JPH0952895A - 新規アミノフェニルホスホン酸化合物、その製造方法、及びそれを含有する医薬組成物 - Google Patents

新規アミノフェニルホスホン酸化合物、その製造方法、及びそれを含有する医薬組成物

Info

Publication number
JPH0952895A
JPH0952895A JP8187255A JP18725596A JPH0952895A JP H0952895 A JPH0952895 A JP H0952895A JP 8187255 A JP8187255 A JP 8187255A JP 18725596 A JP18725596 A JP 18725596A JP H0952895 A JPH0952895 A JP H0952895A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
formula
compound
bis
carbonylamino
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8187255A
Other languages
English (en)
Inventor
Alex Cordi
アレックス・コルディ
Patrice Desos
パトリス・デゾ
Angela D Morris
アンジェラ・デー・モリス
Ghanem Atassi
ガーナム・アタシィ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ADIR SARL
Original Assignee
ADIR SARL
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ADIR SARL filed Critical ADIR SARL
Publication of JPH0952895A publication Critical patent/JPH0952895A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having sulfur atoms, with or without selenium or tellurium atoms, as the only ring hetero atoms
    • C07F9/655345—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having sulfur atoms, with or without selenium or tellurium atoms, as the only ring hetero atoms the sulfur atom being part of a five-membered ring
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P27/00—Drugs for disorders of the senses
    • A61P27/02—Ophthalmic agents
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P35/00—Antineoplastic agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3834—Aromatic acids (P-C aromatic linkage)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3882—Arylalkanephosphonic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40—Esters thereof
    • C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4021—Esters of aromatic acids (P-C aromatic linkage)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07F9/572—Five-membered rings
    • C07F9/5728—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings or carbocyclic ring systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/655—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having oxygen atoms, with or without sulfur, selenium, or tellurium atoms, as the only ring hetero atoms
    • C07F9/65515—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having oxygen atoms, with or without sulfur, selenium, or tellurium atoms, as the only ring hetero atoms the oxygen atom being part of a five-membered ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 糖尿病性網膜症、慢性関節リウマチ、血管
腫、固形腫瘍などにおける異常な脈管形成の阻害に有用
であって、より有効、より特異的であって、より毒性の
低い脈管形成阻害化合物を提供する。 【解決手段】 式（Ｉ）： 具体的には、例えば で示される化合物、その製造方法、及びそれを含有する
医薬組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規アミノフェニ
ルホスホン酸化合物、その製造方法、及びそれを含有す
る、脈管形成が関与する疾患における脈管形成阻害剤と
して有用な医薬組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】脈管形成（又は新生血管形成）は、新規
毛細血管の成長及び発達と定義されている。脈管形成の
過程は、胎児の発達、創傷の正常な治癒、及び月経後の
子宮内膜の発達など多くの生理学的状態において必須で
ある。このような状況以外では、正常成人における脈管
形成は稀であり、数年にわたって細胞更新の回数を測定
したところ、血管壁を形成する内皮細胞の有糸分裂は、
非常に緩徐である。
【０００３】異常な脈管形成（つまり、病的な症候群に
よる新規血管の成長の刺激である）は、多くの疾患、特
に糖尿病性網膜症、慢性関節リウマチ、血管腫、固形腫
瘍の成長、及び転移においては、確立された特性であ
る。
【０００４】腫瘍学の分野においては、固形腫瘍の成長
は、新規血管の定常的な発達に完全に依存しており、あ
る種のガンの転移においては、原発腫瘍の大きさと相関
していることが認められている(J. Fokman, New Engl.
Med., 285 (1974), 1182-1185)。
【０００５】したがって、脈管形成阻害剤を用いた薬物
療法は、原発腫瘍の成長を停止させ、転移を予防又は減
少させ、第二の腫瘍の発現を予防すると考えられる。こ
のような脈管形成阻害剤は、脈管形成活性が明らかであ
る上記のような非新生物性疾患の治療にも有用である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような治療法が必
要とされているため、より有効であり、より特異的であ
って、より毒性の低い有効物質を得るために、新規脈管
形成阻害化合物を開発することが求められてきた。
【０００７】脈管形成阻害剤のうち、スラミンは、良く
知られている化合物である。更に、ある種のスラミン誘
導体が、文献中で検討されており、特にK.D. Jentsch e
t al. (J. Gen. Virol., 68, 2183-2192, 1987) 、又は
ＷＯ ９０／１５８１６号記載の化合物がこれに該当す
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明化合物は、これら
が新規化合物であることに加えて、先行技術に記載され
るスラミン及びその誘導体と比較して、著しい細胞毒性
を示さずに、特に強力な活性を有するという利点を有す
る。更に、これらの化合物は、ＨＩＶの増殖周期に対し
ても活性を有する。
【０００９】本発明は、より詳細には、式（Ｉ）：
【００１０】
【化１０】
【００１１】〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は、同一又は異なっ
て、水素もしくはハロゲン原子、直鎖もしくは分岐鎖状
の（Ｃ1 −Ｃ6)アルキル基、直鎖もしくは分岐鎖状の
（Ｃ1 −Ｃ6)アルコキシ基、ニトロ基、又はトリハロメ
チル基を示し；Ｘは、ＣＯ、ＳＯ2 又はＣＨ2 を示し；
Ａ1 は、０〜６個の二重結合を有する直鎖もしくは分岐
鎖状の（Ｃ1 −Ｃ20）アルキレン鎖を示し、ここで本ア
ルキレン鎖の１個以上の−ＣＨ2 −基は、場合により以
下の基：置換もしくは非置換フェニレン、置換もしくは
非置換ナフチレン、置換もしくは非置換アントラセニレ
ン、（Ｃ3 −Ｃ7)シクロアルキレン、
【００１２】
【化１１】
【００１３】（式中、Ａ3 は、−（ＣＨ2)m −（ここ
で、ｍは、０、１又は２である）、−（ＣＨ＝ＣＨ）−
又はＳＯ2 を示す）、
【００１４】
【化１２】
【００１５】（式中、Ｚは、Ｏ、Ｓ又はＮＲ5 （ここ
で、Ｒ5 は、水素原子又は直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ
1 −Ｃ6)アルキル基を示す）を示す）、
【００１６】
【化１３】
【００１７】（式中、ｑ及びｑ′は、同一又は異なっ
て、０、１又は２である）、又は
【００１８】
【化１４】
【００１９】（式中、Ｚは、上記で定義したとおりであ
る）のいずれかによって置換されており；Ａ2 は、−
（ＣＨ2)n −（ここで、ｎは、０、１、２又は３であ
る）又は−ＣＨ＝ＣＨ−を示し；そしてＲ3 及びＲ4
は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖もしくは分岐
鎖状の（Ｃ1 −Ｃ6)アルキル基を示す〕で示される化合
物、その立体異性体、又は薬学的に許容しうる酸もしく
は塩基とのその付加塩に関する。
【００２０】立体異性体は、幾何異性体、鏡像異性体、
ジアステレオ異性体、エピマー及び配座異性体を意味す
る。また、薬学的に許容しうる酸としては、塩酸、臭化
水素酸、硫酸、ホスホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、
乳酸、ピルビン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、
フマル酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、アスコルビ
ン酸、メタンスルホン酸、ショウノウ酸などが挙げられ
るが、これらに限定されるわけではない。
【００２１】薬学的に許容しうる塩基としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、tert
−ブチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定され
るわけではない。
【００２２】置換もしくは非置換フェニレン基、置換も
しくは非置換ナフチレン基、又は置換もしくは非置換ア
ントラセニレン基は、場合により、ハロゲン原子、ある
いは直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ6)アルキル、直
鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1−Ｃ6)トリハロアルキル、
直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ6)アルコキシ、ヒド
ロキシル、ニトロ、シアノ、又はアミノ（場合により、
一つ以上の直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ6)アルキ
ル基により置換されている）基の一つ以上により置換さ
れていることを意味すると理解される。
【００２３】本発明は、また式（Ｉ）の化合物の製造方
法であって、式（II）：
【００２４】
【化１５】
【００２５】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＡ2 は、式（Ｉ）
