JPH0934530A - 位置決め方法及び装置 - Google Patents

位置決め方法及び装置

Info

Publication number
JPH0934530A
JPH0934530A JP20377195A JP20377195A JPH0934530A JP H0934530 A JPH0934530 A JP H0934530A JP 20377195 A JP20377195 A JP 20377195A JP 20377195 A JP20377195 A JP 20377195A JP H0934530 A JPH0934530 A JP H0934530A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
speed
moving object
information
distance
moving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20377195A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Hasegawa
勉 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP20377195A priority Critical patent/JPH0934530A/ja
Publication of JPH0934530A publication Critical patent/JPH0934530A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Numerical Control (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】減速用速度テーブルを最小限の誤差で正確に作
成することができる方法及び装置を提供する。 【構成】移動対象物を加速移動する加速領域において、
ステージ(15)の速度データとその時の時間データと
に基づき、当該ステージの初期静止位置からの距離
(L)を算出する。そして、この距離データを速度デー
タとともに減速用速度テーブルに書き込み、速度と距離
の関係を示す減速用速度テーブル(28b)を完成させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は位置決め方法及び装
置に関し、例えば、マスクやレチクル等の基板のパター
ン位置を測定する装置におけるステージの位置決め方法
及び装置に関する。
【0002】
【背景技術】マスクやレチクル等の基板上に形成された
パターンの位置を計測する場合、例えば、被測定対象と
なる基板をXYステージ上に載置し、XYステージを順
次移動させることによって光学的にパターン位置を計測
する。一般に、レチクル等の基板は軽量であるため、X
Yステージを移動させる時に、急激に加速又は減速させ
ると、ステージ上で基板がずれてしまう。従って、XY
ステージの移動速度は精密に制御される必要がある。
【0003】一般に、ステージの移動という動作は、静
止状態からある一定の目標速度に達するまでの加速工程
と、目標速度から目標位置に停止させるまでの減速工程
とに分けることが出来る。加速工程においては、ステー
ジの速度と時間の関係を示す加速用速度テーブルを用い
てステージの移動を制御する。また、減速工程において
はステージの速度と位置との関係を示す減速用速度テー
ブルを用いてステージの移動を制御する。このような加
速用速度テーブル及び減速用速度テーブルは、被測定対
象である基板毎に作成し、パターン位置計測前に予め記
憶装置に記憶しておく。被測定対象である基板を交換す
る場合には、従来は、直前に記憶されていた加速用速度
テーブル及び減速用速度テーブルの両方をその都度書き
換えていた。
【0004】最近では、加速及び減速用速度テーブルの
書き換え作業を効率化するために、基板交換時に加速用
速度テーブルのみを書き換え、減速用速度テーブルは加
速用速度テーブルに準じて作成する方式が採用されてい
る。詳細については、特開平6−131028号公報を
参照されたい。この方法によると、書き換えられた加速
用速度テーブルに基づいてステージを移動させる加速工
程において、ステージ移動速度を更新させる所定時間毎
に、その時のステージの位置を例えば干渉計を用いて検
出する。そして、更新されたステージ移動速度と、その
時のステージ位置のデータを用いて減速用速度テーブル
を作成している。このように、減速用速度テーブルをス
テージの加速工程中に並行して作成しているため、基板
交換時には、加速用速度テーブルのみを書き換え、減速
用速度テーブルを書き換える必要が無い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の方
法では、加速工程において、ステージの移動速度を更新
する度に、その時のステージの位置を干渉計等によって
物理的に計測しているため、速度の読み込みと位置検出
の間に時間遅れが生じてしまう。この遅れは、減速用速
