JPH0940954A - 光変調素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 吸湿によるコントラストの低下が防止され、
高いコントラストを有する液晶／高分子複合膜を用いた
光変調素子及びその製造方法を提供すること。 【解決手段】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散
してなる液晶／高分子複合膜を用いた光変調素子におい
て、高分子マトリックスが架橋剤によって架橋されてい
ることを特徴とする光変調素子、及び液晶粒子、マトリ
ックス形成高分子及び高分子の架橋剤を含む分散液を基
板上に塗布して液晶／高分子複合膜を形成させ、マトリ
ックス高分子を架橋させることを特徴とする光変調素子
の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電界や熱応答性を有
し、情報の表示や記録を行うことが出来、高分子マトリ
ックス中に液晶を分散させた液晶／高分子複合膜を使用
した光変調素子及びその製造方法に関する。本発明の光
変調素子は、書き換え可能表示・記録媒体（カード、Ｏ
ＨＰ等）に幅広く用いることが出来る。

【０００２】従来、液晶ディスプレイは、低消費電力、
軽量、薄型等の特徴を有している為、文字や画像の表示
媒体として、腕時計、電卓、パソコン、テレビ等に幅広
く用いられている。一般的なＴＮ及びＳＴＮ液晶ディス
プレイは、透明電極を有するガラス板間に所定のシール
等が施された液晶セル中に液晶を封入し、更に両面から
偏光板でサンドイッチされたものである。しかしなが
ら、上記ディスプレイは、（１）２枚の偏光板が必要で
ある為、視野角が狭く、又、輝度が不足している為、高
消費電力のバックライトが必要である、（２）セル厚依
存性が大きく、大面積化が困難である、（３）構造が複
雑で、セルへの液晶の封入が困難な為、製造コストが高
い等の問題があり、液晶ディスプレイの軽量化、薄型
化、大面積化、低消費電力化、低コスト化等には限界が
ある。

【０００３】この様な問題点を解決する液晶表示媒体と
して、液晶粒子を高分子マトリックス中に分散させた液
晶／高分子複合膜を用いた光散乱機構に基づく光変調素
子への応用が期待され、その研究開発が活発化してき
た。既に、上記の如き液晶／高分子複合膜を製造する方
法は多数開示されている。例えば、（１）高分子多孔質
体に液晶を含浸させる方法、（２）液晶をポリビニルア
ルコール（ＰＶＡ）等の水溶性高分子中に分散させたエ
マルジョンから作製する方法（特表昭５８−５０１６３
１号公報参照）、（３）液晶及び高分子を共通溶剤に溶
解した溶液をキャストし、溶剤の除去に伴って液晶と高
分子を相分離させる方法（特表昭６１−５０２１２８号
公報参照）、（４）液晶とモノマーを混合した状態でモ
ノマーを重合させ、液晶と高分子の相分離構造を得る方
法（特表昭６１−５０２１２８号公報参照）等がある。
これらの方法の中では、（２）の方法が製造上簡便であ
り、構造の制御及び膜厚の制御が容易で、且つ大面積化
が可能であるという利点があり、調光用のガラス等の製
造において既に実用化されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上の如き液晶／高分
子複合膜を用いた光変調素子には、表示特性としてのコ
ントラスト、駆動電圧−光透過性の曲線の急峻性、視認
性、耐熱性、耐湿性等の特性が要求される。これらの特
性の中で、耐熱性や耐湿性は、用いるマトリックス形成
高分子の特性と密接な関係がある。上記の様な方法
（２）で製造される液晶／高分子複合膜を用いた光変調
素子は、マトリックス形成高分子として使用する水溶性
高分子が水分を吸収し易い為、空気中の水分を吸収（吸
湿）して複合膜が膨潤し、その為に液晶の配向が乱され
てコントラストが低下するという問題がある。又、吸湿
しない場合においても、吸熱し易く、吸熱によってマト
リックス形成高分子の主鎖及び側鎖の運動が激しくな
り、その為に液晶の配向が乱されてコントラストが低下
するという問題がある。従って、本発明の目的は、吸湿
又は吸熱によるコントラストの低下が防止され、高いコ
ントラストを有する液晶／高分子複合膜を用いた光変調
素子を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
によって達せられる。即ち、本発明は、液晶粒子が高分
子マトリックス中に分散してなる液晶／高分子複合膜を
用いた光変調素子において、高分子マトリックスが架橋
剤によって架橋されていることを特徴とする光変調素子
及びその製造方法である。

