JPH0954934A - 磁気記録媒体とその製法 - Google Patents

磁気記録媒体とその製法

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JPH0954934A
JPH0954934A JP20468995A JP20468995A JPH0954934A JP H0954934 A JPH0954934 A JP H0954934A JP 20468995 A JP20468995 A JP 20468995A JP 20468995 A JP20468995 A JP 20468995A JP H0954934 A JPH0954934 A JP H0954934A
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Satoshi Sato
諭 佐藤
Shinichi Matsumura
伸一 松村
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面突起の形状を改善し、走行性が良好で画
質異常の発生しない磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性支持体20上に金属磁性薄膜13
が形成されてなる磁気記録媒体において、非磁性支持体
20の突起21を30μm×30μmの範囲内で最も高
いものから順に10個選択し、この10個の突起21に
ついての突起の高さ/半値幅で表される形状係数を平均
0.55以上とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体とそ
の製法に係わる。
【0002】
【従来の技術】従来の通常一般の磁気記録媒体は、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末など
の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、
ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂な
どの有機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布、
乾燥して磁性層の形成がなされる、いわゆる塗布型の磁
気記録媒体が用いられている。
【0003】一方、高密度記録用磁気記録媒体として、
ポリエステルフィルムやポリアミド、ポリイミドフィル
ム等の非磁性支持体上に、Co−Ni合金、Co−Cr
合金、Co−Ni−O,Co−O等の金属磁性材料をメ
ッキや真空薄膜形成方法(真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等)によって直接被着して
磁性層とするいわゆる金属磁性薄膜型磁気記録媒体の普
及もめざましい。
【0004】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、保
磁力や角形比に優れ、短波長での電磁変換特性に優れる
ばかりでなく、磁性層の厚み損失が著しく小さいこと、
磁性層中に非磁性材であるバインダーを混入する必要が
ないため、磁性材料の充填密度を高めることができる
等、数々の利点を有している。
【0005】特に、金属磁性材料を斜め方向から蒸着し
て磁性層の形成がなされた、斜方蒸着型の磁気記録媒体
は、電磁変換特性に優れ、大きな再生出力が得られるこ
とから既に実用化されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
金属磁性薄膜型の磁気記録媒体では、非磁性支持体の表
面性によって金属磁性薄膜の結晶成長方向や表面形状が
影響を受ける。例えば、非磁性支持体の表面が荒れてい
ると、金属磁性薄膜の結晶方向が均一に揃わない。
【0007】また、非磁性支持体の表面形状は、その上
に層状作用によって形成される金属磁性薄膜の表面形状
にそのまま反映される。従って、非磁性支持体表面が荒
れており、突起などを有している場合には、その突起形
状によって金属磁性薄膜と磁気ヘッドとの間でスペーシ
ングロスが発生する。逆に、非磁性支持体表面が平滑す
ぎると、それを反映して金属磁性薄膜の表面も平滑にな
る。この場合には、スペーシングロスを抑制したり金属
磁性薄膜の結晶方向を揃える点では有利であるが、記録
再生に際して、磁気ヘッドやガイドピンなどの摺動部材
に対する金属磁性薄膜の接触面積が大きくなることか
