JPH09511691A - 超高真空集束イオンビーム微細削り機及びそれによる物品 - Google Patents

超高真空集束イオンビーム微細削り機及びそれによる物品

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JPH09511691A
JPH09511691A JP8523682A JP52368296A JPH09511691A JP H09511691 A JPH09511691 A JP H09511691A JP 8523682 A JP8523682 A JP 8523682A JP 52368296 A JP52368296 A JP 52368296A JP H09511691 A JPH09511691 A JP H09511691A
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ラマルテイーヌ,ブルース,シイ.
スタツツ,ロジヤー,エイ.
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ザ リーヂエント オブ ジ ユニバーステイ オブ カリフオルニア
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Abstract

(57)【要約】 薬品を用いない環境で高いアスペクト比を得ることのできる超高真空集束イオン・ビーム微細削り装置及び方法が開示される。超高真空チャンバー(10)は、ターゲットの基板を観察するため、ターゲットの基板をフィルムに撮影するため、ターゲットの基板を挿入または操作するため、及びターゲットの基板の各種分析を行なうための多数のポートを含む。ポート(12)は、観察用のポートとし、ポート(14)は、カメラ用のポートとして使用することができる。さらに、微細削り法を用いた耐久性データ記憶媒体が開示される。該耐久性データ記憶媒体は、例えば、デジタルまたは英数字キャラクタならびに図形またはキャラクタを記憶することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 超高真空集束イオンビーム微細削り機及びそれによる物品 発明の分野 本発明は、材料を高いアスペクト比で微細削りを行なう方法及び該方法によっ て製造される高密度耐久性データ記憶媒体などの物品に関する。本発明は、エネ ルギー省との契約の結果として得られたものである(契約番号W−7405−ENG−3 6)。 発明の背景 イオン微細削りは、現在、約10-6Torrの中度の真空のもとで行なわれる。削ら れた深さと水平の切開幅の比であるアスペクト比は、システム内部の残留ガスに よってスパッタリングされた材料が分散し再堆積されるために、通常、約10程度 に限定される。アスペクト比の高い削りを行なう方法が求められている。 情報あるいはデータ記憶装置は、今世紀の間にめざましく発達したが、長期記 憶装置及び記憶されたデータの読み取りには大きな問題が残されているといえる 。ローセンバーグは、1995年「サイエンティフィック・アメリカン」の42−47ペ ージに文書の耐久性に関連する諸問題を記載している。 情報またはデータ記憶装置による記憶には、一般に磁気または光学記録キャリ アが用いられる。近年、平坦な金属面に形状変化を与えることによって記憶情報 の書き込み及び読み取りを行なうために走査トンネル顕微鏡(STM)を使用す る研究が行なわれている。「J.Vac.Sci.Technol.B」12巻、2号、515−529 ページ(1994)は、ナノメートルの次元の構造物の製造に用いるSTM及び他の 走査探測顕微鏡検査法ならびにこの種のナノメートルの次元の構造物の時間的安 定性の限界に関する未解決の諸問題を論じている。他の参考文献としては、平坦 なシリコン基板上の金の膜に直径約 50ナノメートル(nm)深さ約10nmのナノメートル次元のクレーターを微細加工す るためにSTMを使用することを記載したアダムチャック等の「超顕微鏡検査法 」45巻、1−4ページ(1992)、大気中でSTMを走査して平坦な金の基板に直 径約2nm深さ約1nmのナノメートル次元のクレーターを電子エッチングすること を記載したリー等の「Appl.Phy.Lett.」54巻、15号、1424−1426ページ(198 9)、STMを用いて表面に新物質(有機金属ガスからのカドミウム)を堆積し てサブミクロンの金属機能体を直接書き込むことを記載したシルバー等の「Appl .Phy.Lett.」51巻、4号、247−249ページ(1987)、表面拡散によるSTM を用いた表面の改変について記載し高密度記憶装置の可能性を述べたエイブラハ ム等の「IBM J.Res.Develop.」30巻、5号、492−499ページ(1986)を挙げ ることができる。現在のデータ記憶装置は、それぞれが、媒体の長期安定性ある いは耐久性の問題を含めてなんらかの問題をもっている。 本発明の一つの目的は、約10以上、好ましくは約50に達する高いアスペクト比 での削りの方法を提供することである。 