【０００６】

【発明の実施形態】次に発明の実施形態を挙げて本発明
を更に詳細に説明する。本発明の光変調素子は、導電性
基板上に形成した液晶／高分子複合膜中の高分子が、そ
の架橋剤によって架橋されていることが特徴であり、吸
湿又は吸熱によって光変調素子のコントラストが低下し
ない等の優れた効果を有している。

【０００７】本発明で使用される好ましい液晶は、スメ
クチック液晶であり、従来公知のいずれのスメクチック
液晶も使用することが出来る。スメクチック液晶は、ネ
マチック相を示す温度範囲が広いものが好ましく、本発
明においてはこの温度範囲が１℃以上のスメクチック液
晶を使用することによって、液晶／高分子複合膜を透明
状態にする際の駆動電圧を低下させることが出来る。

【０００８】又、光変調素子のコントラスト比の向上や
着色等を目的として、液晶中に二色性色素を含有させる
ことも出来る。二色性色素を添加した場合には、散乱−
透過型の複合膜としてばかりでなく、色素のゲスト−ホ
スト効果により、光吸収（着色）−透明状態でスイッチ
ングする複合膜として使用することも出来る。二色性色
素は、光変調素子に要求される色調やコントラスト比の
向上に適したものであれば特に限定されず、例えば、ア
ゾ系、ペリレン系或いはアントラキノン系等の色素が、
液晶、壁材料（液晶をマイクロカプセル化して使用する
場合）との組み合わせで使用される。二色性色素の使用
量は、その使用目的が達せられる量であれば特に限定さ
れないが、通常、液晶１００重量部当たり１〜１０重量
部である。

【０００９】本発明で使用される複合膜のマトリックス
を形成し、液晶粒子を固定する高分子材料としては、液
晶と相溶性がなく、透明性及び被膜形成性に優れた高分
子材料であればいずれも使用可能であるが、水溶性高分
子材料が特に好ましい。水溶性高分子材料としては、例
えば、ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポ
リエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ヒドロキシプロピルセルロース等が挙げられる。

【００１０】本発明においては上記の液晶と高分子材料
から形成された液晶／高分子複合膜中の高分子を架橋さ
せる。架橋剤は、高分子材料が有する官能基と反応して
高分子材料を架橋させることが出来るものであれば、い
ずれも使用することが出来る。特に、高分子材料が水溶
性の高分子の場合には、水溶性の架橋剤が好ましい。架
橋剤としては、例えば、水酸基、イミノ基、カルボキシ
ル基等の官能基と反応する官能基を有するものとして
は、アミノ樹脂、フェノール樹脂、イソシアネート類、
アミン類、カルボン酸類、酸無水物類、エポキシ化合
物、アルコール類、ビニル化合物類等の化合物が挙げら
れ、具体的には、イミノ基型メチル化メラミン、トリメ
チロールフェノール、２，４−トリレンジイソシアー
ト、ポリメチレンジアミン、エチレングリコールビスト
リメリテート、トリグリシジルイソシアネート、ポリカ
プロラクトンポリオール、ジアリルフタレート等の化合
物が使用される。架橋剤の使用量は、複合膜の性能を低
下させず、充分な耐湿性及び耐熱性（吸湿又は吸熱によ
るコントラスト低下防止性）が得られる架橋状態となる
量で使用される。

【００１１】以上の各原料成分を用いて液晶／高分子複
合膜を形成するが、液晶又は二色性色素が添加された液
晶は、マイクロカプセル化して使用することも出来る。
二色性色素が添加された液晶も、該色素が添加されてい
ない液晶と全く同じ方法でマイクロカプセル化すること
が出来るので、以下では両者を単に液晶と総称して説明
する。液晶をマイクロカプセル化する方法としては、従
来公知の化学的作製法及び物理化学的作製法を利用する
ことが出来、特に限定されない。以下に化学的方法によ
る好ましいマイクロカプセル化法の例を示す。