度テーブルに書き込まれる速度と距離との関係に誤差を
生じさせる。その結果、減速工程における速度、位置制
御にも誤差が生じてしまう。減速工程における誤差は、
ステージの位置決め精度にも影響する。そこで、本発明
は、移動速度と位置の関係を示す減速用速度テーブルを
正確に作成できる方法及び装置を提供することを課題と
して成された。
【0006】
【課題を解決するための手段及び作用】上記のような課
題を解決するために、本発明においては、減速工程で使
用される速度と距離の関係を示す減速用速度テーブルを
加速工程中に作成するに際し、加速工程中の移動対象物
の速度と時間から当該移動対象物の初期静止位置からの
距離を算出する。具体的には、先ず、移動対象物を目標
速度まで加速移動させる際の速度と時間との関係を示し
た第1の情報を予め作成、記憶しておく。次に、第1の
情報に基づいて移動対象物を静止位置から段階的に加速
させて目標速度に到達させる。これと同時に、第1の情
報から読み出される速度データとその時の時間データに
基づき、移動対象物の初期静止位置からの移動距離を算
出し、これに基づき、移動対象物の速度と距離との関係
を示す第2の情報を作成、記憶する。この際、移動対象
物の位置を直接検出しないため、位置検出による時間遅
れが生じることがない。その後、移動対象物が目標速度
に達したら、当該移動対象物を第2の情報に従い段階的
に減速させて目標位置に停止させる。
【0007】
【実施例】以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明す
る。図1は、本発明を適用したパターン位置測定装置の
全体構成を示し、図2は、同装置の制御部分の構成を示
す。本実施例のパターン位置測定装置は、レチクル等の
基板10上に形成された微細パターン(図示せず)の位
置を検出するもので、光学装置12と、基板10が載置
されたXYステージ15と、基板10の上部に配置され
た対物レンズ11と、XYステージ15の上面端部に配
置された移動鏡13a、13bと、XYステージ15の
X、Y方向の位置を各々検出する干渉計14a、14b
と、対物レンズ11の周囲に配置された受光素子50
a、50b、51a、51bと、計測されたパターン位
置を表示する表示装置21と、XYステージ15を駆動
する駆動装置150と、装置全体の総括的な制御を行う
制御装置20とを備えている。
【0008】光学装置12は、対物レンズ11を介して
基板10にレーザスポットを照射する。基板10上に形
成されたパターンは、対物レンズ11によって拡大さ
れ、光学装置12内の所定の位置に結像される。駆動装
置150はモータ(図示せず)を備え、これによってX
Yステージ15をXYの二次元方向に移動させる。干渉
計14a、14bは、移動鏡13a、13bの反射面に
対して測長用のレーザビームを照射すると共に、その反
射光を受光することによってXYステージ15の位置を
検出し、その位置情報を制御装置20に送出する。4つ
の受光素子50a、50b、51a、51bは、基板1
0上のパターンの凸凹のエッジ部分で生じる散乱光又は
回折光を受光し、その検出信号を制御装置20に送る。
このエッジ検出信号に基づき、制御装置20がパターン
のエッジ位置を検出する。なお、このようなエッジ検出
の方法の詳細に関しては、特公昭56ー25964号公
報に開示されている。
【0009】制御装置20は、図2に示すように中央処
理装置(CPU)26と、後に説明する加速用速度テー
ブル28aと減速用速度テーブル28bを記憶するメモ
リ28と、一定タイミングで割り込み信号を出力するタ
イマー30と、駆動装置150に接続されたディジタル
・アナログ(D/A)変換回路32と、干渉計14a、
14bに接続された入出力(I/O)回路とを備えてい
る。CPU26は、メモリ28の加速用速度テーブル2
8aに記憶されている速度データをタイマー30からの
割り込み信号に応じて読み出す。CPU26は、また、
干渉計14a、14bからの位置検出信号を入力すると
共に、D/A変換回路32を介して駆動装置150を制
御する。
【0010】この実施例においては、XYステージ15
の移動動作を、図3に示すように、初期静止位置から目
標速度に達するまでの加速領域と、一定の目標速度で移
動する定速移動領域と、XYステージ15が目標速度か
ら目標位置に停止するまでの減速領域とに分けて考え
る。ここで、XYステージ15の加速領域の速度制御
は、時間に基づいて行われ、定速移動領域と減速領域で
の速度制御は、ステージの位置に基づいて行われる。
【0011】メモリ28には、基板の種類(大きさ、重
さ等)に応じ、図4(B)に示すような時間と速度との
関係を示す加速用速度テーブル28aを記憶しておく。
この加速用速度テーブル28aは、図3に示す加速領域
で使用される情報であり、図4(A)に示すように、速
度ゼロから目標速度までを時間に対して段階的に分割し
て構成される。
【0012】次に、上記のように構成されたパターン位
置測定装置の全体の動作について簡単に説明する。被測
定基板(基板10)をXYステージ15上にセットし、
