JPH09330862A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. マスクのパターンを感光基板上に転写する露光装置の調整方法において、
   複数の基準マークが形成された基準プレート上に、前記複数の基準マークに対応して複数のチェック用パターンを露光する第１ステップと、
   前記基準プレート上の基準マークと前記第１ステップで露光されたチェック用パターンとの重ね合わせを測定し、該測定結果から装置調整用パラメータを求めてベース値として記憶する第２ステップと、
   前記第２ステップの後に前記基準プレート上に前記チェック用パターンを露光する第３ステップと、
   前記基準プレート上の基準マークと前記第３ステップで露光されたチェック用パターンとの重ね合わせを測定し、該測定結果から装置調整用パラメータを求める第４ステップと、
   前記第４ステップで求めた装置調整用パラメータと前記ベース値との差を変動補正用パラメータとして記憶し、該変動補正用パラメータに基づいて前記露光装置を調整する第５ステップとを含むことを特徴とする露光装置の調整方法。
2. 前記第５ステップは、前記第４ステップで求めた装置調整用パラメータと前記ベース値との差にその時点で記憶されている変動補正用パラメータを加算した値を新たな変動補正用パラメータとして記憶し、該新たな変動補正用パラメータに基づいて前記露光装置を調整することを特徴とする請求項１記載の露光装置の調整方法。
3. 前記装置調整用パラメータは、前記感光基板を載置して２次元移動する基板ステージ駆動系のスケーリング、前記基板ステージの回転誤差、前記基板ステージ駆動系の直交度誤差、前記基板ステージの原点シフト、投影光学系の倍率誤差、マスクステージの回転誤差のうちの少なくとも一つであることを特徴とする請求項１記載の露光装置の調整方法。
4. マスクのパターンを感光基板上に転写する露光装置の調整方法において、
   複数の基準マークが形成された基準プレート上に、前記複数の基準マークに対応して複数のチェック用パターンを露光する第１ステップと、
   前記基準プレート上の基準マークと前記第１ステップで露光されたチェック用パターンとの相対距離から装置調整用パラメータを記憶する第２ステップと、
   前記第２ステップの後、前記記憶した装置調整用パラメー夕に基づいて、前記基準プレート上に前記チェック用パターンを露光する第３ステップと、
   前記基準プレート上の基準マークと前記第３ステップで露光されたチェック用パターンとの相対距離から装置調整用パラメー夕を求める第４ステップと、
   前記第２ステップで求めた装置調整用パラメータと前記第４ステップで求めた装置調整用パラメータとの差に基づいて、前記露光装置を調整する第５ステップとを含むことを特徴とする露光装置の調整方法。