本発明の他の一つの目的は、本発明にもとづく微細削り法によって形成製造さ れる物品を提供することである。この種の物品としては、例えばデータ記憶媒体 を挙げることができる。 発明の概要 上記の本発明の目的及び他の目的を達成するため、以下に実施形態によって詳 細に説明するように、本発明は、ターゲット基板内部に高いアスペクト比の微小 構造を機械加工する方法において、ターゲット基板を超高真空環境内に置く工程 、前記ターゲット基板内に削られた微小構造の形成中にコンピュータ制御集束イ オンビームを使用するためのコンピュータ・データ・ファイルを生成する工程、 及びターゲット基板を該コンピュータ・データ・ファ イルを使用したソフトウエアによって制御されるコンピュータ制御集束イオンビ ームに露光させる工程からなり、それによって、前記ターゲット基板内に高いア スペクト比の削られた微小構造を形成する方法を提供するものである。 本発明は、さらに、内部にキャラクタが削られ、削られたキャラクタが約1な いし約50の深さ対幅のアスペクト比を有する基板からなる耐久性データ記憶媒体 を提供するものである。該データ記憶媒体は、デジタル・キャラクタ、英数字キ ャラクタ、記号キャラクタ、及び3次元図形キャラクタ、及びハーフトーン及び グレースケール画像含むグループから選ばれる削られたキャラクタを含むものと することができる。 図面の簡単な説明 第1図は、本発明にもとづく超高真空−集束イオンビーム・システムを用いた チャンバーの平面図である。 第2図は、イオンミル・バージョン2.5がパターンを削る方法を示すために格 子線を85度回転させて解像度の詳細を示す図である。 第3図は、英数字の削りを行なうための生I(x、y)ファイルを示す図であ る。 第4図は、3−Dイオン削りに用いる目的でMathcad内部で実行される第4世 代ソフトウエアから数学的に生成される形状の例を示す図である。 第5図は、第4図の3−Dイオン削りで削られる構造の原子力顕微鏡像を示す 図である。 第6図は、本発明にもとづく方法で形成することのできる帯域フィルターを示 す図である。 詳細な説明 本発明は、ナノメートルの次元の微小構造を製造するための微細削り法及 び該方法によって製造される物品に関する。本発明の方法では、微細削りは、超 高真空すなわち約10-9Torr好ましくは約50ないし約120ピコTorr(6.3×10-11−1 .6×10-10ミリバール)の範囲の極超高真空のもとで行なわれる。 本発明のにもとづく微細削り法は、削られた深さ対水平切開(幅)の比である アスペクト比を約10以上通常は約50程度の高い値とすることができる。このよう な高いアスペクト比のために、本発明の方法は、横方向がサブミクロンの次元で の二分及び深いならい削りを行なうための貴重な手段として用いることができる 。これによって、例えば、本発明の方法に用いる装置と共に適当なオージェ分析 器または2次イオン質量分析計を用いて集積回路内の深い位置でのサブミクロン の金属の欠陥分析を行ない、汚染元素の追跡検査を行なうことが可能となる。 本発明の微細削り法は、超微小な化学、電子、及び機械センサーのための高い アスペクト比をもつ梁、レバー、コンデンサ、レンズ、回折格子、導波管、帯域 フィルター、アンテナ、ファスナー等の製造に用いることができる。さらに、該 微細削り法は、適当な基板上にデータを記録するためにも用いることができる。 基板上へのキャラクタなどのデータの記録には、デジタル・キャラクタあるいは 数字キャラクタ、英字キャラクタあるいは英数字キャラクタ、図形または記号キ ャラクタすなわち3次元(3−D)図形または画像の形のキャラクタなどを用い ることができる。「キャラクタ」とは、一般に、書き込み系または通信系に用い るすべての記号を意味し、本発明のデータ記録方法に関しては、背景となる基板 表面から区別することのできるすべての特徴を含むものとすることができる。2 進系のデータの記録にも用いることができるが、その場合には、2進データ・キ ャラクタは、基板の上の一個の表面の凹部または基板の上にそのような一個の表 面の凹部のないことに よって表わされる。アナログ・データ系の形成も可能であるが、その場合には、 グレースケールまたはハーフトーン画像が制御ファイルの削りに変換され、各画 素の滞在時間は元のグレースケール値に比例した対応関係をもつ。位相感知光学 顕微鏡、例えばミローまたは他の適当な干渉計を用いて読み出せば、グレースケ ール像を観察することができる。次に、干渉計の像の各画素の空間位置及びグレ ースケール値がフレーム・グラバー付きCCDカメラ上に補足され、続いて、例 えばグレースケール値を含むルックアップ・マップからビットマップに一つの色 値を割り当てる着色法によって着色処理される。 第1図は、本発明の実施するにあたってあるいはデータ記憶媒体の形成に使用 することのできる超高真空−集束イオンビーム・システムを用いたチャンバーを 示す。第1図において、超高真空チャンバー10は、ターゲットの基板を見るため 、ターゲットの基板をフィルムに撮影するため、ターゲットの基板を挿入あるい は操作するため、及び2次電子放出等ターゲットの基板の各種分析を行なうため の多数のポートを含む。