JPH09501686A - ピラゾールおよびその誘導体の製造方法 - Google Patents

ピラゾールおよびその誘導体の製造方法

Info

Publication number
JPH09501686A
JPH09501686A JP7507321A JP50732195A JPH09501686A JP H09501686 A JPH09501686 A JP H09501686A JP 7507321 A JP7507321 A JP 7507321A JP 50732195 A JP50732195 A JP 50732195A JP H09501686 A JPH09501686 A JP H09501686A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrazine
iodine
iii
reaction mixture
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7507321A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3717177B2 (ja
Inventor
メルクレ,ハンス,ルペルト
フレチュナー,エーリヒ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JPH09501686A publication Critical patent/JPH09501686A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3717177B2 publication Critical patent/JP3717177B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/12Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/56Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D249/081,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 式(I) で表わされ、かつR1、R2、R3、R4がそれぞれ水素、ハロゲン、ニトロ、カルボキシル、スルホニルまたは炭素有機基を意味するピラゾールおよびその誘導体を、式(II) のα,β−不飽和カルボニル化合物および式(III)H2N−NHR4 (III)のヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体と反応させることにより製造する方法は公知である。本発明方法は、この方法において、当初は追加的希釈剤を添加することなく、α,β−不飽和カルボニル化合物(II)と、ヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体(III)とを反応させ、生成反応混合物を、別個の工程において燐酸と、沃素あるいは沃素もしくは沃化水素をもたらす化合物の混合物と反応させることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】 ピラゾールおよびその誘導体の製造方法 本発明は式(I) で表わされ、かつR1、R2、R3、R4がそれぞれ水素、ハロゲン、ニトロ、カル ボキシル、スルホニルまたは炭素有機基を意味するピラゾールおよびその誘導体 を、 式(II) のα,β−不飽和カルボニル化合物および式(III) H2N−NHR4 (III) のヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体と反応させることにより製造する方法に 関する。 ヨーロッパ特願公開402722号公報から、ピラゾー ルおよびその誘導体を、α,β−不飽和カルボニル化合物と、ヒドラジンまたは ヒドラジン誘導体とから製造する方法は公知である。これに記載されている方法 では、ピラゾリンまたはカルボニル化合物とヒドラジン誘導体は、硫酸と沃素、 あるいは沃素と沃化水素を遊離する化合物との混合物中において、直ちに所望の ピラゾールに転化せしめられる。しかしながら、これに記載されている実施例に よれば、その収率は使用されるヒドラジン誘導体に対して平均78%とされてい る。 そこで本発明により解決されるべき課題は、さらに簡単な態様で、さらに良好 な収率および純度を達成しようとすることである。 