で定義したとおりであり、そしてＲ′3 及びＲ′4 は、
同一又は異なって、直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ
4)アルキル基を示す）で示されるアミンを出発原料とし
て、塩基性媒質中、式（III)：Ｈａｌ−Ｘ−Ａ1 −Ｘ−
Ｈａｌ（式中、Ｈａｌは、ハロゲン原子を示し、Ｘ及び
Ａ1 は、式（Ｉ）で定義したとおりである）で示される
ハロゲン化物１／２当量と反応させて、式（Ｉ）の化合
物の特定の化合物である式（Ｉ／ａ）：
【００２６】
【化１６】
【００２７】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ′3 、Ｒ′4 、
Ｘ、Ａ1 及びＡ2 は、上記で定義したとおりである）で
示されるジエステルを得、所望であれば、これを酸性媒
質中、式（Ｉ）の化合物の特定の化合物である対応する
モノエステルに変換するか、又は臭化トリメチルシリル
の存在下、式（Ｉ）の化合物の特定の化合物である対応
するホスホン酸に変換し、このジエステル、モノエステ
ル又はホスホン酸を、適当であれば、標準的な精製法に
より精製し、適当であれば、標準的な分離法によりその
エナンチオマー又はジアステレオマーに分離し、所望で
あれば、薬学的に許容しうる酸もしくは塩基とのその付
加塩に変換することからなる方法にも及ぶ。
【００２８】式（II）の化合物は、式（Ｖ）：
【００２９】
【化１７】
【００３０】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は、式（Ｉ）で定義
したとおりである）で示されるアミンを、塩基性媒質
中、臭化ベンジルなどの保護基を用いて保護して、式
（VI）：
【００３１】
【化１８】
【００３２】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は、式（Ｉ）で定義
したとおりであり、Ｐは、保護基を示す）で示される化
合物を得、これを触媒の存在下、ホスホン酸ジアルキル
と反応させて、式（VII)：
【００３３】
【化１９】
【００３４】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＰは、式（VI）で
定義したとおりであり、Ｒ′3 及びＲ′4 は、同一又は
異なって、直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ4)アルキ
ル基を示す）の化合物を得、そのアミン官能基の保護基
を除去して、対応する式（II）の化合物を得ることによ
って得られる。
【００３５】式（Ｉ）の化合物の置換基Ｒ1 及びＲ2
は、適宜置換された式（II）の化合物を出発物質として
用いるか又は、芳香族環を置換するための標準的方法に
より、合成の終了時に選択した置換基を導入することに
よって得られる。
【００３６】Ａ1 又はＡ2 に二重結合を有する式（Ｉ）
の化合物は、適当であれば、還元反応に付して、式
（Ｉ）の対応する水素化化合物としてもよい。
【００３７】本発明の主題は、また、式（Ｉ）の化合物
の少なくとも一つを有効成分として、単独で、又は薬学
的に許容しうる無毒、不活性な一つ以上の賦形剤もしく
は担体と組み合わせて含有する医薬組成物である。
【００３８】本発明の医薬組成物としては、特に経口、
非経口又は鼻腔内投与に適したもの、中でも裸錠、糖衣
錠、舌下錠、カプセル、トローチ、座剤、クリーム剤、
軟膏、皮膚用ゲルなどが挙げられる。
【００３９】有効な投与量は、患者の年齢及び体重、疾
患の特性及び重症度、ならびに投与経路によって異な
る。投与経路としては、経口、鼻腔内、局所、直腸内、
非経口投与が挙げられる。一般的には、治療のために
は、１mg〜１，０００mgを、２４時間当たり１〜３回に
分けて投与する。
【００４０】
【実施例】以下に示す実施例は、本発明を説明するもの
であり、本発明を制限するものではない。以下に記載す
る調製例は、本発明化合物の調製に有用である合成中間
体を得るためのものである。本発明化合物の構造は、標
準的な分光分析法（核磁気共鳴、赤外分光法、質量分析
法など）によって確認した。
【００４１】調製例１：４−アミノフェニルホスホン酸
ジエチルエステル 工程Ａ：４−ブロモフェニルジベンジルアミン アセトニトリル（５００ml）にｐ−ブロモアニリン（５
０ｇ、０．２９０mol)を含む溶液に、ピリジン（５６．
３ml、０．６９８mol)を５℃で加え、臭化ベンジル（８
４ml、０．６９８mol)を滴下して加えた。混合物を室温
で一夜撹拌し、次に還流下で１時間撹拌した。アセトニ
トリルを留去し、残渣をジクロロメタンに取った。有機
相を１N ＨＣｌ、次に飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して、モノ−及びジベ
ンジル化生成物の混合物（５０：５０）（６８．５ｇ）
を得た。混合物を、シリカクロマトグラフィー（シクロ
ヘキサン／酢酸エチル、７０：３０）で分離し、目的生
成物を得た。 融点：１２３℃。
【００４２】工程Ｂ：４−ジベンジルアミノフェニルホ
スホン酸ジエチルエステル ＴＨＦ５０ml及びＤＭＦ１０mlに、工程Ａ記載の化合物
２７ｇ、ホスホン酸ジエチル２３ml（１７８mmol）、ト
リエチルアミン２５ml（１７９mmol）及びテトラキスト
リフェニルホスフィンＰｄ（０）３．５ｇ（約３．５mo
l ％）を含む溶液を、窒素流下、還流するまで加熱し
た。１時間の還流後、テトラキストリフェニルホスフィ
ンＰｄ（０）１．６ｇを更に加え、８時間還流を続け
た。更にＴＨＦ １０ml、トリエチルアミン１０ml、及
びテトラキストリフェニルホスフィンＰｄ（０）１．５
ｇを加えた。還流下、２４時間、加熱を続けた。反応混
合物から、黄色の沈殿（触媒）を濾去し、濾液を濃縮
し、残渣を酢酸エチルに取った。有機相を１N ＨＣｌ、
次に飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した。粗反応生成物（３８ｇ）を、溶離液として５
０：５０シクロヘキサン／酢酸エチル混合物及び１００
％酢酸エチルを用いたシリカクロマトグラフィーに付し
て、目的生成物を得た。
【００４３】工程Ｃ：４−アミノフェニルホスホン酸ジ
エチルエステル 上記の工程Ｂ記載の化合物（１０ｇ）をエタノール４０
０mlに溶解し、パール（Parr）容器中、３バールで、湿
潤１０％Ｐｄ／Ｃ ２ｇの存在下、６０℃まで２４時間
加熱しながら水素化を行った。触媒を濾去し、濾液を蒸
発乾固させて、純粋な４−アミノフェニルホスホン酸ジ
エチルエステル７ｇを得た。 融点：１１２〜１１６℃
【００４４】調製例２：３−アミノフェニルホスホン酸
ジエチルエステル 出発原料として３−ブロモアニリンを用い、調製例１に
記載の方法により、目的生成物を得た。
【００４５】調製例３：３−アミノフェニル−１，５−
ジホスホン酸ジエチルエステル 出発原料としてJ. Org. Chem. 24, 595-598, 1959 記載
の３，５−ジブロモアニリンを用い、調製例１に記載の
方法により、目的生成物を得た。
【００４６】二酸塩化物の調製 対応するジカルボン酸から、塩化チオニルによる処理に
よって、二酸塩化物を調製した。ジカルボン酸は、標準
的な市販化合物であるか、又は以下の調製例に記載の方
法で得たものである。
【００４７】調製例４：Ｎ−エチルカルバゾール−３，
６−ジカルボン酸 米国特許４，５９９，３９９号記載の方法により、Ｎ−
エチルカルバゾール−３，６−ジカルボン酸を調製し
た。
【００４８】調製例５：Ｎ−エチルカルバゾール−３，
６−ジアクリル酸 工程Ａ：３，６−ジホルミル−Ｎ−エチルカルバゾール ０℃に冷却した無水ＴＨＦ １６０mlにＮ−エチルカル
バゾール−３，６−ジカルボン酸（５．７ｇ、２０．１
２mmol）を含む懸濁液に、ＬｉＡｌＨ4 （２．１５ｇ、
５６．３mmol）を少量づつ加えた。懸濁液を室温で１時
間３０分間、次に還流下１時間撹拌した。０℃に冷却
後、過剰の水素化物を、少量の水で加水分解し、塩を濾
去した。濾液を蒸発乾固させ、真空下、乾燥して、黄色
の固体を得た。この固体を、活性二酸化マンガン（４
ｇ、１５．１６mmol）の存在下、ジクロロメタンに懸濁
し、混合物を、室温で一夜撹拌した。活性二酸化マンガ
ン４ｇを加え、混合物を更に２４時間撹拌した。懸濁液
を濾過し、濾液を真空下で蒸発させて、目的生成物を得
た。 融点：１７０〜１７４℃
【００４９】工程Ｂ：Ｎ−エチルカルバゾール−３，６
−ジアクリル酸ジメチルエステル メタノール３０mlに前の工程で得た化合物（１．５５
ｇ、６．１７mmol）を含む懸濁液に、５．２５M ナトリ
ウムメトキシド（２．４７ml、１３mmol）を加え、次に
トリメチルホスホノアセテート（２．０ml、１２．３５
mmol）を滴下して加えた。この懸濁液を、室温で１時間
撹拌した。溶媒を真空下留去し、残渣を水に取った。生
成した白色沈殿を濾去し、少量の水と、次にアセトニト
リルですすぎ、真空下乾燥して、目的生成物を得た。 融点：１６４〜１６８℃
【００５０】工程Ｃ：Ｎ−エチルカルバゾール−３，６
−ジアクリル酸 前の工程で得たジエステルを、１N ＮａＯＨ３０ml中、
１００℃で３時間加熱した。混合物を室温に戻し、不溶
性の物質を濾去した。濾液を、３N ＨＣｌで酸性化し、
沈殿を濾去した。 融点：２９０〜３００℃
【００５１】調製例６：９，１０−ジヒドロアントラセ
ン−２，６−ジカルボン酸 ジクロロメタン５０mlに塩化オキサリル（６．０７ml、
６９．３mmol）を含む溶液、及びジクロロメタン５０ml
に９，１０−ジヒドロアントラセンを含む溶液を、−１
０℃に冷却したジクロロメタン５０mlに塩化アルミニウ
ム（９．２４ｇ、６９．３mmol）を含む懸濁液に、滴下
して加えた。懸濁液を、−１０℃で４時間撹拌した。１
N ＨＣｌを滴下して加えることによって、過剰の塩化ア
ルミニウムを加水分解し、有機相を速やかに水、次に飽
和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ4 で乾燥した。蒸発
乾固後、残渣を塩化チオニル（５０ml）に取った。溶液
を還流下一夜撹拌した。蒸発乾固後、残渣を無水メタノ
ール１００mlに取った。溶液を、還流下一夜撹拌し、次
に５０mlまで濃縮した。沈殿を濾去して、９，１０−ジ
ヒドロアントラセン−２，６−ジカルボン酸ジメチルエ
ステル及びその３，６位の異性体を得た。本混合物を、
１N ＮａＯＨ２５ml中、６０℃でけん化した。１N ＨＣ
ｌを加えることによって酸性化した後、沈殿を濾去し
て、目的生成物を得た。
【００５２】調製例７：ベンゼン−１，４−ジアクリル
酸 工程Ａ：ベンゼン−１，４−ジアクリル酸ジメチルエス
テル メタノール７５ml及び５．２５M ナトリウムメトキシド
（１４１mmol）２７mlにテレフタルアルデヒド（９．０
ｇ、６７．１mmol）を含む溶液に、トリメチルホスホノ
アセテート（２２ml、１３５mmol）を滴下して加えた。
緩やかに暖めて、沈殿を生じさせた。懸濁液を、室温で
１時間撹拌した。溶媒を、真空下留去し、残渣を水に取
った。白色の沈殿を濾去し、少量の水、次にエーテルで
すすぎ、真空下乾燥して、目的生成物を得た。 融点：１６３〜１６７℃
【００５３】工程Ｂ：ベンゼン−１，４−ジアクリル酸 １N ＮａＯＨ ２００mlに上記のエステル（７．０ｇ、
２８．４mmol）を含む懸濁液を、還流下、一夜撹拌し
た。室温に冷却後、反応混合物を、６N ＨＣｌで酸性化
し、白色沈殿を濾去して、目的生成物を得た。 融点：＞３００℃
【００５４】調製例８：ベンゼン−１，３−ジアクリル
酸 Chem. Ber., 92, 2532-2542, 1959 に記載の方法によ
り、目的生成物を得た。
【００５５】調製例９：ジフェニルメタン−４，４′−
ジアクリル酸 ４，４′−ジホルミルジフェニルメタンを用い、調製例
７記載の方法により、目的生成物を得た。
【００５６】調製例１０：ジフェニルメタン−３，３′
−ジカルボン酸 Chem. Ber., 27, 2321-2326, 1894 に記載の方法によ
り、目的生成物を得た。
【００５７】調製例１１：ジベンゾスベラン−３，７−
ジアクリル酸 調製例６記載の方法により、フリーデル−クラフツ反応
を行い、次に調製例５記載の方法による同族体化反応に
よって、ジベンゾスベランから本化合物を調製した。
【００５８】調製例１２：シクロヘキサン−１，４−ｔ
ｒａｎｓ−ジプロピオン酸 工程Ａ：ｔｒａｎｓ−１，４−ジホルミルシクロヘキサ
ン ジクロロメタン３００mlにｔｒａｎｓ−１，４−ビス
（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン（１３．８ｇ、９
６mmol）を含む懸濁液に、クロロクロム酸ピリジニウム
（４１．２ｇ、１９１mmol）を少量づつ加えた。室温で
１時間３０分間撹拌した後、クロロクロム酸ピリジニウ
