JPH1064036A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度で長時間の記録が可能で、かつ再生出
力の変動が少ない磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性支持体２の一表面上に磁性層３を
形成する磁気記録媒体１において、非磁性支持体２がポ
リエチレンナフタレートフィルムからなり、その厚さが
４．０μｍ以上１０．０μｍ以下であり、幅方向のヤン
グ率が９５０ｋｇ／ｍｍ² 以上であり、１５０℃におけ
る幅方向の熱収縮率が６．０％以下であり、磁性層３を
形成する側の面２ａの表面粗さＳＲａが２．０ｎｍ以上
６．０ｎｍ以下である構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上に
磁性層を形成した磁気記録媒体に係わる。

【０００２】

【従来の技術】従来の一般の磁気記録媒体は、非磁性支
持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末などの粉
末磁性材料を、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ
エステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂などの
有機バインダー中に分散させた磁性塗料を塗布、乾燥す
ることで磁性層が形成される、いわゆる塗布型の磁気記
録媒体が用いられてきた。

【０００３】一方、高密度記録用磁気記録媒体として、
ポリエステルフィルムやポリアミドフィルム、ポリイミ
ドフィルム等の非磁性支持体上に、Ｃｏ−Ｎｉ合金，Ｃ
ｏ−Ｃｒ合金，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ，Ｃｏ−Ｏ等の金属磁性
材料をメッキや真空薄膜形成手段（例えば真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法等）により
直接被着形成して磁性層を形成した、金属磁性薄膜型磁
気記録媒体の普及もめざましい。

【０００４】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、保
持力や角形比に優れ、短波長での電磁変換特性に優れる
ばかりでなく、磁性層の厚み損失が著しく小さいこと、
磁性層中に非磁性材であるバインダーを混入する必要が
ないため、磁性材料の充填密度を高めることができるな
ど、数々の利点を有している。

【０００５】特に、金属磁性材料を斜め方向から蒸着し
て磁性層の形成がなされた斜方蒸着型の磁気記録媒体
は、電磁変換特性に優れ、大きな再生出力が得られるこ
とから既に実用化されている。このような金属磁性薄膜
型の磁気記録媒体は、近年、高密度記録化、長時間記録
化の要望が高まってきているため、テープの全厚を薄く
する必要がある。そして、テープの全厚を薄くするため
には、非磁性支持体を薄くする必要がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
非磁性支持体では、厚さを薄くすると、次のような問題
を生じていた。

【０００７】例えば、厚さが薄くなるとスティフネス
（ヤング率Ｅ、厚さをｔとするときＥｔ³ で表される）
が低下する。特に、幅方向のスティフネスが低下する
と、テープ状の磁気記録媒体を構成した場合に、磁気ヘ
ッドとの当たりを悪くすることから、再生出力の変動の
原因となる。

【０００８】一方、所望のテープの幅方向のスティフネ
スを確保しようとするためには、幅方向のヤング率を高
くすることが効果的であるが、この場合には、非磁性支
持体の成型時に生じた歪みが残存してしまうので、幅方
向の熱収縮率が大きくなってしまう。幅方向の熱収縮率
の増大は、テープを成膜する工程における寸法安定性の
低下につながるため、テープ状としたときに形状の劣化
が生じて、これにより再生出力の変動を生じることがあ
る。

【０００９】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、高密度で長時間の記録が可能で、かつ再生出力
の変動が少ない磁気記録媒体を提供するものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、その一表面上に磁性層を形成する非磁性支持体にお
いて、非磁性支持体がポリエチレンナフタレートフィル
ムからなり、その厚さが４．０μｍ以上１０．０μｍ以
下であり、幅方向のヤング率が９５０ｋｇ／ｍｍ ² 以上
であり、１５０℃における幅方向の熱収縮率が６．０％
以下であり、磁性層を形成する側の面の表面粗さＳＲａ
が２．０ｎｍ以上６．０ｎｍ以下である構成とする。

