JPH0951159A - 半田ディップ装置 - Google Patents
半田ディップ装置Info
- Publication number
- JPH0951159A JPH0951159A JP20260895A JP20260895A JPH0951159A JP H0951159 A JPH0951159 A JP H0951159A JP 20260895 A JP20260895 A JP 20260895A JP 20260895 A JP20260895 A JP 20260895A JP H0951159 A JPH0951159 A JP H0951159A
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- JP
- Japan
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- solder
- electrode
- work
- chuck
- molten solder
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3465—Application of solder
- H05K3/3468—Application of molten solder, e.g. dip soldering
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Molten Solder (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワークの浸漬深さを正確且つ一定とし、正確
な半田ディップ処理を実行する。 【解決手段】 本発明は、ワーク5を把持したチャック
4を移動させてそのワーク5を溶融半田10に浸漬させ
る半田ディップ装置1において、上記ワーク5に接触さ
れる第1の電極12と、上記溶融半田10に接触され、
上記ワーク5の上記溶融半田10との接触により上記第
1の電極12と導通する第2の電極13と、これら電極
12,13の導通により上記チャック4の移動を適宜制
御する制御手段14とを備えたものである。
な半田ディップ処理を実行する。 【解決手段】 本発明は、ワーク5を把持したチャック
4を移動させてそのワーク5を溶融半田10に浸漬させ
る半田ディップ装置1において、上記ワーク5に接触さ
れる第1の電極12と、上記溶融半田10に接触され、
上記ワーク5の上記溶融半田10との接触により上記第
1の電極12と導通する第2の電極13と、これら電極
12,13の導通により上記チャック4の移動を適宜制
御する制御手段14とを備えたものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品等を溶融
半田に浸漬して半田ディップ処理を行うための半田ディ
ップ装置に関するものである。
半田に浸漬して半田ディップ処理を行うための半田ディ
ップ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】以下、図2を用いて従来の装置を簡単に
説明する。図示するように、半田ディップ装置aは、ロ
ボットアームbの先端部に開閉可能なチャックcを有
し、このチャックcは、閉じることで、電子部品特にハ
イブリッドICdのリードeを挟持するようになってい
る。リードeは、その先端部がチャックcに挟持され、
その基端部のクリップ部fが、ハイブリッドICdの基
板gを弾性的に挟持して、下方の溶融半田hに浸漬され
ると共に、半田ディップ処理即ち基板gに半田付けされ
るようになっている。
説明する。図示するように、半田ディップ装置aは、ロ
ボットアームbの先端部に開閉可能なチャックcを有
し、このチャックcは、閉じることで、電子部品特にハ
イブリッドICdのリードeを挟持するようになってい
る。リードeは、その先端部がチャックcに挟持され、
その基端部のクリップ部fが、ハイブリッドICdの基
板gを弾性的に挟持して、下方の溶融半田hに浸漬され
ると共に、半田ディップ処理即ち基板gに半田付けされ
るようになっている。
【0003】この半田ディップ処理においては、溶融半
田hへの浸漬深さが正確且つ一定であることが重要であ
る。よって溶融半田hの液面レベルLは、液面センサi
により常に一定に管理されるようになっている。そして
ロボットアームbはその液面レベルLに基づいてハイブ
リッドICdを降下させ、リードeのクリップ部fを所
望の深さだけ浸漬し引上げて、半田ディップ処理を行う
ようにしている。
田hへの浸漬深さが正確且つ一定であることが重要であ
る。よって溶融半田hの液面レベルLは、液面センサi
により常に一定に管理されるようになっている。そして
ロボットアームbはその液面レベルLに基づいてハイブ
リッドICdを降下させ、リードeのクリップ部fを所
望の深さだけ浸漬し引上げて、半田ディップ処理を行う
ようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、液面センサ
