JPH0959573A - Tape with adhesive for TAB and semiconductor device - Google Patents
Tape with adhesive for TAB and semiconductor deviceInfo
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- JPH0959573A JPH0959573A JP7213704A JP21370495A JPH0959573A JP H0959573 A JPH0959573 A JP H0959573A JP 7213704 A JP7213704 A JP 7213704A JP 21370495 A JP21370495 A JP 21370495A JP H0959573 A JPH0959573 A JP H0959573A
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積用回路の
実装方法であるテープオートメイテッドボンディング
(TAB)方式に用いられる接着剤付きテープ(以下、
TAB用テープと称する)およびそれを用いた半導体装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a tape with an adhesive used in a tape automated bonding (TAB) system, which is a method for mounting a semiconductor integrated circuit (hereinafter, referred to as a tape).
TAB) and a semiconductor device using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】通常のTAB用テープは、ポリイミドフ
ィルム等の可撓性を有する有機絶縁性フィルム上に、接
着剤層および保護フィルム層として離型性を有するポリ
エステルフィルム等を積層した3層構造より構成されて
いる。2. Description of the Related Art An ordinary TAB tape has a three-layer structure in which a flexible organic insulating film such as a polyimide film is laminated with a releasing polyester film or the like as an adhesive layer and a protective film layer. It is composed of
【0003】TAB用テープは、(1)スプロケットお
よびデバイス孔のせん孔、(2)銅箔との熱ラミネー
ト、(3)パターン形成(レジスト塗布、エッチング、
レジスト除去)、スズまたは金−メッキ処理等の加工工
程を経てTABテープ(パターンテープ)に加工され、
(5)半導体集積回路チップの搭載(インナーリードボ
ンディング)、(6)樹脂封止工程を経てテープキャリ
アパッケージ(TCP)となる。しかる後(7)回路基
板等とのアウターリードボンディング工程を経て電子機
器への実装がなされる。最終的にTABテープの接着剤
層は、パッケージ内に残留するため、絶縁性、耐熱性、
接着性が要求される。The TAB tape includes (1) holes for sprocket and device holes, (2) thermal lamination with copper foil, (3) pattern formation (resist coating, etching,
After removing resist), tin or gold-plating, etc., processed into TAB tape (pattern tape),
(5) Mounting of a semiconductor integrated circuit chip (inner lead bonding), (6) Resin encapsulation process to form a tape carrier package (TCP). Thereafter, (7) the outer lead bonding process with a circuit board or the like is performed, and then the electronic device is mounted. Finally, the adhesive layer of the TAB tape remains in the package, so that the insulation, heat resistance,
Adhesiveness is required.
【0004】近年の電子機器の小型化、高密度化に伴
い、TAB方式における導体幅や導体間隔が非常に狭く
なってきており、接着剤はより高い接着力とより高い絶
縁性を有する必要性が高まっている。とくに、高密度実
装による発熱密度の増大から、高温におけるこれらの特
性の向上が要求されている。With the recent miniaturization and high density of electronic equipment, the conductor width and the conductor spacing in the TAB system have become very narrow, and it is necessary for the adhesive to have higher adhesive strength and higher insulation. Is increasing. Particularly, due to the increase in heat generation density due to high-density mounting, improvement of these characteristics at high temperature is required.
【0005】このような観点から、従来のTAB用テー
プの接着剤層にはエポキシ樹脂および/またはフェノー
ル樹脂とポリアミド樹脂の混合組成物が主として用いら
れてきた。(特開平2−143447号公報、特開平3
−217035号公報等)。From such a viewpoint, a mixed composition of an epoxy resin and / or a phenol resin and a polyamide resin has been mainly used for the adhesive layer of the conventional TAB tape. (JP-A-2-143447, JP-A-3
-217035).