ら、これらの摺動部材と金属磁性薄膜とが貼り付きなど
を生じるようになり、走行性が低下する。
【0008】このように金属磁性薄膜の各種特性は、非
磁性支持体の表面性によって大きく影響を受ける。これ
に対して走行性の改善を目的として、例えば非磁性支持
体にフィラーを添加して表面粗度を付与する等の対策が
とられてきた。
【0009】しかしながら、このフィラーによる突起の
形状がブロードすなわち緩やかになってしまうことがあ
る。突起がある程度シャープでないと、摩擦が増加し、
この結果テープ再生時に画質異常が発生する。ここでの
画質異常とは、テープの再生中に走査線の一部が水平方
向に一瞬引っ張られるように画像がずれる現象である。
このため、これまで提案されている金属磁性薄膜型の磁
気記録媒体は、表面突起に関する設計上不十分な点が残
されている。
【0010】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、走行性が良好で画質異常の発生しない磁気記録
媒体を提供するものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上に金属磁性薄膜が形成されてなる磁気記録媒体におい
て、非磁性支持体における突起について、磁気記録媒体
上の任意の30μm×30μmの範囲を抽出し、この範
囲内において高さが最も高いものから順に10個選択
し、この10個の突起について、突起の高さ/半値幅で
表される形状係数が平均0.55以上とされた構成とす
る。
【0012】ここで突起高さ/半値幅で表される形状係
数において、半値幅は突起の半分の高さにおける突起の
幅を示すものである。
【0013】また本発明製法は、非磁性支持体上に金属
磁性薄膜が形成されてなる磁気記録媒体の製法におい
て、非磁性支持基体上に表面処理層を形成して、その3
0μm×30μmの範囲内において突起の高さが最も高
いものから順に選択した10個の突起について、突起の
高さ/半値幅で表される形状係数が平均0.55以上と
された長尺状の非磁性支持体を作製する工程と、表面処
理層の形成後に、非磁性支持体を、その幅方向に延伸す
る工程と、熱処理工程とをとるものである。
【0014】上述の本発明の構成によれば、30μm×
30μmの範囲内において高さが最も高いものから順に
10個選択し、この10個の突起について、突起の高さ
/半値幅で表される形状係数が平均0.55以上とされ
た非磁性支持体上に、金属磁性材料を被着形成すると、
突起がシャープになることから、走行性が良好となり、
また画質異常が防止される。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の概要について説明する。
本発明による磁気記録媒体は、非磁性支持体上に金属磁
性薄膜が形成されてなる磁気記録媒体である。
【0016】本発明による磁気記録媒体は、例えば図1
にその一例の要部の概略断面図を示すように、非磁性支
持体20における突起21について、30μm×30μ
mの範囲内において高さが最も高いものから順に10個
選択し、この10個の突起21について、突起21の高
さ/半値幅で表される形状係数が平均0.55以上とさ
れた構成とする。
【0017】形状係数は、上述の30μm×30μmの
範囲での被測定試料の原子間力顕微鏡AFM(Atomic F
orce Microscope :Digital Instruments 社製)によっ
た測定による。すなわち、この場合探針先端の原子との
間に働く反発力によって変化する探針の変位を検出する
ことによって測定される。
【0018】突起形状を調べる方法は、まず非磁性支持
体20表面を任意に30μm×30μmの範囲で測定
し、次にこの範囲で見られる突起21のうち最も高いも
のから順に10個の突起21について、高倍率にして突
起21を厳密に解析するために2μm×2μmの範囲で
測定する。それぞれの突起21について、突起21の高
さと半値幅(半分の高さにおける幅)の比を求めて、こ
れを突起形状を示す形状指数とする。すなわち図3に非
磁性支持体20表面の突起21の模式図を示すように、
突起の高さをH、半値幅(突起の高さHの半分の位置
(H/2)における幅)をWとしたときに、H/Wを形
状指数とする。上述の10個の突起21についてこの形
状指数の平均値を求める。この場合の測定条件は、次に
示すような条件とした。 AFMの測定条件: スキャンサイズ: 30μm×30μm、2μm×2μ
m サンプリング数: 400×400ポイント スキャンレート: 4.34Hz