ム４ｇを更に加え、１５分間撹拌を続けた。反応混合物
をセライトを用いて濾過し、濾液にシリカを通過させ
た。溶媒の留去後、油状物を得、更に精製せずにこれを
工程Ｂに使用した。
【００５９】工程Ｂ：シクロヘキサン−１，４−ｔｒａ
ｎｓ−ジプロピオン酸 調製例７の工程Ａによりウィッティッヒ反応を行い、次
に接触水素化、及び調製例７工程Ｂに記載のけん化を行
った。 融点：２２８〜２３２℃
【００６０】調製例１３：フラン−２，５−ジアクリル
酸 調製例１２に記載の方法により、２，５−フランジメタ
ノールより本化合物を調製した。 融点：２９２〜２９６℃
【００６１】調製例１４：チオフェン−２，５−ジアク
リル酸 調製例５記載の方法により、チオフェン−２，５−ジカ
ルボン酸から本化合物を調製した。 融点：＞３００℃
【００６２】調製例１５：ナフタレン−２，６−ジアク
リル酸 調製例５記載の方法により、ナフタレン−２，６−ジカ
ルボン酸から本化合物を調製した。 融点：＞２６０℃
【００６３】調製例１６：フルオレン−２，７−ジアク
リル酸 調製例６記載の方法により、フリーデル−クラフツ反応
を行い、次に調製例５記載の方法により、同族化反応を
行って、フルオレンから本化合物を調製した。 融点：＞３００℃
【００６４】調製例１７：ナフタレン−１，４−ジアク
リル酸（１７：２３ ｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物） 調製例５記載の方法により、ナフタレン−１，４−ジカ
ルボン酸より本化合物を調製した。ナフタレン−１，４
−ジアクリル酸は、ｃｉｓ／ｔｒａｎｓ（１７：２３）
の混合物の形で得た。
【００６５】調製例１８：シクロヘキサン−１，４−ｔ
ｒａｎｓ−ジアクリル酸 接触水素化以外は、調製例１２の方法により本化合物を
調製した。 融点：２９９〜３０３℃
【００６６】調製例１９：４−アミノスチリルホスホン
酸ジエチルエステル
【００６７】工程Ａ：４−ニトロスチリルホスホン酸ジ
エチルエステル メタノール２００mlに４−ニトロベンズアルデヒド（１
０ｇ、６６．２mmol）を含む溶液に、ナトリウムエトキ
シド（４．９５ｇ、７２．８mmol）を加え、テトラエチ
ルメチレンジホスホネート（２１ｇ、７２．８mmol）を
滴下して加えた。室温で２時間撹拌後、ナトリウムエト
キシド０．４３ｇ及びテトラエチルメチレンジホスホネ
ート２ｇを更に加えた。室温で１５分間撹拌後、真空
下、エタノールを留去し、残渣を、水／酢酸エチル混合
物に二相分配した。有機相を水で洗浄し、次に乾燥（Ｍ
ｇＳＯ4)し、真空下、溶媒を蒸発させて、目的生成物を
得た。 融点：９５〜９８℃
【００６８】工程Ｂ：４−アミノスチリルホスホン酸ジ
エチルエステル ４−ニトロスチリルホスホン酸ジエチルエステル（３．
０ｇ、１０．５mmol）、鉄粉（５．５８ｇ、１００mmo
l）及び塩化アンモニウム（５．５８ｇ、１０４mmol）
を含む懸濁液を、還流するまで４５分間加熱した。反応
混合物を、セライトを用いて濾過した。濾液を真空下濃
縮し、水／ジクロロメタン混合物に二相分配した。有機
相を水で洗浄し、乾燥（ＭｇＳＯ4)し、真空下、溶媒を
蒸発させて、目的生成物を得、これを徐々に結晶化させ
た。 融点：８１℃
【００６９】調製例２０：ベンゼン−１，４−ジ（１，
３−ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−ブタジエニレン）ジカル
ボン酸
【００７０】工程Ａ：ベンゼン−１，４−ジ（１，３−
ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−ブタジエニレン）ジカルボン
酸ジエチルエステル ＴＨＦ １０mlにトリエチル４−ホスホノクロトネート
（４．３ml、１９．４mmol）を含む溶液に、２M ブチル
リチウムのペンタン溶液８．２ml（１６．４mmol）を−
７０℃で加えた。混合物を、−７０℃で１５分間撹拌
し、ＴＨＦ １５mlに溶解したテレフタルアルデヒド１
ｇ（７．４６mmol）を滴下して加えた。約３時間かけ
て、混合物を室温に戻し、飽和ＮａＣｌ水溶液７５mlを
加えた（当初は、滴下して加えた）。反応混合物を、酢
酸エチルで抽出し、有機相を合わせ、飽和ＮａＣｌ溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。真空下での留
去後、橙色の固体として、目的生成物を得た。 融点：１２９〜１３５℃
【００７１】工程Ｂ：ベンゼン−１，４−ジ（１，３−
ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−ブタジエニレン）ジカルボン
酸 融点：＞３００℃
【００７２】調製例２１：〔２−（４−アミノフェニ
ル）エチル〕ホスホン酸ジエチルエステル ４−ニトロスチリルホスホン酸ジエチルエステル（調製
例１９の工程Ａ）の接触水素化により、目的化合物を得
た。 融点：油状物
【００７３】調製例２２：アントラセン−９，１０−ジ
アクリル酸 ウィッティッヒ反応（調製例７に記載の条件）により、
９，１０−アントラセンジアルデヒド（K.C. Murdock e
t al., J. Med. Chem., 1982, 25, 505-519 に記載）か
ら目的生成物を調製した。 融点 ：＞２６０℃
【００７４】調製例２３：２−アミノフェニルホスホン
酸ジエチルエステル ２−ブロモアニリンを出発原料として用い、調製例１に
記載の方法により、目的生成物を得た。
【００７５】実施例１：４，４′−〔１，８−オクタン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸）４ナトリウム塩
【００７６】
【化２０】
【００７７】工程Ａ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）ジエチルエステル アセトニトリル（１５mmol）に調製例１記載の化合物
（１．８７ｇ、８．１６mmol）を含む溶液に、ピリジン
（０．９８８ml、１２．２４mmol）を加え、アセトニト
リル（５ml）に塩化セバコイル（１．１２ml、５．２３
mmol）を含む溶液を加えた。混合物を室温で一夜撹拌し
た。生じた白色沈殿を濾取し、少量のアセトニトリルで
すすぎ、真空下で乾燥した。 融点：１７２℃
【００７８】工程Ｂ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸） ブロモトリメチルシラン（１５ml）及びアセトニトリル
（５ml）の混合物に、工程Ａで得たエステル（２．０
ｇ、３．２mmol）を含む溶液を、還流下２時間撹拌し
た。真空下で溶媒を留去後、残渣をメタノール中で撹拌
した。生じた沈殿を濾取して、目的の酸を得た。 融点：＞２６０℃
【００７９】工程Ｃ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）４ナトリウム塩 工程Ｂで得た酸（１．６０ｇ、３．１２mmol）を、１N
ＮａＯＨ １２．４９mlに溶解し、溶液を凍結乾燥し
た。 融点：＞３００℃
【００８０】以下の実施例に記載する化合物は、実施例
１に記載の方法により、対応する出発物質から得た。
【００８１】実施例２：４，４′−〔１，６−ヘキサン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸） 出発物質：塩化スベロイル及び調製例１に記載の化合物
【００８２】工程Ａ：４，４′−〔１，６−ヘキサンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）ジエチルエステル 融点：１７９℃
【００８３】工程Ｂ：４，４′−〔１，６−ヘキサンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸） 融点：＞２５０℃
【００８４】実施例３：４，４′−〔１，７−ヘプタン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：塩化アゼラオイル及び調製例１記載の化合物
【００８５】工程Ａ：４，４′−〔１，７−ヘプタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）ジエチルエステル 融点：１２１℃
【００８６】工程Ｂ：４，４′−〔１，７−ヘプタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸） 融点：＞２５０℃
【００８７】工程Ｃ：４，４′−〔１，７−ヘプタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２５０℃
【００８８】実施例４：４，４′−〔１，９−ノナンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸） 出発物質：１，１１−ウンデカン二酸塩化物及び調製例
１記載の化合物
【００８９】工程Ａ：４，４′−〔１，９−ノナンジイ
ルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン
酸）ジエチルエステル 工程Ｂ：４，４′−〔１，９−ノナンジイルビス（カル
ボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞２５０℃
【００９０】実施例５：４，４′−〔１，１０−デカン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：１，１２−ドデカン二酸塩化物及び調製例１
記載の化合物
【００９１】工程Ａ：４，４′−〔１，１０−デカンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）ジエチルエステル 融点：１３７℃ 工程Ｂ：４，４′−〔１，１０−デカンジイルビス（カ
ルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃工程Ｃ：４，４′−〔１，１０−デカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２６０℃
【００９２】実施例６：４，４−〔１，１１−ウンデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 出発物質：１，１３−トリデカン二酸塩化物及び調製例
１記載の化合物
【００９３】工程Ａ：４，４′−〔１，１１−ウンデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸）ジエチルエステル 工程Ｂ：４，４′−〔１，１１−ウンデカンジイルビス
（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞２５０℃
【００９４】実施例７：４，４′−〔１，１２−ドデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 出発物質：１，１４−テトラデカン二酸塩化物及び調製
例１記載の化合物
【００９５】工程Ａ：４，４′−〔１，１２−ドデカン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸）ジエチルエステル 融点：１２８℃
【００９６】工程Ｂ：４，４′−〔１，１２−ドデカン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸） 融点：＞２５０℃
【００９７】実施例８：４，４′−〔１，１３−トリデ
カンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
ホスホン酸） 出発物質：１，１５−ペンタデカン二酸塩化物及び調製
例１記載の化合物
【００９８】工程Ａ：４，４′−〔１，１３−トリデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸）ジエチルエステル 工程Ｂ：４，４′−〔１，１３−トリデカンジイルビス
（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞２５０℃
【００９９】実施例９：４，４′−〔１，１４−テトラ
デカンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニ
ルホスホン酸） 出発物質：１，１６−ヘキサデカン二酸塩化物及び調製
例１記載の化合物
【０１００】工程Ａ：４，４′−〔１，１４−テトラデ
カンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
ホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１３０℃
【０１０１】工程Ｂ：４，４′−〔１，１４−テトラデ
カンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
ホスホン酸） 融点：＞２５０℃