図示しない入力装置からの測定開始命令が制御装置20
に入力されると、駆動装置150によりXYステージ1
5が初期位置にくるように制御される。次に、XYステ
ージ15を初期位置から順次移動させ、光学装置12か
らのスポット光を基板表面で相対走査させる。基板表面
のパターンエッジにスポット光が当たると、そこで散乱
光が生じ、これを受光素子50a、50b、51a、5
1bによって検出する。受光素子50a、50b、51
a、51bは、散乱光を検出すると、これに応じたエッ
ジ検出信号を制御装置20に対して出力する。制御装置
20は、エッジ検出信号を入力すると、その時のパター
ンエッジの位置を干渉計14a、14bから読み取り、
これに基づいてパターンエッジの間隔を求め、これを表
示装置21に表示する。
【0013】次に、上記パターン位置測定装置における
XYステージ15の位置決め方法、すなわち初期静止位
置から目標位置までの移動方法について、加速領域と減
速領域に分け、各々図5及び図7のフローチャートを参
照して説明する。
【0014】図5に示すように、XYステージ15の加
速が開始すると、CPU26は加速用速度テーブル28
aからt0−t1の速度データV1を読み出し、この速
度V1で駆動装置150を介してXYステージ15を駆
動する。これと同時に、CPU26では、速度V1で時
間t0−t1の間にXYステージ15が移動する距離L
1を算出する。そして、データV1とL1を減速用速度
テーブル28b(図6参照)に書き込む。
【0015】次に、タイマー30に予め設定されている
時間tが経過すると、割り込みが発生し、CPU26は
次に採るべき速度V2を加速用速度テーブル28aから
読み出し、速度データを更新する。この時にも、先の場
合と同様にして、更新された速度V2によって時間t1
−t2の間にXYステージ15が移動する距離△L12
を求め、これに基づいて時間t0−t2の間にXYステ
ージ15が移動する総距離L2を算出する。そして、こ
のデータV2とL2を減速用速度テーブル28bに書き
込む。以上のような動作を繰り返し、XYステージ15
の速度が目標速度(V12)に達すると、加速動作を終
了する。この時点で、減速用速度テーブルには、図5
(B)−(C)−(D)に示すように全ての必要なデー
タが書き込まれる。その後は、速度制御が定速移動領域
に移行し、目標速度(V12)でXYステージ15が定
速駆動される。
【0016】定速移動領域内では、CPU26は、図7
に示すように、タイマー28から一定タイミングで割り
込みがかかる度に、干渉計14a、14bによって測定
されたXYステージ15の現在位置をI/Oポート34
を介して読み込む。CPU26は、読み出されたXYス
テージ15の現在位置から停止目標位置までの距離を算
出し、この距離に対応する速度指令値が減速用速度テー
ブル28bに書き込まれているかを検索する。そして、
該当する距離L11を検出すると、移動速度を目標速度
(V12)からV11に更新し、速度V11でXYステ
ージ15を駆動する。すなわち、定速移動領域から減速
領域に制御が移行する。
【0017】減速領域において、XYステージ15が次
の速度設定区間を示す距離L10に達すると、速度デー
タをV11からV10に更新し、駆動装置150によっ
てXYステージ15を減速する。その後、同様の動作を
繰り返し、干渉計14a、14bによって検出されたX
Yステージ15の位置が目標停止位置に達した時点で減
速処理を終了する。
【0018】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載された技術的思想の範囲で種々の変
更が可能である。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、減速領域で使用される速度と距離の関係を示す減速
用速度テーブルを加速領域中に作成するに際し、加速領
域中のステージの速度データと時間データから当該ステ
ージの初期静止位置からの距離を算出している。このた
め、位置(距離)データの検出と速度データの読み込み
との間の時間差が略ゼロになり、減速用速度テーブルを
正確に作成できることになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるパターン位置計測装置の構成を示
す概略斜視図。
【図2】本発明のパターン位置計測装置の制御部分の構
成を示すブロック図。
【図3】本発明の動作を説明するために用いられるグラ
フ。
【図4】本発明の加速領域での作用を説明するために用
いられるグラフ(A)、及び表(B)。
【図5】本発明の加速領域での動作を示すフローチャー
ト。
【図6】本発明の減速領域での作用を説明するために用
いられるグラフ(A)、(C)、(D)、及び表
(B)。
【図7】本発明の減速領域での動作を示すフローチャー
ト。
【符号の説明】
10・・・基板 12・・・光学装置 14a、14b・・・干渉計 15・・・XYステージ 20・・・制御装置 21・・・表示装置 26・・・CPU 28・・・メモリ 28a・・・加速用速度テーブル 28b・・・減速用速度テーブル 30・・・タイマー 50a、50b、51a、51b・・・受光素子 150・・・駆動装置