しかるにこの課題は、式(I) で表わされ、かつR1、R2、R3、R4がそれそれ水素、ハロゲン、ニトロ、カル ボキシル、スルホニルまたは炭素有機基を意味するピラゾールおよびその誘導体 を、 式(II) で表わされる、α,β−不飽和カルボニル化合物および、 式(III)、 H2N−NHR4 (III) のヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体と反応させることにより製造する方法で あって、希釈剤を添加することなく、まず式(II)のα,β−不飽和カルボニ ル化合物と、式(III)のヒドラジンまたはヒドラジン誘導体とを反応させ、 これにより得られた反応混合物を、さらに次の反応工程において、硫酸と沃素の 混合物、または沃素と沃化水素を遊離する化合物の混合物と反応させることを特 徴とする方法により解決されることが本発明者らにより見出された。 この方法において、まずα,β−不飽和カルボニル化合物(II)をヒドラジ ンまたはヒドラジン誘導体(III)と混合するが、その間反応媒体の温度を0 ℃から100℃、好ましくは10℃から70℃、ことに20℃から50℃に維持 する。α,β−不飽和カルボニル化合物(II)と、ヒドラジンもしくはヒドラ ジン誘導体(III)と の反応は発熱を伴うので、混合の間、反応混合物を冷却する必要がある。混合に 際して反応材料のいずれをまず反応器中に装填するか、あるいは両出発材料を同 時にもしくは別個に装填するのかは重要なことではない。これまでの知見では、 後攪拌処理を長く行なっても、完全な反応のための本質的影響は余りないとのこ とであるが、なお混合を完全ならしめるため、材料添加終了後も、なお10から 60分間、混合温度において攪拌を継続するのが好ましい。 出発材料は一般的にほぼ化学量論的量で使用され、カルボニル化合物(II) のヒドラジン誘導体(III)に対する割合は、1:0.65モルから1:1. 25モルである。他の使用量割合は、反応に本質的影響を及ぼさず、また経済的 にも無意味である。 ヒドラジンまたはヒドラジン誘導体(III)は、またヒドラートまたは遊離 塩基、あるいはさらに対応するヒドラゾニウム塩の形態でも使用され得る。反応 媒体に不溶性の塩が使用される場合、不充分な混合が収率の低下を招来するおそ れがある。ヒドラジン誘導体(III)のヒドラートまたは遊離塩基を使用する のが好ましい。 本発明は、原則として、まずヒドラジンと、α,β−不飽和カルボニル化合物 との反応により対応するピラゾリンと2次的生成物が形成されることを基礎とす る。反応水を後処理蒸留により除去して、余り高くはない収率 でピラゾリンを得る。このピラゾリンはピラゾリンを当初のカルボニル化合物に 付加することにより生成され、次いでヒドラジンと反応してヒドロゾンおよびア ジンを形成するべき副生成物を伴うからである。 このようにして得られる反応生成物は、これを後処理することなく、そのまま 硫酸と沃素、または沃素、沃化水素をもたらす化合物との混合物と反応せしめら れる。この反応を生起させるために、ヨーロッパ特願公開402722号公報に 記載されているように、すなわち硫酸と沃素との混合物または沃素、沃化水素を もたらす化合物との混合物を、50℃から250℃、好ましくは70℃から20 0℃、ことに100℃から180℃に加熱し、これに第1工程における反応混合 物をこの温度において添加する。 第1工程で得られる反応混合物を、上記の硫酸と沃素、または沃素ないし沃化 水素をもたらすべき化合物との混合物に、さらに低い温度、例えば10から30 ℃で添加することもできる。しかしながら、技術的観点からしてこの添加温度は 高い方が好ましい。低温の場合、攪拌により塩が形成され、反応混合物の攪拌が 困難になるからである。もっとも、これまでに得られている知見によれば、この 添加の際の温度自体が、反応収率に影響を及ぼすことはない。 この第2工程は、本質的に上述したヨーロッパ特願公開402722号公報に 記載されている反応と同じ原理 によるべきものと考えられる。これによれば、硫酸は30重量%を下廻らない濃 度で使用されるべきであり、40から99重量%、ことに45から95重量%の 高濃度が好ましい。 この反応において、沃素のまたは沃素もしくは沃化水素をもたらすべき化合物 の使用量は、ヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体(III)に対して、一般的 に0.01から10モル%、好ましくは0.05から5モル%、ことに0.1か ら2モル%である。 