ポート12は、観察用ポートとし、ポート14は、カメラ用 ポートとして使用することができる。他にも、観察用ポート16、18及びポンプ用 ポート20が示されている。他のポート22には、適当なソフトウエアによって駆動 されるイオンビーム銃が配設されている。追加の削りを高速で行なう必要がある 場合には、複数のイオンビーム銃を使用することもできる。 従来の削りシステムとは異なり、本発明の方法は、薬品を使用しない環境で高 いアスペクト比を得ることができる。すなわち、10以上で少なくとも約50までの アスペクト比を達成するために、本発明を用いたシステムに薬品を使用する必要 はない。「薬品の使用」とは、スパッタリングされた材料と反応させるためまた 再堆積を少なくするために加えられる塩素等の反応性ガス の使用を意味する。 本発明の微細削り法によって削ることのできる材料には、イリジウム、タンタ ル、タングステン、モリブデン、ニオブなどの溶解しにくい金属、周期律表の遷 移金属の第1行の元素すなわちスカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マ ンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅など、及びシリコン、ヒ化ガリウムなどの 真空で使用できる半導体が含まれる。その他の材料としては、削り加工中に付随 電荷を補助電子銃または他の適当な手段によって補償することのできる場合のア ルミナ、ルビー、サファイア、シリカ、クォーツなどの高温絶縁体を挙げること ができる。 本発明の微細削り法の一実施形態にあっては、透過回折格子を製造し、それを 赤外帯域フィルターとして使用した。格子の一材料として、厚さ約2−5ミクロ ンの導電性膜であるパルス・ガス・アルミナを用いた。膜を完全に通すように削 った回折素子を規則的に配列し、該配列を通る回折強度を通常のレイリー光学計 算でモデル化した。その結果、第6図に示すような形と寸法の格子が得られ、予 想どおり11−12ミクロン(赤外)の主帯域が生成された。この方法は、得られた 回折格子が、ドイツ国カルルスルーエのマイクロパーツ・ゲゼルシャフト・フュ ール・ミクロシュトルクトゥールテヒニーク社による通常のLIGA(シンクロトロ ンX線リソグラフィー及びエレクトロフォーミング)が1993年5月ごろ発表した 回折素子より小さいことから、それに代えて使用することができる。イオンビー ムのスポットの大きさをきわめて小さくすることができるため(約50nm以下)、 超高真空集束イオン微細削り法の使用範囲をかなり広げて、許容できる高い透過 率で紫外線または可視光線を通過させる透過回折格子を生成するために使用する ことが可能である。 本発明の微細削り法の他の実施形態にあっては、微細削り法を例えば金属 及び半導体の上にデータを記憶させるために使用することができる。このような データ記憶は、高密度で行なうことができ、またその耐久性も高い。「高密度」 とは、直径約1/16インチ、長さ約1インチの小さいほぞ状の媒体を削って生成 された約1ミクロン四方のキャラクタを約1ギガバイトの量のASCII情報まで保 持できることを意味する。ただし、ここでは1ラテン文字が8ビットまたは1バ イトと等価であると仮定する。比較のためにいうと、2進法では、同じ空間に4 ギガバイトの情報を書き込むことができる。 本発明のデータ記憶媒体は、データの記憶のためのきわめて耐久性の高い媒体 であり、通常、電磁パルス、無線周波(RF)干渉、磁場、水、アルコール、アセ トン等の一般的な溶剤、熱勾配、及び火災にも耐えることができる媒体である。 該データ記憶媒体は、磁気/磁気光学媒体と比較して信頼性が高く、したがって バックアップ・データを用意する必要性をなくし、実際の基板の面からデータの 記憶に要する資本費用を低くする効果がえられる。例えば、データを削るための 実際の記憶材料としてスチールのほぞ状ピンを使用することができる。その他、 キャラクタ・エッチ削りが環境に優しい乾式法であること、媒体が時間とともに もろくならないこと、必要な場合には媒体の研削及び研磨によって媒体をリサイ クルまたは再使用できること等の点でもこの媒体は効果がある。 本発明の微細削り法をデータ記憶装置に適用した一実施形態にあっては、適当 な基板を、2進キャラクタの一つ、すなわち一またはゼロをあらわす一連の個々 の表面の凹部を予備削りして予備的にフォーマット化した媒体とすることができ る。その後のデータ記憶システムの過程を加速する一つの方法では、予備削りさ れた基板が基板自身の材料より容易かつ迅速に除去可能なオーバーコートで埋め 戻される。その後は、2進キャラクタの表示を変える必要のあるキャラクタのみ の部分でオーバーコート材料を除去することがで きる。他の一つの方法では、適当な基板の上に2進キャラクタの一つ、すなわち 一またはゼロを表わす一連の個々の凸部を予備形成する。このような予備形成に は、厚さが約75ミクロンまでのポリビニルアルコール、ポリスチレン、及びスピ ンオン・ガラスを使用することができる。