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の接着
性、および絶縁特性において、従来のTAB用テープは
必ずしも十分とは言えない。接着力の不足から導体の位
置ずれを生じ、集積回路や回路基板と接続できないこと
がある。高精細LCDなど、より微細な回路パターンを
有するTCPにおいては、従来品以上の高性能の接着性
および絶縁性が要求されている。However, conventional TAB tapes are not always sufficient in terms of the above-mentioned adhesiveness and insulating properties. In some cases, the conductor may be displaced due to insufficient adhesive force, and the conductor may not be connected to the integrated circuit or the circuit board. TCP having a finer circuit pattern such as a high-definition LCD is required to have higher performance adhesiveness and insulation than conventional products.
【0007】本発明はこのような問題点を解決し、接着
性および絶縁特性に優れた新規なTAB用テープおよび
それを用いた半導体装置を提供することを目的とする。An object of the present invention is to solve the above problems and provide a novel TAB tape having excellent adhesiveness and insulating properties and a semiconductor device using the same.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するためにTAB用テープの接着剤成分の化学
構造と接着性および絶縁特性との関係を鋭意検討した結
果、グリシジルアミノ基を有し、かつ2つ以上のエポキ
シ基を有するエポキシ樹脂を使用することにより、優れ
た接着性および絶縁特性を示すことを見いだし本発明に
至ったものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the inventors of the present invention have earnestly studied the relationship between the chemical structure of the adhesive component of the TAB tape and the adhesiveness and insulating property. As a result, glycidylamino The present invention was found to exhibit excellent adhesiveness and insulating properties by using an epoxy resin having a group and two or more epoxy groups.
【0009】すなわち本発明は可撓性を有する絶縁性フ
ィルム上に、接着剤および保護フィルム層を有する積層
体より構成され、該接着剤層が(a)ポリアミド樹脂、
および(b)分子内にグリシジルアミノ基を有し、かつ
2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を必須成分
として含むことを特徴とするTAB用接着剤付きテー
プ、およびそれを用いた半導体装置に関する。That is, the present invention comprises a laminate having an adhesive and a protective film layer on a flexible insulating film, the adhesive layer being (a) a polyamide resin,
And (b) a tape with an adhesive for TAB, which comprises an epoxy resin having a glycidylamino group in the molecule and having two or more epoxy groups as an essential component, and a semiconductor device using the same. .
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】本発明の必須成分である(a)ポ
リアミド樹脂は、公知の種々のものが使用できる。特
に、接着剤層に可撓性を持たせ、且つ低吸水率のために
絶縁性に優れる、炭素数が36であるジカルボン酸を含
むものが好適である。ダイマー酸を含むポリアミド樹脂
は、常法によるダイマー酸とジアミンの重縮合により得
られるが、この際にダイマー酸以外のアジピン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸等のジカルボン酸を共重合成分と
して含有しても良い。ジアミンはエチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、ピペラジン、等の公知のものが
使用でき、吸湿性、溶解性の点から2種以上の混合でも
良い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the (a) polyamide resin which is an essential component of the present invention, various known resins can be used. In particular, a material containing a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms, which has flexibility in the adhesive layer and is excellent in insulation due to low water absorption, is preferable. Polyamide resin containing dimer acid is obtained by polycondensation of dimer acid and diamine by a conventional method, at this time adipic acid other than dimer acid, azelaic acid, containing dicarboxylic acid such as sebacic acid as a copolymerization component. Is also good. Known diamines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine and piperazine can be used, and two or more kinds of diamines may be mixed in view of hygroscopicity and solubility.