【００１１】上述の本発明の構成によれば、非磁性支持
体をポリエチレンナフタレートフィルムにより構成し、
非磁性支持体の厚さ、幅方向のヤング率、幅方向の熱収
縮率、及び表面粗さを上記範囲に設定することにより、
磁気記録媒体の回転ヘッドとの当たりや、磁気記録媒体
の形状を良好にし、かつこれにより再生出力を高くする
ことができる。即ち、高密度・長時間記録が可能で、再
生出力の変動が少ない磁気記録媒体が得られる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明は、非磁性支持体の一表面
上に磁性層を形成する磁気記録媒体において、非磁性支
持体がポリエチレンナフタレートフィルムからなり、そ
の厚さが４．０μｍ以上１０．０μｍ以下であり、幅方
向のヤング率が９５０ｋｇ／ｍｍ² 以上であり、１５０
℃における幅方向の熱収縮率が６．０％以下であり、磁
性層を形成する側の面の表面粗さＳＲａが２．０ｎｍ以
上６．０ｎｍ以下である構成とする。

【００１３】また本発明は、上記磁気記録媒体におい
て、磁性層が金属磁性薄膜である構成とする。

【００１４】以下、図面を参照して本発明の磁気記録媒
体の実施例を説明する。図１に示す磁気記録媒体１は、
非磁性支持体上に金属磁性薄膜から成る磁性層を形成し
た磁気記録媒体であり、ベースフィルムとしての非磁性
支持体２と、金属磁性薄膜による磁性層３とからなる。

【００１５】非磁性支持体２はポリエチレンナフタレー
トフィルム（ＰＥＮフィルム）からなり、このフィルム
を形成するポリマー材料は、ポリエチレン−２，６ナフ
タリンジカルボキシレートである。このポリエチレン−
２，６ナフタリンジカルボキシレートは、小割合の第３
成分が共重合されていてもよく、また小割合の他のポリ
マーが混合されていてもよい。このポリエチレンナフタ
レートフィルムは、従来公知の方法で製造することがで
きる。

【００１６】ポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥ
Ｎフィルム）は、一般に磁気記録媒体に使用されている
ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィル
ム）と比較して、ヤング率と耐熱性が優れている特長を
有する。その一方で、製造原価が高くなるが、製造方法
ならびにそれに用いられる製造技術がＰＥＴフィルムと
同じであるため、ＰＥＴフィルムの製造設備をそのまま
用いることができる。

【００１７】従って、ポリエチレンナフタレートフィル
ムにより非磁性支持体２を構成することにより、ヤング
率及び耐熱性を向上させることができる。

【００１８】そして、非磁性支持体２は、その幅方向の
ヤング率が９５０ｋｇ／ｍｍ² 以上、より好ましくは１
１００〜１４００ｋｇ／ｍｍ² とする。かかる高ヤング
率が要求される理由は、フィルムが薄くなるに従ってス
ティフネスが低下するため、回転シリンダヘッド（磁気
ヘッド）と磁気記録媒体のテープとの当たりが充分でな
く、再生出力に変動を生じるためである。非磁性支持体
２の幅方向のヤング率が９５０ｋｇ／ｍｍ² 未満の場
合、再生出力が充分ではない。一方、非磁性支持体２の
幅方向のヤング率が高すぎると、非磁性支持体２の成型
時に生じた歪みが残存してしまうため、幅方向の熱収縮
率が大きくなる。

【００１９】また、非磁性支持体２は、１５０℃におけ
る幅方向の熱収縮率が６．０％以下、好ましくは５．０
％以下であることが必要である。幅方向の熱収縮率が
６．０％を越えると、蒸着工程において高温下にさらさ
れる時に幅方向に大きく熱収縮し、この結果、テープの
形状悪化の原因となり、充分な再生出力が得られなくな
る。

【００２０】さらに、非磁性支持体２は、金属磁性薄膜
からなる磁性層３を形成する側の面の表面粗さＳＲａが
２．０ｎｍ〜６．０ｎｍの範囲にある必要がある。ＳＲ
ａが６．０ｎｍを越えると、回転シリンダヘッドとテー
プとのスペーシングロスが大きくなり、充分な再生出力
が得られない。またＳＲａが２．０ｎｍ未満では、回転
シリンダヘッドとテープとの摩擦が大きくなり、回転シ
リンダヘッドとテープとの貼り付きが顕著になることか
ら、走行性や耐久性等の不良の原因となり好ましくな
い。