その後は、予備形成された材料の凸部 の中の2進キャラクタの表示を変更する必要のあるキャラクタのみを除去するこ とができる。 データの長期保存に関連して生じる問題の一つに、書き込まれてから数百年さ らには数千年後にデータをどのような方法で読み取るかという問題がある。デー タ記憶装置に関する本発明の微細削り法の効果は、同じ媒体上にいくつかの異な るフォーマット及び密度でデータを記憶させることができる点にある。例えば、 データを記憶するために用いられるプロトコルは、単純な道具を用いるかまたは 単に視覚によるかあるいはわずかに拡大するだけで人が読み取ることのできるデ ータ密度(寸法)で書き込むことができる。次に、このプロトコルを用いて、よ り高い密度(小さい寸法)及び異なるフォーマットで書かれた残りのデータを読 み取ることができる。したがって、実際、記憶装置からの情報の引き離し及び検 索方法が得られまた遠い将来記憶されたデータを読み取るために用いる必要なキ ーを提供するある種の「ロゼッタの石」をつくることができる。本来の「ロゼッ タの石」とは異なり、本発明の記憶媒体は、大きさが一つだけではなくさまざま に異なる情報を用い、また、本発明のデータ記憶媒体は、実際のデータを繰り返 して使用せず、単に残りのデータを読み取るためのキーを提供するものである。 本発明のデータ記憶システムは、単一の記憶媒体に複数の異なる種類の情報を 記憶させることができる。すなわち、英数字及び図形または記号キャラクタを単 一の基板に削り込むことができ、いずれの種類の情報も検索することができる。 他の一つの方法では、寸法の異なるキャラクタを単一の基板に 削り込むことができる。異なる寸法の中には、大量のデータを効率的に記憶させ ることを目的とした小さい寸法や視覚的に肉眼で読み取ることを目的とした大き い寸法を含めることができる。このようにすれば、大量のデータを一つの基板上 に記憶させることができ、しかも後日それも遠い将来このデータ記憶システムを 見た人にも、該基板上に情報が記憶されていることが明かとなる。さらに、基板 上に、直接、小さい寸法のキャラクタの読み取り方法に関する大きい寸法の説明 を含めることができる。そのようにすれば、大きい寸法の構造の周囲の基板の残 る部分さらには大きい寸法のキャラクタが削られた部分の中に小さい寸法のキャ ラクタを含めることもできる。 本発明の他の一実施形態にあっては、微細削り方法をアンテナの形成に使用す ることができる。基本的なモノポール・アンテナは、帯域フィルターとして作用 する共振構造体であるため、問題の周波数が該アンテナの帯域内にあると、アン テナの出力に信号が現われる。無線波(RF信号)は、通常、誘導変異場検出器す なわちアンテナを用いて検出される。一連のアンテナの配列を用いれば、信号対 雑音比を改善ししたがってアンテナ・システムの性能を改善する効果が得られる 。本発明の微細削り方法を用いれば、きわめて小さいアンテナ及びアンテナの配 列を生成することができ、そのような小さい寸法のアンテナ及びアンテナの配列 は、受信可能な周波数を増やすことに役立つ。一つの用途としては、容量性電荷 結合素子(CCCD)に小さいアンテナを接続し、それによってRF信号を光源として 用いて「画像」を生成することが挙げられよう。 データ記憶装置のための微細削り法にあっては、デジタル、英数字、及び3− D次元映像データを生成するために三つの別個の手順を用いることができる。い ずれの手順も、最終的にはミルストリーム・ファイルと呼ばれるファイルを生成 するもので、このファイルは、市販のデジタル/アナログ変換 器を用いて迅速に読み取り処理することができる。該ファイルは、下に示す形式 をとる。 s nf t[1]x[1]y[1] − − − t[np]x[np]y[np]、 ただし、s=3次元モード識別名、nf=フレーム反復数、np=データ行の総 数、t[i]x[i]y[i]t[i]=ナノ秒単位のビーム滞在時間、x[i ]=デジタル/アナログ変換器ユニット(0−4095)内の水平位置、y[i]= デジタル/アナログ変換器ユニット(0−4095)内の垂直水平位置である。s、 nf、及びnpの入力は、集合的にミルストリーム・ヘッダーと呼ばれるもので ある。使用されるデジタル及び英数字データ・モードは、実際には、3次元映像 削りの制約された事例である。単純なライン及びボックスの削りには別個のソフ トウエアを使用することができ、この種のソフトウエアは、FEI社からIonmillバ ージョン2.5として市販されている。 イオン削りの制御のためのデジタル・データの処理は、次のように行なうこと ができる。まず、デジタル・データを数学的に導くかまたはMathcad内部で実行 するように開発された下記のソフトウエアを用いた市販の数字及び図形パッケー ジであるMathcad4.0によって読み込む。例として、下記のような1及び0からな る交互の配列を用いて対応するイオン・ビーム滞在時間のデジタル・アレーを生 成した。 0 1 0 1 0 1 0 1 1 1 1 1 1 1 1 1 0 1 0 1 0 1 0 1 F = 1 1 1 1 1 1 1 1 0 1 0 1 0 1 0 1 1 1 1 1 1 1 1 1 0 1 0 1 0 1 0 1 1 1 1 1 1 1 1 1 その後のイオン削りで用いるテスト・パターンを生成することができる。