【0011】本発明の必須成分である(b)分子内にグ
リシジルアミノ基を有し、かつ2つ以上のエポキシ基を
有するエポキシ樹脂としては、例えばグリシジル化ジア
ミノジフェニルメタン、グリシジル化アミノフェノー
ル、グリシジル化アミノクレゾール、グリシジル化キシ
レンジアミン等が挙げられる。特に、接着剤の耐熱性を
保持するために分子内に2つ以上のエポキシ基を有する
ことが望ましい。これらは単独もしくは2種以上の混合
系として用いる。また他の公知のエポキシ樹脂と混合し
ても良い。該エポキシ樹脂としては、特に制限されない
が、ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールS、ジヒドロキシナフタレン等のジグリシジルエー
テル、エポキシ化フェノールノボラック、エポキシ化ク
レゾールノボラック、エポキシ化トリスフェニロールメ
タン、エポキシ化テトラフェニロールエタン等が挙げら
れる。The (b) epoxy resin having a glycidylamino group in the molecule, which is an essential component of the present invention, and having two or more epoxy groups is, for example, glycidylated diaminodiphenylmethane, glycidylated aminophenol, glycidylated. Examples thereof include aminocresol and glycidylated xylenediamine. In particular, it is desirable to have two or more epoxy groups in the molecule in order to maintain the heat resistance of the adhesive. These are used alone or as a mixed system of two or more kinds. Also, it may be mixed with other known epoxy resin. The epoxy resin is not particularly limited, but diglycidyl ether such as bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, dihydroxynaphthalene, epoxidized phenol novolac, epoxidized cresol novolac, epoxidized trisphenylol methane, epoxidized tetraphenylol. Examples include ethane.
【0012】上記のポリアミド樹脂とエポキシ樹脂との
配合割合はポリアミド樹脂100重量部に対して通常エ
ポキシ樹脂5〜100重量部、好ましくは20〜60重
量部である。耐熱性の点からエポキシ樹脂が5重量部以
上であることが好ましく、一方で接着性の点からエポキ
シ樹脂が100重量部以下であることが好ましい。接着
剤中に含まれるグリシジルアミノ基は第3級窒素を含有
することが好ましく、この第3級窒素の量は、接着剤中
の樹脂100重量部に対し、好ましくは3×10-3〜2
×10-1モル、より好ましくは1×10-2〜1.5×1
0-1モルである。接着性および絶縁性の点から3×10
-3モル以上であることが好ましく、また、硬化物の硬化
度、接着性、接着剤寿命の点から2×10-1モル以下で
あることが好ましい。The blending ratio of the above-mentioned polyamide resin and epoxy resin is usually 5 to 100 parts by weight, preferably 20 to 60 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyamide resin. The epoxy resin content is preferably 5 parts by weight or more from the viewpoint of heat resistance, while the epoxy resin content is preferably 100 parts by weight or less from the viewpoint of adhesiveness. The glycidylamino group contained in the adhesive preferably contains a tertiary nitrogen, and the amount of the tertiary nitrogen is preferably 3 × 10 −3 to 2 with respect to 100 parts by weight of the resin in the adhesive.
× 10 -1 mol, more preferably 1 × 10 -2 to 1.5 × 1
It is 0 -1 mol. 3 × 10 in terms of adhesiveness and insulation
It is preferably −3 mol or more, and is preferably 2 × 10 −1 mol or less from the viewpoint of the degree of curing of the cured product, the adhesiveness, and the life of the adhesive.
【0013】本発明においては、接着剤層にフェノール
樹脂を添加することにより、一層接着性および絶縁性を
向上させることができる。フェノール樹脂としては特に
限定はなく、ノボラック型、レゾール型を問わず通常使
用されるものを広く使用することができる。In the present invention, by adding a phenol resin to the adhesive layer, the adhesiveness and insulating property can be further improved. The phenol resin is not particularly limited, and commonly used resins can be widely used regardless of whether they are novolac type or resol type.
【0014】フェノール樹脂の配合割合は、通常エポキ
シ樹脂1当量に対してフェノール性水酸基0.5〜1
0.0当量、より好ましくは0.7〜7.0当量となる
ような範囲内であることが望ましい。The compounding ratio of the phenol resin is usually 0.5 to 1 of the phenolic hydroxyl group per equivalent of the epoxy resin.
It is desirable that the amount is within the range of 0.0 equivalent, and more preferably 0.7 to 7.0 equivalent.