沃素と沃化水素のほかに、沃素ないし沃化水素をもたらすべき適当な化合物は 、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属の沃化物、例えばリチウム、ナトリウ ム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウムの沃化物、ならびにその他 の金属の沃化物である。原則的には、反応条件下に沃素もしくは沃化水素を遊離 してもたらすべきあらゆる化合物が使用され得る。これには有機沃素化合物、例 えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、その他の金属の次亜沃素酸塩、亜沃素酸 塩、沃素酸塩、過沃素酸塩または、沃素有機化合物、例えばメチルヨジドのよう なアルキルヨジドが含まれる。 沃化物を脱水素ないし酸化して沃素化するための好ましい温度は、硫酸の濃度 に依存することが明らかにされている。すなわち、反応に必要な温度は、硫酸濃 度が低下するに従って上昇する。そこで反応水および水化物の 使用により導入される水を蒸留により除去し、反応の間の温度をなるべく低く維 持するのが好ましい。 反応から除かれる水は、沃素、沃化水素として添加される沃化物を多量に含有 しているが、これらは例えば次亜硫酸ナトリウムによる中和、還元により回収さ れ得る。 反応完結後、反応混合物を冷却すると、ピラゾール誘導体は、一般に硫酸塩と して晶出する。 ピラゾールを遊離させるため、反応混合物は中和され、中和混合物は、水と混 合しない不活性有機溶媒により抽出される。この有機相は乾燥および慣用の後処 理に附される。これにより、唯1回の蒸留で純度85−90%の粗ピラゾールは 純度99%にまで精製され得る。 上述した方法は、一般式(I) で表され、かつR1、R2、R3、R4が相互に無関係に、それぞれ水素、ハロゲン (ことに弗素、塩素、臭素)、ニトロ、カルボキシル、スルホニルまたは炭素有 機基を意味する場合のピラゾールおよびその誘導体を製造するのに適する。 上記の炭素有機基としては、直鎖もしくは分岐C1−C10アルキル、好ましく はC1−C8アルキルが挙げら れる。これらアルキル基自体、窒素、酸素、硫黄のようなヘテロ原子で中断され ていてもよく、またニトロ、カルボキシル、スルホニル、ハロゲン、シクロアル キル、ビシクロアルキル、アリール、ヘトアリールにより置換されていてもよい 。 さらに、上記シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、例えばC3−C8シクロ アルキル基、C6−C10ビシクロアルキル基自体が、また窒素、酸素、硫黄のよ うなヘテロ原子で中断され、あるいはニトロ、カルボキシル、スルホニル、ハロ ゲン、アルキル、シクロアルキル、ビシクロアルキル、アリール、ヘトアリール により置換されていてもよい。 さらに上述の、アリール、ヘトアリール、例えばフェニル、ナフチル、ピリジ ル自体がまたニトロ、カルボキシル、スルホニル、ハロゲン、アルキル、シクロ アルキル、ビシクロアルキル、アリール、ヘトアリールにより置換されていても よい。 上述した本発明方法はR1からR4の少なくとも1個が水素を意味する場合のピ ラゾール誘導体(I)を製造するのにことに適する。 ピラゾールおよびその誘導体は、薬学的有効化合物、栽培植物保護剤(例えば 殺菌剤、除草剤、殺虫剤)有効化合物、さらには染料などの着色剤化合物を製造 するための中間生成物として使用される。 実施例 (1)3−メチルピラゾールの製造 (1.a)クロトンアルデヒドとヒドラジンヒドラートの反応 115g(2.3モル)のヒドラジンヒドラートに169.1g(2.415 モル)のクロトンアルデヒドを添加し、その間温度を30℃に冷却、維持した。 添加終了後、25から35℃でさらに30分間反応混合物を攪拌した。 (1.b)3−メチルピラゾールへの転化 720.8g(5.06モル)の68.8%濃度硫酸と0.76g(5.1ミ リモル)のナトリウムヨジドとの混合物を155℃に加熱し、この温度で上記( 1.a)項で得た混合物を添加した。この添加の間と、さらに添加後の30分間 にわたり、生成水分を蒸留除去し、この水分を、反応混合物を70℃まで冷却し た後、希釈のために再使用した。 希釈反応混合物を15%苛性ソーダ液で中和してpH値を8.5から9に調整 した。この中和により、生成物の大部分は油状体として析出し、傾瀉により分離 された。水性相をイソブタノールで抽出し、次いで合併有機相を蒸留により後処 理して、99%純度(HPLC法)の3−メチルピラゾール172.5g(使用 したヒドラジンヒドラートに対して90.55%)を得た。