【００２１】上述の範囲の表面粗さＳＲａは、ポリエチ
レン−２，６ナフタリンカルボキシレート（以下、ＰＥ
Ｎと略称する）に、不活性固体微粒子を含有させること
により形成することができる。このような不活性固体微
粒子としては、架橋性高分子からなるミクロゲル粒子の
他、Ｔｉ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｚｎ，Ｂａ等の酸
化物、炭酸塩、リン酸塩、硫酸塩、あるいはこれらの錯
塩よりなる粒子等が使用できる。例えば、炭酸カルシウ
ム，ＳｉＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，天然クレー，カオリナイ
ト，カーボン等の不活性無機粒子や、Ｃａ，Ｓｉ，Ｍ
ｎ，Ｍｇ，Ｓｂ，Ｇｅ，Ｐ，Ｌｉ，Ｋ，Ｎａ等の触媒残
渣等を含むポリマー不溶解組成物の粒子によって構成で
きる。また、これらの粒子は単独で用いても組み合わせ
て用いてもよい。

【００２２】また、ＰＥＮ中に不活性固体微粒子を含有
させる代わりに、これら不活性固体微粒子を水溶性高分
子に分散させたコロイド溶液を塗布することにより、所
望の表面粗さを形成しても構わない。これらの不活性固
体微粒子は、その平均粒径が０．０５〜０．１μｍであ
ることが好ましい。

【００２３】また、蒸着時におけるハンドリング等を考
えた場合、非磁性支持体２の金属磁性薄膜を形成する側
の面とは反対の面（以下バック面と称する）は、粗い方
が好ましい。このためには、例えば非磁性支持体２の表
面粗さＳＲａをそれぞれの面で別々に制御できるよう
に、積層構造の非磁性支持体としてもよい。この場合、
バック面の表面粗さＳＲａは、２５ｎｍ以上であること
が好ましく、このためには不活性固体微粒子の平均粒径
が０．１５〜０．３０μｍであることが好ましい。

【００２４】そして、このような非磁性支持体を作製す
るには、例えばそれぞれ所望の表面粗さを形成させるた
めに、粒径の異なった不活性固体微粒子を分散させた液
状のＰＥＮを、それぞれダイスリットから共押し出し
し、ローラー手段によって重ね合わせるようにして引き
出し、その後冷却することによって、２層のＰＥＮ層が
積層された長尺状の非磁性支持体を得る。そして、逐次
二軸延伸法で長手方向に延伸した後、幅方向に延伸す
る。さらに、縦方向、幅方向にそれぞれ弛緩処理を行う
ことで、熱収縮率を所望のものとすることができる。
尚、作製された非磁性支持体は、ロール状に巻き取られ
て原反とされる。

【００２５】また、非磁性支持体２の表面に、例えば熱
可塑性ポリエステル水溶液を塗布し、乾燥することによ
って表面処理層を形成してもよい。この場合、表面処理
層の形成後に、その長尺の長手方向と直行する幅方向に
延伸を行った後に、熱処理を行う。このとき、表面処理
層の塗布厚や、延伸後の熱処理温度を制御することによ
り、非磁性支持体の表面性を所望のものとすることがで
きる。

【００２６】一方、金属磁性薄膜からなる磁性層３の材
料には、通常磁気記録媒体の磁性層を形成するものであ
ればいずれの材料も使用することができる。例えばＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の強磁性金属材料膜、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｃ
ｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃ
ｕ，Ｃｏ−Ａｕ，Ｃｏ−Ｐｔ，Ｍｎ−Ｂｉ，Ｍｎ−Ａ
ｌ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等
の強磁性合金材料膜等が挙げられる。尚、成膜される金
属磁性薄膜は、単層膜であっても、積層膜であってもよ
い。また、磁性層３の膜厚は、耐久性を確保するため
に、好ましくは４００ｎｍ以上とする。

【００２７】このような金属磁性薄膜を成膜するには、
真空蒸着装置を用いるのが好適である。ここで真空蒸着
装置の一例の構成図を図２に示す。この真空蒸着装置１
０は、排気口から排気されて内部が減圧可能とされた成
膜室１１内に、図中ａ方向に定速回転する巻き出しロー
ル１３と、図中ｂ方向に定速回転する巻き取りロール１
４とが設けられ、これら巻き出しロール１３から巻き取
りロール１４にテープ状の非磁性支持体２が順次走行す
るようになされている。これら巻き出しロール１３から
巻き取りロール１４に向かって非磁性支持体２が走行す
る中途部には、各ロール１３，１４よりも大径とされた
冷却キャン１５が設けられている。この冷却キャン１５
は、非磁性支持体２を図中側方に引き出すように設けら
れ、図中ｃ方向に定速回転する構成とされる。