【0015】本発明の接着剤層にエポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂の硬化剤および硬化促進剤を添加することは何
等制限されない。例えば、芳香族ポリアミン、三フッ化
ホウ素トリエチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素のアミ
ン錯体、2−アルキル−4−メチルイミダゾール、2−
フェニル−4−アルキルイミダゾール等のイミダゾール
誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸等の有機
酸、ジシアンジアミド、トリフェニルフォスフィン等公
知のものが使用できる。添加量はポリアミド樹脂100
重量部に対して0.1〜10重量部であると望ましい。There is no limitation on the addition of epoxy resin and phenol resin curing agents and curing accelerators to the adhesive layer of the present invention. For example, aromatic polyamine, amine complex of boron trifluoride such as boron trifluoride triethylamine complex, 2-alkyl-4-methylimidazole, 2-
Known compounds such as imidazole derivatives such as phenyl-4-alkylimidazole, organic acids such as phthalic anhydride and trimellitic anhydride, dicyandiamide, triphenylphosphine and the like can be used. Polyamide resin 100 is added
It is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to parts by weight.
【0016】本発明でいう可撓性を有する絶縁性フィル
ムとはポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスル
フィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテル
ケトン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、等のプラスチックあるいはエポキシ樹脂含浸ガラス
クロス等の複合材料からなる厚さ25〜125μのフィ
ルムであり、これから選ばれる複数のフィルムを積層し
ても良い。また必要に応じて、加水分解、コロナ放電、
低温プラズマ、物理的素面化、易接着コーティング処理
等の表面処理を施すことができる。The flexible insulating film referred to in the present invention is a plastic such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyether ether ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, or epoxy resin impregnated glass cloth. The film having a thickness of 25 to 125 μm, which is made of the composite material of, and a plurality of films selected from these may be laminated. If necessary, hydrolysis, corona discharge,
Surface treatment such as low temperature plasma, physical surface treatment, and easy adhesion coating treatment can be applied.
【0017】本発明で言う保護フィルム層とは、銅箔を
熱ラミネートする前に接着剤面からTAB用テープの形
態を損なうことなく剥離されれば特に限定されないが、
例えばシリコーンあるいはフッ素化合物のコーティング
処理を施したポリエステルフィルム、ポリオレフィンフ
ィルム、およびこれらをラミネートした紙が挙げられ
る。The protective film layer referred to in the present invention is not particularly limited as long as it is peeled from the adhesive surface without damaging the form of the TAB tape before heat-laminating the copper foil,
For example, a polyester film, a polyolefin film, and a paper obtained by laminating these with a coating treatment of silicone or a fluorine compound can be mentioned.
【0018】次にTAB用接着剤付きテープの製造方法
について説明する。Next, a method of manufacturing the adhesive tape for TAB will be described.
【0019】可撓性を有する絶縁フィルムに、上記接着
剤組成物を溶剤に溶解した塗料を塗布、乾燥する。接着
剤の膜厚は、溶媒除去乾燥後に10〜20μとなるよう
に塗布することが好ましい。乾燥条件は、通常100〜
200℃、1〜5分である。溶剤は特に限定されない
が、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族系
とメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコー
ル系の混合が好適である。このようにして得られたフィ
ルムに保護フィルムをラミネートし、最後に35〜15
8mm程度にスリットする。A coating prepared by dissolving the above adhesive composition in a solvent is applied to a flexible insulating film and dried. The adhesive is preferably applied so that the film thickness will be 10 to 20 μ after solvent removal and drying. Drying conditions are usually 100-
200 ° C., 1 to 5 minutes. The solvent is not particularly limited, but a mixture of an aromatic solvent such as toluene, xylene and chlorobenzene and an alcohol solvent such as methanol, ethanol and propanol is preferable. A protective film is laminated on the film thus obtained, and finally 35 to 15
Slit to about 8 mm.