【００１２】先ず、ラジカル反応性界面活性剤、水溶性
保護コロイド或いはラジカル反応性保護コロイドの１種
或いは２種以上の混合物を用いて水媒体中に液晶を乳化
分散させる。次いで、水相又は液晶相中にラジカル重合
開始剤を溶解又は分散させ、乳化分散液の温度をラジカ
ル重合開始剤の分解温度又はそれ以上に上げ、重合を行
わせてカプセル壁膜を形成させる。又、他の方法として
は、水媒体中にラジカル重合性モノマーと液晶とを、水
溶性保護コロイドを用いて乳化分散させ、その後の操作
は上記と同様にしてカプセル壁膜を形成させることも出
来る。

【００１３】上記の方法で使用するラジカル反応性界面
活性剤としては、市販のイオン性、ノニオン性の界面活
性剤を用いることが出来る。例えば、スチレンスルホン
酸ソーダ、ポリエチレングリコールモノ又はジアクリレ
ート、ポリプロピレングリコールモノ又はジアクリレー
ト、ポリテトラメチレングリコールモノ又はジアクリレ
ート等が挙げられるが、２官能以上の界面活性剤を混合
して使用することが好ましい。

【００１４】水溶性保護コロイドとしては、部分鹸化ポ
リビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ポ
リエチレングリコール等が挙げられる。ラジカル反応性
保護コロイドとしては、親水性基を有するポリマー鎖の
側鎖にラジカル反応性基を導入したもの等、例えば、
（部分鹸化）ポリビニルアルコールの水酸基にアクリロ
イル基を導入したもの等の如く、ラジカル反応性基とし
て付加重合性二重結合を有するものであればいずれも使
用することが出来る。

【００１５】カプセル化方法としては、液晶中にラジカ
ル重合性モノマーを溶解し、これを前記の如く水性媒体
中に分散させて、上記モノマーを重合させる方法も利用
することが出来る。液晶中に溶解させるラジカル重合性
モノマーとしては、スチレン、酢酸ビニル、（メタ）ア
クリル酸エステル等の液晶と相溶性を有するモノマー等
が挙げられるが、これらとトリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート等の２官能以上のモノマーとを混
合して使用することが好ましい。

【００１６】ラジカル重合開始剤としては、親油性、親
水性等の従来公知のラジカル重合開始剤がいずれも用い
ることが出来る。重合温度を上げることが不都合な場合
には、レドックス重合開始剤を使用することが出来る。
又、γ線や電子線等の電離性放射線を用いて重合するこ
とも出来る。

【００１７】上記構成のマイクロカプセル化液晶におい
ては、壁材料として使用される高分子材料は、芯物質で
あるスメクチック液晶１００重量部当たり５〜２５重量
部の範囲で使用することが好ましい。壁材料の使用量が
５重量部未満では、壁厚が薄く液晶の滲み出しを防止す
ることが難しくなり、２５重量部を超えると壁厚が厚く
なりすぎ、二色性色素を使用した場合には壁への該色素
の移行が増加して壁が着色される為、電圧印加時の反射
濃度が充分に低くならない等の問題が生じるので好まし
くない。カプセルの壁厚は、使用する液晶材料、高分子
材料、カプセル化方法等によって変化するが、一般的に
は１０〜１００ｎｍ程度である。

【００１８】液晶粒子／高分子複合膜を製造する方法
は、前記の方法やその他の公知のいずれの方法も用いる
ことが出来るが、最も有用な方法は、液晶（マイクロカ
プセル化した液晶も含む）をＰＶＡ等の水溶液のエマル
ジョンとし、該エマルジョンを用いて成膜するエマルジ
ョン法である。以下にエマルジョン法を例に複合膜の製
造について説明する。

【００１９】エマルジョン法は、必要に応じて界面活性
剤や保護コロイドを含む水を主体とする媒体に液晶を乳
化分散させ、得られた乳化分散液にＰＶＡ、ゼラチン、
アクリル酸系重合体や水溶性アルキッド樹脂等の水溶性
又は水分散性のマトリックス形成高分子材料及びこれら
の高分子材料の架橋剤を加えた乳化分散液を、適当な基
板上に所定の乾燥厚となる様に塗布及び乾燥して膜を形
成する方法であり、本方法によれば、形成された膜中に
液晶粒子が均一に分散された液晶／高分子複合膜が形成
される。