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 移動対象物を初期静止位置から移動させ
    て目標位置に停止させる位置決め方法において、 前記移動対象物を目標速度まで加速移動させる際の、速
    度と時間との関係を示した第1の情報を記憶する第1記
    憶工程と;前記第1の情報に基づき、前記移動対象物を
    前記初期静止位置から段階的に加速させて前記目標速度
    に到達させる加速工程と;前記加速工程において、前記
    第1の情報から読み出される速度データとその時の時間
    データに基づき、前記移動対象物の前記初期静止位置か
    らの移動距離を算出する距離算出工程と;前記加速工程
    において読み出された速度データと前記算出された移動
    距離とに基づき、前記移動対象物の速度と距離との関係
    を示す第2の情報を記憶する第2記憶工程と;前記移動
    対象物が前記目標速度に達した後、当該移動対象物を前
    記第2の情報に基づき、段階的に減速させて前記目標位
    置に停止させる減速工程とを含むことを特徴とする位置
    決め方法。
  2. 【請求項2】 前記加速工程が、一定の間隔で前記第1
    の情報からの速度データを読み出し、当該速度データを
    段階的に更新する工程を含むことを特徴とする請求項1
    記載の位置決め方法。
  3. 【請求項3】 前記減速工程が、前記移動対象物の前記
    目標位置までの残り距離を検出する工程と;検出された
    残り距離に対応する速度データが前記第2の情報内に記
    憶されているか検索する工程と;前記検索の結果、対応
    する速度データが記憶されている場合には、当該速度デ
    ータで前記移動対象物を駆動する工程とを含むことを特
    徴とする請求項1記載の位置決め方法。
  4. 【請求項4】 ステージ上に載置された被測定基板を初
    期静止位置から移動させて目標位置に停止させ、当該基
    板上に形成されたパターンの位置を計測する位置計測方
    法において;前記ステージを目標速度まで加速移動させ
    る際の、速度と時間との関係を示した第1の情報を記憶
    する第1記憶工程と;前記第1の情報に従い、前記ステ
    ージを前記初期静止位置から段階的に加速させて前記目
    標速度に到達させる加速工程と;前記加速工程におい
    て、前記第1の情報から読み出される速度データとその
    時の時間データに基づき、前記ステージの前記初期静止
    位置からの移動距離を算出する距離算出工程と;前記加
    速工程において読み出された速度データと前記算出され
    た移動距離とに基づき、前記ステージの速度と距離との
    関係を示す第2の情報を記憶する第2記憶工程と;前記
    ステージが前記目標速度に達した後、当該ステージを前
    記第2の情報に従い段階的に減速させて目標位置に停止
    させる減速工程と;前記ステージが前記目標位置に停止
    した状態で、前記被測定基板上のパターンの位置を検出
    する位置検出工程とを含むことを特徴とする位置測定方
    法。
  5. 【請求項5】 移動対象物を初期静止位置から移動させ
    て目標位置に停止させる位置決め装置において、 前記移動対象物を目標速度まで加速移動させる際の、速
    度と時間との関係を示した第1の情報を記憶する第1記
    憶手段と;前記第1の情報に従い、前記移動対象物を前
    記初期静止位置から段階的に加速させて目標速度に到達
    させる駆動手段と;前記移動対象物を加速移動させてい
    る間に、前記第1の情報から読み出される速度データと
    その時の時間データに基づき、前記移動対象物の前記初
    期静止位置からの移動距離を算出する距離算出手段と;
    前記読み出された速度データと前記算出された移動距離
    とに基づき、前記移動対象物の速度と距離との関係を示
    す第2の情報を記憶する第2記憶手段と;前記移動対象
    物が前記目標速度に達した後、当該移動対象物を前記第
    2の情報に従い段階的に減速させて目標位置に停止させ
    る停止手段とを含むことを特徴とする位置決め装置。
  6. 【請求項6】 ステージ上に載置された被測定基板を初
    期静止位置から移動させて目標位置に停止させ、当該基
    板上に形成されたパターンの位置を計測する位置計測装
    置において;前記ステージを目標速度まで加速移動させ
    る際の、速度と時間との関係を示した第1の情報を記憶
    する第1記憶手段と;前記第1の情報に従い、前記ステ
    ージを前記初期静止位置から段階的に加速させて目標速
    度に到達させる駆動手段と;前記移動対象物を加速移動
    させている間に、前記第1の情報から読み出される速度
    データとその時の時間データに基づき、前記移動対象物