【0020】[0020]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実
施例の説明に入る前に評価方法について述べる。The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples. The evaluation method will be described before the description of the examples.
【0021】評価方法 (1)評価サンプル作成方法 TAB用接着剤付きテープサンプルに18μの電解銅箔
を、140℃、1kg/cm2 の条件でラミネートし
た。続いてエアオーブン中で、80℃、3時間、100
℃、5時間、150℃、5時間の順次加熱処理を行い、
銅箔付きTAB用テープを作成した。得られた銅箔付き
TAB用テープの銅箔面に常法によりフォトレジスト膜
作成、エッチング、レジスト剥離を行い、所定のパター
ンを作成した。Evaluation method (1) Method for preparing evaluation sample A tape sample with an adhesive for TAB was laminated with an electrolytic copper foil of 18 μ under the conditions of 140 ° C. and 1 kg / cm 2 . Then, in an air oven at 80 ° C for 3 hours, 100
C., 5 hours, 150.degree. C., 5 hours of sequential heat treatment,
A TAB tape with a copper foil was prepared. On the copper foil surface of the obtained TAB tape with copper foil, a photoresist film was formed, etching and resist peeling were performed by a conventional method to form a predetermined pattern.
【0022】(2)スズメッキ 上記(1)の方法で得られたサンプルを、ホウフッ酸系
の電解スズメッキ液に70℃、5分間浸せき処理し、
0.5μ厚のメッキを施した。(2) Tin Plating The sample obtained by the above method (1) was dipped in a borofluoric acid-based electrolytic tin plating solution at 70 ° C. for 5 minutes,
A 0.5 μ thick plating was applied.
【0023】(3)接着力 上記(1)および(2)の方法で得た導体幅50μの測
定用パターンを用いて、導体を90゜方向に50mm/
minの速度で剥離し、その際の剥離力を測定した。(3) Adhesive force Using the measurement pattern having a conductor width of 50 μ obtained by the above methods (1) and (2), the conductor is 50 mm / in 90 ° direction.
Peeling was performed at a speed of min, and the peeling force at that time was measured.
【0024】(4)高温バイアス絶縁性テスト 上記(1)および(2)の方法で得た導体幅200μ、
導体間距離50μの櫛型形状の測定用パターンを用い
て、150℃加熱下で100Vの電圧を加え、絶縁抵抗
値が初期値の1/10以下に低下する時間を測定した。(4) High Temperature Bias Insulation Test Conductor width 200 μ obtained by the above method (1) and (2),
Using a comb-shaped measuring pattern with a conductor-to-conductor distance of 50 μm, a voltage of 100 V was applied under heating at 150 ° C., and the time taken for the insulation resistance value to fall to 1/10 or less of the initial value was measured.
【0025】実施例1 ポリアミド樹脂(ヘンケル白水(株)製、”マクロメル
ト”6900、酸成分:ダイマー酸、アミン成分:ヘキ
サメチレンジアミン、酸価:2、アミン価:0)、下記
式(I)Example 1 Polyamide resin (manufactured by Henkel Hakusui Co., Ltd., "Macromelt" 6900, acid component: dimer acid, amine component: hexamethylenediamine, acid value: 2, amine value: 0), the following formula (I )
【化1】 で表されるパラアミノフェノールを出発原料とする3官
能エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)製、”エピ
コート”630、エポキシ当量186)、フェノール樹
脂(群栄化学工業(株)製、PS2780)、をそれぞ
れ表1の組成比となるように配合し、濃度20重量%と
なるようにメタノール/モノクロルベンゼン混合溶媒に
30℃で撹拌、混合して接着剤溶液を作成した。この接
着剤をバーコーターで、厚さ25μのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(東レ(株)製、”ルミラー”)に
約18μの乾燥厚さとなるように塗布し、100℃、1
分および160℃で5分間の乾燥を行い、接着剤シート
を作成した。さらに、得られた接着剤シートを厚さ75
μのポリイミドフィルム(宇部興産(株)製、”ユーピ
レックス”75S)に120℃、1kg/cm2の条件
でラミネートしてTAB 用接着剤付きテープを作成し
た。特性を表1に示す。Embedded image A trifunctional epoxy resin (produced by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., "Epicoat" 630, epoxy equivalent: 186) whose starting material is para-aminophenol represented by: Were mixed so as to have the composition ratios shown in Table 1, and the mixture was stirred and mixed in a mixed solvent of methanol / monochlorobenzene at 30 ° C. so as to have a concentration of 20% by weight to prepare an adhesive solution. This adhesive was applied with a bar coater to a polyethylene terephthalate film (“Lumirror” manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 25 μm so as to have a dry thickness of about 18 μm, and then 100 ° C., 1
Minutes and drying at 160 ° C. for 5 minutes to prepare an adhesive sheet. Further, the obtained adhesive sheet is made to have a thickness of 75
A TAB adhesive tape was prepared by laminating a μ polyimide film (“UPILEX” 75S manufactured by Ube Industries, Ltd.) under the conditions of 120 ° C. and 1 kg / cm 2 . Table 1 shows the characteristics.