例え ば、下記のようなソフトウエアの例の中で上に述べたデジタル・アレーを生成す ることができる。 セットアップ計算指数 デジタル・アレーの生成(他の式を用いることも可能) X、Yアレーの生成 DACユニット内の滞在(x、y)のミル・ファイルの生成 n、m、D、T、及びEの値あるいはパラメーターを調節することによってこ の例のバリエーションを得ることができる。これらの中間ファイル(例 、NGRATE2.prn)は、左に位置調節され、t、x、yの値を分けるの は一つのスペースのみである。これが、FEI社から市販されているイオンミル ・ソフトウエア・パッケージに必要なファイル構造である。その後のファイル処 理には、マイナス符号を除去して位置を一つ左にずらし、適当なヘッダーを付け ることが必要となる。これは、BASICで変換ルーチンを書いて中間のxxx .prnファイルから最終のxxx.strミル・ファイルを生成するために便 利なことが明らかにされている。好ましいファイル変換ルーチンの例を下に示す 。 あるいは、上の目的のために任意のテキスト・エディター・パッケージを用い てファイルの変換を行なうこともできる。便利なパッケージとしては、ウインド ウズ・バージョン2.0用Microsoft Word「見つけて置換」機能を挙げることがで きる。通常、「見つける」操作によって例えば「“−”」を見つけ、「全部置換 」操作を用いて「“ ”」へ変換することができる。これで、左への位置のずら しが自動的に行なわれる。ここで、処理ずみファイルをxxx.txtとして記 憶させることができ、最後に、xxx.txtファイルにミルストリーム・ヘッ ダーを付けてFEI社のIonmillソフトウエア・バージョン2.5とコンパチブルなx xx.strファイルとして記憶させることができる。 人が読める文字など英数字データ、露光マスク、ビジネス・カード・ロゴ、あ るいはフラットベッド・スキャナ内に置いてグレースケール像を生成することの できる品目、あるいはビデオ・フレーム・グラバーの出力などがこのカテゴリー に入る。一般に、処理の仕組みは、(1)品目(例:教科書の一ページ)を走査 し関連する映像区域を電子的に摘み取る、(2)選択した区域のコントラストを 強める、(3)白黒像に変換する、(4)変換した像を例えばPostScript(後書 き)ファイルとして保管する、(5)PostScript(後書き)ファイルからヘッダ ー及びフッター(脚注)を除去して受注Mathcadファイルとして保管する 、(6)黒い区域(例:黒くプリントされたテキスト)に滞在時間を割り当てる 、(7)ファイルをベクトル化する(すなわち、不必要な白い区域からデータを 除去する)、(8)デジタル・データについて上に述べた方法を用いて例えば第 3図に示すような最終のミルストリーム・ファイルを生成する、ものである。 作業(1)−(4)は、メニュー機能を用いるIBM−PCアダプターの付い たエプソンES−300−Cフラットベッド・スキャナを用いて、 Colorlabバージョン4.0と呼ばれる市販のスキャナ・パッケージの中で行なうこ とができる。作業(5)は、削除機能を用いて、ウインドウズ・バージョン2.0 用Microsoft Word内で行なうことができる。作業(5)−(6)は、下に示す例 のようにMathcad内部で実行するように開発された付加的ソフトウエアを用いて 行なうことができる。 このソフトウエアは、Colorlab内で生成されたファイルをプリントされたロゴ を走査して白黒のPostcriptファイルにすることで読み取るように設計されてい る。次に、Microsoft WinWord内で、Postscriptヘッダー及びフッターを除去し 、グレースケール・テキスト0−F(16進)を0−9(10進)で置換し(本発明 の発明者等は0−1(10進)という最も単純な事例を選んだ)、キャラクタを一 つ置きにスペースで置換してデジットが一個づつ認識できるようにする(WinWor d内のきわめて大きい寸法のページを参照)。解像度の損はないが、WinWord内の 列の数は倍になる(この例は、721piで実行された)。ファイルは、239行と78/ 2=39列の構造のMathcadファイルのlanlblk.prnとして記憶させた。ロスアラ モスのロゴは、次のようになる。 注:イオン・ミル・ファイル内に正しい位置を生成するためにはQRの鏡像が必 要である。 作業(7)は、デジタル・データに関して上に説明したようにして行なうことが できる。 あるいは、作業(3)−(5)をとばして、グレースケール像をTIFF(x xx.tif、若干のフレーバー)、Windows Bitmap(xxx.bmp)、Wind ows Paintbrush(xxx.pcx)、TARGA(xxx.tga)、またはグ レースケールPostcriptファイル(xxx.eps)として保管することもでき る。