【００２０】上記の高分子材料（マトリックス形成）及
び架橋剤の水溶液又は分散液に液晶を均一に分散させる
方法としては、超音波分散法、各種攪拌機を用いて機械
的に混合・分散させる機械的分散法や膜乳化法〔中島忠
夫、清水政高、ＰＨＡＲＭＡＴＥＣＨ．ＪＡＰＡＮ 第
４巻、第１０号、（１９８８年）参照〕等の方法が有効
である。得られる液晶エマルジョン粒子の粒子径は、マ
トリックス内或いはカプセル内での液晶分子の配向を容
易にする為に、体積分布における直径が１μｍ以下の液
晶粒子の割合が全液晶粒子中で１０％以下であることが
望ましい。

【００２１】この様な液晶の分散状態は、例えば、多孔
質ガラス（ＭＰＧ）膜乳化システムを用いて液晶のＯ／
Ｗエマルジョンを調製する場合には、ＭＰＧの平均細孔
径（直径）を０．３μｍ以上にすることによって得るこ
とが出来る。又、機械分散法を用いる場合には、回転数
を１，０００ｒｐｍとし、１分間以上攪拌することによ
って得られる。

【００２２】この様にして得られた液晶粒子分散液か
ら、液晶／高分子複合膜を形成する方法としては、基板
上に上記液晶粒子分散液を塗布及び乾燥する方法が好ま
しい。塗装方法としては、例えば、電着方法、スクリー
ンコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーテ
ィング、スライドコーティング、イクストルージョンコ
ーティング、ファウンテンコーティング等が挙げられ
る。この様にして得られる複合膜の厚みは３〜２３μｍ
程度が好適である。膜厚が薄すぎると加熱時の散乱（濁
度）が不足し、厚すぎると多大な駆動電圧を必要とする
ので好ましくない。

【００２３】液晶の使用量としては、通常、マトリック
ス形成高分子材料／液晶の混合比（重量比）が５５／４
５〜３５／６５の範囲が望ましい。液晶の使用量が少な
すぎると、電圧印加時の透明性が不足するだけでなく、
膜を透明状態にするために多大の電圧を必要とする等の
点で不十分であり、一方、液晶の使用量が多すぎると、
加熱時の散乱（濁度）が不足するだけでなく、膜の強度
が低下したりするので好ましくない。

【００２４】次に、上記で得られた液晶／高分子複合膜
中の高分子マトリックスを架橋させる。架橋方法は使用
する架橋剤の種類によって決定され、例えば、加熱、紫
外線照射或いは電子線照射等が用いられる。複合膜の性
能を悪化させない範囲で充分な耐湿性（吸湿又は吸熱に
よって光変調素子の反射濃度等が変化しない）及び耐熱
性（吸熱によって光変調素子の反射濃度が変化しない）
が得られる状態に架橋することが望ましい。尚、マトリ
ックス形成高分子の架橋は、複合膜が得られた時点で
も、その後に行ってもよく、更に必要により複合膜面上
に保護層を形成させる時に行うことも出来る。

【００２５】本発明で使用される液晶／架橋高分子複合
膜を形成する基板としては、従来公知の液晶表示素子や
光変調素子において電極基板として用いられているもの
を使用することが出来る。例えば、ＩＴＯ、ＳｎＯ
₂系、ＺｎＯ系等の様な透明導電性材料を透明基板に付
着させたものでもよい。付着方法としては、導電性材料
を蒸着する方法、スパッタリングする方法、或いは導電
性材料を樹脂に分散させたインクを塗布する方法等が挙
げられる。透明基板はガラス基板以外にも、高分子フイ
ルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリアリレート、ポリエーテルスルホンの様な樹
脂からなる透明フイルムであってもよい。一方、不透明
導電性基板の場合には、その電極が反射板としての機能
も要求される為、例えば、アルミニウム反射電極を設け
た基板が好ましい。勿論、その基板自体はガラスでも高
分子フイルムでも、その他のものであってもよい。又、
ＩＴＯ、ＳｎＯ₂系、ＺｎＯ系等の様な透明導電性材料
を白ＰＥＴフイルム等の様な反射板に付着させてもよ
い。或いは、透明導電性基板の複合膜とは反対の面に、
ガラスや高分子フイルム等にＡｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｚｎ
Ｏ等の白色顔料を付着させて形成した反射板を貼り合わ
せてもよい。

