JPH0948778A - ２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体 - Google Patents

２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体

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JPH0948778A
JPH0948778A JP7199365A JP19936595A JPH0948778A JP H0948778 A JPH0948778 A JP H0948778A JP 7199365 A JP7199365 A JP 7199365A JP 19936595 A JP19936595 A JP 19936595A JP H0948778 A JPH0948778 A JP H0948778A
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chloro
pyrrolyl
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JP7199365A
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English (en)
Inventor
Atsuro Terajima
孜郎 寺島
Shogo Nakatani
庄吾 中谷
Kaoru Yamada
薫 山田
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Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
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Publication date
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒
性を有する新しい制癌剤を創製する。 【解決手段】 下記一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1は水素原子またはＳＯ2Ｒ3もしくはＣＯ2Ｒ
4で表される基（ただし、Ｒ3およびＲ4は各々、炭素数
１〜５のアルキル基、アラルキル基、またはアリ−ル基
を表す）を表し、Ｒ2は炭素数１〜５のアルキル基、ア
ラルキル基、またはアリ−ル基を表し、Ｘはハロゲン原
子を表す。Ａは下記一般式 【化２】 （式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ5は水素原子また
はＳＯ2Ｒ6もしくはＣＯ2Ｒ7で表される基（ただし、Ｒ
6およびＲ7は各々、炭素数１〜５のアルキル基、アラル
キル基、またはアリ−ル基を表す）のいずれかを表す］
で表される２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール
−２−イル）フラン誘導体。 【効果】 上記化合物は強力な細胞毒性を示し、制癌剤
としての用途を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は強力な細胞毒性を示
し、制癌剤としての用途が期待される新規な２−置換−
３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘
導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】優れた制癌剤の開発には社会からの強力
な要請があり、強力な細胞毒性を有する新規な化合物を
創製することは優れた制癌剤の開発において大変重要な
位置を占めている。一般に化合物の制癌活性と制癌スペ
クトルはその化学構造に大きく依存するので、既知のも
のとは異なる新規な構造を有する細胞毒性化合物から、
現在実用に供せられている制癌剤より優れた特徴を有す
る制癌剤が開発される可能性は極めて大きい。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、新規
な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒性を有する新し
い制癌剤を創製するところにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、新規な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒性
を有する化合物として下記一般式［Ｉ］および［ＩＩ］
で表される２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール
−２−イル）フラン誘導体を見出し、本発明を完成させ
た。
【０００５】すなわち本発明は、下記一般式
【０００６】
【化１０】
【０００７】［式中、Ｒ1は水素原子またはＳＯ2Ｒ3も
しくはＣＯ2Ｒ4で表される基（ただし、Ｒ3およびＲ4は
各々、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状アルキル
基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または置換も
しくは無置換のアリ−ル基を表す）を表し、Ｒ2は炭素
数１〜５の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、置換もし
くは無置換のアラルキル基、または置換もしくは無置換
のアリ−ル基を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。Ａは下
記一般式
【０００８】
【化１１】
【０００９】（式中、ｎは０〜３の整数を表す）、また
は下記一般式
【００１０】
【化１２】
【００１１】（式中、ｎは０〜３の整数を表す）、また
は下記一般式
【００１２】
【化１３】
【００１３】（式中、ｎは０〜３の整数を表す）、また
は下記一般式
【００１４】
【化１４】
【００１５】（式中、Ｒ5は水素原子またはＳＯ2Ｒ6も
しくはＣＯ2Ｒ7で表される基（ただし、Ｒ6およびＲ7は
各々、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状アルキル
基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または置換も
しくは無置換のアリ−ル基を表す））、あるいは下記一
般式
【００１６】
【化１５】
【００１７】（式中、Ｒ5は前記と同様である）を表
す］で表される２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロ
ール−２−イル）フラン誘導体、または下記一般式
【００１８】
【化１６】
【００１９】［式中、Ｒ2は炭素数１〜５の直鎖状もし
くは分岐状アルキル基、置換もしくは無置換のアラルキ
ル基、または置換もしくは無置換のアリ−ル基を表し、
Ｘはハロゲン原子を表す。Ａは下記
【００２０】
【化１７】
【００２１】で表される１−（２Ｈ−ピロール−２−イ
リデン）エチル基、または下記
【００２２】
【化１８】
【００２３】で表される５，６−ジヒドロ−４Ｈ−イン
ドール−７−イル基］で表される２−置換−３−アルコ
キシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体、また
はその薬学的に許容しうる塩を提供する。
【００２４】
【発明の実施の形態】上記化合物［Ｉ］および［ＩＩ］
の置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、およびＲ7としてはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル
基などのアルキル基、フェニルメチル基、フェニルエチ
ル基、ナフチルメチル基などのアラルキル基、フェニル
基、ナフチル基、ピリジル基などのアリール基を表し、
これらのアラルキル基およびアリール基は、ニトロ基、
低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基など
で置換されていてもよい。したがって、置換アリール基
としては、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−メトキシフェニ
ル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−トリル基、２，５−
ジクロロフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、
２，４−ジニトロフェニル基、２−メシチリル基、４−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリイソプ
ロピルフェニル基などが例示され、置換アラルキル基と
しては、これら置換アリール基が置換した低級アルキル
基が例示される。なお、低級アルキル基としては、炭素
数１〜５の直鎖状もしくは分岐状アルキル基が例示さ
れ、その具体例として上記のアルキル基を挙げることが
できる。また、Ｘで表されるハロゲン原子としては、と
くに塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が挙げられ
る。
【００２５】上記一般式［Ｉ］および［ＩＩ］で表され
る２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イ
ル）フラン誘導体は下記の合成工程によって製造するこ
とができる。
【００２６】
【化１９】
【００２７】
【化２０】
【００２８】
【化２１】
【００２９】
【化２２】
【００３０】［式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ2、
Ｒ3、およびＲ4は各々、炭素数１〜５の直鎖状もしくは
分岐状アルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル
基、または置換もしくは無置換のアリ−ル基を表し、Ｒ
5はＳＯ2Ｒ6またはＣＯ2Ｒ7で表される基（ただし、Ｒ6
およびＲ7は各々、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐
状アルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、ま
たは置換もしくは無置換のアリ−ル基を表す）を表し、
Ｘはハロゲン原子を表す］
【００３１】第１工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される３−アルコキシ
−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体（参考例参
照）のアミノ基の保護基であるスルホニル基を除去し、
生成した一般式［ＩＶ］で表される３−アルコキシ−５
−（ピロール−２−イル）フラン誘導体（参考例参照）
を単離することなく一般式［Ｖ］で表されるアルデヒド
と反応させ、本発明の化合物である一般式［Ｉａ］で表
される２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２
−イル）フラン誘導体を製造するものである。
【００３２】スルホニル基の除去は通常適用される条件
［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄＰ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔ
ｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２ｎｄ Ｅ
ｄ．，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂ
ｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４０
５］を用いて行われ、アルデヒドとの反応は同じ条件下
で円滑に進行する。
【００３３】第２工程 本工程は、一般式［Ｉａ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
ピロールのアミノ基をアルキルオキシカルボニル化して
本発明の化合物である一般式［Ｉｂ］で表される２−置
換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラ
ン誘導体を製造するものである。
【００３４】アルキルオキシカルボニル化はクロロギ酸
メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸ビニル、クロロ
ギ酸プロピル、クロロギ酸イソプロピル、クロロギ酸２
−プロペニル、クロロギ酸ブチル、クロロギ酸イソブチ
ル、クロロギ酸フェニルエチル、クロロギ酸２、２、２
−トリクロロエチル、クロロギ酸２−トリメチルシリル
エチル、クロロギ酸シンナミル、シンナミロキシカルボ
ニロキシベンゾトリアゾイル、クロロギ酸４−ニトロシ
ンナミル、クロロギ酸フェニル、クロロギ酸ベンジル、
クロロギ酸ｐ−メトキシベンジル、クロロギ酸ｐ−ニト
ロベンジル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボナ−ト、２
−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニロキシイミノ）−２−
フェニルアセトニトリル、９−フルオレニルメチルクロ
リド、１−ベンゾトリアゾイル９−フルオレニルメチル
カルバマ−トなどのアルキルオキシカルボニル化剤を用
いて行われる。
【００３５】反応は塩基を共存させて行う場合もある。
共存させる塩基としてはトリエチルアミン、エチルジイ
ソプロピルアミン、ピリジン、ピペリジン、ピロリジ
ン、イミダゾ−ル、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシク
ロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エン、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウムなどが用いられる。
【００３６】反応は通常溶媒中で行われ、溶媒としては
反応に関与しないものであればいかなるものでも用いる
ことができるが、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエ−テル系溶
媒、メタノ−ル、エタノ−ル、１−プロパノ−ル、２−
プロパノ−ル、１−ブタノ−ル、２−ブタノ−ル、２−
メチル−１−プロパノ−ル、２−メチル−２−プロパノ
−ルなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アセトン、ニトロメタン、ニトロエタン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒が用いられる。塩基が液体
の場合には塩基を溶媒に兼用して用いることもできる。
反応は−５０℃から５０℃で円滑に進行する。
【００３７】第３工程 本工程は、一般式［Ｉｂ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
水酸基をスルホニル化すると同時に生成するスルホナー
トを脱離させ、本発明の化合物である一般式［Ｉｃ］で
表される２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−
２−イル）フラン誘導体を製造するものである。
【００３８】スルホニル化はメタンスルホニルクロリ
ド、エタンスルホニルクロリド、１−プロパンスルホニ
ルクロリド、イソプロピルスルホニルクロリド、１−ブ
タンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリ
ド、ｐ−クロロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−メト
キシベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼン
スルホニルクロリド、α−トルエンスルホニルクロリ
ド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、２，５−ジクロ
ロベンゼンスルホニルクロリド、２，４−ジメチルベン
ゼンスルホニルクロリド、２，４−ジニトロベンゼンス
ルホニルクロリド、２−ニトロ−α−トルエンスルホニ
ルクロリド、２−メシチレンスルホニルクロリド、４−
ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホニルクロリド、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリ
ド、メタンスルホン酸無水物、ｐ−トルエンスルホン酸
無水物などのスルホニル化剤を用いておこなわれる。
【００３９】反応は塩基の存在下で行われ、塩基として
はトリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピ
リジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．
０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．
２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデカ−７−エンなどが用いられる。
【００４０】反応は通常溶媒中で行われ、溶媒としては
反応に関与しないものであればいかなるものでも用いる
ことができるが、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエ−テル系溶
媒、またはアセトニトリルが好適に用いられる。また塩
基としてピリジンを用いる場合には、ピリジンを溶媒に
兼用して用いることもできる。反応は−２０℃から５０
℃で円滑に進行する。
【００４１】第４工程 本工程は、一般式［Ｉｃ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体ピ
ロールのアミノ基の保護基であるアルキルオキシカルボ
ニル基を除去し、本発明の化合物である一般式［Ｉｄ］
で表される２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール
−２−イル）フラン誘導体を製造するものである。
【００４２】保護基の除去は用いられている保護基に通
常適用される条件［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ
Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒ
ｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ”，２ｎｄ Ｅｄ．，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌ
ｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐ
ｐ３１５−４０５］を用いて行われる。
【００４３】第５工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される３−アルコキシ
−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体のアミノ基
の保護基であるスルホニル基を除去し、生成した一般式
［ＩＶ］で表される３−アルコキシ−５−（ピロール−
２−イル）フラン誘導体を単離することなく一般式［Ｖ
ＩＩ］で表されるケトンと縮合させ、本発明の化合物で
ある一般式［Ｉｅ］で表される２−置換−３−アルコキ
シ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体を製造す
るものである。
【００４４】スルホニル基の除去は通常適用される条件
［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄＰ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔ
ｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２ｎｄ Ｅ
ｄ．，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂ
ｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４０
５］を用いて行われ、ケトンとの反応は同じ条件下で円
滑に進行する。
【００４５】第６工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される３−アルコキシ
−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体と一般式
［ＶＩＩＩ］で表される２−アセチルピロール誘導体を
オルトギ酸トリメチルと酸の存在下に縮合させ、本発明
の化合物である一般式［Ｉｆ］で表される２−置換−３
−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導
体を製造するものである。
【００４６】用いられる酸としてはフッ化水素、塩化水
素、臭化水素、ヨウ化水素、塩素酸、臭素酸、過塩素
酸、過ヨウ素酸、硝酸、硫酸、リン酸、ホウ酸、三フッ
化ホウ素などの無機酸、または、酢酸、トリフルオロ酢
酸、蟻酸、安息香酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、カ
ンファスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナ−トなど
の有機酸が用いられ、好適にはカンファスルホン酸が用
いられる。
【００４７】反応は通常溶媒中で行われ、溶媒としては
反応に関与しないものであればいかなるものでも用いる
ことができるが、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエ−テル系溶
媒、メタノ−ル、エタノ−ル、１−プロパノ−ル、２−
プロパノ−ル、１−ブタノ−ル、２−ブタノ−ル、２−
メチル−１−プロパノ−ル、２−メチル−２−プロパノ
−ルなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アセトン、ニトロメタン、ニトロエタン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒が用いられ、好適にはメタ
ノールが用いられる。また、オルトギ酸トリメチルを溶
媒に兼用して用いることもできる。反応は−５０℃から
５０℃で円滑に進行する。
【００４８】第７工程 本工程は、一般式［Ｉｆ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
一方のピロールのアミノ基の保護基を除去し、本発明の
化合物である一般式［Ｉｇ］で表される２−置換−３−
アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体
を製造するものである。
【００４９】保護基の除去は用いられてる保護基に通常
適用される条件［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．
Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕ
ｐｓｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２
ｎｄ Ｅｄ．，ＷｉｌｅｙＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ
Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ＆ Ｓ
ｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４
０５］を用いて行われる。
【００５０】第８工程 本工程は、一般式［Ｉｆ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
一方のピロールのアミノ基の保護基であるスルホニル基
を除去し、本発明の化合物である一般式［Ｉｈ］で表さ
れる２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−
イル）フラン誘導体を製造するものである。
【００５１】スルホニル基の除去は通常適用される条件
［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄＰ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔ
ｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２ｎｄ Ｅ
ｄ．，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂ
ｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４０
５］を用いて行われる。
【００５２】第９工程 本工程は、一般式［Ｉｈ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
ピロールの保護基を除去し、本発明の化合物である一般
式［ＩＩａ］で表される２−置換−３−アルコキシ−５
−（ピロール−２−イル）フラン誘導体、またはその塩
を製造するものである。
【００５３】保護基の除去は用いられてる保護基に通常
適用される条件［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．
Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕ
ｐｓｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２
ｎｄ Ｅｄ．，ＷｉｌｅｙＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ
Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ＆ Ｓ
ｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４
０５］を用いて行われる。
【００５４】第１０工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される３−アルコキシ
−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体と一般式
［ＩＸ］で表されるテトラヒドロインドール誘導体をオ
ルトギ酸トリメチルと酸の存在下に縮合させ、本発明の
化合物である一般式［Ｉｉ］で表される２−置換−３−
アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体
を製造するものである。
【００５５】用いられる酸としてはフッ化水素、塩化水
素、臭化水素、ヨウ化水素、塩素酸、臭素酸、過塩素
酸、過ヨウ素酸、硝酸、硫酸、リン酸、ホウ酸、三フッ
化ホウ素などの無機酸、または、酢酸、トリフルオロ酢
酸、蟻酸、安息香酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、カ
ンファスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナ−トなど
の有機酸が用いられ、好適にはカンファスルホン酸が用
いられる。
【００５６】反応は通常溶媒中で行われ、溶媒としては
反応に関与しないものであればいかなるものでも用いる
ことができるが、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエ−テル系溶
媒、メタノ−ル、エタノ−ル、１−プロパノ−ル、２−
プロパノ−ル、１−ブタノ−ル、２−ブタノ−ル、２−
メチル−１−プロパノ−ル、２−メチル−２−プロパノ
−ルなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アセトン、ニトロメタン、ニトロエタン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒が用いられ、好適にはメタ
ノールが用いられる。また、オルトギ酸トリメチルを溶
媒に兼用して用いることもできる。反応は−５０℃から
５０℃で円滑に進行する。
【００５７】第１１工程 本工程は、一般式［Ｉｉ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
ジヒドロインドールのアミノ基の保護基を除去し、本発
明の化合物である一般式［Ｉｊ］で表される２−置換−
３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘
導体を製造するものである。
【００５８】保護基の除去は用いられてる保護基に通常
適用される条件［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．
Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕ
ｐｓｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２
ｎｄ Ｅｄ．，ＷｉｌｅｙＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ
Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ＆ Ｓ
ｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４
０５］を用いて行われる。
【００５９】第１２工程 本工程は、一般式［Ｉｉ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
ピロールのアミノ基の保護基であるスルホニル基を除去
し、本発明の化合物である一般式［Ｉｋ］で表される２
−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）
フラン誘導体を製造するものである。
【００６０】スルホニル基の除去は通常適用される条件
［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄＰ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔ
ｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２ｎｄ Ｅ
ｄ．，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂ
ｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４０
５］を用いて行われる。
【００６１】第１３工程 本工程は、一般式［Ｉｋ］で表される２−置換−３−ア
ルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体の
ジヒドロインドールのアミノ基の保護基を除去し、本発
明の化合物である一般式［ＩＩｂ］で表される２−置換
−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン
誘導体、またはその塩を製造するものである。
【００６２】保護基の除去は用いられてる保護基に通常
適用される条件［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．
Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕ
ｐｓｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，２
ｎｄ Ｅｄ．，ＷｉｌｅｙＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ
Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ＆ Ｓ
ｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐｐ３１５−４
０５］を用いて行われる。
【００６３】本発明化合物を制癌剤として使用する際
に、本発明の化合物は薬学的に許容しうる塩としても使
用される。薬学的に許容しうる塩の典型例としては、例
えば炭酸、燐酸、塩酸、硫酸等の無機酸との塩、酢酸、
プロピオン酸、フマル酸、クエン酸、トリフルオロ酢
酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸等の有機酸との塩を挙げることができる。
【００６４】以上のごとくして得られた上記一般式
［Ｉ］および［ＩＩ］で表される２−置換−３−アルコ
キシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体につい
て悪性腫瘍細胞増殖阻害活性試験を行い、これらの化合
物が強力な細胞毒性を示し、制癌剤としての用途を有す
ることを確認した。
【００６５】以下、参考例、実施例、試験例で本発明を
詳細に説明するが本発明はこれらによって限定されるも
のではない。
【００６６】
【実施例】
参考例１
【００６７】
【化２３】
【００６８】アルゴン気流中、室温で文献［Ｆ．Ｂｅｌ
ｌａｍｙ ａｎｄ Ｊ．Ｓｔｒｅｉｔｈ Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｒｅｓ．（Ｓ）１８（１９７９）およびＪ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｒｅｓ．（Ｍ）０１０１（１９７９）］記載の方法
によって合成した３−クロロ−２−ホルミルピロ−ル
（１３０ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン
（０．４２ｍＬ，３．０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル
（１０ｍＬ）溶液に塩化ｐ−トルエンスルホニル（２８
７ｍｇ，１．５０ｍｍｏｌ）を加え室温で２０時間かき
まぜた。反応混合物を飽和食塩水中にあけエーテルで３
回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで乾燥した
のちエバポレ−タで濃縮した。残渣をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ９：１−４：
１）で精製して３−クロロ−２−ホルミル−１−ｐ−ト
ルエンスルホニルピロ−ル（２７８ｍｇ，０．９７９ｍ
ｍｏｌ）を９８％の収率で得た。
【００６９】ＴＬＣ Ｒf ０．３３（ヘキサン／酢酸
エチル ４：１）． 融点 ７４〜７５℃．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ
２．４３（ｓ，３Ｈ），６．３９（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．３４（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２
Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８
６（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），９．８９
（ｓ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３４３０（ｂｒ，
ｍ），２９２０（ｍ），１７２０（ｓ），１６８０
（ｓ），１３８０（ｓ），１１７５（ｓ），１１２０
（ｗ），１０３５（ｍ），８１０（ｍ），６６５（ｍ）
ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ２８５（Ｍ，
１），２８３（Ｍ，２），２２１（４），２１９（１
１），１５５（３１），９１（１００）． 元素分析 （Ｃ12Ｈ10ＣｌＮＯ3Ｓ） 計算値： Ｃ；
５０．８０，Ｈ；３．５５，Ｎ；４．９４，Ｓ；１１．
３０，Ｃｌ；１２．５０， 実測値： Ｃ；５０．８
０，Ｈ；３．３５，Ｎ；４．９８，Ｓ；１１．１５，Ｃ
ｌ；１２．５０．
【００７０】参考例２
【００７１】
【化２４】
【００７２】アルゴン気流中、−７８℃で３−クロロ−
２−ホルミル−１−ｐ−トルエンスルホニルピロ−ル
（７０９ｍｇ，２．５０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２５ｍ
Ｌ）溶液に臭化メチルマグネシウムの３．０Ｍエチルエ
−テル溶液（１．００ｍＬ，３．０ｍｍｏｌ）を加え−
７８℃で２時間、室温でさらに１６時間かきまぜた。反
応混合物を飽和塩化アンモニウム水中にあけエ−テルで
３回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで乾燥し
たのちエバポレ−タで濃縮した。残渣をシリカゲルフラ
ッシュクロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ９：
１）で精製して３−クロロ−２−（１−ヒドロキシエチ
ル）−１−ｐ−トルエンスルホニルピロ−ル（６３２ｍ
ｇ，２．１１ｍｍｏｌ）を８４％の収率で得た。
【００７３】ＴＬＣ Ｒf ０．４９（ヘキサン／酢酸
エチル ４：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ
１．５６（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），２．４２
（ｓ，３Ｈ），２．７４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１
Ｈ），５．２８（ｄｑ，Ｊｄ＝８．３，Ｊｑ＝６．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．２１（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），
７．２０（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３２
（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３５５５（ｗ），３４
３０（ｂｒ ｗ），３１５４（ｗ），２９７８（ｗ），
２９３２（ｗ），１５８２（ｍ），１３７０（ｓ），１
２０８（ｍ），１１７７（ｖｓ），１１３８（ｍ），１
０８６（ｍ），１０３４（ｗ），９９９（ｗ），９２０
（ｂｒ ｗ），８１４（ｗ），７１４（ｍ），６７３
（ｓ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３０１（Ｍ，
３），２９９（Ｍ，１０），２８６（９），２８４（２
４），２９１（６），１５５（２９），１２８（３
３），９１（１００）．
【００７４】参考例３
【００７５】
【化２５】
【００７６】アルゴン気流中、室温で３−クロロ−２−
（１−ヒドロキシエチル）−１−ｐ−トルエンスルホニ
ルピロ−ル（１１６ｍｇ，０．３８６ｍｍｏｌ）のジク
ロロメタン（４ｍＬ）溶液に１，１，１−トリアセトキ
シ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨ−ドキソ−ル
−３（１Ｈ）−オン（３２７ｍｇ，０．７７１ｍｍｏ
ｌ）を加え室温で３０分間かきまぜた。１０％チオ硫酸
ナトリウム水を加え激しくかきまぜたのち、反応混合物
を飽和食塩水中にあけエ−テルで３回抽出した。有機層
を集め硫酸マグネシウムで乾燥したのちエバポレ−タで
濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフ
ィ（ヘキサン／酢酸エチル ９：１）で精製して２−ア
セチル−３−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニルピロ
−ル（１０９ｍｇ，０．３６５ｍｍｏｌ）を９５％の収
率で得た。
【００７７】ＴＬＣ Ｒf ０．４０（ヘキサン／酢酸
エチル ４：１）． 融点 １１７℃．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ
２．４２（ｓ，３Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），６．
３２（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３１４５（ｗ），２９
２０（ｓ），２８５０（ｍ），１６７０（ｓ），１５９
０（ｗ），１５２０（ｗ），１４３５（ｍ），１４００
（ｓ），１３６０（ｓ），１３１０（ｍ），１２３０
（ｍ），１２０５（ｍ），１１７０（ｓ），１１３０
（ｓ），１０８０（ｍ），１０１０（ｍ），９２０
（ｗ），８１５（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ２９９（Ｍ，
２），２９７（Ｍ，４），２８２（０．６），２３５
（７），２３３（１９），２２０（３），２１８
（８），１５５（３８），９１（１００）． 元素分析 （Ｃ13Ｈ12ＣｌＮＯ3Ｓ） 計算値： Ｃ；
５２．４４，Ｈ；４．０６，Ｎ；４．７０，Ｓ；１０．
７７，Ｃｌ；１１．９１， 実測値： Ｃ；５２．４
７，Ｈ；４．０６，Ｎ；４．６０，Ｓ；１０．６１，Ｃ
ｌ；１１．８９．
【００７８】参考例４
【００７９】
【化２６】
【００８０】アルゴン気流中、−７８℃でジイソプロピ
ルアミン（１．０５ｍＬ，７．１４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
溶液（３５ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムの１．７Ｍヘキ
サン溶液（４．１ｍＬ，７．０ｍｍｏｌ）を加え−７８
℃で５分間、０℃でさらに２０分間かきまぜた。−７８
℃に冷却したのち２−アセチル−３−クロロ−１−ｐ−
トルエンスルホニルピロ−ル（１．０６ｇ，３．５６ｍ
ｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２ｍＬ）を加え−７８℃で１時
間かきまぜた。（テトラヒドロ−２−ピラニルオキシ）
アセトアルデヒド（１．０１ｇ，７．０１ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ（２ｍＬ）溶液を加え−７８℃でさらに１．５時
間かきまぜた。冷反応混合物を飽和塩化アンモニウム水
中にあけエ−テルで３回抽出した。有機層を集め硫酸マ
グネシウムで乾燥したのちエバポレ−タで濃縮した。残
渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（ヘキサン
／酢酸エチル ２：１）で精製して３−クロロ−２−
［３−ヒドロキシ−１−オキソ−４−（テトラヒドロ−
２−ピラニルオキシ）ブチル］−１−ｐ−トルエンスル
ホニルピロ−ル（８５１ｍｇ，１．９３ｍｍｏｌ）を５
４％の収率で原料の２−アセチル−３−クロロ−１−ｐ
−トルエンスルホニルピロ−ル（０．１５ｇ，０．５０
ｍｍｏｌ）とともに得た。
【００８１】ＴＬＣ Ｒf ０．５９（ヘキサン／酢酸
エチル １：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ
１．４６〜１．８０（ｍ，６Ｈ），２．４３（ｓ，３
Ｈ），３．１２〜３．１９（ｍ，２Ｈ），３．４６〜
３．９３（ｍ，４Ｈ），４．２６〜４．３８（ｍ，１
Ｈ），４．５６〜４．６４（ｍ，１Ｈ），６．３１
（ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝
８．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６６（ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，
１Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３４２０（ｂｒ
ｍ），３１４５（ｗ），２９３０（ｓ），２８６０
（ｗ），１６７０（ｓ），１５９０（ｗ），１５２０
（ｍ），１４１５（ｍ），１４００（ｍ），１３６５
（ｓ），１１７０（ｖｓ），１１２５（ｓ），１０３０
（ｓ），９７０（ｍ），９００（ｗ），８１０（ｍ）ｃ
ｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３５７（Ｍ−ＤＨ
Ｐ，１），３４０（３），３２２（５），２８６
（４），２８４（４），２５６（４），２０２（５），
１８６（６），１５５（１９），９１（５７），８５
（１００）． ＣＩ−ＭＳ ｍ／ｅ ４４２（Ｍ＋１）．
【００８２】参考例５
【００８３】
【化２７】
【００８４】アルゴン気流中、室温で３−クロロ−２−
［３−ヒドロキシ−１−オキソ−４−（テトラヒドロ−
２−ピラニルオキシ）ブチル］−１−ｐ−トルエンスル
ホニルピロ−ル（１７６ｍｇ，０．３９８ｍｍｏｌ）の
ジクロロメタン（８ｍＬ）溶液に１，１，１−トリアセ
トキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨ−ドキソ
−ル−３（１Ｈ）−オン（２１２ｍｇ，０．５００ｍｍ
ｏｌ）を１時間かけて少量ずつ加え室温でさらに１時間
かきまぜた。１０％チオ硫酸ナトリウム水を加え激しく
かきまぜたのち、反応混合物を飽和食塩水中にあけエ−
テルで３回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで
乾燥したのちエバポレ−タで濃縮した。残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：
１）で精製して３−クロロ−２−［１，３−ジオキソ−
４−（テトラヒドロ−２−ピラニルオキシ）ブチル］−
１−ｐ−トルエンスルホニルピロ−ル（１０６ｍｇ，
０．２４０ｍｍｏｌ）を６０％の収率で得た。
【００８５】ＴＬＣ Ｒf ０．５０（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ
１．４６〜１．９３（ｍ，６Ｈ），２．４４（ｓ，３
Ｈ），３．４９〜３．５９（ｍ，１Ｈ），３．７９〜
３．９０（ｍ，１Ｈ），４．１６（ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），４．３５（ｄ，Ｊ＝１６．６Ｈｚ，１
Ｈ），４．７１〜４．７３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．３
２（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），６．４１（ｓ，１
Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．５
８（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３１５０（ｂｒ
ｗ），２９４０（ｍ），１７３５（ｗ），１５９５（ｂ
ｒ ｓ），１３７０（ｍ），１１７５（ｓ），１１２５
（ｓ），１０８０（ｓ），１０３５（ｍ），８１０
（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３５５（Ｍ−ＤＨ
Ｐ，４），３２４（１６），３２０（１０），２９７
（３），２８２（４），１８４（７），１５５（４
０），１２８（１３），９１（６２），８５（１０
０）． ＣＩ−ＭＳ ｍ／ｅ ４４０（Ｍ＋１）．
【００８６】参考例６
【００８７】
【化２８】