kp.88℃/10 ミリバール。 (2)4−メチルピラゾールの製造 (2.a)メタクロレイン(メタクリルアルデヒド)とヒドラジンヒドラート の反応 115g(2.3モル)のヒドラジンヒドラートに177.1g(2.53モ ル)のメタクロレインを添加し、その間温度を30℃に冷却、維持した。添加終 了後、25℃から35℃において反応混合物をさらに30分間攪拌した。 (2.b)4−メチルピラゾールへの転化 720.8g(5.06モル)の68.8%濃度硫酸と1.00g(6.7ミ リモル)の沃化ナトリウムとの混合物を155℃に加熱し、この温度において、 前記(2.a)項で得た混合物を添加した。この添加の間および添加後30分間 において、生成水分を蒸留除去した。この分離水分は、反応混合物を50℃に冷 却した後、混合物希釈のために再使用した。 この希釈反応混合物を、15%苛性ソーダ液で中和し、pH値を8.5に調整 した。この中和により、反応生成物の大部分は油状体として析出し、傾瀉により 分離され得た。水性相をイソブタノールで抽出し、次いで合併有機相を後処理蒸 留して、純度99.2%(HPLC法)の4−メチルピラゾール170.5g( 使用したヒドラジンヒドラートに対して88.52%)を得た。kp.82℃/ 7ミリバール。 (3)3,4−ジメチルピラゾールの製造 (3.a)トランス−2,3−ジメチルアクロレインとヒドラジンヒドラート の反応 15.6g(0.25モル)の80%ヒドラジンヒドラートに、22.1g( 0.2625モル)のトランス−2,3−ジメチルアクロレインを添加し、この 間温度を30℃に冷却、維持した。添加終了後、反応混合物を25から30℃に おいてさらに30分間攪拌した。 (3.b)3,4−ジメチルピラゾールへの転化 74.2g(0.52モル)の68.8%濃度硫酸と0.5g(3.3ミリモ ル)の沃化ナトリウムとの混合物を155℃に加熱し、この温度において、上記 (3.a)項で得た混合物を添加した。この添加の間および添加終了後30分間 にわたり、生成水分を蒸留により除去した。この分離水分は、反応混合物を50 ℃に冷却した後、この希釈のために再使用した。 希釈された反応混合物を、15%苛性ソーダ液で中和し、pH値8.5に調整 した。この中和により、生成目的物の大部分は油状体として析出し、傾瀉により 分離され得た。水性相をイソブタノールにより抽出し、合併有機相を蒸留後処理 に附し、純度99.2%の3,4−ジメチルピラゾール21.4g(使用したヒ ドラジンヒドラートに対して88.4%)を得た。kp.96℃/10ミリバー ル。 (4)1,5−ジメチルピラゾールの製造 (4.a)クロトンアルデヒドとメチルヒドラジンの反応 92g(2モル)のメチルヒドラジンに、147g(2.1モル)のクロトン アルデヒドを添加し、その間上昇する反応温度を30℃に冷却、維持した。添加 終了後、反応混合物を25℃から30℃においてさらに30分間攪拌した。 (4.b)1,5−ジメチルピラゾールへの転化 626.7g(4.4モル)の68.8%濃度硫酸と0.66g(4.4ミリ モル)の沃化ナトリウムとの混合物を155℃に加熱し、この温度で上記(4. a)項で得られた混合物を添加した。この添加の間および添加終了後30分の間 、生成水分を蒸留除去した。これにより分離された水分は、反応混合物を70℃ まで冷却した後、その希釈のために再使用した。 希釈された反応混合物を15%苛性ソーダ液で中和してpH値8.5から9に 調整した。これにより生成物の大部分が油状体として析出し、傾瀉により簡単に 分離された。水性相をブタノールにより抽出し、合併抽出物を蒸留処理に附して 、純度99.2%の167.8gの1,5−ジメチルピラゾール(使用したメチ ルヒドラジンに対して86.7%)を得た。kp.157℃/1013ミリバー ル。 (5)3−メチルピラゾールの製造 (5.a)クロトンアルデヒドとヒドラジンヒドラートの反応 125g(2.0モル)の80%濃度ヒドラジンヒドラートにクロトンアルデ ヒド147g(2.1モル)を添加し、この間反応混合物の上昇する温度を冷却 して30℃に維持した。添加終了後、混合物を25℃から30℃において、さら に30分間攪拌した。 (5.b)3−メチルピラゾールへの転化 449.2g(4.4モル)の95%硫酸と0.66g(4.4ミリモル)の 沃化ナトリウムの混合物に、上記(5.a)項で得た混合物を添加し、この間温 度を25℃に冷却、維持した。次いで反応混合物温度を45分間で125℃とし 、この125℃を60分間維持した。この温度上昇および後攪拌の間に生成する 水分を蒸留除去した。