【００２８】尚、巻き出しロール１３、巻き取りロール
１４及び冷却キャン１５は、それぞれ非磁性支持体２の
幅と同じ長さからなる円筒状をなすものである。また、
冷却キャン１５には図示しないが内部に冷却装置が設け
られ、非磁性支持体２の温度上昇による熱変形を抑制で
きるようになされている。

【００２９】従って、この真空蒸着装置１０の成膜室１
１内では、非磁性支持体２が巻き出しロール１３から順
次巻き出され、さらに冷却キャン１５の周囲を通過し、
巻き取りロール１４に巻き取られるようになされてい
る。また、成膜室１１内では、冷却キャン１５の下方に
ルツボ１８が設けられ、このルツボ１８内に金属磁性材
料１９が充填されている。さらに、このルツボ１８に
は、ペレットが供給されるようになされている。

【００３０】一方、成膜室１１の上壁部には、ルツボ１
８内に充填された金属磁性材料１９を加熱蒸着させるた
めの電子銃２０が取り付けられる。この電子銃２０は、
当該電子銃２０より放出される電子線Ｘがルツボ１８内
の金属磁性材料１９に照射されるように配置される。そ
して、この電子銃２０によって蒸発した金属磁性材料１
９が冷却キャン１５の周囲を定速走行する非磁性支持体
２上に磁性層３として被着形成されるようになってい
る。

【００３１】また、冷却キャン１５とルツボ１８との間
であって冷却キャン１５の近傍には、シャッタ２１が、
冷却キャン１５の周囲を低速走行する非磁性支持体２の
所定領域を覆う形で配置されている。このシャッタ２１
により、蒸発した金属磁性材料１９が非磁性支持体２に
対して所定の角度範囲で斜めに蒸着されるようになって
いる。さらに、成膜室１１にはガス導入口２２が設けら
れ、成膜室１１内に所望のガスを所望の流量にて供給で
きるようになされている。

【００３２】以上のような構成を有する真空蒸着装置１
０によって、非磁性支持体２上に金属磁性薄膜を成膜す
るには、排気口より成膜室１１内の排気を行って所定の
真空度を保つ一方、金属磁性薄膜の磁気特性、耐久性、
耐候性の向上を目的として、ガス導入口２２より酸素ガ
スを所定の流量にて導入する。そして、巻き出しロール
１３、冷却キャン１５、巻き取りロール１４をそれぞれ
所定の速度で回転させ、非磁性支持体２を冷却キャン１
５の周囲に走行させる。また、電子銃２０から放出され
る電子線Ｘによってルツボ１８内の金属磁性材料１９を
加熱蒸発させ、シャッタ２１により入射角度を規制しな
がら、走行する非磁性支持体２に被着させればよい。

【００３３】尚、金属磁性材料１９には、成膜開始前に
予めルツボ１８内に入れておいたインゴットを溶融した
ものが用いられ、成膜によって消費された分はペレット
として補給される。

【００３４】ところで、磁気記録媒体の構成は、上述の
構成のものに限定されず、非磁性支持体２と磁性層３と
の間にＴｉ，Ｃｒ，Ｎｉ等の酸化物よりなる下地層を形
成する構成や、金属磁性薄膜３が多層膜よりなり、各金
属磁性薄膜の間に中間層を設けた構成等をとり、各層間
の付着力向上や抗磁力の制御を図ることができる。ま
た、例えば磁性層３の表面近傍を耐食性改善のために酸
化物としてもよい。

【００３５】さらに、磁性層３上に保護膜を形成する構
成としてもよく、この場合の材料としては、通常の金属
磁性薄膜用の保護膜として一般に使用されるものであれ
ば如何なるものであってもよい。例示すれば、カーボン
の他、ＣｒＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃，ＢＮ，Ｃｏ酸化物，Ｍｇ
Ｏ，ＳｉＯ₂ ，Ｓｉ₃ Ｏ₄ ，ＳｉＮ_x ，ＳｉＣ，ＳｉＮ
_x −ＳｉＯ₂ ，ＺｒＯ₂ ，ＴｉＯ₂ ，ＴｉＣ等が挙げら
れる。保護膜はこれらの単層膜により形成してもよく、
また多層膜や複合膜であってもよい。