【０１０２】実施例１０：４，４′−〔１，３−フェニ
ルジイルビス（アセトアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）４ナトリウム塩 出発物質：ベンゼン−１，３−二酢酸塩化物及び調製例
１記載の化合物 工程Ａ：４，４′−〔１，３−フェニルジイルビス（ア
セトアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエ
ステル 融点：１６２℃
【０１０３】工程Ｂ：４，４′−〔１，３−フェニルジ
イルビス（アセトアミノ）〕ビス（フェニルホスホン
酸） 融点：＞２５０℃
【０１０４】工程Ｃ：４，４′−〔１，３−フェニルジ
イルビス（アセトアミノ）〕ビス（フェニルホスホン
酸）４ナトリウム塩 融点：＞２５０℃
【０１０５】実施例１１：４，４′−〔４，４′−ジフ
ェニルメタンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：ジフェニルメタン−４，４′−ジカルボン酸
塩化物及び調製例１記載の化合物
【０１０６】工程Ａ：４，４′−〔４，４′−ジフェニ
ルメタンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２４２〜２４３℃
【０１０７】工程Ｂ：４，４′−〔４，４′−ジフェニ
ルメタンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 融点：＞２５０℃
【０１０８】工程Ｃ：４，４′−〔４，４′−ジフェニ
ルメタンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２５０℃
【０１０９】実施例１２：４，４′−〔４，４′−ビフ
ェニルジイルビス（スルホニルアミノ）〕ビス（フェニ
ルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：ビフェニル−４，４′−ジスルホン酸塩化物
及び調製例１記載の化合物
【０１１０】工程Ａ：４，４′−〔４，４′−ビフェニ
ルジイルビス（スルホニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸）ジエチルエステル 融点：＞２６０℃
【０１１１】工程Ｂ：４，４′−〔４，４′−ビフェニ
ルジイルビス（スルホニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 融点：＞２６０℃
【０１１２】工程Ｃ：４，４′−〔４，４′−ビフェニ
ルジイルビス（スルホニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２８０℃
【０１１３】実施例１３：４，４′−〔４，４′−ジフ
ェニルスルホンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：ジフェニルスルホン−４，４′−ジカルボン
酸塩化物及び調製例１記載の化合物
【０１１４】工程Ａ：４，４′−〔４，４′−ジフェニ
ルスルホンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２１０℃
【０１１５】工程Ｂ：４，４′−〔４，４′−ジフェニ
ルスルホンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃
【０１１６】工程Ｃ：４，４′−〔４，４′−ジフェニ
ルスルホンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２５０℃
【０１１７】実施例１４：４，４′−〔Ｎ−エチルカル
バゾール−３，６−ジイルビス（カルボニルアミノ）〕
ビス（フェニルホスホン酸） 出発物質：調製例４記載のＮ−エチルカルバゾール−
３，６−ジカルボン酸の塩化物及び調製例１記載の化合
物
【０１１８】工程Ａ：４，４′−〔Ｎ−エチルカルバゾ
ール−３，６−ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２２１〜２２５℃
【０１１９】工程Ｂ：４，４′−〔Ｎ−エチルカルバゾ
ール−３，６−ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０１２０】実施例１５：４，４′−〔（９，１０−ジ
ヒドロアントラセン）−２，６−ジイルビス（カルボニ
ルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 出発物質：調製例６記載の９，１０−ジヒドロアントラ
セン−２，６−ジカルボン酸の塩化物及び調製例１記載
の化合物
【０１２１】工程Ａ：４，４′−〔（９，１０−ジヒド
ロアントラセン）−２，６−ジイルビス（カルボニルア
ミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：＞２６０℃
【０１２２】工程Ｂ：４，４′−〔（９，１０−ジヒド
ロアントラセン）−２，６−ジイルビス（カルボニルア
ミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃
【０１２３】実施例１６：４，４′−〔４，４′−ビフ
ェニルジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニ
ルホスホン酸） 出発物質：４，４′−ビフェニルジカルボン酸塩化物及
び調製例１記載の化合物
【０１２４】工程Ａ：４，４′−〔４，４′−ビフェニ
ルジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸）ジエチルエステル 融点：＞２６０℃
【０１２５】工程Ｂ：４，４′−〔４，４′−ビフェニ
ルジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 融点：＞２６０℃
【０１２６】実施例１７：４，４′−〔３，３′−ジフ
ェニルメタンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 出発物質：調製例１０記載のジフェニルメタン−３，
３′−ジカルボン酸の塩化物及び調製例１記載の化合物
【０１２７】工程Ａ：４，４′−〔３，３′−ジフェニ
ルメタンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）ジエチルエステル
【０１２８】工程Ｂ：４，４′−〔３，３′−ジフェニ
ルメタンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃
【０１２９】実施例１８：４，４′−〔４，４′−ｔｒ
ａｎｓ−スチルベンジイルビス（カルボニルアミノ）〕
ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：ｔｒａｎｓ−スチルベン−４，４′−ジカル
ボン酸塩化物及び調製例１記載の化合物
【０１３０】工程Ａ：４，４′−〔４，４′−ｔｒａｎ
ｓ−スチルベンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：＞２６０℃
【０１３１】工程Ｂ：４，４′−〔４，４′−ｔｒａｎ
ｓ−スチルベンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃
【０１３２】工程Ｃ：４，４′−〔４，４′−ｔｒａｎ
ｓ−スチルベンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２６０℃
【０１３３】実施例１９：４，４′−〔４，４′−
（１，２−ジフェニルエタン）ジイルビス（カルボニル
アミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：１，２−ジフェニルエタン−４，４′−ジカ
ルボン酸塩化物及び調製例１記載の化合物
【０１３４】工程Ａ：４，４′−〔４，４′−（１，２
−ジフェニルエタン）ジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２４４℃
【０１３５】工程Ｂ：４，４′−〔４，４′−（１，２
−ジフェニルエタン）ジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃
【０１３６】工程Ｃ：４，４′−〔４，４′−（１，２
−ジフェニルエタン）ジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２６０℃
【０１３７】実施例２０：３，３′−〔１，８−オクタ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 出発物質：塩化セバコイル及び調製例２記載の化合物
【０１３８】工程Ａ：３，３′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）ジエチルエステル 融点：１４０〜１５０℃
【０１３９】工程Ｂ：３，３′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸） 融点：２１７〜２２２℃
【０１４０】実施例２１：４，４′−〔１，３−ジビニ
レンベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）
【０１４１】
【化２１】
【０１４２】出発物質：調製例１および８記載の化合物
【０１４３】工程Ａ：４，４′−〔１，３−ジビニレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１９７〜２０４℃
【０１４４】工程Ｂ：４，４′−〔１，３−ジビニレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０１４５】実施例２２：４，４′−〔１，４−ジビニ
レンベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 出発物質：調製例１及び７記載の化合物
【０１４６】工程Ａ：４，４′−〔１，４−ジビニレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：３００〜３０５℃
【０１４７】工程Ｂ：４，４′−〔１，４−ジビニレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０１４８】実施例２３：４，４′−〔１，４−ジエチ
レンベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）
【０１４９】
【化２２】
【０１５０】工程Ａ：４，４′−〔１，４−ジエチレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）ジエチルエステル 実施例２２の工程Ａに記載の化合物（８４０ｍｇ、１．
３１mmol）を、エタノール１５ml中、ギ酸アンモニウム
８００mg及びパラジウム／炭素８００mgの存在下、還流
下で３０分間、水素化した。触媒を濾去し、濾液を蒸発
乾固させて、目的生成物を得た。 融点：２６４〜２７０℃
【０１５１】工程Ｂ：４，４′−〔１，４−ジエチレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 実施例１の工程Ｂに記載の方法により、目的生成物を得
た。 融点：＞２６０℃
【０１５２】実施例２４：４，４′−〔４，４′−ジエ
チレンジフェニルメタンジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）
【０１５３】
【化２３】
【０１５４】出発物質：調製例１及び９記載の化合物。
【０１５５】工程Ａ：４，４′−〔４，４′−（ジビニ
レン）ジフェニルメタンジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２４９〜２５４℃
【０１５６】工程Ｂ：４，４′−〔４，４′−（ジエチ
レン）ジフェニルメタンジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 工程Ａの生成物（５６０ｍｇ、０．７６６mmol）を、エ
タノール１０ml中、ギ酸アンモニウム５００mg及びパラ
ジウム／炭素５００mgの存在下、還流下で３０分間水素
化した。触媒を濾去し、濾液を蒸発乾固させて、目的生
成物を得た。 融点：８０℃
【０１５７】工程Ｃ：４，４′−〔４，４′−（ジエチ
レン）ジフェニルメタンジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０１５８】実施例２５：４，４′−〔１，８−オクタ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（３−ニトロ
フェニルホスホン酸）
【０１５９】工程Ａ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（３−ニトロフェ