iの精度はそれ程良くなく、従って溶融半田hの液面レ
ベルLも高精度に管理できないため、ロボットアームb
が一定ストロークの降下を行っていても浸漬深さが正確
且つ一定とならず、結果的に未半田エリアの発生や、半
田付けの不要部分までディッピングしてしまうという不
具合があった。また、液面レベル一定化のために、消費
した半田を所定レベルに合わせて正確に補充する必要が
あるが、そのための補充装置が必要となったり、補充の
前後で液面レベル差が生じたりする等の欠点も有してい
た。
iの精度はそれ程良くなく、従って溶融半田hの液面レ
ベルLも高精度に管理できないため、ロボットアームb
が一定ストロークの降下を行っていても浸漬深さが正確
且つ一定とならず、結果的に未半田エリアの発生や、半
田付けの不要部分までディッピングしてしまうという不
具合があった。また、液面レベル一定化のために、消費
した半田を所定レベルに合わせて正確に補充する必要が
あるが、そのための補充装置が必要となったり、補充の
前後で液面レベル差が生じたりする等の欠点も有してい
た。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、ワークを把持
したチャックを移動させてそのワークを溶融半田に浸漬
させる半田ディップ装置において、上記ワークに接触さ
れる第1の電極と、上記溶融半田に接触され、上記ワー
クの上記溶融半田との接触により上記第1の電極と導通
する第2の電極と、これら電極の導通により上記チャッ
クの移動を適宜制御する制御手段とを備えたものであ
る。
したチャックを移動させてそのワークを溶融半田に浸漬
させる半田ディップ装置において、上記ワークに接触さ
れる第1の電極と、上記溶融半田に接触され、上記ワー
クの上記溶融半田との接触により上記第1の電極と導通
する第2の電極と、これら電極の導通により上記チャッ
クの移動を適宜制御する制御手段とを備えたものであ
る。
【0006】この構成においては、ワークと溶融半田と
の接触により、第1の電極と第2の電極とを導通させて
溶融半田の液面レベルを検出する。そして制御手段は、
その導通位置から所定深さだけチャックを下降させ、ワ
ークを所定深さだけ浸漬させて半田ディップ処理を行
う。
の接触により、第1の電極と第2の電極とを導通させて
溶融半田の液面レベルを検出する。そして制御手段は、
その導通位置から所定深さだけチャックを下降させ、ワ
ークを所定深さだけ浸漬させて半田ディップ処理を行
う。
【0007】また、上記第1の電極が、上記チャックに
設けられて上記ワークの把持と同時に上記ワークに接触
するものであるのが望ましく、こうすると第1の電極と
ワークとの電気的な接続を簡単に行うことができる。
設けられて上記ワークの把持と同時に上記ワークに接触
するものであるのが望ましく、こうすると第1の電極と
ワークとの電気的な接続を簡単に行うことができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下本発明の好適な実施の形態を
添付図面に基づいて詳述する。
添付図面に基づいて詳述する。
【0009】図1は、本発明に係る半田ディップ装置を
示す図で、図示するように半田ディップ装置1は、図示
しないアクチュエータで動作されるロボットアーム2を
有する。ロボットアーム2は、その先端部に、一対のハ
ンド部材3a,3bからなる開閉可能なチャック4を有
する。ハンド部材3a,3bはロボットアーム2の軸方
向に沿って先端側に突出され、上側のハンド部材3aが
下側のハンド部材3bに対し近接離間移動できるように
なっている。そしてこれらが接近するとチャック4は閉
じ、ハイブリッドIC5のリード6を把持乃至挟持す
る。
示す図で、図示するように半田ディップ装置1は、図示
しないアクチュエータで動作されるロボットアーム2を
有する。ロボットアーム2は、その先端部に、一対のハ
ンド部材3a,3bからなる開閉可能なチャック4を有
する。ハンド部材3a,3bはロボットアーム2の軸方
向に沿って先端側に突出され、上側のハンド部材3aが
下側のハンド部材3bに対し近接離間移動できるように
なっている。そしてこれらが接近するとチャック4は閉
じ、ハイブリッドIC5のリード6を把持乃至挟持す
る。
【0010】ハイブリッドIC5は、ここでは半田ディ
ップ処理がなされる被処理部材としてのワークであり、
これは複数種の電装部品7が既に取り付けられた基板8
と、基板8に最終的に半田ディップ処理にて半田付けさ
れるリード6とから主に構成される。リード6は、導電
性金属により一体的に形成され、その軸部6aの先端部
6bがチャック4に挟持され、軸部6aの基端部に形成
されたクリップ部9が基板8の所定部分を弾性的に挟持
する。つまりクリップ部9においては、リード6の軸部
6aから垂直に突出する一対の挟持片部6cが、基板8
の両面に当接してこれを挟持する。挟持片部6cは、基
板8の表面に当接する下方側の一方が下方にやや丸めら