【００３６】さらに、必要に応じて、非磁性支持体２上
に下塗り層を形成する構成や、非磁性支持体２の裏面に
バックコート層を設ける構成、磁性層３又は保護膜の表
面に潤滑剤や防錆剤等よりなるトップコート層を形成す
る構成としてもよい。潤滑剤としては、例えば脂肪酸、
脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石鹸、脂肪酸アル
コール、パラフィン、シリコーン、フッ素系界面活性
剤、無機活性剤等が使用できる。上述したように、表面
に凹凸が形成された金属磁性薄膜上に潤滑剤が塗布され
ると、その表面形状による効果と潤滑効果との相乗作用
によって、さらに優れた走行性が得られるようになる。

【００３７】この他にも、非磁性支持体や金属磁性薄
膜、あるいはその他の層に帯電防止剤、防かび剤等の各
種添加剤を保持させても構わず、種々の変形、変更が可
能である。

【００３８】次に、実際に図１の構成の磁気記録媒体１
を形成し、各種特性を調べた。

【００３９】（実施例１）まず、粒径が６０ｎｍのミク
ロゲル粒子よりなる微粒子を添加した、第１の液状のＰ
ＥＮと、粒径が３００ｎｍのミクロゲル粒子よりなる微
粒子を添加した第２の液状のＰＥＮとを、それぞれダイ
スリットにより共押し出しして、急冷することにより、
ＰＥＮ層が２層に積層された長尺状の非磁性支持体２を
作製した。

【００４０】そして、この非磁性支持体２を逐次二軸延
伸法により長軸方向及び幅方向に延伸した。幅方向の延
伸の際に、幅方向のヤング率が１３００ｋｇ／ｍｍ² に
なるよう、延伸倍率を調整している。

【００４１】次に、そのままでは幅方向の熱収縮率が約
９％と高くなってしまうため、幅方向の弛緩処理を行っ
て、幅方向の１５０℃における熱収縮率がおよそ５．０
％となるように調整した。

【００４２】こうして厚さ４．０μｍのフィルムが得ら
れ、これをロール状に巻き取って非磁性支持体２の原反
を得た。この非磁性支持体２は、金属磁性薄膜からなる
磁性層３を形成する面２ａの表面粗さＳＲａが２．０ｎ
ｍ、バック面（裏面）の表面粗さＳＲａが３５ｎｍであ
った。

【００４３】この非磁性支持体２の上に、図２に示した
真空蒸着装置１０を用いて金属磁性薄膜からなる磁性層
３を成膜した。金属磁性材料１９としてＣｏを用いて、
成膜厚さは１８０ｎｍ、成膜室１１の真空度は１０^-3Ｐ
ａ、酸素ガスの流量は２．０リットル／分、非磁性支持
体２の送り速度は５５ｍ／分とした。このようにして図
１の構成の磁気記録媒体１を形成した。

【００４４】（実施例２）非磁性支持体２を幅方向に延
伸する際に、幅方向のヤング率が９５０ｋｇ／ｍｍ² に
なるように延伸倍率を調整し、また第１の液状のＰＥＮ
に添加する粒径が６０ｎｍのミクロゲル粒子からなる微
粒子の添加量を変えて、磁性層３の形成面２ａの表面粗
さＳＲａが５．０ｎｍとなるようにして、厚さが４．５
μｍのＰＥＮフィルムからなる非磁性支持体２を得る他
は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を形成した。こ
のとき、非磁性支持体２の幅方向の熱収縮率は５．０％
となった。

【００４５】（実施例３）非磁性支持体２を幅方向に延
伸する際に、幅方向のヤング率が１１００ｋｇ／ｍｍ²
になるように延伸倍率を調整して、厚さが４．５μｍの
ＰＥＮフィルムからなる非磁性支持体２を得る他は、実
施例１と同様にして磁気記録媒体を形成した。このと
き、非磁性支持体２の幅方向の熱収縮率は６．０％とな
った。

【００４６】（実施例４）非磁性支持体２を幅方向に延
伸する際に、幅方向のヤング率が１１００ｋｇ／ｍｍ²
になるように延伸倍率を調整して、厚さが６．０μｍの
ＰＥＮフィルムからなる非磁性支持体２を得る他は、実
施例１と同様にして磁気記録媒体を形成した。このと
き、非磁性支持体２の幅方向の熱収縮率は６．０％とな
った。