【００２６】本発明の一実施形態では、透明又は反射性
導電性基板上に形成した液晶／架橋高分子複合膜を導電
性基板で挟持する。この場合には、従来公知の液晶表示
素子において電極基板として用いられているものを使用
することが出来、例えば、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂系、ＺｎＯ
系等の様な透明導電性材料を高分子フイルム等の透明基
板に付着させた電極基板等である。

【００２７】本発明の別の実施形態では、透明又は反射
性導電性基板上に形成した液晶／架橋高分子複合膜の表
面に、透明保護層が形成される。保護層を形成する高分
子材料としては、液晶／架橋高分子複合膜との接着性に
優れ、透明な被膜を形成し得るものであれば、いずれの
高分子材料も用いることが出来る。例えば、マトリック
ス形成高分子材料としてＰＶＡを使用した場合には、好
ましい保護層形成高分子材料としては、トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート等の多官能モノマーか
らなる架橋重合体等が挙げられる。これらのモノマーは
単独で、又は２種以上混合して、更に他の共重合性モノ
マーと混合して用いることが出来る。

【００２８】上記保護層は、保護層の表面が平滑で、且
つ保護層の屈折率と高分子マトリックスの屈折率との差
が０．０５以下であることが望ましい。屈折率の差が
０．０５を超えると、電圧印加時に液晶と保護層の屈折
率の差が大きくなる為に、光の散乱が大きくなり、コン
トラストが低下してしまう。更に好ましくは、屈折率の
差は０．０３以下である。又、保護層の平均粗さ（Ｒ
ａ）は０．１μｍ未満であることが好ましい。平均粗さ
が０．１μｍ以上になると光が保護層表面で散乱してし
まい、コントラストが低下してしまう。

【００２９】保護層は、保護層形成高分子材料を液晶／
架橋高分子複合膜を膨潤乃至溶解しない溶剤の溶液とし
て、或いは適当な媒体のエマルジョンとして前記の複合
膜の形成方法と同様な方法で複合膜面に成膜することが
出来る。又、別の方法として、重合によって高分子被膜
を形成する前記のモノマーを複合膜面に所定の厚さに塗
布後、適当な手段（加熱、電子線照射等）によってモノ
マーを重合体に転化させると共に硬化させる方法によっ
ても成膜することが出来る。更には、離型シート上に別
に保護層又はモノマー層を形成しておき、これらの層を
複合膜面に転写ラミネートする方法（モノマー層の場合
には転写後に重合硬化させる）等によって保護層を形成
することが出来る。形成される保護層の厚さは、１〜５
μｍの範囲が好ましい。

【００３０】以上の如きスメクチック液晶／架橋高分子
複合膜を、２枚の導電性基板或いは導電性基板と保護層
で挟持したシート状の本発明の薄型光変調素子は、サー
マルヘッド等の加熱手段を用いて加熱することによって
液晶の配向が乱れて複合膜が散乱状態となり、サーマル
ヘッドにより情報を記録及び表示することが出来る。液
晶中に二色性色素を用いた場合には、複合膜の加熱領域
はその該色素の色調を示し、カラー記録及び表示が行わ
れる。又、これらの記録及び表示は、複合膜に適当な温
度で電圧を印加すると、全体の液晶が配向して複合膜全
体が透明になり、前記記録及び表示を消去することが出
来る。一方、複合膜を加熱によって全体的に不透明と
し、この状態で画像状に電圧を印加することによって、
電圧印加部分が透明画像となり記録及び表示がなされ
る。この様に、本発明の光変調素子は、電圧印加或いは
加熱のいずれか一方によって書き込みを行い、他方によ
って消去することが出来る。電圧の印加は、上下の電極
或いは導電性基板が１枚である場合には、コロナ帯電を
用いて行うことが出来る。又、加熱は、例えば、サーマ
ルヘッド、赤外レーザー光線、熱ペン等任意の方法で行
うことが出来る。