れ突出している。そしてリード6は、基板8の両側にそ
れぞれ取り付けられて、基板8に対し垂直に、全体とし
てコ字状をなすよう延出される。そしてクリップ部9
が、最終的に基板8に半田付けされる被処理部分であ
る。
ップ処理がなされる被処理部材としてのワークであり、
これは複数種の電装部品7が既に取り付けられた基板8
と、基板8に最終的に半田ディップ処理にて半田付けさ
れるリード6とから主に構成される。リード6は、導電
性金属により一体的に形成され、その軸部6aの先端部
6bがチャック4に挟持され、軸部6aの基端部に形成
されたクリップ部9が基板8の所定部分を弾性的に挟持
する。つまりクリップ部9においては、リード6の軸部
6aから垂直に突出する一対の挟持片部6cが、基板8
の両面に当接してこれを挟持する。挟持片部6cは、基
板8の表面に当接する下方側の一方が下方にやや丸めら
れ突出している。そしてリード6は、基板8の両側にそ
れぞれ取り付けられて、基板8に対し垂直に、全体とし
てコ字状をなすよう延出される。そしてクリップ部9
が、最終的に基板8に半田付けされる被処理部分であ
る。
【0011】チャック4はリード6を斜めに挟持し、ク
リップ部9を下端に位置させる姿勢でハイブリッドIC
5を挟持する。そしてこの姿勢を保持したまま、チャッ
ク4はロボットアーム2の移動により昇降動作を行うこ
とができる。図中仮想線においては、ハイブリッドIC
5の半田ディップ処理前の待機位置Aが示されており、
ハイブリッドIC5はこの待機位置Aから下降され、下
方に位置する溶融半田10にて半田ディップ処理される
ことになる。溶融半田10は、上方が開放された半田槽
11に貯留されていて、特にここではその液面レベルL
は調節されない。
リップ部9を下端に位置させる姿勢でハイブリッドIC
5を挟持する。そしてこの姿勢を保持したまま、チャッ
ク4はロボットアーム2の移動により昇降動作を行うこ
とができる。図中仮想線においては、ハイブリッドIC
5の半田ディップ処理前の待機位置Aが示されており、
ハイブリッドIC5はこの待機位置Aから下降され、下
方に位置する溶融半田10にて半田ディップ処理される
ことになる。溶融半田10は、上方が開放された半田槽
11に貯留されていて、特にここではその液面レベルL
は調節されない。
【0012】特に、チャック4の下側のハンド部材3b
にはその内側面に平板状の第1の電極12が張設され、
これによりハンド部材3a,3bがリード6を挟持する
と同時に、第1の電極12はリード6に接触し、電気的
に接続するようになっている。また、溶融半田10にも
同様に、第2の電極13が接触乃至電気的に接続され
る。この第2の電極13は、棒状に形成されて所定長さ
だけ溶融半田10に没入されると共に、図示しない部材
を介して半田槽11に固定されている。
にはその内側面に平板状の第1の電極12が張設され、
これによりハンド部材3a,3bがリード6を挟持する
と同時に、第1の電極12はリード6に接触し、電気的
に接続するようになっている。また、溶融半田10にも
同様に、第2の電極13が接触乃至電気的に接続され
る。この第2の電極13は、棒状に形成されて所定長さ
だけ溶融半田10に没入されると共に、図示しない部材
を介して半田槽11に固定されている。
【0013】これら電極12,13は、主にロボットア
ーム2やチャック4の動作を制御するためのコントロー
ラ14(制御手段)に電気的に接続されている。そして
コントローラ14は電極12,13間に所定の電位差を
与えている。なおコントローラ14は具体的には、ロボ
ットアーム2等を実質的に駆動する図示しないアクチュ
エータに接続されている。
ーム2やチャック4の動作を制御するためのコントロー
ラ14(制御手段)に電気的に接続されている。そして
コントローラ14は電極12,13間に所定の電位差を
与えている。なおコントローラ14は具体的には、ロボ
ットアーム2等を実質的に駆動する図示しないアクチュ
エータに接続されている。
【0014】次に本装置の動作説明を行う。
【0015】コントローラ14によりロボットアーム2
が動作制御されて、チャック4に挟持されたハイブリッ
ドIC5は待機位置Aから所定速度で下降される。そし
て図示する接触位置Bにくると、リード6のクリップ部
9特に下方側の挟持片部6cが溶融半田10の液面10
aに接触する。
が動作制御されて、チャック4に挟持されたハイブリッ
ドIC5は待機位置Aから所定速度で下降される。そし
て図示する接触位置Bにくると、リード6のクリップ部
9特に下方側の挟持片部6cが溶融半田10の液面10
aに接触する。
【0016】この瞬間、第1の電極12と第2の電極1
3とは、リード6と溶融半田10とを通じて互いに導通
される。そしてこの導通によりコントローラ14は、リ
ード6と溶融半田10とが接触したと判断して液面レベ
ルLを検知し、さらにハイブリッドIC5を比較的低速
で、予め決められた所定距離だけ下降させる。こうなる
と、ハイブリッドIC5は浸漬位置Cまで下降され、こ
