 2008-06-23 2014-05-20 Applied Materials, Inc. Semiconductor process chamber vision and monitoring system
JP2014080466A (ja) * 2012-10-15 2014-05-08 Mitsubishi Materials Corp 熱線遮蔽組成物
CN104371281A (zh) * 2013-08-13 2015-02-25 台虹科技股份有限公司 吸光蓄热组合物及由其所制得的吸光蓄热结构
WO2015111632A1 (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 リンテック株式会社 保護膜形成フィルム、保護膜形成用シート、保護膜形成用複合シートおよび検査方法
US9570491B2 (en) 2014-10-08 2017-02-14 Omnivision Technologies, Inc. Dual-mode image sensor with a signal-separating color filter array, and method for same
KR102305998B1 (ko) * 2014-12-08 2021-09-28 엘지이노텍 주식회사 영상 처리 장치
WO2019092597A1 (en) * 2017-11-07 2019-05-16 3M Innovative Properties Company Optical articles and systems including the same
WO2023196793A1 (en) 2022-04-07 2023-10-12 Eastman Performance Films, Llc High-performance signal-friendly solar-control films
JP2025512967A (ja) 2022-04-07 2025-04-22 イーストマン・パフォーマンス・フィルムズ・エルエルシー 高性能信号対応太陽光制御フィルム

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62136684A (ja) * 1985-12-11 1987-06-19 住友ベークライト株式会社 可視光透過率調整機能を有する透明導電フイルム
JPS6382325A (ja) * 1986-09-26 1988-04-13 Minolta Camera Co Ltd 受光素子
JPH01198339A (ja) * 1988-02-04 1989-08-09 Bridgestone Corp 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス
JPH0433240A (ja) * 1990-05-29 1992-02-04 Mitsubishi Electric Corp カラー陰極線管
JPH04174402A (ja) * 1990-11-07 1992-06-22 Nippon Hikyumen Lens Kk 赤外線吸収フィルターおよびその製造方法
JPH06191906A (ja) * 1992-12-25 1994-07-12 Mitsui Toatsu Chem Inc 合わせガラス
JPH06194517A (ja) * 1992-12-25 1994-07-15 Mitsui Toatsu Chem Inc 熱線遮断シート
JPH06256564A (ja) * 1993-03-01 1994-09-13 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂組成物、およびそれから成る成形品
JPH0724957A (ja) * 1993-07-07 1995-01-27 Showa Techno Kooto Kk 赤外線反射機能を有する接着性フィルム
JPH0770482A (ja) * 1993-06-30 1995-03-14 Mitsubishi Materials Corp 赤外線カットオフ膜とその形成材
JPH0770445A (ja) * 1993-06-30 1995-03-14 Mitsubishi Materials Corp 赤外線カットオフ膜とその形成材
JPH0841441A (ja) * 1994-05-25 1996-02-13 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 紫外線、近赤外線遮へい用インジウム−錫酸化物粉末とこれを用いた紫外線、近赤外線遮へいガラスおよびその製造方法
JPH09208863A (ja) * 1996-01-30 1997-08-12 Kureha Chem Ind Co Ltd 熱線吸収性コーティング組成物および熱線吸収性付与方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3051596A (en) * 1958-05-16 1962-08-28 Monsanto Chemicals New near infrared spectrum filter media
US4791023A (en) * 1984-07-07 1988-12-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared absorbent and optical material using the same
US5270854A (en) * 1985-09-17 1993-12-14 Honeywell Inc. Narrow band selective absorption filter
US4923638A (en) * 1985-09-30 1990-05-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Near infrared absorbing composition
US5543086A (en) * 1987-08-12 1996-08-06 Gentex Corporation Squarylium dyestuffs and compostions containing same
JPH0730300B2 (ja) * 1988-04-01 1995-04-05 三井東圧化学株式会社 アルキルフタロシアニン近赤外線吸収剤及びそれを用いた表示・記録材料
DE68928559T2 (de) * 1988-12-15 1998-06-18 Mitsui Toatsu Chemicals Absorbiermittel im nahen Infrarot und Anzeige-/Aufzeichnungsmaterialien, die daraus hergestellt sind
US4933110A (en) * 1988-12-28 1990-06-12 American Cyanamid Company Optical radiation shield for protection from multiple lasers
EP0407945B1 (en) * 1989-07-11 1995-01-04 Sony Corporation Method of heat-treating an oxide optical crystal and a heat treatment apparatus for carrying out the same
DE4031469C1 (ja) * 1990-10-05 1992-02-06 Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De
US5211885A (en) * 1991-06-17 1993-05-18 Steadfast Inc. Squarylium dyes and products and processes using same
KR100214428B1 (ko) * 1993-06-30 1999-08-02 후지무라 마사지카, 아키모토 유미 적외선차단재와 그것에 사용하는 적외선차단분말

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62136684A (ja) * 1985-12-11 1987-06-19 住友ベークライト株式会社 可視光透過率調整機能を有する透明導電フイルム
JPS6382325A (ja) * 1986-09-26 1988-04-13 Minolta Camera Co Ltd 受光素子
JPH01198339A (ja) * 1988-02-04 1989-08-09 Bridgestone Corp 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス
JPH0433240A (ja) * 1990-05-29 1992-02-04 Mitsubishi Electric Corp カラー陰極線管
JPH04174402A (ja) * 1990-11-07 1992-06-22 Nippon Hikyumen Lens Kk 赤外線吸収フィルターおよびその製造方法
JPH06194517A (ja) * 1992-12-25 1994-07-15 Mitsui Toatsu Chem Inc 熱線遮断シート
JPH06191906A (ja) * 1992-12-25 1994-07-12 Mitsui Toatsu Chem Inc 合わせガラス
JPH06256564A (ja) * 1993-03-01 1994-09-13 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂組成物、およびそれから成る成形品
JPH0770482A (ja) * 1993-06-30 1995-03-14 Mitsubishi Materials Corp 赤外線カットオフ膜とその形成材
JPH0770445A (ja) * 1993-06-30 1995-03-14 Mitsubishi Materials Corp 赤外線カットオフ膜とその形成材
JPH0724957A (ja) * 1993-07-07 1995-01-27 Showa Techno Kooto Kk 赤外線反射機能を有する接着性フィルム
JPH0841441A (ja) * 1994-05-25 1996-02-13 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 紫外線、近赤外線遮へい用インジウム−錫酸化物粉末とこれを用いた紫外線、近赤外線遮へいガラスおよびその製造方法
JPH09208863A (ja) * 1996-01-30 1997-08-12 Kureha Chem Ind Co Ltd 熱線吸収性コーティング組成物および熱線吸収性付与方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8038786B2 (en) 2003-03-17 2011-10-18 Hae-Wook Lee Composition for cutting off heat-ray, film formed therefrom, and method for forming the composition and the film
JP2008528313A (ja) * 2005-01-07 2008-07-31 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 太陽光制御多層フィルム
WO2016181786A1 (ja) * 2015-05-08 2016-11-17 Jsr株式会社 光センサ装置、光センサ装置を含む電子機器及び赤外線吸収性組成物、並びに赤外線カットフィルタ層の作製方法

Also Published As

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US5807511A (en) 1998-09-15

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