なおこの分離水分を70℃まで冷却してから、その希釈の ために再使用した。 希釈された反応混合物に10%苛性ソーダ液を添加して、pH値を8.5から 9に調整した。この中和により、生成物の大部分は油状体として析出し、傾瀉に より分離され得た。水性相をイソブタノールで抽出し、合併有機相を蒸留して、 143.4gの3−メチルピラゾールを99.5%純度で得た(この収量は、使 用したヒドラジンヒドラートに対して87%に相当)。kp.88℃/ 1013ミリバール。 以下において、本発明方法に対して、従来から公知の前述ヨーロッパ特願公開 402722号公報による方法を対比させた実験例を以下に掲記する。 (A)本発明方法による3−メチルピラゾールの製造 (A.1)クロトンアルデヒドとヒドラジンヒドラートとの反応 62.5g(1.0モル)の80%濃度ヒドラジンヒドラートにクロトンアル デヒド73.5g(1.05モル)を添加し、反応混合物温度を30℃に冷却、 維持した。添加終了後、反応混合物を25から30℃の温度で30分間攪拌した 。 (A.2)3−メチルピラゾールへの転化 313.6g(2.2モル)の68.8%硫酸と0.33g(2.2ミリモル )の沃化ナトリウムの混合物を155℃に加熱し、この温度で上記(A.1)項 で得た混合物を添加し、その間および添加終了後の30分間に生成する水分を蒸 留除去した。この分離水分は、反応混合物を冷却した後、その希釈のために再使 用した。 この希釈混合物に15%苛性ソーダ液を添加してpH値を8.5に調整した。 この中和により生成物の大部分は油状体として析出し、傾瀉により分離され得た 。水性相をイソブタノールで抽出し、合併有機相を蒸留して純度99.5%(H PLC法)の3−メチルピラゾール73. 4g(使用したヒドラジンヒドラートの89%)を得た。kp.88℃/10ミ リバール。 (B)ヨーロッパ特願公開402772号公報から公知の方法による3−メチ ルピラゾールの製造 (B.1)313.6g(2.2モル)の68.8%硫酸と、0.33g(2 .2ミリモル)の沃化ナトリウムの混合物を155℃に加熱し、この温度で、6 2.5g(1モル)の80%ヒドラジンヒドラートと、73.6g(1.05モ ル)のクロトンアルデヒドを同時に添加した。この添加の間および添加後30分 間にわたり生成する水分を蒸留除去した。この分離水分は、反応混合物を冷却し た後、これを希釈するために再使用した。 (B.2)この希釈された反応混合物を、15%苛性ソーダ液でpH値8.5 に調整した。この中和により、生成物の大部分は油状体として析出し、傾瀉によ り分離され得た。水性相をイソブタノールで抽出し、次いで合併有機相を蒸留に 附し、純度99.5%の3−メチルピラゾール62.4g(使用したヒドラジン ヒドラートに対して75.7%)を得た。kp.88℃/10ミリバール。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1995年8月17日 【補正内容】 で表わされ、かつR1、R2、R3、R4がそれぞれ水素、ハロゲン、ニトロ、カル ボキシル、スルホニルまたは炭素有機基を意味するピラゾールおよびその誘導体 を、 式(II) で表わされる、α,β−不飽和カルボニル化合物および、 式(III)、 H2N−NHR4 (III) のヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体と反応させることにより製造する方法で あって、希釈剤を添加することなくかつ反応媒体としての硫酸の不存在下で、ま ず式(II)のα,β−不飽和カルボニル化合物と、式(III)のヒドラジン またはヒドラジン誘導体とを反応させ、これにより得られた反応混合物を、さら に次の反応工程において、硫酸と沃素の混合物、または沃素と沃化水素を遊 離する化合物の混合物と反応させることを特徴とする方法により解決されること が本発明者らにより見出された。 この方法において、まずα,β−不飽和カルボニル化合物(II)をヒドラジ ンまたはヒドラジン誘導体(III)と混合するが、その間反応媒体の温度を0 ℃から100℃、好ましくは10℃から70℃、ことに20℃から50℃に維持 する。α,β−不飽和カルボニル化合物(II)と、ヒドラジンもしくはヒドラ ジン誘導体(III)との反応は発熱を伴うので、混合の間、反応混合物を冷却 する必要がある。混合に際して反応材料のいずれをまず反応器中に装填するか、 あるいは両出発材料を同時にもしくは別個に装填するのかは重要なことではない 。