    の前記初期静止位置からの移動距離を算出する距離算出
    手段と;前記読み出された速度データと前記算出された
    移動距離とに基づき、前記移動対象物の速度と距離との
    関係を示す第2の情報を記憶する第2記憶手段と;前記
    移動対象物が前記目標速度に達した後、当該移動対象物
    を前記第2の情報に従い段階的に減速させて目標位置に
    停止させる停止手段と;前記ステージが前記目標位置に
    停止した状態で、前記被測定基板上のパターンの位置を
    検出する位置検出手段とを含むことを特徴とする位置測
    定装置。
JP20377195A 1995-07-18 1995-07-18 位置決め方法及び装置 Pending JPH0934530A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20377195A JPH0934530A (ja) 1995-07-18 1995-07-18 位置決め方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20377195A JPH0934530A (ja) 1995-07-18 1995-07-18 位置決め方法及び装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0934530A true JPH0934530A (ja) 1997-02-07

Family

ID=16479540

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20377195A Pending JPH0934530A (ja) 1995-07-18 1995-07-18 位置決め方法及び装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0934530A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007181379A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Brother Ind Ltd モータ制御方法及びモータ制御装置
CN120033132A (zh) * 2023-11-23 2025-05-23 北京北方华创微电子装备有限公司 校准方法、顶针装置及调平方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007181379A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Brother Ind Ltd モータ制御方法及びモータ制御装置
CN120033132A (zh) * 2023-11-23 2025-05-23 北京北方华创微电子装备有限公司 校准方法、顶针装置及调平方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5386294A (en) Pattern position measuring apparatus
EP0634700B1 (en) Scanning type exposure apparatus
KR970059840A (ko) 주사형 투사노광장치 및 이를 사용한 소자제조방법
US4880308A (en) Aligning apparatus
JPS61233312A (ja) パタ−ン位置測定装置
JPH05136023A (ja) 投影露光装置
JPH0934530A (ja) 位置決め方法及び装置
KR980011727A (ko) 표면높이 계측장치 및 이를 이용한 노광장치
JPH0324409A (ja) 表面の位置決定方法及び装置
JP2004140290A (ja) ステージ装置
JP3520881B2 (ja) 露光装置
JPH0636990A (ja) 位置合わせ装置及び方法、並びにこれを用いた露光装置と半導体デバイス製造方法
JPS6148249B2 (ja)
KR100670072B1 (ko) 다수의 간섭계 빔을 사용하는 레티클 초점 측정 시스템 및방법
JPH0510748A (ja) 位置情報検出装置およびそれを用いた転写装置
JP2830614B2 (ja) パターン位置測定方法及び装置
JP2671338B2 (ja) 露光方法及び基板の姿勢制御方法
JPH02114386A (ja) 欠陥検査装置
JPH0992611A (ja) 走査型露光装置および方法
JP4322860B2 (ja) 測定方法、デバイス製造方法およびリソグラフィ装置
JPH08297508A (ja) 位置決め装置
JP3912816B2 (ja) 走査露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP3852486B2 (ja) ステージ駆動制御装置
JPH02272308A (ja) 非接触式形状測定装置
JP3248247B2 (ja) 露光装置