れによりリード6が所望の深さだけ浸漬され、クリップ
部9のほぼ全体が溶融半田10に浸漬されることにな
る。こうなれば半田が所望箇所の全体に行き亘り、この
後ハイブリッドIC5を待機位置Aまで上昇させれば半
田ディップ処理が完了する。なお他方側のリード6につ
いても、ハイブリッドIC5をチャック4に持ち替えさ
せて同様の行程を行う。
3とは、リード6と溶融半田10とを通じて互いに導通
される。そしてこの導通によりコントローラ14は、リ
ード6と溶融半田10とが接触したと判断して液面レベ
ルLを検知し、さらにハイブリッドIC5を比較的低速
で、予め決められた所定距離だけ下降させる。こうなる
と、ハイブリッドIC5は浸漬位置Cまで下降され、こ
れによりリード6が所望の深さだけ浸漬され、クリップ
部9のほぼ全体が溶融半田10に浸漬されることにな
る。こうなれば半田が所望箇所の全体に行き亘り、この
後ハイブリッドIC5を待機位置Aまで上昇させれば半
田ディップ処理が完了する。なお他方側のリード6につ
いても、ハイブリッドIC5をチャック4に持ち替えさ
せて同様の行程を行う。
【0017】特に本装置1においては、第1の電極12
と第2の電極13との導通により溶融半田10の液面レ
ベルLを正確に知ることができ、且つそのレベル位置に
基づいて制御を行うため、一定且つ確実な、或いは高精
度な半田ディップ処理を繰り返し行うことができる。こ
れにより、未半田エリアの発生や過度のディッピング等
を未然に防止し、安定した均一な製品を量産することが
可能となる。
と第2の電極13との導通により溶融半田10の液面レ
ベルLを正確に知ることができ、且つそのレベル位置に
基づいて制御を行うため、一定且つ確実な、或いは高精
度な半田ディップ処理を繰り返し行うことができる。こ
れにより、未半田エリアの発生や過度のディッピング等
を未然に防止し、安定した均一な製品を量産することが
可能となる。
【0018】また、本装置1においては液面レベルLを
一定にする必要がなく、どのような液面レベルLにおい
ても処理が可能であるため、半田を所定レベルに合わせ
て正確に補充する必要がなく、そのための補充装置等を
不要とすることができる。なお本装置1にあっては、半
田が消費したなら適当な量だけ補充を行ってやればよ
い。
一定にする必要がなく、どのような液面レベルLにおい
ても処理が可能であるため、半田を所定レベルに合わせ
て正確に補充する必要がなく、そのための補充装置等を
不要とすることができる。なお本装置1にあっては、半
田が消費したなら適当な量だけ補充を行ってやればよ
い。
【0019】加えて本装置1では、リード6の挟持と同
時に第1の電極12が接触するため、特にこれらを接触
乃至接続させる手間が必要なく、接続を容易に行えるメ
リットがある。そして第1の電極12をハンド部材3b
とリード6との間に位置させたため、リード6の挟持力
を利用して第1の電極12を確実に押圧接触させること
ができる。なおこうせずに、ハイブリッドIC5の降下
に合わせて第1の電極12がリード6に接触するよう、
第1の電極12を半田液面10aの上方で待機させるよ
うにしても構わない。
時に第1の電極12が接触するため、特にこれらを接触
乃至接続させる手間が必要なく、接続を容易に行えるメ
リットがある。そして第1の電極12をハンド部材3b
とリード6との間に位置させたため、リード6の挟持力
を利用して第1の電極12を確実に押圧接触させること
ができる。なおこうせずに、ハイブリッドIC5の降下
に合わせて第1の電極12がリード6に接触するよう、
第1の電極12を半田液面10aの上方で待機させるよ
うにしても構わない。
【0020】なお、従来、特開平6-226444号に示される
が、上下動可能に支持されたクランパで電子部品を把持
し、そのクランパに設けられた一対の電極で半田液面を
検知し、それに基づいて電子部品を所望の深さだけ浸漬
させる装置がある。しかしこれにおいては、クランパに
一対の電極が設けられるため、クランパと電子部品との
相対位置が浸漬深さに密接に関係し、即ち電子部品をク
ランパに正確に位置決めし装着しなければ正確な処理を
行うことができない。本装置1においては、ハイブリッ
ドIC5のリード6を電極の一部として利用し、その被
処理部分(クリップ部9)を溶融半田10に直接接触さ
せて液面10aの位置を検知するようにしたため、ハイ
ブリッドIC5の取付姿勢や把持状態に拘らず、正確な
処理を繰返し実行できるといった顕著な効果がある。そ
して上記従来装置では、繰返し処理において電極に半田
が徐々に付着し、電極形状(長さ)が変化して一定の浸
漬深さを長時間確保できぬ虞があるが、本装置1では第
1の電極12が溶融半田10に接触しないのでこのよう
な問題も生じない。
が、上下動可能に支持されたクランパで電子部品を把持
し、そのクランパに設けられた一対の電極で半田液面を
検知し、それに基づいて電子部品を所望の深さだけ浸漬
させる装置がある。しかしこれにおいては、クランパに
一対の電極が設けられるため、クランパと電子部品との