【0019】また、本発明製法は、非磁性支持基体10
上に表面処理層12を形成して、その突起の30μm×
30μmの範囲内において高さが最も高いものから順に
選択した10個の突起21について、突起21の高さ/
半値幅で表される形状係数が平均0.55以上とされた
長尺状の非磁性支持体20を作製する工程と、その幅方
向に延伸する工程と、熱処理工程とをとって、非磁性支
持体20上に金属磁性薄膜による磁性層13が形成され
てなる磁気記録媒体を作製するものである。
【0020】非磁性支持体20は、例えば粒子11が内
添された高分子フィルムよりなる非磁性支持基体10と
この非磁性支持基体10の両面に表面処理層12を被着
して、これらによって生じる突起21の形状係数の調整
を行って、非磁性支持体20を形成する。
【0021】そして、非磁性支持体20の一方の表面2
0a上に金属磁性材料を真空薄膜形成技術によって磁性
層13を形成して本発明による金属磁性薄膜型の磁気記
録媒体を作製する。
【0022】上述の非磁性支持基体10の作製は、図示
しないが、上述の粒子11が分散された液状の高分子材
料が収容された容器(いわゆるダイスリット等)からロ
ーラ手段等により引き出すとともに冷却することにより
長尺フィルム状をなして非磁性支持基体10を構成し、
続いてこの非磁性支持基体10の両面に、それぞれ所要
の厚さを有し、非磁性支持基体10の各粒子11の内添
分散によって表面に生じた突起に沿って所要の突起すな
わち突起21の形状係数を制御する表面処理層12を塗
布形成する。このようにして形成された非磁性支持体2
0は、ロール状に巻回される。
【0023】上述の非磁性支持基体10を構成する高分
子フィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリイミ
ドフィルム、ポリアミドフィルム等、この種の磁気記録
媒体において非磁性支持体として用いられているプラス
チックフィルムがいずれも使用可能である。
【0024】また、この非磁性支持基体10すなわちそ
の高分子フィルムに内添される粒子11は、特に磁性面
側の表面20aに関しては、その表面性により磁気特性
および耐久性を確保するために粒径50〜100nmの
粒子11を添加する。
【0025】この粒子11は、例えば架橋性高分子から
なるミクロゲル粒子、Ti,Si,Ca,Mg,Al,
Zn,Ba等の酸化物、炭酸塩、燐酸塩、硫酸塩が単独
あるいはこれらの錯塩による粒子、あるいは更に、これ
らの混合によって構成することができる。例えば、Ca
Co2 ,SiO2 ,Al2 3 、天然クレー、カオリナ
イト、カーボン等の不活性無機粒子や、Ca,Si,M
n,Mg,Sb,Ge,P,Li,K,Na等の触媒残
渣等を含むポリマー不溶解組成物によって構成すること
もでき、またこれらは単独で用いても組み合わせてもよ
い。
【0026】上述の表面処理層12は、非磁性支持基体
10の表面突起上に、例えば熱可塑性ポリエステル水溶
液を塗布、乾燥することによって形成できる。この場
合、この表面処理層12の形成後に、その長尺の長手方
向と直交する幅方向に延伸を行った後、熱処理を行う。
このとき、その表面処理層12の塗布厚や延伸後の熱処
理温度を制御することで非磁性支持体20の表面性を所
望のものとすることができる。
【0027】このような非磁性支持体20上に金属磁性
材料を真空薄膜形成技術によって金属磁性薄膜による磁
性層13の形成を行う。この場合、この磁性層13の表
面においても、非磁性支持体20上の表面の突起21の
形状が層状作用によって浮き出し、非磁性支持体20の
表面の突起21を反映した表面形状とすることができ、
このようにして最終的に形成された磁気記録媒体に対す
る記録再生に際して、例えばその走行駆動ローラ等の摺
動部との接触面積の縮小を行うことができ、良好な走行
性を得ることができる。
【0028】尚、この非磁性支持基体10もしくは非磁
性支持体20の表面の突起21の形成は、上述したと同
様の粒子11を、水溶性高分子に分散させたコロイド溶
液を非磁性支持基体10もしくは非磁性支持体20の表
面に塗布、乾燥させることによっても形成でき、この場
合にも同様の効果が得られる。
【0029】また、金属磁性薄膜による磁性層13は、
金属磁性薄膜型の磁気記録媒体で通常用いられる磁性体
材料によって構成できるものであり、この磁性層13の
形成は、斜め蒸着法によることが好ましいが、そのほか
垂直蒸着法等で成膜することができる。また、その金属
磁性材料としては、例えば鉄、コバルト、ニッケル等を
