JPH09511691A - 超高真空集束イオンビーム微細削り機及びそれによる物品 - Google Patents
超高真空集束イオンビーム微細削り機及びそれによる物品Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. ターゲット基板内部に高いアスペクト比の微小構造を機械加工する方法に おいて、 ターゲット基板を超高真空環境内に置く工程、 前記ターゲット基板内に削られた微小構造の形成中にコンピュータ制御集束イ オンビームを使用するためのコンピュータ・データ・ファイルを生成する工程、 及び、 ターゲット基板を該コンピュータ・データ・ファイルを使用したソフトウエア によって制御されるコンピュータ制御集束イオンビームに露光させる工程からな り、それによって前記ターゲット基板内に高いアスペクト比の削られた微小構造 を形成することを特徴とする方法。 2. 削られた深さ対削られた幅のアスペクト比が10対1より大きい請求の範囲 1に記載の方法。 3. 前記方法が薬品を使用しない請求の範囲2に記載の方法。 4. 前記微小構造が帯域フィルターである請求の範囲1に記載の方法。 5. 前記微小構造がデータ記憶媒体である請求の範囲1に記載の方法。 6. 内部キャラクタが削られた基板を有し、前記削られたキャラクタが、約1 から約50までの深さ対幅のアスペクト比を有することを特徴とする耐久性データ 記憶媒体。 7. 前記削られたキャラクタが、デジタル・キャラクタ、英数字キャラクタ、 記号キャラクタ、及び図形キャラクタからなるグループから選ばれるキャラクタ である請求の範囲6に記載の耐久性データ記憶媒体。 8. 前記基板が、イリジウム、タンタル、タングステン、モリブデン、ニオブ 、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、銅、ニッケル、コバルト、シリ コン、金、スカンジウム、及びパルス・ガス・アルミニウムからな るグループから選ばれる材料でつくられる請求の範囲6に記載の耐久性データ記 憶媒体。 9. 前記削られたキャラクタが、各々約1平方ミクロンを占める請求の範囲6 に記載の耐久性データ記憶媒体。 10. 前記削られたキャラクタが、各々約15ナノメートルの最小直径のスペース を占めるデジタル・キャラクタである請求の範囲6に記載の耐久性データ記憶媒 体。 11. 前記削られたキャラクタの各々が単一の凹部である請求の範囲6に記載の 耐久性データ記憶媒体。 12. 前記削られたキャラクタが、区別できる削られたキャラクタを含まないほ ぼ滑らかな表面を形成するレベルまでオーバーコート材料で充填される請求の範 囲11に記載の耐久性データ記憶媒体。 13. 前記削られたキャラクタの少なくとも一部分が、前記基板上にほぼ滑らか な表面を形成するのに十分なレベルまでオーバーコート材料で充填され、それに よって前記削られたキャラクタの前記少なくとも一部分がキャラクタとして区別 できなくなる請求の範囲11に記載の耐久性データ記憶媒体。 14. オーバーコート材料で充填された前記削られたキャラクタの少なくとも一 部分が、前記オーバーコート材料が除去され、前記削られたキャラクタが、キャ ラクタとして区別できる請求の範囲12に記載の耐久性データ記憶媒体。 15. 前記削りは、深さ及びアスペクト比が可変の画素として記憶されるデータ をあらわし、前記データが、ハーフトーン像、グレースケール像、及びカラー像 からなるグループから選ばれる映像として回収可能である請求の範囲6に記載の 耐久性データ記憶媒体。 16. ターゲットとなる基板内部に高いアスペクト比の微小構造を機械加工 するための微細削りシステムにおいて、 チャンバー及びポンプ手段を含む超高真空システム、 ターゲットとなる基板のホールダー、及び、 前記ターゲットとなる基板内に高いアスペクト比の削られた微小構造を形成す るのに適したあらかじめ定められたコンピュータ・データ・ファイルを利用する ソフトウエアによって制御されるコンピュータ制御集束イオン・ビーム、 からなることを特徴とする微細削りシステム。
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