相対位置が浸漬深さに密接に関係し、即ち電子部品をク
ランパに正確に位置決めし装着しなければ正確な処理を
行うことができない。本装置1においては、ハイブリッ
ドIC5のリード6を電極の一部として利用し、その被
処理部分(クリップ部9)を溶融半田10に直接接触さ
せて液面10aの位置を検知するようにしたため、ハイ
ブリッドIC5の取付姿勢や把持状態に拘らず、正確な
処理を繰返し実行できるといった顕著な効果がある。そ
して上記従来装置では、繰返し処理において電極に半田
が徐々に付着し、電極形状(長さ)が変化して一定の浸
漬深さを長時間確保できぬ虞があるが、本装置1では第
1の電極12が溶融半田10に接触しないのでこのよう
な問題も生じない。
【0021】本発明は他にも種々の形態が可能で、例え
ばワークとしてのハイブリッドIC5を別のものに置換
することも可能である。また第1の電極をハンド部材3
a,3bそれ自体としたり、第2の電極を半田槽11そ
れ自体とすること等も可能である。
ばワークとしてのハイブリッドIC5を別のものに置換
することも可能である。また第1の電極をハンド部材3
a,3bそれ自体としたり、第2の電極を半田槽11そ
れ自体とすること等も可能である。
【0022】
【発明の効果】本発明は次の如き優れた効果を発揮す
る。
る。
【0023】(1) 溶融半田の液面レベルに拘らず、
ワークの浸漬深さを正確且つ一定に保つことができる。
ワークの浸漬深さを正確且つ一定に保つことができる。
【0024】(2) 半田を所定レベルに合わせて正確
に補充する必要がなく、そのための補充装置等を不要と
することができる。
に補充する必要がなく、そのための補充装置等を不要と
することができる。
【図1】本発明に係る半田ディップ装置を示す正面図で
ある。
ある。
【図2】従来の半田ディップ装置を示す正面図である。
【符号の説明】 1 半田ディップ装置 4 チャック 5 ワーク 10 溶融半田 12 第1の電極 13 第2の電極 14 制御手段
Claims (2)
- 【請求項1】 ワークを把持したチャックを移動させて
そのワークを溶融半田に浸漬させる半田ディップ装置に
おいて、上記ワークに接触される第1の電極と、上記溶
融半田に接触され、上記ワークの上記溶融半田との接触
により上記第1の電極と導通する第2の電極と、これら
電極の導通により上記チャックの移動を適宜制御する制
御手段とを備えたことを特徴とする半田ディップ装置。 - 【請求項2】 上記第1の電極が、上記チャックに設け
られて上記ワークの把持と同時に上記ワークに接触する
請求項1記載の半田ディップ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20260895A JPH0951159A (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | 半田ディップ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20260895A JPH0951159A (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | 半田ディップ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0951159A true JPH0951159A (ja) | 1997-02-18 |
Family
ID=16460240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20260895A Pending JPH0951159A (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | 半田ディップ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0951159A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009208130A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Fujikura Ltd | ワーク浸漬処理加工方法及びその装置、並びに前記ワーク浸漬処理加工装置で使用される液面検知センサ |
-
1995
- 1995-08-08 JP JP20260895A patent/JPH0951159A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009208130A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Fujikura Ltd | ワーク浸漬処理加工方法及びその装置、並びに前記ワーク浸漬処理加工装置で使用される液面検知センサ |
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