これまでの知見では、後攪拌処理を長く行なっても、完全な反応のための本質 的影響は余りないとのことであるが、なお混合を完全ならしめるため、材料添加 終了後も、なお10から60分間、混合温度において攪拌を継続するのが好まし い。 請求の範囲 1.本発明は式(I) で表わされ、かつR1、R2、R3、R4がそれぞれ水素、ハロゲン、ニトロ、カル ボキシル、スルホニルまたは炭素有機基を意味するピラゾールおよびその誘導体 を、 式(II) のα,β−不飽和カルボニル化合物および式(III) H2N−NHR4 (III) のヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体と反応させることにより製造する方法で あって、 当初は追加的希釈剤を添加することなくかつ反応媒体としての硫酸の不存在下 で、α,β−不飽和カルボニル化合物(II)と、ヒドラジンもしくはヒドラジ ン誘導体(III)とを反応させ、生成反応混合物を、別個の工程において燐酸 と、沃素あるいは沃素もしくは沃化水 素をもたらす化合物の混合物と反応させることを特徴とする方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.本発明は式(I) で表わされ、かつR1、R2、R3、R4がそれぞれ水素、ハロゲン、ニトロ、カル ボキシル、スルホニルまたは炭素有機基を意味するピラゾールおよびその誘導体 を、 式(II) のα,β−不飽和カルボニル化合物および式(III) H2N−NHR4 (III) のヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体と反応させることにより製造する方法で あって、 当初は追加的希釈剤を添加することなく、α,β−不飽和カルボニル化合物( II)と、ヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体(III)とを反応させ、生成 反応混合物を、別個の工程において燐酸と、沃素あるいは沃素もしくは沃化水素 をもたらす化合物の混合物と反応させ ることを特徴とする方法。 2.α,β−不飽和カルボニル化合物(II)を0℃から100℃の温度で、 ヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体(III)と反応させることを特徴とする 、請求項(1)による方法。 3.44から99重量%濃度の硫酸を使用することを特徴とする、請求項(1 )による方法。 4.ヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体(III)に対して0.01から1 0モル%の沃素または沃素もしくは沃化水素をもたらす化合物を使用することを 特徴とする、請求項(1)による方法。 5.α,β−不飽和カルボニル化合物(II)と、ヒドラジンもしくはヒドラ ジン誘導体(III)との反応により得られた反応混合物と、50℃から250 ℃の温度において、沃素、または沃素もしくは沃化水素をもたらす化合物とを反 応させることを特徴とする、請求項(1)による方法。 6.α,β−不飽和カルボニル化合物(II)と、ヒドラジンもしくはヒドラ ジン誘導体(III)との反応により得られる反応混合物と、硫酸および沃素、 または沃素もしくは沃化水素をもたらす化合物の混合物との反応により、この反 応混合物中に含有される水分を除去することを特徴とする、請求項(1)による 方法。
JP50732195A 1993-08-23 1994-08-13 ピラゾールおよびその誘導体の製造方法 Expired - Lifetime JP3717177B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4328228.8 1993-08-23
DE4328228A DE4328228A1 (de) 1993-08-23 1993-08-23 Verfahren zur Herstellung von Pyrazol und dessen Derivaten
PCT/EP1994/002708 WO1995006036A1 (de) 1993-08-23 1994-08-13 Verfahren zur herstellung von pyrazol und dessen derivaten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09501686A true JPH09501686A (ja) 1997-02-18
JP3717177B2 JP3717177B2 (ja) 2005-11-16