【００４７】（比較例１）非磁性支持体２を幅方向に延
伸する際に、幅方向のヤング率が１３００ｋｇ／ｍｍ²
になるように延伸倍率を調整して、厚さが４．５μｍの
ＰＥＮフィルムからなる非磁性支持体２を得る他は、実
施例１と同様にして磁気記録媒体を形成した。このと
き、非磁性支持体２の幅方向の熱収縮率は９．０％とな
った。

【００４８】（比較例２）非磁性支持体２を幅方向に延
伸する際に、幅方向のヤング率が６００ｋｇ／ｍｍ² に
なるように延伸倍率を調整して、厚さが４．５μｍのＰ
ＥＮフィルムからなる非磁性支持体２を得る他は、実施
例１と同様にして磁気記録媒体を形成した。このとき、
非磁性支持体２の幅方向の熱収縮率は２．０％となっ
た。

【００４９】（比較例３）非磁性支持体２を幅方向に延
伸する際に、幅方向のヤング率が１３００ｋｇ／ｍｍ²
になるように延伸倍率を調整して、厚さが３．５μｍの
ＰＥＮフィルムからなる非磁性支持体２を得る他は、実
施例１と同様にして磁気記録媒体を形成した。このと
き、非磁性支持体２の幅方向の熱収縮率は９．０％とな
った。

【００５０】（比較例４）非磁性支持体２を幅方向に延
伸する際に、幅方向のヤング率が１３００ｋｇ／ｍｍ²
になるように延伸倍率を調整して、厚さが４．５μｍの
ＰＥＮフィルムからなる非磁性支持体２を得て、幅方向
の弛緩処理を行って幅方向の熱収縮率が約５．０％とな
るように調整し、また非磁性支持体２の磁性層３の形成
面２ａの表面粗さＳＲａが７．０ｎｍとなるように調整
した他は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を形成し
た。

【００５１】これら各実施例及び比較例の磁気記録媒体
に対して、下記の各種特性の測定を行った。

【００５２】（１）ヤング率 フィルムを幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍの試験片とし
て、これを引張試験器にて引張速度１０ｍｍ／分で引張
り、０．０５〜０．１％の伸びを与える荷重を求めて、
これによりヤング率を算出した。

【００５３】（２）１５０℃における熱収縮率 フィルムを幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍの大きさに、長
手方向、幅方向にそれぞれ切り抜き、標点間距離を１０
０ｍｍとして印を付ける。このフィルムの試験片に４．
０ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけた状態で、１５０℃で３０
分の熱処理を行い、熱処理後の寸法変化により収縮率を
求めた。

【００５４】（３）フィルム表面粗さ（ＳＲａ） 小坂研究所社製の非接触式表面粗さ計（ＥＴ−３０Ｈ
Ｋ）を用いて、拡大倍率１０万倍、カットオフ０．０８
ｍｍの条件にて測定した。表面粗さＳＲａは、中心面に
対する３次元の平均粗さであり、表面のＸ，Ｙ方向の寸
法をＬｘ，Ｌｙとし、ｆ（ｘ，ｙ）を中心面に対するラ
フネス曲面として、下記の数１により定義する。

【００５５】

【数１】

【００５６】（４）当たり テープ再生時の出力信号（当たり波形）を一画面分で観
察した。出力信号が強くてフラットである場合を◎印、
出力信号が強いが波形が中央部で上側又は下側に若干歪
んでいる場合を○印、出力信号が弱く、しかも波形が変
形して不良な状態になっている場合を×印で表す。

【００５７】（５）形状 形状として、テープの幅方向の反りの程度を測定した。
最も凹（又は凸）になっている部分と、エッジとの高低
差を求めた。高低差が１．０ｍｍ以下で良好な場合を○
印、１．０ｍｍよりも大きく２．０ｍｍ以下にある場合
を△印、２．０ｍｍよりも大きい場合を×印で表す。

【００５８】（６）再生出力 ソニー製ハイバンド８ｍｍビデオデッキＥＶ−９００を
試験用に改造したものに磁気記録媒体をセットして評価
を行った。相対速度を３．８ｍ／秒、記録周波数は７Ｍ
Ｈｚで行い、市販のハイバンド８ｍｍテープの場合を０
ｄＢとして比較評価した。

【００５９】測定結果を表１に示す。

【００６０】

【表１】

【００６１】表１より、実施例１から実施例４のよう
に、非磁性支持体２の幅方向のヤング率が９５０ｋｇ／
ｍｍ² であれば、磁気テープの回転ドラムヘッドとの当
たりは良好であることがわかる。特に、厚さ４．０μｍ
程度の薄いフィルムであっても、優れた当たりが得られ
るためには、より好ましくは幅方向のヤング率が１１０
０〜１４００Ｋｇ／ｍｍ２の範囲に設定すればよいこと
がわかる。