ニルホスホン酸）ジエチルエステル ９６％硫酸１．８ｍｌ及び８６％硝酸１．２mlを含む溶
液を０℃で調製した。本溶液１．１mlを取り出し、９６
％硫酸４．６mlに実施例１の工程Ａ記載の化合物（９３
０mg、１．５mmol）を含む懸濁液に−５℃で滴下して加
えた。反応混合物を徐々に均一にし、２時間３０分後
に、溶液を氷上に注いだ。水相をジクロロメタンで数回
抽出し、生成物を、シリカクロマトグラフィー（ジクロ
ロメタン／メタノール、９７：３）で精製した。 融点：１２８℃
【０１６０】工程Ｂ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（３−ニトロフェ
ニルホスホン酸） 融点：２２７〜２３０℃
【０１６１】実施例２６：４，４′−〔３，６−ジエチ
レン−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニル
アミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩
【０１６２】
【化２４】
【０１６３】出発物質：調製例１記載の化合物、及び調
製例５記載の化合物を接触還元後に得られた化合物。
【０１６４】工程Ａ：４，４′−〔３，６−ジエチレン
−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１０１〜１０８℃
【０１６５】工程Ｂ：４，４′−〔３，６−ジエチレン
−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：２７９〜２８５℃
【０１６６】工程Ｃ：４，４′−〔３，６−ジエチレン
−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞３００℃
【０１６７】実施例２７：４，４′−〔ジベンゾスベラ
ン−３，７−ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：ジベンゾスベラン−３，７−ジカルボン酸
（調製例６記載の方法で調製）の塩化物及び調製例１記
載の化合物。
【０１６８】工程Ａ：４，４′−〔ジベンゾスベラン−
３，７−ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２０２〜２０５℃
【０１６９】工程Ｂ：４，４′−〔ジベンゾスベラン−
３，７−ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 融点：２９２〜２９６℃
【０１７０】工程Ｃ：４，４′−〔ジベンゾスベラン−
３，７−ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２５０℃
【０１７１】実施例２８：４，４′−〔３，６−ジビニ
レン−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニル
アミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：調製例１及び５記載の化合物。
【０１７２】工程Ａ：４，４′−〔３，６−ジビニレン
−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１７２〜１８０℃
【０１７３】工程Ｂ：４，４′−〔３，６−ジビニレン
−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０１７４】工程Ｃ：４，４′−〔３，６−ジビニレン
−Ｎ−エチルカルバゾールジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞２５０℃
【０１７５】実施例２９：４，４′−〔３，７−ジビニ
レンジベンゾスベランジイルビス（カルボニルアミ
ノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 出発物質：ジベンゾスベラン−３，７−ジアクリル酸
（調製例１１）の塩化物及び４−アミノフェニルホスホ
ン酸ジエチルエステル（調製例１）
【０１７６】工程Ａ：４，４′−〔３，７−ジビニレン
ジベンゾスベランジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビ
ス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１７９〜１８５℃
【０１７７】工程Ｂ：４，４′−〔３，７−ジビニレン
ジベンゾスベランジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビ
ス（フェニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０１７８】工程Ｃ：４，４′−〔３，７−ジビニレン
ジベンゾスベランジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビ
ス（フェニルホスホン酸）４ナトリウム塩 融点：＞３００℃
【０１７９】実施例３０：４，４′−〔ｔｒａｎｓ−
１，４−ジエチレンシクロヘキサンジイルビス（カルボ
ニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 出発物質：ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジプ
ロピオン酸（調製例１２）の塩化物及び４−アミノフェ
ニルホスホン酸ジエチルエステル（調製例１）
【０１８０】工程Ａ：４，４′−〔ｔｒａｎｓ−１，４
−ジエチレンシクロヘキサンジイルビス（カルボニルア
ミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２５５〜２５９℃
【０１８１】工程Ｂ：４，４′−〔ｔｒａｎｓ−１，４
−ジエチレンシクロヘキサンジイルビス（カルボニルア
ミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：２９９〜３０５℃
【０１８２】実施例３１：４，４′−〔１，１６−ヘキ
サデカンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 出発物質：１，１８−オクタデカン二酸塩化物及び４−
アミノフェニルホスホン酸ジエチルエステル（調製例
１）
【０１８３】工程Ａ：４，４′−〔１，１６−ヘキサデ
カンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
ホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１０４℃
【０１８４】工程Ｂ：４，４′−〔１，１６−ヘキサデ
カンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
ホスホン酸） 融点：２４５℃
【０１８５】実施例３２：４，４′−〔１，８−オクタ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベンジルホ
スホン酸） 出発物質：塩化セバコイル及び４−アミノベンジルホス
ホン酸ジエチルエステル
【０１８６】工程Ａ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベンジルホスホ
ン酸）ジエチルエステル 融点：１７８℃
【０１８７】工程Ｂ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベンジルホスホ
ン酸） 融点：＞２６０℃
【０１８８】実施例３３：４，４′−〔１，１８−オク
タデカンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェ
ニルホスホン酸） 出発物質：１，２０−エイコサン二酸塩化物及び４−ア
ミノフェニルホスホン酸ジエチルエステル（調製例１）
【０１８９】工程Ａ：４，４′−〔１，１８−オクタデ
カンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
ホスホン酸）ジエチルエステル
【０１９０】工程Ｂ：４，４′−〔１，１８−オクタデ
カンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
ホスホン酸） 融点：２４０℃
【０１９１】実施例３４：３，３′−〔１，１０−デカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 出発物質：１，１２−ドデカン二酸塩化物及び３−アミ
ノフェニルホスホン酸ジエチルエステル（調製例２）
【０１９２】工程Ａ：３，３′−〔１，１０−デカンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）ジエチルエステル 融点：１４１〜１４５℃
【０１９３】工程Ｂ：３，３′−〔１，１０−デカンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸） 融点：１９５〜１９７℃
【０１９４】実施例３５：４，４′−〔１，８−オクタ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸）モノエチルエステル 実施例１の工程Ａの化合物（６００mg、０．９６mmol）
を、１N ＮａＯＨ６ml及びエタノール６mlの混合物中、
８０℃で一夜撹拌した。次に反応溶液を氷浴中で冷却
し、３N ＨＣｌで酸性化した。白色沈殿を濾過し、エタ
ノール中で再結晶させた。 融点：１９１℃
【０１９５】実施例３６：４，４′−〔２，５−ジビニ
レンフランジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸） 出発物質：フラン−２，５−ジアクリル酸（調製例１
３）の塩化物及び４−アミノフェニルホスホン酸ジエチ
ルエステル（調製例１）
【０１９６】工程Ａ：４，４′−〔２，５−ジビニレン
フランジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニ
ルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１９５〜２０２℃
【０１９７】工程Ｂ：４，４′−〔２，５−ジビニレン
フランジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニ
ルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０１９８】実施例３７：４，４′−〔２，５−ジビニ
レンチオフェンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 出発物質：チオフェン−２，５−ジアクリル酸（調製例
１４）の塩化物及び４−アミノフェニルホスホン酸ジエ
チルエステル（調製例１）
【０１９９】工程Ａ：４，４′−〔２，５−ジビニレン
チオフェンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２４９〜２５５℃
【０２００】工程Ｂ：４，４′−〔２，５−ジビニレン
チオフェンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０２０１】実施例３８：４，４′−〔２，６−ジビニ
レンナフタレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 出発物質：ナフタレン−２，６−ジアクリル酸（調製例
１５）の塩化物及び４−アミノフェニルホスホン酸ジエ
チルエステル（調製例１）
【０２０２】工程Ａ：４，４′−〔２，６−ジビニレン
ナフタレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２８６〜２９０℃
【０２０３】工程Ｂ：４，４′−〔２，６−ジビニレン
ナフタレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃
【０２０４】実施例３９：４，４′−〔２，５−ジエチ
レンチオフェンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）
【０２０５】工程Ａ：４，４′−〔２，５−ジエチレン
チオフェンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸）ジエチルエステル 実施例３７の工程Ａに記載の生成物を、実施例２３の工
程Ａに記載の方法で、水素化した。 融点：２０６〜２１２℃
【０２０６】工程Ｂ：４，４′−〔２，５−ジエチレン
チオフェンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸） 融点：２９８〜３０３℃
【０２０７】実施例４０：４，４′−〔１，１１−ウン
デカンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベンジ
ルホスホン酸） 出発物質：１，１３−トリデカン二酸塩化物及び４−ア
ミノベンジルホスホン酸ジエチルエステル
【０２０８】工程Ａ：４，４′−〔１，１１−ウンデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベンジルホ
スホン酸）ジエチルエステル 融点：１５１〜１５６℃
【０２０９】工程Ｂ：４，４′−〔１，１１−ウンデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベンジルホ
スホン酸） 融点：２３０〜２３６℃
【０２１０】実施例４１：４，４′−〔２，７−ジビニ
レンフルオレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 出発物質：フルオレン−２，７−ジアクリル酸（調製例
１６）の塩化物及び４−アミノフェニルホスホン酸ジエ
チルエステル（調製例１）
【０２１１】工程Ａ：４，４′−〔２，７−ジビニレン
フルオレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：２８８〜２９３℃
【０２１２】工程Ｂ：４，４′−〔２，７−ジビニレン
フルオレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０２１３】実施例４２：４，４′−〔１，４−ジビニ
レンナフタレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 出発物質：ナフタレン−１，４−ジアクリル酸（調製例
１７）の塩化物及び４−アミノフェニルホスホン酸ジエ
チルエステル（調製例１）
【０２１４】工程Ａ：４，４′−〔１，４−ジビニレン
ナフタレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：＞２６０℃
【０２１５】工程Ｂ：４，４′−〔１，４−ジビニレン
ナフタレンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フ
ェニルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０２１６】実施例４３：４，４′−〔１，４−ｔｒａ
ｎｓ−ジビニレンシクロヘキサンジイルビス（カルボニ
ルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 出発物質：シクロヘキサン−１，４−ｔｒａｎｓ−ジア
クリル酸（調製例１８）及び４−アミノフェニルホスホ
ン酸ジエチルエステル（調製例１）
【０２１７】工程Ａ：４，４′−〔１，４−ｔｒａｎｓ
−ジビニレンシクロヘキサンジイルビス（カルボニルア
ミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：＞３００℃
【０２１８】工程Ｂ：４，４′−〔１，４−ｔｒａｎｓ
−ジビニレンシクロヘキサンジイルビス（カルボニルア
ミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸） 融点：３００℃
【０２１９】実施例４４：４，４′−〔１，９−ノナン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（スチリルホス
ホン酸） 出発物質：１，１１−ウンデカン二酸塩化物及び４−ア
ミノスチリルホスホン酸ジエチルエステル（調製例１
９）
【０２２０】工程Ａ：４，４′−〔１，９−ノナンジイ
ルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（スチリルホスホン
酸）ジエチルエステル 融点：１６１〜１６６℃
【０２２１】工程Ｂ：４，４′−〔１，９−ノナンジイ
ルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（スチリルホスホン
酸） 融点：＞３００℃
【０２２２】実施例４５：４，４′−〔１，４−ジ
（１，３−ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−ブタジエニレン）
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ〕）ビス（フェ
ニルホスホン酸） 出発物質：ベンゼン−１，４−ジ（１，３−ｔｒａｎｓ
−ｔｒａｎｓ−ブタジエニレン）ジカルボン酸（調製例
２０）及び４−アミノフェニルホスホン酸ジエチルエス
テル（調製例１）
【０２２３】工程Ａ：４，４′−〔１，４−ジ（１，３
−ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−ブタジエニレン）ベンゼン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸）ジエチルエステル 融点：２７８〜２８２℃
【０２２４】工程Ｂ：４，４′−〔１，４−ジ（１，３
−ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−ブタジエニレン）ベンゼン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホス
ホン酸） 融点：＞３００℃
【０２２５】実施例４６：４，４′−〔１，１３−トリ
デカンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（スチリ
ルホスホン酸） 出発物質：１，１５−ペンタデカン二酸塩化物及び４−
アミノスチリルホスホン酸ジエチルエステル（調製例１
９）
【０２２６】工程Ａ：４，４′−〔１，１３−トリデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（スチリルホ
スホン酸）ジエチルエステル 融点：１１１〜１１５℃
【０２２７】工程Ｂ：４，４′−〔１，１３−トリデカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（スチリルホ
スホン酸） 融点：＞３００℃
【０２２８】実施例４７：４，４′−〔１，９−ノナン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチ
ルホスホン酸） 出発物質：１，１１−ウンデカン二酸塩化物及び〔２−
（４−アミノフェニル）エチル〕ホスホン酸ジエチルエ
ステル（調製例２１）
【０２２９】工程Ａ：４，４′−〔１，９−ノナンジイ
ルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチルホ
スホン酸）ジエチルエステル 融点：９３〜９５℃
【０２３０】工程Ｂ：４，４′−〔１，９−ノナンジイ
ルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチルホ
スホン酸） 融点：＞３００℃
【０２３１】実施例４８：４，４′−〔９，１０−ジビ
ニレンアントラセンジイルビス（カルボニルアミノ）〕
ビス（フェニルホスホン酸） 出発物質：アントラセン−９，１０−ジアクリル酸（調
製例２２）の塩化物及び４−アミノフェニルホスホン酸
ジエチルエステル（調製例１）
【０２３２】工程Ａ：４，４′−〔９，１０−ジビニレ
ンアントラセンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：＞２６０℃
【０２３３】工程Ｂ：４，４′−〔９，１０−ジビニレ
ンアントラセンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（フェニルホスホン酸） 融点：＞２６０℃
【０２３４】実施例４９：４，４′−〔１，４−ジビニ
レンベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス
（ベンジルホスホン酸） 出発物質：ベンゼン−１，４−ジアクリル酸（調製例
７）の塩化物及び４−アミノベンジルホスホン酸ジエチ
ルエステル
【０２３５】工程Ａ：４，４′−〔１，４−ジビニレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベン
ジルホスホン酸）ジエチルエステル 融点：＞２６０℃
【０２３６】工程Ｂ：４，４′−〔１，４−ジビニレン
ベンゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（ベン
ジルホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０２３７】実施例５０：２，２′−〔１，８−オクタ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 出発物質：塩化セバコイル及び２−アミノフェニルホス
ホン酸ジエチルエステル（調製例２３）
【０２３８】工程Ａ：２，２′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸）ジエチルエステル 融点：６１〜６４℃
【０２３９】工程Ｂ：２，２′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホ
ン酸） 融点：１０２〜１０５℃
【０２４０】実施例５１：４，４′−〔１，９−ノナン
ジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチ
ルホスホン酸）モノエチルエステル 対応するジエチルエステル（実施例４７の工程Ａの生成
物）の一部加水分解。実施例４７の工程Ａの生成物（１
ｇ、１．４４mmol）を、エタノール／水混合物（１：
１）２０ml中、８０℃で一夜撹拌した。次に反応混合物
を、３N ＨＣｌを滴下して加えて、室温で酸性化した。
生じた白色沈殿を濾去し、少量の水ですすぎ、真空下で
乾燥し、エタノール中で再結晶させた。 融点：２３０℃
【０２４１】実施例５２：４，４′−〔１，８−オクタ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエ
チルホスホン酸） 出発物質：塩化セバコイル及び〔２−（４−アミノフェ
ニル）エチル〕ホスホン酸ジエチルエステル（調製例２
１）
【０２４２】工程Ａ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチル
ホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１１０〜１１４℃
【０２４３】工程Ｂ：４，４′−〔１，８−オクタンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチル
ホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０２４４】実施例５３：４，４′−〔１，１０−デカ
ンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエ
チルホスホン酸） 出発物質：１，１２−ドデカン二酸塩化物及び〔２−
（４−アミノフェニル）エチル〕ホスホン酸ジエチルエ
ステル（調製例２１）
【０２４５】工程Ａ：４，４′−〔１，１０−デカンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチル
ホスホン酸）ジエチルエステル 融点：１３３〜１３８℃
【０２４６】工程Ｂ：４，４′−〔１，１０−デカンジ
イルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルエチル
ホスホン酸） 融点：＞３００℃
【０２４７】実施例５４：４，４′−（１，１０−デカ
ンジイルビスアミノ）ビス（フェニルホスホン酸）二臭
化水素酸塩
【０２４８】工程Ａ：４，４′−（１，１０−デカンジ
イルビスアミノ）ビス（フェニルホスホン酸）ジエチル
エステル 実施例１の工程Ａの生成物（７００mg、１．１２mmol）
を、０℃で、ＴＨＦ３００mlに懸濁させた。ＢＨ3 ／Ｔ
ＨＦ溶液（ＴＨＦ中１M 、１５ml）を滴下して加えた。
混合物を室温に戻し、一夜撹拌を続けた。反応溶液をメ
タノール１０mlで処理し、室温で３日間撹拌した後、濃
縮した。残渣をメタノールに取り、混合物を蒸発乾固さ
せた。生成物を、シリカクロマトグラフィー（ジクロロ
メタン／メタノール、９０：１０）で精製した。 融点：１５８〜１５９℃
【０２４９】工程Ｂ：４，４′−（１，１０−デカンジ
イルビスアミノ）ビス（フェニルホスホン酸）二臭化水
素酸塩 工程Ａの生成物（３２０mg、０．５３６mmol）を、ブロ
モトリメチルシラン１．７０ml（６．４３mmol）の存在
下、アセトニトリル中、還流下で１時間撹拌した。混合
物を蒸発乾固させ、残渣をメタノール１５０mlに取り、