主体とする金属薄膜、あるいはこれらの合金を主体とす
る金属薄膜が適当である。また、金属磁性薄膜には、耐
蝕性、耐摩耗性を向上させるため、蒸着雰囲気中に酸素
を導入することで酸素を含有させた薄膜構成とすること
もできる。
【0030】そして、この金属磁性薄膜による磁性層1
3の厚さは、耐久性を確保する観点から40nm以上と
することが望ましい。
【0031】また、金属磁性薄膜すなわち磁性層13の
表面には、図示しないが潤滑層を形成することができ、
これによって走行性をより一層向上させることができ
る。特に、上述したように、非磁性支持体20に表面突
起を設けた場合において、更に潤滑剤層を設ける場合、
その表面形状による効果と湿潤性能との相乗作用によっ
て優れた走行性が得られる。
【0032】この潤滑剤としては、例えば脂肪酸、脂肪
酸エステル、脂肪酸アミド、金属石鹸、脂肪酸アルコー
ル、パラフィン、シリコーン、フッ素系界面活性剤、無
機活性剤等を使用することができる。また、この潤滑剤
層は、これら潤滑剤を塗布方式あるいは転写方式によっ
て金属磁性薄膜表面に被着させることで形成できる。
【0033】また、本発明による磁気記録媒体において
も、通常の磁気記録媒体と同様に、磁性層13が形成さ
れる面11と反対側にバックコート層を設けることで走
行性の向上を図ることができる。また、磁性層13の金
属磁性薄膜は、非磁性支持体20上に直接形成させる以
外に、非磁性支持体20と金属磁性薄膜との間にTi,
Cr,Niなどの酸化物薄膜を形成したり、媒体の表面
や裏面またはそれらの近傍あるいは金属磁性薄膜内や非
磁性支持体内に、防錆剤、帯電防止剤、防黴剤などの各
種添加剤を保持させることもできる。
【0034】そして、バックコート層の材料、添加剤の
種類等の各種条件は、通常用いられる条件に準じて選定
することができる。
【0035】
【実施例】次に本発明による磁気記録媒体の具体的な実
施例を示す。 〔実施例1〕高分子フィルム原料としてポリエチレンテ
レフタレートを用い、粒子11を添加分散させた溶融高
分子材料により非磁性支持基体10を構成する。そして
この高分子材料をダイスリットから押し出し、急冷する
ことで長尺フィルム状の非磁性支持基体10を作製し
た。
【0036】そして、このようにして形成した非磁性支
持基体10を、逐次二軸延伸法で一方向に延伸した後、
金属磁性薄膜による磁性層13を形成する側の面、およ
びバック面側の面に熱可塑性ポリエステル水溶液を塗
布、乾燥することで表面処理層12を形成し、その後、
この長尺フィルムを、その幅方向に延伸し、熱処理を行
い非磁性支持体20を作製した。
【0037】このようにして作製された非磁性支持体の
表面20aに、連続巻取り式蒸着装置内で、微量酸素存
在雰囲気下、連続斜め蒸着法によりCo−Ni磁性金属
薄膜を成膜して磁性層13を形成した。
【0038】図2にこの連続巻取り式蒸着装置の概略構
成図を示す。図2に示すように、この連続巻き取り式蒸
着装置は、例えば内部の圧力が10-3[Pa]とされた
真空室A内に例えば−20℃に冷却した冷却キャンC
と、磁性層13を構成する磁性金属材料例えばCo−N
i合金の蒸着源Dとが配置される。そして、上述した非
磁性支持体20を、その供給ロールR1から繰り出して
冷却キャンCの周囲に沿って移行させて巻き取りロール
R2に巻き取られるようになされる。
【0039】蒸着源Dは容器P内に上述の磁性金属材料
例えばCo−Ni合金が収容配置され、この磁性金属材
料に対し電子ビーム発生源Xからの電子ビームBを加速
照射して磁性金属材料を飛翔させ、これを冷却キャンC
の周囲に沿って走行する非磁性支持体20上に被着させ
て磁性層13を成膜する。この場合蒸着源Dと冷却キャ
ンCとの間にシャッタSを設けて、非磁性支持体20に
対して所定の入射角をもって入射する蒸着粒子のみを通
過させるようにして斜め蒸着によって磁性層13の形成
がなされるようにする。
【0040】この実施例における蒸着条件を以下に示
す。なお、Co−Ni金属磁性薄膜は、Coが80重量
%、Niが20重量%の組成とし、その膜厚は180n
mとした。
【0041】蒸着条件 真空度 :10-3〔Pa〕 酸素流量 :2〔l/min〕 非磁性支持体の送り速度:55〔m/min〕
【0042】上述の実施例1において、その表面の突起
21の形状係数を変化させるために、表1に示すように
非磁性支持基体10中のフィラーの粒子11の密度を1
mm 2 当たり2.4,2.5,3.0万個のいずれかと
し、非磁性支持基体10の厚み方向の屈折率nZを1.