【００３１】

【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。尚、文中の部又は％とあるのは重量
基準である。 実施例１ スメクチック液晶（メルク・リミッテド社製 ＳＣＥ−
９：ネマチック相を示す温度範囲９１．０〜１１５．０
℃）１００部と二色性色素（三井東圧化学社製Ｓ−４２
８）２部とを反応容器に添加し、１２０℃で３０分間攪
拌した。この混合溶液にメチルメタクリレート１１．６
部と２，２′−アゾビスイソブチロニトリル２部を入
れ、室温で４時間攪拌した。この混合溶液にＰＶＡ（日
本合成化学社製 ＥＧ−０５：重合度５００、鹸化度８
６．５〜８９．０）の５％水溶液２５２．８部を添加
し、孔径（直径）１．１０μｍの多孔質ガラス膜管（伊
勢化学工業社製）を用いて膜乳化方法で分散させた。次
いで、窒素雰囲気下、７０℃で６時間静置重合し、液晶
をマイクロカプセル化した。得られたマイクロカプセル
の平均粒子径（直径）は７．５μｍであり、且つ１μｍ
以下の粒子の割合は１．２％であった。尚、粒径は、粒
度分布計（ＬＥＥＤ ＆ＮＯＲＴＨＲＵＰ社製 マイク
ロトラックＭＫ−ＩＩＳＰＡ）を用いて測定した体積分
布から求めた値である。

【００３２】上記の分散液にマトリックス形成高分子材
料としてＰＶＡ（日本合成化学社製ＫＨ−２０：重合度
２０００、ケン化度７８．５〜８１．５）の１０％水溶
液と、架橋剤としてのイミノ基型メチル化メラミン（三
井サイテック社製 サイメル−７０１）をＳＣＥ−９／
ＰＶＡ（ＥＧ−０５＋ＫＨ−２０）／サイメル−７０１
が７／５／２（重量比）となる様に添加して攪拌した。

【００３３】得られた分散液をＩＴＯ蒸着白ポリエチレ
ンテレフタレートフイルム（東レ社製）のＩＴＯ面上
に、ドクターブレードを用いて塗布し、乾燥させて成膜
を行った。次いで、１２０℃で２時間加熱して架橋反応
を行った。得られたスメクチック液晶／架橋高分子複合
膜の膜厚は１０．０μｍであった。複合膜のマトリック
スを形成する高分子〔ＰＶＡ（ＥＧ−０５及びＫＨ−２
０）〕の屈折率は１．５１であった。尚、屈折率は屈折
率計（溝尻光学工業社製 ＤＶＡ−３６Ｌ）を用いて測
定した。

【００３４】液晶／架橋高分子複合膜面上に保護層形成
する為に、ポリエチレンテレフタレートフイルム製離形
フイルム（麗光社製 ＭＣ−１９）に、ドクターブレー
ドを用いてトリメチルプロパントリアクリレート（大日
精化社製 ＥＸＧ−４０−８）を塗布し、乾燥させて
２．０μｍの厚さに成膜した。この膜面と上記の複合膜
面とをラミネートした後、４Ｍｒａｄの電子線を照射し
て上記アクリレートを重合及び硬化させ、離形フイルム
を剥した。平均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍの平滑な保
護層が形成された。別に作製した同じ膜厚のトリメチル
プロパントリアクリレートの硬化重合体の屈折率は１．
５０（上記の屈折率計で測定した）であった。

【００３５】この様にして作製した本発明の光変調素子
に、−６．５ＫＶの電圧をコロナワイヤーに印加してコ
ロナ帯電を行ったところ、反射濃度は０．２８であっ
た。次いで、任意の文字を表示させる為にサーマルヘッ
ドによって加熱を行った結果、加熱部分の反射濃度は
０．８５であった。この部分加熱した光変調素子に、再
度上記と同様にコロナ帯電を行った結果、反射濃度は
０．２８であった。更に、同様にして部分加熱した結
果、加熱部分の反射濃度は０．８５であった。この様な
コロナ帯電と部分加熱の操作を１，０００回繰り返して
も、コロナ帯電時及び部分加熱時の反射濃度の値には変
化は認められなかった。尚、反射濃度は色濃度計（Ｍａ
ｃｂｅｔｈ社製 ＲＤ９１４−Ｓ）を用いて測定した。