【００６２】また、幅方向のヤング率を高くすれば、幅
方向の熱収縮率も大きくなるが、弛緩処理を行って調整
することにより、幅方向の熱収縮率を６．０％にすれば
テープの形状は良好となる。そして、特に４．０μｍ以
下にすると非常に優れていることが分かる。

【００６３】また、当たりや形状が優れていても、表面
性が粗い場合には、テープの再生出力は良好にはならな
い。表１から、表面粗さＳＲａが２．０〜６．０ｎｍの
範囲内のものが良好な再生出力が得られることがわか
る。

【００６４】比較例１は、幅方向のヤング率を低くした
が、その後の弛緩処理による調整を行わなかった例であ
る。この場合、幅方向の熱収縮率が大きく、テープの形
状不良が発生し、充分な再生出力が得られなかった。

【００６５】比較例２は、幅方向の熱収縮率が２．０％
となるように延伸倍率を調整した結果、ヤング率が低く
なった例である。ヤング率が低いため、磁気テープと回
転ドラムヘッドとの当たりが不満足なものとなり、充分
な再生出力が得られなかった。

【００６６】比較例３は、フィルムの厚さを薄くした例
である。この場合、フィルムの厚さが薄いために、ヤン
グ率を高くしても磁気テープと回転ドラムヘッドとの当
たりが不満足なものとなり、充分な再生出力が得られな
かった。

【００６７】比較例４は、表面が粗い例である。この場
合、当たりや形状は良好であったが、表面が粗いために
充分な再生出力が得られなかった。

【００６８】また、非磁性支持体２が薄くなるに従っ
て、高いヤング率が必要とされるが、この場合のヤング
率には限界がある。従って、非磁性支持体２の厚さは
４．０μｍ程度が限界になる。また、非磁性支持体２の
厚さが１０．０μｍを越えると記録時間の長時間化とい
う本発明の目的に合わなくなる。

【００６９】以上の結果から、非磁性支持体上に金属磁
性薄膜からなる磁性層を形成してなる磁気記録媒体にお
いて、幅方向のヤング率が９５０ｋｇ／ｍｍ² 以上であ
り、かつ１５０℃における幅方向の熱収縮率が６．０％
以下のＰＥＮフィルムで、厚さ４．０μｍ以上１０．０
μｍ以下で、磁性層を形成する側の面の表面粗さＳＲａ
が２．０〜６．０の範囲にあるものを用いることで、高
密度長時間記録が可能で、かつ信頼性の高い磁気テープ
を製造することができることがわかった。

【００７０】本発明の磁気記録媒体は、上述の例に限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で
その他様々な構成が取り得る。

【００７１】

【発明の効果】上述の本発明による磁気記録媒体によれ
ば、磁気テープの回転ドラムヘッドとの当たりや、磁気
テープの形状が良好となることから、充分な再生出力が
得られる。従って、高密度・長時間記録が可能で、再生
出力の変動が少ない信頼性の高い磁気記録媒体を構成す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の概略構成図である。

【図２】金属磁性薄膜の蒸着装置の一例の概略構成図で
ある。

【符号の説明】

１ 磁気記録媒体、２ 非磁性支持体、３ 磁性層、１
０ 真空蒸着装置、１１成膜室、１３ 巻き出しロー
ル、１４ 巻き取りロール、１５ 冷却キャン、１８
ルツボ、１９ 金属磁性材料、２０ 電子銃、２１ シ
ャッタ、２２ ガス導入口、Ｘ 電子線

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体の少なくとも一表面上に磁
   性層が形成された磁気記録媒体において、 上記非磁性支持体がポリエチレンナフタレートフィルム
   からなり、 該非磁性支持体の厚さが４．０μｍ以上１０．０μｍ以
   下、幅方向のヤング率が９５０ｋｇ／ｍｍ² 以上、１５
   ０℃における幅方向の熱収縮率が６．０％以下であり、 上記磁性層を形成する側の面の表面粗さＳＲａが２．０
   ｎｍ以上６．０ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記
   録媒体。
2. 【請求項２】 上記磁性層は、金属磁性薄膜であること
   を特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。