492%または1.495%とした非磁性支持体1、
2、3および4を作製した。
【0043】そして、これら非磁性支持体1、2、3お
よび4に対して磁性層13の金属磁性薄膜を形成するに
当たり、各非磁性支持体1、2、3および4の、突起形
状(前述した形状係数)および前述した画質異常の出現
状態の観測結果を表1に示す。
【0044】
【表1】
【0045】表1において、○印は画質異常が全く生じ
なく、△印は幾分画質異常が生じた場合を示し、×印は
画質異常の発生が多く問題があった場合を示す。
【0046】次に、本発明による上述の実施例に対する
比較例を挙げる。 〔比較例1〕実施例1と同様の製法をとって非磁性支持
体20の形成と、磁性層13の形成を行って磁気記録媒
体の作製を行ったが、この比較例1においては、非磁性
支持基体10中のフィラー密度を1mm2 当たり1.4
万個とした。この比較例1によって得た非磁性支持体を
支持体5とし、同様の画質異常の状態と、突起の形状指
数の測定結果を表1に示す。
【0047】〔比較例2〕実施例1と同様の製法をとっ
て非磁性支持体20の形成と、磁性層13の形成を行っ
て磁気記録媒体の作製を行ったが、この比較例2におい
ては、非磁性支持基体10の厚み方向の屈折率を1.4
87%とした。この比較例2によって得た非磁性支持体
を支持体6とし、同様の画質異常の状態と、突起の形状
指数の測定結果を表1に示す。
【0048】表1から明らかなように、非磁性支持基体
10においてフィラー密度が増加することにより高い突
起が増えることから、シャープな突起が増え、形状指数
が増加することがわかる。また非磁性支持基体10の屈
折率の増加によっても、突起形状の形状指数の増加が見
られ、シャープな突起が得られることがわかる。この結
果、フィラー密度を2.4万個/mm2 以上あるいは非
磁性支持基体の屈折率を1.492以上とすると、形状
指数の平均値が0.55以上の非磁性支持体を得ること
ができ、これによって形成された磁気記録媒体は、画質
異常は殆ど見られなかった。一方、形状指数の平均値が
0.43以下になると画質異常が問題になってくること
がわかった。
【0049】以上の結果から、画質異常が生じない磁気
記録媒体を得るためには、非磁性支持体の突起形状の形
状指数の平均値を0.55以上にする必要があることが
わかった。
【0050】また、本発明は、上述した例に限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他
様々な構成が取り得る。
【0051】
【発明の効果】上述したことろから明らかなように、本
発明では、非磁性支持体表面をAFMで観察した30μ
m×30μmの視野中の最も高い突起から順に選択した
10個の突起の形状指数(突起の高さと半値幅の比)の
平均値を0.55以上に規制することにより、本発明に
よる磁気記録媒体に、ビデオ等の画像記録を行った場合
その画質異常を抑制することができる。
【0052】従って、本発明による磁気記録媒体例えば
蒸着磁気テープによれば画質の向上を図ることができる
ものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による磁気記録媒体の一例を示す要部の
概略断面図である。
【図2】本発明の磁気記録媒体の製造に用いる連続巻取
り式蒸着装置の概略構成図である。
【図3】非磁性支持体表面の突起の模式図である。
【符号の説明】
10 非磁性支持基体 11 粒子 12 表面処理層 13 磁性層 20 非磁性支持体 20a (非磁性支持体の)表面

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜が形成さ
    れてなる磁気記録媒体において、 上記非磁性支持体における突起について、30μm×3
    0μmの範囲内において高さが最も高いものから順に1
    0個選択し、該10個の突起について、突起の高さ/半
    値幅で表される形状係数が平均0.55以上とされたこ
    とを特徴とする磁気記録媒体。
  2. 【請求項2】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜が形成さ
    れてなる磁気記録媒体の製法において、 非磁性支持基体上に表面処理層を形成して、その30μ
    m×30μmの範囲内においての突起の高さが最も高い
    ものから順に選択した10個の突起について、突起の高
    さ/半値幅で表される形状係数が平均0.55以上とさ
    れた長尺状の非磁性支持体を作製する工程と、 上記表面処理層の形成後に、上記非磁性支持体を、その
    幅方向に延伸する工程と、 熱処理工程とをとることを特徴とする磁気記録媒体の製
    法。
JP20468995A 1995-08-10 1995-08-10 磁気記録媒体とその製法 Pending JPH0954934A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003099914A (ja) * 2001-09-27 2003-04-04 Toray Ind Inc 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム及び磁気記録テープ

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JP2003099914A (ja) * 2001-09-27 2003-04-04 Toray Ind Inc 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム及び磁気記録テープ

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