【００３６】上記のコロナ帯電後に部分加熱する温度を
変化させた時の、各部分加熱温度における反射濃度を測
定し、反射濃度変化率を求めた。結果を図１に示す。反
射濃度変化率（Ｒ_c ）（％）は下記の式から求めた。 Ｒ_c ＝（Ｒ_t −Ｒ_e ）／（Ｒ_w −Ｒ_e ）×１００ Ｒ_w ：部分加熱温度が１１０℃の時の反射濃度 Ｒ_t ：部分加熱温度がｔ℃の時の反射濃度 Ｒ_e ：コロナ帯電後の反射濃度

【００３７】本発明の上記の光変調素子の吸湿による影
響を確認する為に、上記と同様にしてコロナ帯電させた
光変調素子を、温度が３０℃、湿度が９０％の恒温・恒
湿槽に放置し、各放置時間における反射濃度を測定し、
反射濃度変化率を求めた。結果を図２に示す。反射濃度
変化率（Ｒ_c ′）（％）は、下記の式から求めた。 Ｒ_c ′＝（Ｒ_h −Ｒ_e ）／（Ｒ_w −Ｒ_e ）×１００ Ｒ_h ：恒温・恒湿槽にｈ時間放置後の反射濃度

【００３８】比較例１ 実施例と同様にして作成したマイクロカプセルの分散液
にマトリックス形成高分子材料としてＰＶＡ（日本合成
化学社製ＫＨ−２０：重合度２０００、ケン化度７８．
５〜８１．５）の１０％水溶液をＳＣＥ−９／ＰＶＡ
（ＥＧ−０５＋ＫＨ−２０）が１／１（重量比）となる
様に添加して攪拌した。以下実施例と同様にして比較例
の光変調素子を得た。

【００３９】上記の比較例の光変調素子は、実施例１の
光変調素子と同様なコントラストを示した。又、実施例
１と同様にして、コロナ帯電後に部分加熱する温度を変
化させた時の、各部分加熱温度における反射濃度を測定
し、反射濃度変化率を求めた。結果を図３に示す。更
に、上記の光変調素子の吸湿による影響を実施例１と同
様にして確認した。結果を図４に示す。

【００４０】

【発明の効果】以上の本発明によれば、吸湿又は吸熱に
よるコントラストの低下が防止され、高いコントラスト
を有する光変調素子が提供される。本発明の光変調素子
は、カード、ＯＨＰ等の書き換え可能な表示・記録媒体
として幅広く使用することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施例１の加熱温度と反射濃度変化率の関係
を示す。

【図２】 実施例１の吸湿時間と反射濃度変化率の関係
を示す。

【図３】 比較例１の加熱温度と反射濃度変化率の関係
を示す。

【図４】 比較例１の吸湿時間と反射濃度変化率の関係
を示す。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散
   してなる液晶／高分子複合膜を用いた光変調素子におい
   て、高分子マトリックスが架橋剤によって架橋されてい
   ることを特徴とする光変調素子。
2. 【請求項２】 高分子マトリックスが水溶性高分子であ
   り、架橋剤が該高分子マトリックスの官能基と反応する
   基を有する水溶性化合物である請求項１に記載の光変調
   素子。
3. 【請求項３】 液晶粒子、マトリックス形成高分子及び
   該高分子の架橋剤を含む分散液を基板上に塗布して液晶
   ／高分子複合膜を形成させ、マトリックス高分子を架橋
   させることを特徴とする光変調素子の製造方法。
4. 【請求項４】 マトリックス形成高分子が水溶性高分子
   であり、架橋剤が該マトリックス形成高分子の官能基と
   反応する基を有する水溶性化合物である請求項３に記載
   の光変調素子の製造方法。
5. 【請求項５】 加熱、紫外線照射又は電子線照射によっ
   てマトリックス形成高分子を架橋させる請求項３に記載
   の光変調素子の製造方法。