次に、ソフトウエア・パッケージMochaバージョン1.1内部のメニュー・ コマンドを用いて画素の強度をアレー・フォーマットで抽出し、コンマまたはス ペースで境界を定めたASCIIストリング・ファイル(xxx.dat)として記 憶させる。次に、下に示す例のようにMathcad内部で実行するために書かれた他 のソフトウエア・ルーチンによって作業(6)が完了する。 このプログラムは、Mocha V1.1の作業シートから画素強度を抽出し、その 後のIonmill xxx.strファイルのためのIonmill xxx.prn先駆ファ イルを生成する。N=x要素の#、M=y要素の#、P=画素の#=行(Mt) 。最初の読み取りファイルは、lanllog.datである。他のファイルの読み取りに は必要に応じて変更を行なう。他の変更:WRITEPRN(lanlmoc)。本発 明の発明者等は、ミル・ファイルの寸法を基本画素のみに縮小するベクトル化ル ーチンも組み込んだ。 Ionmill先駆ファイルの構成に用いるためのPostcriptファイルの構造は、キャ ラクタの「j」×「i」の指定を含むxxx.epsヘッダーを必要とする。次 に、テキスト・エディター内でキャラクタの間にスペースを加えて対応するファ イルの寸法が倍になるようにする。例:78×70は、156×70となるが、解像度は 損失する。これらのファイルは、Ionmillソフトウエアの収容限度まで処理する ことができる。ただし、テキストの走査像は、三角法の方向すなわち反時計回り にに+90度回転する必要があることに注意が必要である。さもないと、Ionmill ファイルのための正しい方向を生成するためには、きわめて遅いマトリックス変 換機能が必要となる。 3−D映像データは、実際には、基板材料内にイオン削りされた3−D構造と して記憶される。このカテゴリーのすべての構造は、従属変数関数として数学的 に下記の式で表わすことができる。 z=t(x、y) これには、あたえられる一組のx及びyに対してtには一つの値しか許されな いという制約もある。物理的には、これによって、イオン・ビームの視線から外 れたすべての場所での削りが除外される。しかし、このzの単一の値という制約 は、異なる方向から順次構造的に削ることによって除去することができる。 単一の方向の3−D削りは、通常、配列z[i、j]を計算し、検査のた めにプロットしてそのグラフを作成し、デジタル及び英数キャラクタ・データの 場合にはすでに述べたと同じ形式のイオンミル先駆ファイルを生成して行なう。 ミルストリーム・ファイルを得るためのその後の処理は、すでに述べたとおりで ある。これまでに削られた各3−Dの形状に関する別個のソフトウエア・ルーチ ンについてもすでに述べた。加工形状に関する方程式は、それぞれ固有のもので あるが、配列のインデックス付け、データのフォーマット化、及びファイルの書 き込み及び変換の仕組みは、このカテゴリーのすべての形状に関して同じである 。下に示す例は、3−D機能(この場合には、ねじ溝)を生成するために必要な 典型的なソフトウエアである。 第4図は、上のプログラムによって生成された3−D構造をプロットしたものを 示す。第5図は、実際に削れられた構造の原子力顕微鏡像である。 上に述べた手法を用いれば、本発明の方法を拡張して、ビデオ生成TIFF、 Bitmap、TARGA、または他の図形ファイルから抽出したグレースケー ルまたはカラー画像値にもとづいて3−Dの形状を削ることができる。これらの 形状からのデータは、原子力顕微鏡法及び走査トンネル 顕微鏡法などの走査探測手法から得られる深い情報から回収することができる。 本発明は、下に示す例によって具体的に説明することができる。ただし、当業 者には、さまざまな修正及び変更が可能なことが明らかであろう。 例 1 アルファベットのすべての大文字及び小文字を含めて52の英数字キャラクタを タイプした。これらのタイプした文字を走査してデータ・ファイルとし、FEI イオンミル機械のソフトウエアが認識するようにミルストリーム・ファイルに変 換し、該機械が高炭素鋼(HCS)ほぞピンにキャラクタをエッチングあるいは 微細削りした。キャラクタは、10ミクロンの大きさで、520平方ミクロンのほぞ ピン上の全スペースを埋めた。同じHCSほぞピン上に付加的な4キャラクタを 1キャラクタ当たり1平方ミクロンの大きさで書き込んだ。削ったデータとを検 索するために、実際に削った表面を500倍に拡大にした走査ビデオ・プリントを 市販の文字認識ソフトウエア・アプリケーションへ送り込んだ。このテストの結 果、未熟練のレベルでも、キャラクタ認識プログラムが削られたキャラクタの大 半を認識できることが示された。削られたキャラクタは、原子力顕微鏡法の測定 限度で判定して、少なくとも15の深さ対幅のアスペクト比を有していた。 以上、本発明を具体的かつ詳細に説明したが、このような詳細が本発明の範囲 の限界を示すものとして理解されるべきではなく、本発明の範囲は、あくまで添 付の請求の範囲によって確定されるべものである。