【００８８】アルゴン気流中、室温で３−クロロ−２−
［１，３−ジオキソ−４−（テトラヒドロ−２−ピラニ
ルオキシ）ブチル］−１−ｐ−トルエンスルホニルピロ
−ル（９３．９ｍｇ，０．２１３ｍｍｏｌ）のメタノ−
ル（２．１ｍＬ）溶液にカンファースルホン酸（９．９
ｍｇ，０．０４３ｍｍｏｌ）を加え室温で１３時間かき
まぜた。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水中にあ
けエ−テルで３回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシ
ウムで乾燥したのちエバポレ−タで濃縮した。残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３
−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリ
ル）−３−メトキシフラン（５６．７ｍｇ，０．１６１
ｍｍｏｌ）を７６％の収率で得た。
【００８９】ＴＬＣ Ｒf ０．６２（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．７２（ｓ，３Ｈ），３．１６（ｓ，３Ｈ），５．９
０（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），６．４３（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），６．５３（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ），
６．８３（ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２１
（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３６８０〜３２３０
（ｂｒ ｗ），２９２０（ｍ），２３６０（ｗ），１７
２０（ｗ），１６３５（ｍ），１５７０（ｍ），１４５
５（ｍ），１３８０（ｓ），１３００（ｗ），１２６５
（ｍ），１２０５（ｗ），１１７０（ｓ），１１３０
（ｓ），１０８０（ｗ），１０５０（ｍ），１０２５
（ｓ），９８０（ｗ），８９０（ｍ），８００（ｍ）ｃ
ｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３５３（Ｍ，１
１），３５１（Ｍ，２８），１９８（３４），１９６
（１００），１５５（９），１５３（１９），１２５
（８），９１（２３）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ16Ｈ14ＣｌＮＯ4Ｓ） 計算値：
３５１．０３３１，実測値： ３５１．０３１７．
（Ｃ16Ｈ14Ｃｌ*ＮＯ4Ｓ） 計算値： ３５３．０３０
１， 実測値： ３５３．０２８０．
【００９０】参考例７
【００９１】
【化２９】
【００９２】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（２６．９ｍｇ，０．０７６５ｍｍｏ
ｌ）のメタノ−ル（０．８ｍＬ）溶液に炭酸カリウム
（１０６ｍｇ，０．７６７ｍｍｏｌ）を加え室温で２３
時間かきまぜた。反応混合物を飽和食塩水中にあけエー
テルで３回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで
乾燥したのちエバポレ−タで濃縮した。残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル２：
１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−クロ
ロ−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（１０．８ｍ
ｇ，０．０５４７ｍｍｏｌ）を７１％の収率で得た。
【００９３】ＴＬＣ Ｒf ０．５１（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
３．２５（ｓ，３Ｈ），５．９２（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．０８（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），
６．７８（ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８１
（ｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２８〜７．６２
（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３４２０（ｂｒ
ｍ），２９２０（ｗ），２３５０（ｗ），２３３０
（ｗ），１６２５（ｍ），１５７５（ｍ），１５３０
（ｗ），１３８０（ｍ），１２５０（ｗ），１１００
（ｗ），１０６０（ｗ），１０３０（ｍ），９６０
（ｗ），８８０（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） １９９（Ｍ，３
４），１９７（Ｍ，１００），１５６（２２），１５４
（６８），１２８（１１），１２６（３４），９１（２
０）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ9Ｈ8ＣｌＮＯ2） 計算値： １
９７．０２４３， 実測値： １９７．０２３１．
（Ｃ9Ｈ8Ｃｌ*ＮＯ2） 計算値： １９９．０２１３，
実測値： １９９．０２１６．
【００９４】実施例１
【００９５】
【化３０】
【００９６】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（１７．８ｍｇ，０．０５０６ｍｍｏ
ｌ）のメタノ−ル（０．５ｍＬ）溶液に炭酸カリウム
（３５．０ｍｇ，０．２５３ｍｍｏｌ）を加え室温で１
７時間かきまぜた。ＴＬＣで５−（３−クロロ−２−ピ
ロリル）−３−メトキシフランの生成を確認した後、シ
クロヘキサンカルボキシアルデヒド（３０．６μＬ，
０．２５３ｍｍｏｌ）を加え室温でさらに１１時間かき
まぜた。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：
１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−クロ
ロ−２−ピロリル）−２−（シクロヘキシルヒドロキシ
メチル）−３−メトキシフラン（８．１ｍｇ，０．０２
６ｍｍｏｌ）を５２％の収率で得た。
【００９７】ＴＬＣ Ｒf ０．４３（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
０．９７〜２．１０（ｍ，１１Ｈ），２．２９（ｂｒ，
１Ｈ），３．３１（ｓ，３Ｈ），４．５９（ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．１０（ｔ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，
１Ｈ），６．１５（ｔ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），６．
７３（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３６５０〜３０７０
（ｂｒ ｍ），２９２０（ｖｓ），２８５０（ｍ），１
７１５（ｗ），１６３５（ｓ），１６００（ｗ），１５
２５（ｍ），１４４５（ｍ），１３８５（ｍ），１２３
０（ｍ），１１００（ｍ），１０５０（ｓ），９８５
（ｍ），８８０（ｍ），７８０（ｍ），７２０（ｍ）ｃ
ｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３１１（Ｍ，
１），３０９（Ｍ，４），２９３（３４），２９１（１
００），２２８（２０），２２６（５７），２１２（１
３），２１０（３２），１９７（１２），１６３（１
９），１２８（４３）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ16Ｈ20ＣｌＮＯ3） 計算値：
３０９．１１３０， 実測値： ３０９．１１１１．
（Ｃ16Ｈ20Ｃｌ*ＮＯ3） 計算値： ３１１．１１０
０， 実測値： ３１１．１０９２．
【００９８】実施例２
【００９９】
【化３１】
【０１００】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−２−ピロリル）−２−（シクロヘキシルヒドロキシメ
チル）−３−メトキシフラン（１２．４ｍｇ，０．０４
００ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（０．４ｍＬ）溶液に
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボナート（１６．８ｍｇ，
０．０７７０ｍｍｏｌ）と４−ジメチルアミノピリジン
（４．３ｍｇ，０．０３８ｍｍｏｌ）を加え室温で３０
分間かきまぜた。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を
シリカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチ
ル ４：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−
（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−クロロ−２
−ピロリル）−２−（シクロヘキシルヒドロキシメチ
ル）−３−メトキシフラン（８．９ｍｇ，０．０２２ｍ
ｍｏｌ）を５４％の収率で得た。
【０１０１】ＴＬＣ Ｒf ０．４０（ヘキサン／酢酸
エチル ４：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
０．９７〜２．２３（ｍ，１１Ｈ），１．２５（ｓ，９
Ｈ），３．３３（ｓ，３Ｈ），４．２６（ｂｒｄ，Ｊ＝
８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．０１（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，
１Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝
３．５Ｈｚ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３６７０〜３０４０
（ｂｒ ｍ），２９２０（ｓ），２８５０（ｗ），１７
４０（ｓ），１６４０（ｍ），１４５５（ｍ），１３８
０（ｍ），１３６５（ｍ），１３１０（ｖｓ），１２５
０（ｍ），１１４０（ｓ），１０６０（ｗ），１０１５
（ｍ），９５０（ｗ），８４０（ｗ），７３５（ｗ）ｃ
ｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ４１１（Ｍ，
１），４０９（Ｍ，３），３９３（４），３９１（１
０），３３７（２１），３３５（６２），２９１（１
９），２７２（１２），２７０（３８），２２８（１
０），２２６（３３），１２８（１５），５７（１０
０）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ21Ｈ28ＣｌＮＯ5） 計算値：
４０９．１６５５， 実測値： ４０９．１６６０．
（Ｃ21Ｈ28Ｃｌ*ＮＯ5） 計算値： ４１１．１６２
５， 実測値： ４１１．１６４７．
【０１０２】実施例３
【０１０３】
【化３２】
【０１０４】アルゴン気流中、０℃で５−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル−３−クロロ−２−ピロリル）
−２−（シクロヘキシルヒドロキシメチル）−３−メト
キシフラン（４．４ｍｇ，０．０１０７ｍｍｏｌ）のジ
クロロメタン（０．５ｍＬ）溶液にトリエチルアミン
（７．５μＬ，０．０５４ｍｍｏｌ）を加え、続いてメ
タンスルホニルクロリド（２．０μＬ，０．０２６ｍｍ
ｏｌ）を加え０℃で２０分間、室温でさらに４０分間か
きまぜた。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
４：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−クロロ−２−ピロ
リル）−２−（シクロヘキシリデンメチル）−３−メト
キシフラン（３．４ｍｇ，０．００８７ｍｍｏｌ）を８
１％の収率で得た。
【０１０５】ＴＬＣ Ｒf ０．５７（ヘキサン／酢酸
エチル ４：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．２７（ｓ，９Ｈ），１．３０〜１．５５（ｍ，６
Ｈ），２．１５（ｂｒ ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈ），２．
７４（ｂｒ ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈ），３．３５（ｓ，
３Ｈ），５．９９（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），６．
３１（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），７．
２５（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ２９２０（ｍ），１７
４０（ｓ），１５６０（ｗ），１４５５（ｗ），１３６
５（ｗ），１３１０（ｖｓ），１２５０（ｗ），１１４
０（ｓ），１１０５（ｗ），１０５５（ｗ），１０１５
（ｗ），９５０（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３９３（Ｍ，
６），３９１（Ｍ，１７），３３７（３４），３３５
（１００），２９３（９），２９１（２６），２１２
（５），２１０（１５），１２８（２２），５７（９
６）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ21Ｈ26ＣｌＮＯ4） 計算値：
３９１．１５４８， 実測値： ３９１．１５３７．
（Ｃ21Ｈ26Ｃｌ*ＮＯ4） 計算値： ３９３．１５１
９， 実測値： ３９３．１５４７．
【０１０６】実施例４
【０１０７】
【化３３】
【０１０８】アルゴン気流中、室温で５−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル−３−クロロ−２−ピロリル）
−２−（シクロヘキシリデンメチル）−３−メトキシフ
ラン（３．４ｍｇ，０．００８７ｍｍｏｌ）のメタノー
ル（０．２ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１２．０ｍｇ，
０．０８７ｍｍｏｌ）を加え室温で１．５時間かきまぜ
た。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲル薄
層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ４：１，
１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−クロロ−
２−ピロリル）−２−（シクロヘキシリデンメチル）−
３−メトキシフラン（１．９２ｍｇ，０．００６６ｍｍ
ｏｌ）を７６％の収率で得た。
【０１０９】ＴＬＣ Ｒf ０．４６（ヘキサン／酢酸
エチル ４：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．４４〜１．７３（ｍ，６Ｈ），２．２３（ｂｒ
ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｂｒ ｔ，Ｊ＝６
Ｈｚ，２Ｈ），３．３３（ｓ，３Ｈ），５．８８（ｔ，
Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．１３（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．３１（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．７４
（ｓ，１Ｈ），７．５６（ｂｒ ｓ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３６５０〜３０５０
（ｂｒ ｍ），２９２０（ｓ），２８５０（ｗ），１６
１５（ｍ），１５６５（ｍ），１４５５（ｍ），１３８
０（ｍ），１１０５（ｍ），１０６０（ｍ），１０１５
（ｍ），８８０（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ２９３（Ｍ，
４），２９１（Ｍ，１２），２３８（３），２３６
（７），２１２（６），２１０（１４），１９９
（３），１９７（８），１６３（１１），１２８（２
０）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ16Ｈ18ＣｌＮＯ2） 計算値：
２９１．１０２４， 実測値： ２９１．０９９２．
【０１１０】実施例５
【０１１１】
【化３４】
【０１１２】５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（１４．
２ｍｇ，０．０４０４ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン
（０．０８４ｍＬ，０．８１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム
（２７．９ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、およびメタノー
ル（０．４ｍＬ）の混合物を封管中、１００℃で１７時
間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−
クロロ−２−ピロリル）−２−（１−シクロヘキセニ
ル）−３−メトキシフラン（３．８ｍｇ，０．０１３６
ｍｍｏｌ）を３４％の収率で得た。
【０１１３】ＴＬＣ Ｒf ０．６１（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．５４〜１．７６（ｍ，４Ｈ），２．１７〜２．２８
（ｍ，２Ｈ），２．５４〜２．６７（ｍ，２Ｈ），３．
３０（ｓ，３Ｈ），５．９９（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１
Ｈ），６．１５（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４
６（ｔｔ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７９
（ｓ，１Ｈ），７．５６（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３７００〜３０５０
（ｂｒ ｍ），２９２５（ｍ），２８５０（ｗ），１６
１５（ｍ），１５７０（ｍ），１３８０（ｓ），１１４
０（ｗ），１０９５（ｍ），１０６５（ｍ），１０２０
（ｓ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ２７９（Ｍ，３
４），２７７（Ｍ，１００），２６４（３），２６２
（９），２５１（７），２４９（２１），２１０（８）
１９７（８），８１（２６）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ15Ｈ16ＣｌＮＯ2） 計算値：
２７７．０８６８， 実測値： ２７７．０８４６．
（Ｃ15Ｈ16Ｃｌ*ＮＯ2） 計算値： ２７９．０８３
９， 実測値： ２７９．０８４６．
【０１１４】実施例６
【０１１５】
【化３５】
【０１１６】５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（１２．
５ｍｇ，０．０３５５ｍｍｏｌ）、シクロヘプタノン
（０．０８４ｍＬ，０．７１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム
（２４．６ｍｇ，０．１７８ｍｍｏｌ）、およびメタノ
ール（０．４ｍＬ）の混合物を封管中、１００℃で２４
時間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３
−クロロ−２−ピロリル）−２−（１−シクロヘプテニ
ル）−３−メトキシフラン（６．４ｍｇ，０．０２２ｍ
ｍｏｌ）を６２％の収率で得た。
【０１１７】ＴＬＣ Ｒf ０．６８（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．５１〜１．８０（ｍ，６Ｈ），２．３５（ｄｄ，Ｊ
＝１０．９，７．０Ｈｚ，２Ｈ），２．８７〜２．９２
（ｍ，２Ｈ），３．２９（ｓ，３Ｈ），５．９６（ｔ，
Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．１４（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．６９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），
６．７８（ｓ，１Ｈ），７．５６（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３７２０〜３３００
（ｂｒ ｍ），２９２０（ｍ），２８５０（ｗ），１６
２５（ｍ），１６００（ｍ），１５６０（ｍ），１４４
５（ｗ），１３８０（ｍ），１１００（ｗ），１０６０
（ｍ），１０１５（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ２９３（Ｍ，３
３），２９１（Ｍ，１００），２７８（４），２７６
（１０），２６５（１５），２６３（４４），２５０
（２），２４８（４），２３９（６），２３７（１
５），２２４（４），２２２（５），２１２（３），２
１０（６），１９９（３），１９７（６），１６３（１
７），１３０（８），１２８（２１），９５（１０）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ16Ｈ18ＣｌＮＯ2） 計算値：
２９１．１０２５， 実測値： ２９１．１０１３．
（Ｃ16Ｈ18Ｃｌ*ＮＯ2） 計算値： ２９３．０９９
５， 実測値： ２９３．１０１４．
【０１１８】実施例７
【０１１９】
【化３６】
【０１２０】５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（１１．
５ｍｇ，０．０３２７ｍｍｏｌ）、シクロオクタノン
（８２．６ｍｇ，０．６５４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム
（２２．６ｍｇ，０．１６４ｍｍｏｌ）、およびメタノ
ール（０．３ｍＬ）の混合物を封管中、１２０℃で３日
間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−
クロロ−２−ピロリル）−２−（１−シクロオクテニ
ル）−３−メトキシフラン（３．７ｍｇ，０．０１２１
ｍｍｏｌ）を３７％の収率で得た。
【０１２１】ＴＬＣ Ｒf ０．６７（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．５０〜１．６７（ｍ，６Ｈ），１．７１〜１．８５
（ｍ，２Ｈ），２．２８〜２．４０（ｍ，２Ｈ），２．
８３（ｄｄ，Ｊ＝６．４，６．０Ｈｚ，２Ｈ），３．２
９（ｓ，３Ｈ），５．９５（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１
Ｈ），６．１５（ｄｄ，Ｊ＝３．０，２．８Ｈｚ，１
Ｈ），６．４９（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７
７（ｓ，１Ｈ），７．５６（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３４３０（ｂｒ
ｍ），２９２０（ｓ），２８５０（ｍ），１６２５
（ｍ），１５７０（ｍ），１４６０（ｍ），１３８０
（ｍ），１２３５（ｗ），１０９５（ｍ），１０２５
（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３０７（Ｍ，１
９），３０５（Ｍ，５４），２７９（３４），２７７
（１００），２６４（１１），２６２（２２），２３９
（１１），２３７（３２），１３０（１０），１２８
（２７）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ17Ｈ20ＣｌＮＯ2） 計算値：
３０５．１１８１， 実測値： ３０５．１１６２．
（Ｃ17Ｈ20Ｃｌ*ＮＯ2） 計算値： ３０７．１１５
２， 実測値： ３０７．１１７０．
【０１２２】実施例８
【０１２３】
【化３７】
【０１２４】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（１２．７ｍｇ，０．０３６１ｍｍｏ
ｌ）、２−アセチル−１−ｐ−トルエンスルホニルピロ
ール（１９．０ｍｇ，０．０７２２ｍｍｏｌ）、及びオ
ルトギ酸トリメチル（０．０５０ｍＬ，０．４６ｍｍｏ
ｌ）のメタノール（０．３６ｍＬ）溶液にカンファース
ルホン酸（４．２ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）を加え室
温で４時間かきまぜた。反応混合物をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：１）で精
製して５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル
−２−ピロリル）−３−メトキシ−２−［１−（１−ｐ
−トルエンスルホニル−２−ピロリル）エテニル］フラ
ン（７．１ｍｇ，０．０１１９ｍｍｏｌ）を３３％の収
率で得た。
【０１２５】ＴＬＣ Ｒf ０．３７（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．７７（ｓ，３Ｈ），１．７９（ｓ，３Ｈ），３．１
０（ｓ，３Ｈ），４．９５（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１
Ｈ），５．８７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），５．９
５（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），６．０７（ｄｄ，Ｊ
＝３．４，３．２Ｈｚ，１Ｈ），６．１８（ｄｄ，Ｊ＝
３．２，１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．３４（ｓ，１Ｈ），
６．６５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），６．８３
（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝
３．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄｄ，Ｊ＝３．４，
１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，
２Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ２９７０（ｗ），２９
４０（ｍ），２８７０（ｗ），１７４０（ｗ），１４６
５（ｗ），１３９０（ｍ），１０７５（ｍ），８１０
（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ５９８（Ｍ，
２），５９６（Ｍ，５），５３１（３），４４１
（５），３７９（５），３７７（１４），３６４
（２），３６２（４），２８６（９），２４５（３），
２４３（８），９１（１００）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ29Ｈ25ＣｌＮ2Ｏ6Ｓ2） 計算
値： ５９６．０８４０，実測値： ５９６．０８２
６． （Ｃ29Ｈ25Ｃｌ*Ｎ2Ｏ6Ｓ2） 計算値： ５９
８．０８１１， 実測値： ５９８．０７９７．
【０１２６】実施例９
【０１２７】
【化３８】
【０１２８】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（１７．９ｍｇ，０．０５０９ｍｍｏ
ｌ）、２−アセチル−１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルピロール（２１．３ｍｇ，０．１０２ｍｍｏｌ）、及
びオルトギ酸トリメチル（０．０５０ｍＬ，０．４６ｍ
ｍｏｌ）のメタノール（０．５ｍＬ）溶液にカンファー
スルホン酸（２．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）を加え
室温で４時間かきまぜた。反応混合物を減圧下濃縮し、
残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢
酸エチル ２：１）で精製して２−［１−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル−２−ピロリル）エテニル］−
５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−
ピロリル）−３−メトキシフラン（１２．１ｍｇ，０．
０２２３ｍｍｏｌ）を４４％の収率で得た。
【０１２９】ＴＬＣ Ｒf ０．７３（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．３１（ｓ，９Ｈ），１．７９（ｓ，３Ｈ），３．１
５（ｓ，３Ｈ），５．２３（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１
Ｈ），５．７３（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），５．９
６（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１２（ｔ，Ｊ＝
３．２Ｈｚ，１Ｈ），６．２９（ｄｄ，Ｊ＝３．２，
２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．６７
（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝
３．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，
２Ｈ），７．５９（ｄｄ，Ｊ＝７．２，２．０Ｈｚ，１
Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ２９４０（ｗ），１７
４０（ｓ），１４０５（ｗ），１３８０（ｍ），１３４
５（ｍ），１３２５（ｓ），１２６０（ｗ），１２２０
（ｗ），１１８０（ｍ），１１５５（ｍ），１１４０
（ｍ），１１２０（ｍ），１０９０（ｗ），１０６５
（ｗ），１０１５（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ５４４（Ｍ，
５），５４２（Ｍ，１２），４８７（２７），４８６
（３２），４８５（５５），３３２（１１），３３１
（１７），３３０（１８），２８９（１７），２８７
（５１），２５２（１０），１６２（１７），１２８
（１１），９１（３７），５７（１００） 高分解能 ＭＳ （Ｃ27Ｈ27ＣｌＮ2Ｏ6Ｓ） 計算値：
５４２．１２７６，実測値： ５４２．１２５１．
（Ｃ27Ｈ27Ｃｌ*Ｎ2Ｏ6Ｓ） 計算値： ５４４．１２
４６， 実測値： ５４４．１２３８．
【０１３０】実施例１０
【０１３１】
【化３９】
【０１３２】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシ−２−［１−（１−ｐ−トルエンスルホニル−
２−ピロリル）エテニル］フラン（３．０ｍｇ，０．０