得られた混合物を室温で一夜撹拌した。これを蒸発乾固
させた。残渣をエーテル中で粉砕し、目的生成物を濾去
した。 融点：１９０〜１９２℃
【０２５０】実施例５５：４，４′−〔１，１０−デカ
ンジイルビス（スルホニルアミノ）〕ビス（フェニルホ
スホン酸） 出発物質：１，１０−デカンジスルホン酸塩化物及び調
製例１記載の化合物 工程Ａ：４，４′−〔１，１０−デカンジイルビス（ス
ルホニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）ジエチ
ルエステル 工程Ｂ：４，４′−〔１，１０−デカンジイルビス（ス
ルホニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン酸）
【０２５１】本発明化合物の薬理学的研究 実施例５６：本発明化合物の細胞毒性 以下の３種のセルラインを使用した： マウス白血病細胞、Ｌ１２１０ ヒト類表皮ガン細胞、Ａ４３１ ブタ大動脈内皮細胞、ＰＡＥＣの一次培養株。 これらの細胞を、１０％ウシ胎児血清、２mMグルタミ
ン、５０単位/ml ペニシリン、５０μg/mlストレプトマ
イシン、及び１０mMＨＥＰＥＳを含有する完全ＲＰＭＩ
１６４０培地（pH７．４）中で培養した。これらの細胞
をマイクロプレートに蒔き、本発明化合物に接触させ
た。次にこれらの細胞を、２日間（Ｌ１２１０）、３日
間（ＰＡＥＣ）又は４日間（Ａ４３１）インキュベート
した。生存細胞数を、比色定量法、微小培養(microcult
ure)テトラゾリウム法(Carmichael J., DeGraff W.G.,
Gazdar A.F., Minna J.D. and Mitchell J.R.,テトラゾ
リウムによる半自動比色定量法の評価：化学感受性試験
の評価(Evaluation of a tetrazolium-based semiautom
ated colorimetric assay: assessment of chemosensit
ivity testing), Cancer Res., 47, 936-942,(1987))
により測定した。
【０２５２】本試験により、本発明化合物には、試験し
た３種のセルラインに対して、細胞毒性のないことが示
された。ＩＣ50値（処理細胞の増殖を５０％阻害する試
験化合物の濃度）は、１００及び７５０μM の間であっ
た。
【０２５３】実施例５７：ニワトリ胚の漿尿膜の血管新
生の阻害（ＣＡＭ試験） すでに記載されているように(Crum R., Szabo S. and F
olkman J., Science,(1985), 230, 1375-1378）、ニワ
トリ胚を用いて、本試験を行った。受精卵（Ｄ０）を、
３７℃でインキュベートした。アルブミン１mlを吸引す
ることによって、エアポケットを作成し（Ｄ３）、殻を
切ってウインドウを作成し（Ｄ４）、ビテリン膜を除去
して、漿尿膜（ＣＡＭ）を露出させた。被験化合物をエ
タノールに溶解し、メチルセルロース製ディスクに塗布
し、これを乾燥して、６日目にＣＡＭに適用した。１群
当たり８〜１６個の卵を使用した。ディスク周辺の箇所
を４８時間後に試験した。直径４mm以上の無血管の箇所
を示した卵の数を数え、結果を、無血管箇所を示した卵
のパーセントとして示した。本発明化合物は、本試験
で、スラミンよりも高い血管新生阻害能を示した。結果
を、以下の表１に示す。
【０２５４】
【表１】
【０２５５】実施例５８：マウスＭ５０７６肉腫におけ
るin vivo における腫瘍成長の阻害 悪性腫瘍細胞（１０6 ／マウス）を０日目にマウスの皮
下に接種して、腫瘍結節を作成した。次にマウスを処理
又は対照群（１群当たり１２匹）に無作為に振り分け
た。本発明化合物を１日目から１２日目まで腹腔内に投
与した。１３日目に、腫瘍成長の阻害（ＩTG）を、下記
の式に従って評価した。
【０２５６】
【数１】
【０２５７】実施例１及び実施例１１の化合物で得られ
た結果を、以下の表２に示す。
【０２５８】
【表２】
【０２５９】このように、血管新生（ＣＡＭ）に対して
は弱い阻害しか示さず、Ｌ１２１０白血病セルラインに
対しては相対的細胞毒性を示したスラミンと比較して、
実施例１及び実施例１１の化合物は、抗腫瘍活性及び脈
管形成阻害活性の間で非常に良好な相関を示し、細胞毒
性は認められなかった。
【０２６０】実施例５９：医薬組成物 １錠当たり１０mgを含有する１，０００錠の処方を以下
に示す。 実施例２の化合物 １０ｇ ヒドロキシプロピルセルロース ２ｇ 小麦デンプン １０ｇ 乳糖 １００ｇ ステアリン酸マグネシウム ３ｇ タルク ３ｇ
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 9/40 9450−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 9/40 Ｅ (72)発明者 アンジェラ・デー・モリス フランス国、エフ−78180 モンティニ・ ル・ブレトノー、リュ・フランソワ・モー リアック 56 (72)発明者 ガーナム・アタシィ フランス国、エフ−92210 サン・クルド、 リュ・ジョセフィン ４

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は、同一又は異なって、水素もし
    くはハロゲン原子、直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ
    6)アルキル基、直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ6)ア
    ルコキシ基、ニトロ基、又はトリハロメチル基を示し；
    Ｘは、ＣＯ、ＳＯ2 又はＣＨ2 を示し；Ａ1 は、０〜６
    個の二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −
    Ｃ20）アルキレン鎖を示し、ここで本アルキレン鎖の１
    個以上の−ＣＨ2 −基は、場合により以下の基：置換も
    しくは非置換フェニレン、 置換もしくは非置換ナフチレン、 置換もしくは非置換アントラセニレン、 （Ｃ3 −Ｃ7)シクロアルキレン、 【化２】 （式中、Ａ3 は、−（ＣＨ2)m −（ここで、ｍは、０、
    １又は２である）、−（ＣＨ＝ＣＨ）−又はＳＯ2 を示
    す）、 【化３】 （式中、Ｚは、Ｏ、Ｓ又はＮＲ5 （ここで、Ｒ5 は、水
    素原子又は直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ6)アルキ
    ル基を示す）を示す）、 【化４】 （式中、ｑ及びｑ′は、同一又は異なって、０、１又は
    ２である）、又は 【化５】 （式中、Ｚは、上記で定義したとおりである）のいずれ
    かによって置換されており；Ａ2 は、−（ＣＨ2)n −
    （ここで、ｎは、０、１、２又は３である）又は−ＣＨ
    ＝ＣＨ−を示し；そしてＲ3 及びＲ4 は、同一又は異な
    って、水素原子又は直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ
    6)アルキル基を示す〕で示される化合物、その立体異性
    体、又は薬学的に許容しうる酸もしくは塩基とのその付
    加塩。
  2. 【請求項２】 Ｘが、ＣＯを示す、請求項１記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  3. 【請求項３】 Ｘが、ＳＯ2 を示す、請求項１記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  4. 【請求項４】 Ｘが、ＣＨ2 を示す、請求項１記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  5. 【請求項５】 Ａ1 が、直鎖又は分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ
    20）アルキレン基を示す、請求項１記載の式（Ｉ）の化
    合物。
  6. 【請求項６】 Ａ1 が、０〜６個の二重結合を有する直
    鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ20）アルキレン鎖を示
    し、ここで本アルキレン鎖の１個以上の−ＣＨ2 −基
    が、フェニレン、ナフチレン又は（Ｃ3 −Ｃ7)シクロア
    ルキレン基、あるいは基： 【化６】 （式中、Ｚは、請求項１で定義したとおりである）によ
    って置換されている、請求項１記載の式（Ｉ）の化合
    物。
  7. 【請求項７】 Ａ1 が、（Ｃ1 −Ｃ20）アルキレン鎖を
    示し、ここで本アルキレン鎖の−ＣＨ2 −基が、基： 【化７】 （式中、Ａ3 は、請求項１で定義したとおりである）に
    よって置換されている、請求項１記載の式（Ｉ）の化合
    物。
  8. 【請求項８】 Ａ2 が、−（ＣＨ2)n −を示し、ここで
    ｎが、０、１、２又は３である、請求項１記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  9. 【請求項９】 Ａ2 が、−ＣＨ＝ＣＨ−を示す、請求項
    １記載の式（Ｉ）の化合物。
  10. 【請求項１０】 ４，４′−〔１，８−オクタンジイル
    ビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニルホスホン
    酸）である、請求項１記載の式（Ｉ）の化合物、又は薬
    学的に許容しうる塩基とのその付加塩。
  11. 【請求項１１】 ４，４′−〔４，４′−ジフェニルメ
    タンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
    ホスホン酸）である、請求項１記載の式（Ｉ）の化合
    物、又は薬学的に許容しうる塩基とのその付加塩。
  12. 【請求項１２】 ４，４′−〔１，４−ジビニレンベン
    ゼンジイルビス（カルボニルアミノ）〕ビス（フェニル
    ホスホン酸）である、請求項１記載の式（Ｉ）の化合
    物、又は薬学的に許容しうる塩基とのその付加塩。
  13. 【請求項１３】 式（Ｉ）の化合物の製造方法であっ
    て、式（II）： 【化８】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＡ2 は、請求項１で定義したと
    おりであり、そしてＲ′3 及びＲ′4 は、同一又は異な
    って、直鎖もしくは分岐鎖状の（Ｃ1 −Ｃ4)アルキル基
    を示す）で示されるアミンを出発原料として、塩基性媒
    質中、式（III)：Ｈａｌ−Ｘ−Ａ1 −Ｘ−Ｈａｌ（式
    中、Ｈａｌは、ハロゲン原子を示し、Ｘ及びＡ1 は、請
    求項１で定義したとおりである）で示されるハロゲン化
    物１／２当量と反応させて、式（Ｉ）の化合物の特定の
    化合物である式（Ｉ／ａ）： 【化９】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ′3 、Ｒ′4 、Ｘ、Ａ1 及びＡ
    2 は、上記で定義したとおりである）で示されるジエス
    テルを得、所望であれば、これを酸性媒質中、式（Ｉ）
    の化合物の特定の化合物である対応するモノエステルに
    変換するか、又は臭化トリメチルシリルの存在下、式
    （Ｉ）の化合物の特定の化合物である対応するホスホン
    酸に変換し、このジエステル、モノエステル又はホスホ
    ン酸を、 適当であれば、標準的な精製法により精製し、 適当であれば、標準的な分離法によりそのエナンチオマ
    ー又はジアステレオマーに分離し、 所望であれば、薬学的に許容しうる酸もしくは塩基との
    その付加塩に変換することからなる方法。
  14. 【請求項１４】 請求項１〜１２のいずれか１項記載の
    化合物の少なくとも一つを有効成分として、単独で、又
    は薬学的に許容しうる無毒、不活性な一つ以上の賦形剤
    もしくは担体と組み合わせて含有する医薬組成物。
  15. 【請求項１５】 請求項１〜１２のいずれか１項記載の
    化合物の少なくとも一つを有効成分として含有する、固
    形腫瘍の成長、転移、又は糖尿病性網膜症における脈管
    形成阻害のための、請求項１４記載の医薬組成物。
JP8187255A 1995-07-21 1996-07-17 新規アミノフェニルホスホン酸化合物、その製造方法、及びそれを含有する医薬組成物 Pending JPH0952895A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9508821 1995-07-21