【手続補正書】 【提出日】1997年1月23日 【補正内容】 1.明細書の第11頁、第16頁、第17頁、第18頁、第19頁をそれぞれ別紙の通りに 補正する。 0 1 0 1 0 1 0 1 1 1 1 1 1 1 1 1 0 1 0 1 0 1 0 1 F = 1 1 1 1 1 1 1 1 0 1 0 1 0 1 0 1 1 1 1 1 1 1 1 1 0 1 0 1 0 1 0 1 1 1 1 1 1 1 1 1 その後のイオン削りで用いるテスト・パターンを生成することができる。例え ば、下記のようなソフトウエアの例の中で上に述べたデジタル・アレーを生成す ることができる。 セットアップ計算指数 デジタル・アレーの生成(他の式を用いることも可能) X、Yアレーの生成 DACユニット内の滞在(x、y)のミル・ファイルの生成 n、m、D、T、及びEの値あるいはパラメーターを調節することによってこ の例のバリエーションを得ることができる。これらの中間ファイル(例 Colorlabバージョン4.0と呼ばれる市販のスキャナ・パッケージの中で行なうこ とができる。作業(5)は、削除機能を用いて、ウインドウズ・バージョン2.0 用Microsoft Word内で行なうことができる。作業(5)−(6)は、下に示す例 のようにMathcad内部で実行するように開発された付加的ソフトウエアを用いて 行なうことができる。 このソフトウエアは、Colorlab内で生成されたファイルをプリントされたロゴ を走査して白黒のPostcriptファイルにすることで読み取るように設計されてい る。次に、Microsoft WinWord内で、Post Scriptヘッダー及びフッターを除去し 、グレースケール・テキスト0−F(16進)を0−9(10進)で置換し(本発明 の発明者等は0−1(10進)という最も単純な事例を選んだ)、キャラクタを一 つ置きにスペースで置換してデジットが一個づつ認識できるようにする(WinWor d内のきわめて大きい寸法のページを参照)。解像度の損はないが、WinWord内の 列の数は倍になる(この例は、721piで実行された)。ファイルは、239行と78/ 2=39列の構造のMathcadファイルのlanlblk.prnとして記憶させた。ロスアラ モスのロゴは、次のようになる。 注:イオン・ミル・ファイル内に正しい位置を生成するためにはQRの鏡像が必 要である。 作業(7)は、デジタル・データに関して上に説明したようにして行なうことが できる。 あるいは、作業(3)−(5)をとばして、グレースケール像をTIFF(x xx.tif、若干のフレーバー)、Windows Bitmap(xxx.bmp)、Wind ows Paintbrush(xxx.pcx)、TARGA(xxx.tga)、またはグ レースケールPostCriptファイル(xxx.eps)として保管することもでき る。次に、ソフトウエア・パッケージMochaバージョン1.1内部のメニュー・ コマンドを用いて画素の強度をアレー・フォーマットで抽出し、コンマまたはス ペースで境界を定めたASCIIストリング・ファイル(xxx.dat)として記 憶させる。次に、下に示す例のようにMathcad内部で実行するために書かれた他 のソフトウエア・ルーチンによって作業(6)が完了する。 このプログラムは、Mocha V1.1の作業シートから画素強度を抽出し、その 後のIonmill xxx.strファイルのためのlonmill xxx.prn先駆ファ イルを生成する。N=x要素の#、M=y要素の#、P=画素の#=行(Mt) 。最初の読み取りファイルは、lanllog.datである。他のファイルの読み取りに は必要に応じて変更を行なう。他の変更:WRITEPRN(lanlmoc)。本発 明の発明者等は、ミル・ファイルの寸法を基本画素のみに縮小するベクトル化ル ーチンも組み込んだ。 Ionmill先駆ファイルの構成に用いるためのPostcriptファイルの構造は、キャ ラクタの「j」×「i」の指定を含むxxx.epsヘッダーを必要とする。次 に、テキスト・エディター内でキャラクタの間にスペースを加えて対応するファ イルの寸法が倍になるようにする。例:78×70は、156×70となるが、解像度は 損失する。これらのファイルは、Ionmillソフトウエアの収容限度まで処理する ことができる。ただし、テキストの走五像は、三角法の方向すなわち反時計回り にに+90度回転する必要があることに注意が必要である。さもないと、Ionmill ファイルのための正しい方向を生成するためには、きわめて遅いマトリックス変 換機能が必要となる。 3−D映像データは、実際には、基板材料内にイオン削りされた3−D構造と して記憶される。このカテゴリーのすべての構造は、従属変数関数として数学的 に下記の式で表わすことができる。 z=t(x、y) これには、あたえられる一組のx及びyに対してtには一つの値しか許されな いという制約もある。物理的には、これによって、イオン・ビームの視線から外 れたすべての場所での削りが除外される。しかし、このzの単一の値という制約 は、異なる方向から順次構造的に削ることによって除去することができる。 単一の方向の3−D削りは、通常、配列z[i、j]を計算し、検査のた めにプロットしてそのグラフを作成し、デジタル及び英数キャラクタ・データの 場合にはすでに述べたと同じ形式のイオンミル先駆ファイルを生成して行なう。 