０５０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（０．１ｍＬ）
／メタノール（０．１ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシ
ド（２７ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時
間かきまぜた。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−
クロロ−２−ピロリル）−３−メトキシ−２−［１−
（１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）エテニ
ル］フラン（１．６ｍｇ，０．００３６ｍｍｏｌ）を７
２％の収率で得た。
【０１３３】ＴＬＣ Ｒf ０．４７（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．７３（ｓ，３Ｈ），３．２３（ｓ，３Ｈ），５．２
５（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），５．８０（ｔ，Ｊ＝
３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．０５（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，
１Ｈ），６．０８（ｄ，Ｊ＝１．７ＨＺ，１Ｈ），６．
１０（ｔ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄｄ，
Ｊ＝３．２，１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．５４（ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ，２Ｈ），６．６５（ｓ，１Ｈ），７．５０
（ｄｄ，Ｊ＝３．４，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６２
（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３５００〜３２００
（ｂｒ ｗ），２９４０（ｗ），１６６０（ｗ），１６
３０（ｍ），１５７５（ｍ），１５５０（ｍ），１４６
５（ｗ），１３７０（ｍ），１２５０（ｗ），１２２０
（ｗ），１１８０（ｍ），１１５５（ｍ），１１００
（ｗ），１０６０（ｗ），８９５（ｗ），８２０（ｗ）
ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ４４４（Ｍ，２
５），４４２（Ｍ，６０），３７９（１２），３７７
（２９），３６５（３），３６３（６），３１１（１
８），２８９（１４），２８７（３２），１６２（３
３），９１（１００）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ22Ｈ19ＣｌＮ2Ｏ4Ｓ） 計算値：
４４２．０７７３，実測値： ４４２．０７６３．
（Ｃ22Ｈ19Ｃｌ*Ｎ2Ｏ4Ｓ） 計算値： ４４４．０７
２３， 実測値： ４４４．０７１７．
【０１３４】実施例１１
【０１３５】
【化４０】
【０１３６】アルゴン気流中、室温で２−［１−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ピロリル）エテニ
ル］−５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル
−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（１３．６ｍ
ｇ，０．０２５０ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸（０．
１ｍＬ）に溶解し、室温で４時間かきまぜた。反応混合
物を飽和炭酸水素ナトリウム水中にあけ、エーテルで３
回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで乾燥した
後エバポレータで濃縮した。残渣をシリカゲル薄層クロ
マトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：１，１％ト
リエチルアミン）で精製して５−（３−クロロ−１−ｐ
−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−メトキシ
−２−［１−（２−ピロリル）エテニル］フラン（８．
０ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）を７２％の収率で得た。
【０１３７】ＴＬＣ Ｒf ０．５０（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．７０（ｓ，３Ｈ），３．２１（ｓ，３Ｈ），５．６
５（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１Ｈ），５．８２（ｄ，Ｊ＝
１．２Ｈｚ，１Ｈ），５．９４（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，
１Ｈ），６．２８〜６．３２（ｍ，１Ｈ），６．２９
（ｓ，１Ｈ），６．４８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２
Ｈ），６．５０〜６．５５（ｍ，１Ｈ），６．７１〜
６．７５（ｍ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），
９．０９（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３４３０（ｍ），３１
６０（ｗ），２９５０（ｍ），２８７０（ｗ），１６４
０（ｗ），１６００（ｍ），１５３０（ｗ），１４６５
（ｗ），１３８０（ｓ），１３００（ｗ），１２１５
（ｗ），１１９５（ｗ），１１８０（ｖｓ），１１４０
（ｓ），１０９５（ｗ），１０７０（ｗ），１０２０
（ｗ），９４０（ｗ），９１５（ｗ），８２０（ｍ）ｃ
ｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ４４４（Ｍ，
６），４４２（Ｍ，１０），３５３（５），３５１（１
２），２８９（１０），２８７（２２），１３９（２
２），１２４（２４），９１（１００）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ22Ｈ19ＣｌＮ2Ｏ4Ｓ） 計算値：
４４２．０７５３，実測値： ４４２．０７７６．
（Ｃ22Ｈ19Ｃｌ*Ｎ2Ｏ4Ｓ） 計算値： ４４４．０７
２２， 実測値： ４４４．０６９３．
【０１３８】実施例１２
【０１３９】
【化４１】
【０１４０】アルゴン気流中、室温で２−［１−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ピロリル）エテニ
ル］−５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル
−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（１４．３ｍ
ｇ，０．０２６３ｍｍｏｌ）のメタノール（０．５ｍ
Ｌ）溶液に炭酸カリウム（３６．３ｍｇ，０．２６３ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で１７時間かきまぜた。反応混合
物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラ
フィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：１，１％トリエチル
アミン）で精製して２−［１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−２−ピロリル）エテニル］−５−（３−
クロロ−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（５．２
ｍｇ，０．０１３４ｍｍｏｌ）を５１％の収率で得た。
【０１４１】ＴＬＣ Ｒf ０．６７（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．１７（ｓ，９Ｈ），３．２３（ｓ，３Ｈ），５．４
１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．８６（ｔ，Ｊ＝
３．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９７（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，
１Ｈ），６．０６（ｔ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），６．
１６（ｔ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），６．３９（ｄｄ，
Ｊ＝３．３，１．９Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｓ，１
Ｈ），７．６０（ｄｄ，Ｊ＝３．３，１．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．８６（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３５５０〜３１８０
（ｂｒ ｍ），２９４０（ｍ），２８７０（ｗ），１７
４０（ｓ），１６４０（ｍ），１４７０（ｗ），１４１
０（ｍ），１３８０（ｗ），１３３０（ｓ），１１５５
（ｍ），１１２５（ｍ），１０６５（ｗ），１０２５
（ｗ），８９５（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３９０（Ｍ，１
１），３８８（Ｍ，３１），３３３（３４），３３１
（７９），２８９（４），２８７（１０），２７３（１
８），２７１（１９），９２（１８），５７（１０
０）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ20Ｈ21ＣｌＮ2Ｏ4） 計算値：
３８８．１１８７， 実測値： ３８８．１１５８．
（Ｃ20Ｈ21Ｃｌ*Ｎ2Ｏ4） 計算値： ３９０．１１５
９， 実測値： ３９０．１１８４．
【０１４２】実施例１３
【０１４３】
【化４２】
【０１４４】アルゴン気流中、室温で２−［１−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ピロリル）エテニ
ル］−５−（３−クロロ−２−ピロリル）−３−メトキ
シフラン（５．２ｍｇ，０．０１３ｍｍｏｌ）の重クロ
ロホルム（０．４０ｍＬ）溶液をＮＭＲチューブに移
し、トリフルオロ酢酸（０．１０ｍＬ）を加えた。１３
時間後、ＮＭＲで原料の消失を確認したのち反応混合物
を減圧下濃縮し、５−（３−クロロ−２−ピロリル）−
３−メトキシ−２−［１−（２Ｈ−ピロール−２−イリ
デン）エチル］フランのトリフルオロ酢酸塩（４．４ｍ
ｇ，０．０１１ｍｍｏｌ）を８２％の収率で得た。
【０１４５】ＴＬＣ Ｒf ０．３０（クロロホルム／
メタノール ９：１，１％トリフルオロ酢酸）． 融点 １７４〜１７６℃1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ
２．６８（ｓ，３Ｈ），４．２２（ｓ，３Ｈ），６．
４３（ｂｒ ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．５３
（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．１０
（ｓ，１Ｈ），７．２３〜７．２８（ｍ，１Ｈ），７．
４９（ｂｒ ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），８．０４〜
８．０９（ｍ，１Ｈ），１２．４０（ｂｒ，１Ｈ），１
４．５７（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３６２０〜３０３０
（ｂｒ ｍ），２９３０（ｗ），１７００（ｍ），１６
８５（ｍ），１５９０（ｓ），１５５０（ｓ），１４７
０（ｗ），１４３０（ｍ），１３９０（ｍ），１３７０
（ｗ），１３００（ｍ），１２６０（ｗ），１２３５
（ｗ），１２１０（ｓ），１１７０（ｍ），１１３０
（ｖｓ），１０６０（ｍ），１０１０（ｗ），９３０
（ｗ），８８０（ｍ），８００（ｍ），７６５（ｍ），
７３０（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ２９０（Ｍ−ＣＦ
3ＣＯ2Ｈ，３６），２８８（Ｍ−ＣＦ3ＣＯ2Ｈ，１０
０），２７５（１０），２７３（２３），２７１（２
３），２５９（５），２４３（９），２０９（１０），
１８２（１０），１４４（１０），１２５（２８），９
２（７６）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ15Ｈ13ＣｌＮ2Ｏ2，Ｍ−ＣＦ3Ｃ
Ｏ2Ｈ） 計算値： ２８８．０６６４， 実測値：
２８８．０６５６． （Ｃ15Ｈ13Ｃｌ*Ｎ2Ｏ2，Ｍ−Ｃ
Ｆ3ＣＯ2Ｈ） 計算値： ２９０．０６３５， 実測
値： ２９０．０６５６． 元素分析 （Ｃ17Ｈ14ＣｌＦ3Ｎ2Ｏ4） 計算値：
Ｃ；５０．７０，Ｈ；３．５０，Ｎ；６．９６， 実測
値： Ｃ；５０．５６，Ｈ；３．４４，Ｎ；６．７４．
【０１４６】実施例１４
【０１４７】
【化４３】
【０１４８】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（１２．３ｍｇ，０．０３５０ｍｍｏ
ｌ）、７−オキソ−１−ｐ−トルエンスルホニル−４，
５，６，７−テトラヒドロインドール［参考文献：Ｊ．
Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４８，３２１４（１９８３）］（２
０．２ｍｇ，０．０６９８ｍｍｏｌ）、及びオルトギ酸
トリメチル（０．１０ｍＬ，０．９２ｍｍｏｌ）のメタ
ノール（０．３５ｍＬ）溶液にカンファースルホン酸
（１．６ｍｇ，０．００６８ｍｍｏｌ）を加え室温で７
時間かきまぜた。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３
−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリ
ル）−３−メトキシ−２−（１−ｐ−トルエンスルホニ
ル−４，５−ジヒドロインドール−７−イル）フラン
（１．５５ｍｇ，０．００２４９ｍｍｏｌ）を７％の収
率で得た。
【０１４９】ＴＬＣ Ｒf ０．４５（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．７２（ｓ，３Ｈ），１．７４（ｓ，３Ｈ），１．７
８〜２．０１（ｍ，４Ｈ），３．５２（ｓ，３Ｈ），
５．８４（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），５．９８
（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），６．３２（ｔ，Ｊ＝
５．１Ｈｚ，１Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，
２Ｈ），６．６１（ｓ，１Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，
１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），７．
６２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ
＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ２９３０（ｍ），２８
６０（ｗ），１７４０（ｗ），１７３０（ｗ），１６０