Family

ID=6495762

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50732195A Expired - Lifetime JP3717177B2 (ja) 1993-08-23 1994-08-13 ピラゾールおよびその誘導体の製造方法

Country Status (19)

Country Link
US (1) US5569769A (ja)
EP (1) EP0715622B1 (ja)
JP (1) JP3717177B2 (ja)
KR (1) KR100342146B1 (ja)
CN (1) CN1069637C (ja)
AT (1) ATE165348T1 (ja)
AU (1) AU7536194A (ja)
CA (1) CA2169380C (ja)
CZ (1) CZ288738B6 (ja)
DE (2) DE4328228A1 (ja)
ES (1) ES2115968T3 (ja)
HU (1) HU216078B (ja)
IL (1) IL110461A (ja)
RU (1) RU2130930C1 (ja)
SK (1) SK280883B6 (ja)
TW (1) TW252108B (ja)
UA (1) UA47392C2 (ja)
WO (1) WO1995006036A1 (ja)
ZA (1) ZA946357B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008538560A (ja) * 2005-04-21 2008-10-30 オーファン メディカル,インコーポレイティド 超高純度の4−メチルピラゾール
JP2021508669A (ja) * 2018-11-07 2021-03-11 福建永晶科技股▲ふん▼有限公司Fujian Yongjing Technology Co., Ltd ピラゾール又はピリミジノンの新しい製造方法

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19500838A1 (de) * 1995-01-13 1996-07-18 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von 3,5-Diarylpyrazolen
DE19645313A1 (de) 1996-11-04 1998-05-07 Basf Ag Substituierte 3-Benzylpyrazole
US6514977B1 (en) 1997-05-22 2003-02-04 G.D. Searle & Company Substituted pyrazoles as p38 kinase inhibitors
EP1019394A1 (en) 1997-05-22 2000-07-19 G.D. Searle & Co. PYRAZOLE DERIVATIVES AS p38 KINASE INHIBITORS
IL132736A0 (en) * 1997-05-22 2001-03-19 Searle & Co 3(5)-Heteroaryl substituted pyrazoles as p38 kinase inhibitors
US6087496A (en) 1998-05-22 2000-07-11 G. D. Searle & Co. Substituted pyrazoles suitable as p38 kinase inhibitors
US6979686B1 (en) 2001-12-07 2005-12-27 Pharmacia Corporation Substituted pyrazoles as p38 kinase inhibitors
AU9141998A (en) 1997-06-23 1999-01-04 Basf Aktiengesellschaft Method for producing substituted pyrazoles
US7057049B2 (en) 2001-09-25 2006-06-06 Pharmacia Corporation Process for making substituted pyrazoles
AU2002330096B2 (en) 2001-09-25 2007-11-08 Pharmacia Corporation Process for making substituted pyrazoles
US7682601B2 (en) * 2003-04-15 2010-03-23 Mallinckrodt Inc. Bifunctional tridentate pyrazolyl containing ligands for re and tc tricarbonyl complexes
US20110009463A1 (en) * 2007-10-17 2011-01-13 Yuri Karl Petersson Geranylgeranyl transferase inhibitors and methods of making and using the same
EP2282998B1 (en) 2008-04-21 2014-09-10 Albemarle Corporation Processes for producing n-alkylpyrazole
DE102009060150B4 (de) * 2009-12-23 2013-06-06 K+S Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von Säureadditionssalzen von Pyrazolen
JP5909183B2 (ja) 2010-08-19 2016-04-26 国立大学法人 東京大学 オメガ3系脂肪酸由来の新規抗炎症性代謝物
CN102558057B (zh) * 2012-01-16 2014-04-02 兰州大学 多取代吡唑制备方法
CN110386900A (zh) * 2019-08-21 2019-10-29 温州市华润医药化工有限公司 一种3-甲基吡唑的制备方法
CN112321507A (zh) * 2020-09-18 2021-02-05 武威金仓生物科技有限公司 一种3,4-二甲基吡唑及其磷酸盐的制备方法
CN115028582B (zh) * 2022-06-23 2024-04-12 曲靖师范学院 一种n-芳基吡唑类药物e-52862的制备方法及其产品
CN117886753A (zh) * 2023-12-13 2024-04-16 爱斯特(成都)生物制药股份有限公司 一种4-甲基吡唑的连续流合成方法
CN120157619A (zh) * 2025-03-17 2025-06-17 湖北荆洪生物科技股份有限公司 一种4-甲基吡唑的制备方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH615384A5 (ja) * 1978-12-07 1980-01-31 Buss Ag
DE2922591A1 (de) * 1979-06-02 1980-12-04 Basf Ag Verfahren zur herstellung von pyrazolen
DE3423930A1 (de) * 1984-06-29 1986-01-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur herstellung von pyrazolinen
GB8824400D0 (en) * 1988-10-18 1988-11-23 Glaxo Group Ltd Chemical compounds
JP2861103B2 (ja) * 1988-10-26 1999-02-24 日産化学工業株式会社 4―メチルピラゾール類の製造方法
DE3918979A1 (de) * 1989-06-10 1990-12-13 Basf Ag Verfahren zur herstellung von pyrazol und dessen derivaten
DE4028393A1 (de) * 1990-09-07 1992-03-12 Basf Ag Verfahren zur herstellung von 3-methylpyrazol