ミルストリーム・ファイルを得るためのその後の処理は、すでに述べたとおりで ある。これまでに削られた各3−Dの形状に関する別個のソフトウエア・ルーチ ンについてもすでに述べた。加工形状に関する方程式は、それぞれ固有のもので あるが、配列のインデックス付け、データのフォーマット化、及びファイルの書 き込み及び変換の仕組みは、このカテゴリーのすべての形状に関して同じである 。下に示す例は、3−D機能(この場合には、ねじ溝)を生成するために必要な 典型的なソフトウエアである。 第4図は、上のプログラムによって生成された3−D構造をプロットしたものを 示す。第5図は、実際に削れられた構造の原子力顕微鏡像である。 上に述べた手法を用いれば、本発明の方法を拡張して、ビデオ生成TIFF、 Bitmap、TARGA、または他の図形ファイルから抽出したグレースケー ルまたはカラー画像値にもとづいて3−Dの形状を削ることができる。これらの 形状からのデータは、原子力顕微鏡法及び走査トンネル
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. ターゲット基板内部に高いアスペクト比の微小構造を機械加工する方法に おいて、 ターゲット基板を超高真空環境内に置く工程、 前記ターゲット基板内に削られた微小構造の形成中にコンピュータ制御集束イ オンビームを使用するためのコンピュータ・データ・ファイルを生成する工程、 及び、 ターゲット基板を該コンピュータ・データ・ファイルを使用したソフトウエア によって制御されるコンピュータ制御集束イオンビームに露光させる工程からな り、それによって前記ターゲット基板内に高いアスペクト比の削られた微小構造 を形成することを特徴とする方法。 2. 削られた深さ対削られた幅のアスペクト比が10対1より大きい請求の範囲 1に記載の方法。 3. 前記方法が薬品を使用しない請求の範囲2に記載の方法。 4. 前記微小構造が帯域フィルターである請求の範囲1に記載の方法。 5. 前記微小構造がデータ記憶媒体である請求の範囲1に記載の方法。 6. 内部キャラクタが削られた基板を有し、前記削られたキャラクタが、約1 から約50までの深さ対幅のアスペクト比を有することを特徴とする耐久性データ 記憶媒体。 7. 前記削られたキャラクタが、デジタル・キャラクタ、英数字キャラクタ、 記号キャラクタ、及び図形キャラクタからなるグループから選ばれるキャラクタ である請求の範囲6に記載の耐久性データ記憶媒体。 8. 前記基板が、イリジウム、タンタル、タングステン、モリブデン、ニオブ 、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、銅、ニッケル、コバルト、シリ コン、金、スカンジウム、及びパルス・ガス・アルミニウムからな るグループから選ばれる材料でつくられる請求の範囲6に記載の耐久性データ記 憶媒体。 9. 前記削られたキャラクタが、各々約1平方ミクロンを占める請求の範囲6 に記載の耐久性データ記憶媒体。 10. 前記削られたキャラクタが、各々約15ナノメートルの最小直径のスペース を占めるデジタル・キャラクタである請求の範囲6に記載の耐久性データ記憶媒 体。 11. 前記削られたキャラクタの各々が単一の凹部である請求の範囲6に記載の 耐久性データ記憶媒体。 12. 前記削られたキャラクタが、区別できる削られたキャラクタを含まないほ ぼ滑らかな表面を形成するレベルまでオーバーコート材料で充填される請求の範 囲11に記載の耐久性データ記憶媒体。 13. 前記削られたキャラクタの少なくとも一部分が、前記基板上にほぼ滑らか な表面を形成するのに十分なレベルまでオーバーコート材料で充填され、それに よって前記削られたキャラクタの前記少なくとも一部分がキャラクタとして区別 できなくなる請求の範囲11に記載の耐久性データ記憶媒体。 14. オーバーコート材料で充填された前記削られたキャラクタの少なくとも一 部分が、前記オーバーコート材料が除去され、前記削られたキャラクタが、キャ ラクタとして区別できる請求の範囲12に記載の耐久性データ記憶媒体。 15. 前記削りは、深さ及びアスペクト比が可変の画素として記憶されるデータ をあらわし、前記データが、ハーフトーン像、グレースケール像、及びカラー像 からなるグループから選ばれる映像として回収可能である請求の範囲6に記載の 耐久性データ記憶媒体。 16. ターゲットとなる基板内部に高いアスペクト比の微小構造を機械加工 するための微細削りシステムにおいて、 チャンバー及びポンプ手段を含む超高真空システム、 ターゲットとなる基板のホールダー、及び、 前記ターゲットとなる基板内に高いアスペクト比の削られた微小構造を形成す るのに適したあらかじめ定められたコンピュータ・データ・ファイルを利用する ソフトウエアによって制御されるコンピュータ制御集束イオン・ビーム、 からなることを特徴とする微細削りシステム。
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