FR9508821A FR2736914B1 (fr) 1995-07-21 1995-07-21 Nouveaux derives d'acide aminophenylphosphonique, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0952895A true JPH0952895A (ja) 1997-02-25

Family

ID=9481204

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8187255A Pending JPH0952895A (ja) 1995-07-21 1996-07-17 新規アミノフェニルホスホン酸化合物、その製造方法、及びそれを含有する医薬組成物

Country Status (10)

Country Link
US (1) US5670493A (ja)
EP (1) EP0754693A3 (ja)
JP (1) JPH0952895A (ja)
CN (1) CN1063182C (ja)
AU (1) AU703822B2 (ja)
CA (1) CA2180621C (ja)
FR (1) FR2736914B1 (ja)
NO (1) NO308004B1 (ja)
NZ (1) NZ299033A (ja)
ZA (1) ZA966154B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010501500A (ja) * 2006-08-23 2010-01-21 ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト スフィンゴミエリン阻害剤としてのアミド
JP2010126724A (ja) * 2008-11-28 2010-06-10 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 太陽電池用色素化合物、色素増感光電変換素子、及び色素増感太陽電池
JP4571766B2 (ja) * 1999-10-01 2010-10-27 エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 カルボン酸誘導体およびその誘導体からなる医薬

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2758562B1 (fr) * 1997-01-20 1999-02-19 Adir Nouveaux derives d'acides mixtes aminobenzyliques, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent
US6096730A (en) * 1997-07-24 2000-08-01 University Of Kentucky Research Foundation Phosphonated agents and their antiangiogenic and antitumorigenic use
WO1999009982A1 (en) 1997-08-25 1999-03-04 Harold Brem Prevention of adhesions and excessive scar formation using angiogenesis inhibitors
US6673843B2 (en) * 1999-06-30 2004-01-06 Emory University Curcumin and curcuminoid inhibition of angiogenesis
DE50103312D1 (de) * 2001-02-23 2004-09-23 Sirs Lab Gmbh Furanfettsäuren zur Steigerung der Effizienz der Zytostatikatherapie und/oder Bestrahlungstherapie
EP1572078A4 (en) * 2002-03-08 2006-08-09 Univ Emory NEW CURCUMINOID FACTOR VIIa CONSTRUCTS AS MEANS OF SUPPRESSING TUMOR GROWTH AND ANGIOGENESIS

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU547451A1 (ru) * 1975-07-24 1977-02-25 Военная Краснознаменная Академия Химической Защиты Имени Маршала Советского Союза С.К.Тимошенко Способ получени -фенил- или -бензиламинометилфосфоновых кислот
DE3362581D1 (en) * 1982-04-23 1986-04-24 Ciba Geigy Ag Herbicide and plant-growth regulator product
US4591582A (en) * 1984-04-17 1986-05-27 Research Corporation Organophosphorus compounds useful as anticonvulsant agents
WO1990015816A1 (en) * 1989-06-16 1990-12-27 The Upjohn Company Suramin type compounds and angiostatic steroids to inhibit angiogenesis
GB9403909D0 (en) * 1994-03-01 1994-04-20 Erba Carlo Spa Ureido derivatives of naphthalenephosphonic acids and process for their preparation
US5734081A (en) * 1994-08-05 1998-03-31 Warner-Lambert Company Arylthio compounds

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4571766B2 (ja) * 1999-10-01 2010-10-27 エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 カルボン酸誘導体およびその誘導体からなる医薬
JP2010501500A (ja) * 2006-08-23 2010-01-21 ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト スフィンゴミエリン阻害剤としてのアミド
JP2010126724A (ja) * 2008-11-28 2010-06-10 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 太陽電池用色素化合物、色素増感光電変換素子、及び色素増感太陽電池

Also Published As

Publication number Publication date
US5670493A (en) 1997-09-23
FR2736914A1 (fr) 1997-01-24
NZ299033A (en) 1997-07-27
CN1063182C (zh) 2001-03-14
CN1145908A (zh) 1997-03-26
CA2180621A1 (fr) 1997-01-22
AU6058496A (en) 1997-01-30
NO308004B1 (no) 2000-07-03
ZA966154B (en) 1997-01-23
EP0754693A2 (fr) 1997-01-22
FR2736914B1 (fr) 1997-08-22
NO963024D0 (no) 1996-07-19
AU703822B2 (en) 1999-04-01
CA2180621C (fr) 2000-02-15
NO963024L (no) 1997-01-22
EP0754693A3 (fr) 1997-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2063965C1 (ru) Производные декагидроизохинолина или их фармацевтически приемлемые соли
JP2919030B2 (ja) キノン誘導体
JPH04327587A (ja) ６’−ｃ−アルキル−３−デアザネプラノシンａ誘導体、その製造法およびその用途
HUT74609A (en) Substitued aza-indolydene compounds, process for producing them and pharmaceutical compositions containing the same
AU2011292144B2 (en) 1,5-diphenyl-penta-1,4-dien-3-one compounds
WO1998058901A1 (en) 3-anilino-2-cycloalkenone derivates
RU2095349C1 (ru) Производные диаминофталимида или их фармацевтически приемлемые соли и фармацевтическая композиция, обладающая ингибирующим действием протеинтирозинкиназы или серин-треонинкиназы
JPH0952895A (ja) 新規アミノフェニルホスホン酸化合物、その製造方法、及びそれを含有する医薬組成物
JP2509465B2 (ja) 不飽和アミノ酸を含む医薬
EP0641312A1 (en) Synthetic aryl polyamines as excitatory amino acid neurotransmitter antagonists
US4439619A (en) Fluorinated pentene diamine derivatives
HU211517A9 (en) 2-amino-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene derivatives active on the cardiovascular system, processes for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
KR100559019B1 (ko) 헤테로사이클릭 인덴 유사체의 제조 방법
FR2758560A1 (fr) Nouveaux derives d'acides aminophenylboronique, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent
US4816472A (en) Derivatives of 19,20-Bis-nor-prostanoic acid with antiulcer and anorectic activity, process for their preparation and pharmaceutical compositions thereof
JPH04266875A (ja) 新規なイミダゾール化合物、その製造方法およびこれらの化合物を含有する医薬組成物
FI94346C (fi) Menetelmä tyydyttymättömien aminodikarboksyylihappojohdannaisten valmistamiseksi
JPH0443064B2 (ja)
WO1989012050A1 (en) alpha-ADRENERGIC RECEPTOR ANTAGONISTS
EP0344982B1 (en) Alpha-adrenergic receptor antagonists
JPH08134067A (ja) キヌクリジン誘導体
KR100466068B1 (ko) 인데노인돌론 화합물, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는약제 조성물
US6071945A (en) 8H-thieno-[2,3-b]pyrrolizin-8-one compounds
FR2758562A1 (fr) Nouveaux derives d'acides mixtes aminobenzyliques, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent
WO1994019316A1 (en) New compounds