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008538560A (ja) * 2005-04-21 2008-10-30 オーファン メディカル,インコーポレイティド 超高純度の4−メチルピラゾール
JP2021508669A (ja) * 2018-11-07 2021-03-11 福建永晶科技股▲ふん▼有限公司Fujian Yongjing Technology Co., Ltd ピラゾール又はピリミジノンの新しい製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
HU216078B (hu) 1999-04-28
ZA946357B (en) 1996-02-22
CA2169380C (en) 2004-10-19
IL110461A (en) 1998-07-15
CA2169380A1 (en) 1995-03-02
DE4328228A1 (de) 1995-03-02
US5569769A (en) 1996-10-29
EP0715622B1 (de) 1998-04-22
UA47392C2 (uk) 2002-07-15
SK280883B6 (sk) 2000-09-12
CZ288738B6 (cs) 2001-08-15
WO1995006036A1 (de) 1995-03-02
HUT74479A (en) 1997-01-28
HU9600419D0 (en) 1996-04-29
KR100342146B1 (ko) 2002-11-22
DE59405805D1 (de) 1998-05-28
EP0715622A1 (de) 1996-06-12
RU2130930C1 (ru) 1999-05-27
SK23596A3 (en) 1996-10-02
CN1131943A (zh) 1996-09-25
KR960703866A (ko) 1996-08-31
CN1069637C (zh) 2001-08-15
IL110461A0 (en) 1994-10-21
CZ52096A3 (en) 1996-05-15
JP3717177B2 (ja) 2005-11-16
ES2115968T3 (es) 1998-07-01
ATE165348T1 (de) 1998-05-15
TW252108B (ja) 1995-07-21
AU7536194A (en) 1995-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3717177B2 (ja) ピラゾールおよびその誘導体の製造方法
JP3959275B2 (ja) トリアゾリンチオン誘導体の製造方法
HU216027B (hu) Eljárás 2-alkil-6-metil-N-(1'-metoxi-2'-propil)-klór-acetanilidek előállítására
KR100529681B1 (ko) 치환된 피라졸의 제조 방법
JP3009515B2 (ja) 3−メチルピラゾールの製造方法
JPS5928549B2 (ja) 1h−1,2,4−トリアゾ−ルの製造方法
JPH0570437A (ja) 1−カルバモイルピラゾールの製造方法
JPS5855143B2 (ja) 3.5−ジフエニルピラゾ−ルの製造方法
JPH10511969A (ja) 3,5−ジアリールピラゾールの製造
JPH10139766A (ja) 4−アミノ−1,2,4−トリアゾールの製造方法
FI103790B (fi) Menetelmä N-hydroksi-N'-diatseniumoksidien valmistamiseksi
JPH0563474B2 (ja)
KR100616098B1 (ko) 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온의 제조방법
US6545163B1 (en) Process to prepare 1-aryl-2-(1-imidazolyl) alkyl ethers and thioethers
KR20000018793A (ko) 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온의 제조방법
JP2003513004A (ja) 1−アルキル−ピラゾール−5−カルボン酸エステルの製造方法
JPH11510503A (ja) 1,2−ジメチル−3,5−ジアリールピラゾリウム−メチルスルファートの製造方法
JPS6157531A (ja) 2‐ヒドロキシ‐シクロヘキサノン‐(1)の製法

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050802

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050830

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080909

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090909

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100909

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110909

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110909

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120909

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120909

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130909

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term