０（ｗ），１４８０（ｗ），１３８０（ｍ），１１８０
（ｓ），１１３５（ｍ），８１５（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ６２４（Ｍ，１
５），６２２（Ｍ，３０），４６９（１８），４６７
（４３），３１４（８），３１３（１４），３１２（２
０），１４４（２６），９１（１００）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ31Ｈ27ＣｌＮ2Ｏ6Ｓ2） 計算
値： ６２２．０９９６，実測値： ６２２．０９７
２．
【０１５０】実施例１５
【０１５１】
【化４４】
【０１５２】アルゴン気流中、室温で５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（１５．６ｍｇ，０．０４４３ｍｍｏ
ｌ）、１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−７−オキソ
−４，５，６，７−テトラヒドロインドール［参考文
献：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４８，３２１４（１９８
３）］（２０．９ｍｇ，０．０８３３ｍｍｏｌ）、及び
オルトギ酸トリメチル（０．０５０ｍＬ，０．４６ｍｍ
ｏｌ）のメタノール（０．３５ｍＬ）溶液にカンファー
スルホン酸（２．１ｍｇ，０．００９０ｍｍｏｌ）を加
え室温で２時間かきまぜた。反応混合物を減圧下濃縮
し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン
／酢酸エチル ２：１，１％トリエチルアミン）で精製
して２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４，５
−ジヒドロインドール−７−イル）−５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（６．４ｍｇ，０．０１１ｍｍｏｌ）を
２５％の収率で得た。
【０１５３】ＴＬＣ Ｒf ０．７０（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．２６（ｓ，９Ｈ），１．７８（ｓ，３Ｈ），２．０
５〜２．１７（ｍ，２Ｈ），２．２８〜２．３６（ｍ，
２Ｈ），３．２６（ｓ，３Ｈ），６．０１（ｄ，Ｊ＝
３．５Ｈｚ，１Ｈ），６．０４（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，
１Ｈ），６．３３（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），６．
４４（ｓ，１Ｈ），６．６５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２
Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３
５（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ２９４０（ｍ），１７
４５（ｓ），１７３０（ｗ），１７１５（ｗ），１６３
５（ｗ），１６００（ｗ），１５６５（ｗ），１４７０
（ｗ），１３７５（ｖｓ），１３３５（ｍ），１３１０
（ｍ），１２６０（ｍ），１２１５（ｗ），１１８０
（ｓ），１１６０（ｓ），１１４０（ｍ），１１００
（ｗ），１０７０（ｗ），１０３０（ｍ），９１０
（ｗ），８５０（ｗ），８２０（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ５７０（Ｍ，１
２），５６８（Ｍ，３０），４７０（１３），４６８
（３５），３１５（３４），３１３（９９），１４４
（３３），９１（４８），５７（１００）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ29Ｈ29ＣｌＮ2Ｏ6Ｓ） 計算値：
５６８．１４３２，実測値： ５６８．１４２３．
（Ｃ29Ｈ29Ｃｌ*Ｎ2Ｏ6Ｓ） 計算値： ５７０．１４
０３， 実測値： ５７０．１４０２．
【０１５４】実施例１６
【０１５５】
【化４５】
【０１５６】アルゴン気流中、室温で２−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル−４，５−ジヒドロインドール
−７−イル）−５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンス
ルホニル−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（２．
６ｍｇ，０．００４６ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸
（０．１ｍＬ）に溶解し、室温で３．５時間かきまぜ
た。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水中にあけ、
エーテルで３回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後エバポレータで濃縮した。残渣をシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１）で精製して５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエ
ンスルホニル−２−ピロリル）−２−（４，５−ジヒド
ロインドール−７−イル）−３−メトキシフラン（１．
６ｍｇ，０．００３４ｍｍｏｌ）を７４％の収率で得
た。
【０１５７】ＴＬＣ Ｒf ０．５５（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
２．４２〜２．５１（ｍ，２Ｈ），２．７４（ｔ，Ｊ＝
８．３Ｈｚ，２Ｈ），３．２０（ｓ，３Ｈ），５．９６
（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），６．２２（ｔ，Ｊ＝
２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．２７（ｓ，１Ｈ），６．４４
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），６．４８（ｔ，Ｊ＝
５．３Ｈｚ，１Ｈ），６．５４（ｔ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，
１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ），７．
３２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３６８０〜３１００
（ｂｒ ｍ），２９４０（ｍ），２８６０（ｗ），１５
６５（ｍ），１４６５（ｗ），１３８０（ｓ），１３０
０（ｍ），１１８０（ｓ），１１４０（ｓ），１０９５
（ｗ），１０７０（ｗ），１０３０（ｗ），９００
（ｗ），８２０（ｍ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ４７０（Ｍ，２
０），４６８（Ｍ，５４），４６６（１５），３１５
（２６），３１４（３２），３１３（７９），３１１
（３６），１４４（５０），９１（１００）．
【０１５８】実施例１７
【０１５９】
【化４６】
【０１６０】アルゴン気流中、室温で２−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル−４，５−ジヒドロインドール
−７−イル）−５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンス
ルホニル−２−ピロリル）−３−メトキシフラン（２．
３ｍｇ，０．００４０ｍｍｏｌ）のメタノール（０．１
ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１１．２ｍｇ，０．０８１
ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間かきまぜた。反応混合
物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラ
フィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：１，１％トリエチル
アミン）で精製して２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−４，５−ジヒドロインドール−７−イル）−５
−（３−クロロ−２−ピロリル）−３−メトキシフラン
（０．７５ｍｇ，０．００１８ｍｍｏｌ）を４５％の収
率で得た。
【０１６１】ＴＬＣ Ｒf ０．７０（ヘキサン／酢酸
エチル ２：１）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，Ｃ6Ｄ6）δ
１．１２（ｓ，９Ｈ），２．１２〜２．４３（ｍ，４
Ｈ），３．３８（ｓ，３Ｈ），５．９７（ｔ，Ｊ＝３．
０Ｈｚ，１Ｈ），６．０９（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１
Ｈ），６．１０（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５
６（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｓ，１
Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ），８．１
６（ｂｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３１００（ｍ），２９
３０（ｍ），２８６０（ｗ），１７４０（ｗ），１７２
５（ｗ），１６７５（ｖｓ），１６３０（ｍ），１５６
５（ｍ），１５３０（ｗ），１４６５（ｍ），１３７５
（ｓ），１３４５（ｍ），１２６０（ｍ），１１６０
（ｓ），１０３５（ｍ），１０２０（ｍ），８９０
（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ４１６（Ｍ，
９），４１４（Ｍ，２５），３５８（６），３１６（１
５），３１４（４４），３０１（５），２９９（１
４），５７（１００）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ22Ｈ23ＣｌＮ2Ｏ4） 計算値：
４１４．１３４５， 実測値： ４１４．１３４８．
【０１６２】実施例１８
【０１６３】
【化４７】
【０１６４】アルゴン気流中、室温で２−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル−４，５−ジヒドロインドール
−７−イル）−５−（３−クロロ−２−ピロリル）−３
−メトキシフラン（６．３ｍｇ，０．０１５ｍｍｏｌ）
の重クロロホルム（０．４０ｍＬ）溶液をＮＭＲチュー
ブに移し、トリフルオロ酢酸（０．０５０ｍＬ）を加え
た。２３時間後、ＮＭＲで原料の消失を確認したのち反
応混合物を減圧下濃縮し、５−（３−クロロ−２−ピロ
リル）−２−（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−インドール−
７−イル）−３−メトキシフランのトリフルオロ酢酸塩
（０．８３ｍｇ，０．００１９ｍｍｏｌ）を１３％の収
率で得た。
【０１６５】ＴＬＣ Ｒf ０．２５（クロロホルム／
メタノール ９：１，１％トリフルオロ酢酸）．1 ＨＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ
２．０４（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），
２．８５（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．１３
（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），４．１９（ｓ，３
Ｈ），６．３３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．４０（ｔ，Ｊ
＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｓ，１Ｈ），７．３
８〜７．４２（ｍ，１Ｈ），８．１５〜８．１８（ｍ，
１Ｈ），１２．７９（ｂｒ，１Ｈ），１４．３０（ｂ
ｒ，１Ｈ）． ＩＲスペクトル （ｎｅａｔ） ３６００〜３０５０
（ｂｒ ｍ），２９４０（ｍ），２８７０（ｗ），１６
９０（ｍ），１５６５（ｗ），１５５０（ｍ），１５３
０（ｗ），１５１５（ｗ），１４６５（ｍ），１４３０
（ｗ），１３９０（ｗ），１３７０（ｗ），１３００
（ｗ），１２６５（ｗ），１２１０（ｗ），１１８０
（ｗ），１１３０（ｍ），１０７５（ｗ），１０３０
（ｗ），１０００（ｗ），８９０（ｗ）ｃｍ-1． 低分解能 ＭＳ ｍ／ｅ（相対比） ３１６（Ｍ−ＣＦ
3ＣＯ2Ｈ，３７），３１４（Ｍ−ＣＦ3ＣＯ2Ｈ，１０
０），３１２（５０），３０１（７），２９９（２
０），２９７（１４），１４４（７５）． 高分解能 ＭＳ （Ｃ17Ｈ15ＣｌＮ2Ｏ2，Ｍ−ＣＦ3Ｃ
Ｏ2Ｈ） 計算値： ３１４．０８２０， 実測値：
３１４．０８１７． （Ｃ17Ｈ15Ｃｌ*Ｎ2Ｏ2，Ｍ−Ｃ
Ｆ3ＣＯ2Ｈ） 計算値： ３１６．０７９１， 実測
値： ３１６．０８２５．
【０１６６】試験例 （悪性腫瘍細胞増殖抑制試験） マウスリンパ性白血病細胞（Ｐ３８８）を２−ヒドロキ
シエチルジスルフィド５μＭ、硫酸カナマイシン１００
μｇ／ｍＬを添加した１０％牛胎児血清含有のＲＰＭＩ
−１６４０培地に加え、培養細胞を１ｘ１０4個／ｍＬ
に調整した。これに本発明の化合物である一般式［Ｉ］
および［ＩＩ］で表される２−置換−３−アルコキシ−
５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体を所定の濃度
になるように添加し、ＣＯ2培養器（ＣＯ2５％，湿度１
００％，３７℃）で４日間培養した。ＭＴＴ比色法によ
り生存細胞数を計測して、対照群に対する増殖阻害率か
ら５０％細胞増殖阻害濃度（ＩＣ50）を求めた。結果を
表１および表２に示す。
【０１６７】表１．マウスリンパ性白血病細胞（Ｐ３８
８）に対する５０％増殖阻害濃度
【０１６８】
【表１】
【０１６９】表２．マウスリンパ性白血病細胞（Ｐ３８
８）に対する５０％増殖阻害濃度
【０１７０】
【表２】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年５月２４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２８】
【化２１】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】第１工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される４−アルコキシ
−２−（ピロール−２−イル）フラン誘導体（参考例参
照）のアミノ基の保護基であるスルホニル基を除去し、
生成した一般式［ＩＶ］で表される４−アルコキシ−２
−（ピロール−２−イル）フラン誘導体（参考例参照）
を単離することなく一般式［Ｖ］で表されるアルデヒド
と反応させ、本発明の化合物である一般式［Ｉａ］で表
される２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２
−イル）フラン誘導体を製造するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】第５工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される４−アルコキシ
−２−（ピロール−２−イル）フラン誘導体のアミノ基
の保護基であるスルホニル基を除去し、生成した一般式
［ＩＶ］で表される４−アルコキシ−２−（ピロール−
２−イル）フラン誘導体を単離することなく一般式［Ｖ
ＩＩ］で表されるケトンと縮合させ、本発明の化合物で
ある一般式［Ｉｅ］で表される２−置換−３−アルコキ
シ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体を製造す
るものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４５】第６工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される４−アルコキシ
−２−（ピロール−２−イル）フラン誘導体と一般式
［ＶＩＩＩ］で表される２−アセチルピロール誘導体を
オルトギ酸トリメチルと酸の存在下に縮合させ、本発明
の化合物である一般式［Ｉｆ］で表される２−置換−３
−アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導
体を製造するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５４】第１０工程 本工程は、一般式［ＩＩＩ］で表される４−アルコキシ
−２−（ピロール−２−イル）フラン誘導体と一般式
［ＩＸ］で表されるテトラヒドロインドール誘導体をオ
ルトギ酸トリメチルと酸の存在下に縮合させ、本発明の
化合物である一般式［Ｉｉ］で表される２−置換−３−
アルコキシ−５−（ピロール−２−イル）フラン誘導体
を製造するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００８８】アルゴン気流中、室温で３−クロロ−２−
［１，３−ジオキソ−４−（テトラヒドロ−２−ピラニ
ルオキシ）ブチル］−１−ｐ−トルエンスルホニルピロ
−ル（９３．９ｍｇ，０．２１３ｍｍｏｌ）のメタノ−
ル（２．１ｍＬ）溶液にカンファースルホン酸（９．９
ｍｇ，０．０４３ｍｍｏｌ）を加え室温で１３時間かき
まぜた。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水中にあ
けエ−テルで３回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシ
ウムで乾燥したのちエバポレ−タで濃縮した。残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して２−（３
−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリ
ル）−４−メトキシフラン（５６．７ｍｇ，０．１６１
ｍｍｏｌ）を７６％の収率で得た。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００９２】アルゴン気流中、室温で２−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−４−
メトキシフラン（２６．９ｍｇ，０．０７６５ｍｍｏ
ｌ）のメタノ−ル（０．８ｍＬ）溶液に炭酸カリウム
（１０６ｍｇ，０．７６７ｍｍｏｌ）を加え室温で２３
時間かきまぜた。反応混合物を飽和食塩水中にあけエー
テルで３回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで
乾燥したのちエバポレ−タで濃縮した。残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル２：
１，１％トリエチルアミン）で精製して２−（３−クロ
ロ−２−ピロリル）−４−メトキシフラン（１０．８ｍ
ｇ，０．０５４７ｍｍｏｌ）を７１％の収率で得た。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００９６】アルゴン気流中、室温で２−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−４−
メトキシフラン（１７．８ｍｇ，０．０５０６ｍｍｏ
ｌ）のメタノ−ル（０．５ｍＬ）溶液に炭酸カリウム
（３５．０ｍｇ，０．２５３ｍｍｏｌ）を加え室温で１
７時間かきまぜた。ＴＬＣで２−（３−クロロ−２−ピ
ロリル）−４−メトキシフランの生成を確認した後、シ
クロヘキサンカルボキシアルデヒド（３０．６μＬ，
０．２５３ｍｍｏｌ）を加え室温でさらに１１時間かき
まぜた。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：
１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−クロ
ロ−２−ピロリル）−２−（シクロヘキシルヒドロキシ
メチル）−３−メトキシフラン（８．１ｍｇ，０．０２
６ｍｍｏｌ）を５２％の収率で得た。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１１２】２−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−２−ピロリル）−４−メトキシフラン（１４．
２ｍｇ，０．０４０４ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン
（０．０８４ｍＬ，０．８１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム
（２７．９ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、およびメタノー
ル（０．４ｍＬ）の混合物を封管中、１００℃で１７時
間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−
クロロ−２−ピロリル）−２−（１−シクロヘキセニ
ル）−３−メトキシフラン（３．８ｍｇ，０．０１３６
ｍｍｏｌ）を３４％の収率で得た。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１１６】２−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−２−ピロリル）−４−メトキシフラン（１２．
５ｍｇ，０．０３５５ｍｍｏｌ）、シクロヘプタノン
（０．０８４ｍＬ，０．７１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム
（２４．６ｍｇ，０．１７８ｍｍｏｌ）、およびメタノ
ール（０．４ｍＬ）の混合物を封管中、１００℃で２４
時間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３
−クロロ−２−ピロリル）−２−（１−シクロヘプテニ
ル）−３−メトキシフラン（６．４ｍｇ，０．０２２ｍ
ｍｏｌ）を６２％の収率で得た。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１２０】２−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−２−ピロリル）−４−メトキシフラン（１１．
５ｍｇ，０．０３２７ｍｍｏｌ）、シクロオクタノン
（８２．６ｍｇ，０．６５４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム
（２２．６ｍｇ，０．１６４ｍｍｏｌ）、およびメタノ
ール（０．３ｍＬ）の混合物を封管中、１２０℃で３日
間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３−
クロロ−２−ピロリル）−２−（１−シクロオクテニ
ル）−３−メトキシフラン（３．７ｍｇ，０．０１２１
ｍｍｏｌ）を３７％の収率で得た。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１２４】アルゴン気流中、室温で２−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−４−
メトキシフラン（１２．７ｍｇ，０．０３６１ｍｍｏ
ｌ）、２−アセチル−１−ｐ−トルエンスルホニルピロ
ール（１９．０ｍｇ，０．０７２２ｍｍｏｌ）、及びオ
ルトギ酸トリメチル（０．０５０ｍＬ，０．４６ｍｍｏ
ｌ）のメタノール（０．３６ｍＬ）溶液にカンファース
ルホン酸（４．２ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）を加え室
温で４時間かきまぜた。反応混合物をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル ２：１）で精
製して５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル
−２−ピロリル）−３−メトキシ−２−［１−（１−ｐ
−トルエンスルホニル−２−ピロリル）エテニル］フラ
ン（７．１ｍｇ，０．０１１９ｍｍｏｌ）を３３％の収
率で得た。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１２８】アルゴン気流中、室温で２−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−４−
メトキシフラン（１７．９ｍｇ，０．０５０９ｍｍｏ
ｌ）、２−アセチル−１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルピロール（２１．３ｍｇ，０．１０２ｍｍｏｌ）、及
びオルトギ酸トリメチル（０．０５０ｍＬ，０．４６ｍ
ｍｏｌ）のメタノール（０．５ｍＬ）溶液にカンファー
スルホン酸（２．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）を加え
室温で４時間かきまぜた。反応混合物を減圧下濃縮し、
残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢
酸エチル ２：１）で精製して２−［１−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル−２−ピロリル）エテニル］−
５−（３−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−
ピロリル）−３−メトキシフラン（１２．１ｍｇ，０．
０２２３ｍｍｏｌ）を４４％の収率で得た。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１４８】アルゴン気流中、室温で２−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−４−
メトキシフラン（１２．３ｍｇ，０．０３５０ｍｍｏ
ｌ）、７−オキソ−１−ｐ−トルエンスルホニル−４，
５，６，７−テトラヒドロインドール［参考文献：Ｊ．
Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４８，３２１４（１９８３）］（２
０．２ｍｇ，０．０６９８ｍｍｏｌ）、及びオルトギ酸
トリメチル（０．１０ｍＬ，０．９２ｍｍｏｌ）のメタ
ノール（０．３５ｍＬ）溶液にカンファースルホン酸
（１．６ｍｇ，０．００６８ｍｍｏｌ）を加え室温で７
時間かきまぜた。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル
２：１，１％トリエチルアミン）で精製して５−（３
−クロロ−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリ
ル）−３−メトキシ−２−（１−ｐ−トルエンスルホニ
ル−４，５−ジヒドロインドール−７−イル）フラン
（１．５５ｍｇ，０．００２４９ｍｍｏｌ）を７％の収
率で得た。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１５２】アルゴン気流中、室温で２−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−４−
メトキシフラン（１５．６ｍｇ，０．０４４３ｍｍｏ
ｌ）、１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−７−オキソ
−４，５，６，７−テトラヒドロインドール［参考文
献：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４８，３２１４（１９８
３）］（２０．９ｍｇ，０．０８３３ｍｍｏｌ）、及び
オルトギ酸トリメチル（０．０５０ｍＬ，０．４６ｍｍ
ｏｌ）のメタノール（０．３５ｍＬ）溶液にカンファー
スルホン酸（２．１ｍｇ，０．００９０ｍｍｏｌ）を加
え室温で２時間かきまぜた。反応混合物を減圧下濃縮
し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィ（ヘキサン
／酢酸エチル ２：１，１％トリエチルアミン）で精製
して２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４，５
−ジヒドロインドール−７−イル）−５−（３−クロロ
−１−ｐ−トルエンスルホニル−２−ピロリル）−３−
メトキシフラン（６．４ｍｇ，０．０１１ｍｍｏｌ）を
２５％の収率で得た。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1は水素原子またはＳＯ2Ｒ3もしくはＣＯ2Ｒ
    4で表される基（ただし、Ｒ3およびＲ4は各々、炭素数
    １〜５の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、置換もしく
    は無置換のアラルキル基、または置換もしくは無置換の
    アリ−ル基を表す）を表し、Ｒ2は炭素数１〜５の直鎖
    状もしくは分岐状アルキル基、置換もしくは無置換のア
    ラルキル基、または置換もしくは無置換のアリ−ル基を
    表し、Ｘはハロゲン原子を表す。Ａは下記一般式 【化２】 （式中、ｎは０〜３の整数を表す）、または下記一般式 【化３】 （式中、ｎは０〜３の整数を表す）、または下記一般式 【化４】 （式中、ｎは０〜３の整数を表す）、または下記一般式 【化５】 （式中、Ｒ5は水素原子またはＳＯ2Ｒ6もしくはＣＯ2Ｒ
    7で表される基（ただし、Ｒ6およびＲ7は各々、炭素数
    １〜５の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、置換もしく
    は無置換のアラルキル基、または置換もしくは無置換の
    アリ−ル基を表す））、あるいは下記一般式 【化６】 （式中、Ｒ5は前記と同様である）を表す］で表される
    ２−置換−３−アルコキシ−５−（ピロール−２−イ
    ル）フラン誘導体。
  2. 【請求項２】 下記一般式 【化７】 ［式中、Ｒ2は炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状ア
    ルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または
    置換もしくは無置換のアリ−ル基を表し、Ｘはハロゲン
    原子を表す。Ａは下記 【化８】 で表される１−（２Ｈ−ピロール−２−イリデン）エチ
    ル基、または下記 【化９】 で表される５，６−ジヒドロ−４Ｈ−インドール−７−
    イル基］で表される２−置換−３−アルコキシ−５−
    （ピロール−２−イル）フラン誘導体、またはその薬学
    的に許容しうる塩。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007500204A (ja) * 2003-05-26 2007-01-11 武田薬品工業株式会社 スルホピロール
WO2007114338A1 (ja) * 2006-03-31 2007-10-11 Takeda Pharmaceutical Company Limited 酸分泌抑制薬
US8895588B2 (en) 2009-03-26 2014-11-25 Takeda Pharmaceutical Company Limited Pyrazole compound

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