【0026】上記の手順で得られたTAB用接着剤付き
テープを用いて、前述の評価方法(1)および(2)と
同一の方法で半導体集積回路接続用の導体回路を形成
し、図1に示すパターンテープを得た。Using the adhesive tape for TAB obtained by the above procedure, a conductor circuit for connecting a semiconductor integrated circuit was formed by the same method as the above-described evaluation methods (1) and (2), and FIG. The pattern tape shown in was obtained.
【0027】更にこのパターンテープを用いて、450
℃、1分の条件でインナーリードボンディングを行い、
半導体集積回路を接続した。しかるのちに、エポキシ系
液状封止剤(北陸塗料(株)製”チップコート”132
0−617)で樹脂封止を行い、半導体装置を得た。図
2は得られた半導体装置の断面を示したものである。Further, using this pattern tape, 450
Inner lead bonding is performed under the condition of ℃ for 1 minute,
A semiconductor integrated circuit was connected. After that, an epoxy liquid encapsulant (“Chip coat” 132 manufactured by Hokuriku Paint Co., Ltd.)
0-617) was used for resin encapsulation to obtain a semiconductor device. FIG. 2 shows a cross section of the obtained semiconductor device.
【0028】実施例2〜3および比較例1 実施例1と同様の方法で、それぞれ下記式(II)Examples 2 and 3 and Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1, the following formula (II) was used.
【化2】 で表されるパラアミノフェノール誘導体を出発原料とす
る4官能エポキシ樹脂(三菱ガス化学(株)製“TET
RAD−X”)または下記式(III)Embedded image A tetrafunctional epoxy resin starting from a para-aminophenol derivative represented by (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. “TET
RAD-X ") or the following formula (III)
【化3】 で表されるパラアミノフェノール誘導体を出発原料とす
る4官能エポキシ樹脂(シェル化学(株)製“HPT1
071”)、フェノール樹脂を各々表1の組成比となる
ように混合し、実施例1と同様にして接着剤を調整し、
さらにTAB用接着剤付きテープを得た。特性を表1に
示す。Embedded image A tetra-functional epoxy resin starting from a para-aminophenol derivative represented by (Shell Chemical Co., Ltd. “HPT1
071 ″) and a phenol resin are mixed so as to have the composition ratios shown in Table 1, and the adhesive is prepared in the same manner as in Example 1,
Further, a tape with an adhesive for TAB was obtained. Table 1 shows the characteristics.
【0029】表1の実施例および比較例から本発明によ
り得られるTAB用接着剤付きテープは、接着性および
絶縁性に優れることがわかる。From the examples and comparative examples in Table 1, it is understood that the adhesive tape for TAB obtained by the present invention is excellent in adhesiveness and insulation.
【0030】[0030]
【表1】 [Table 1]
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明は接着性および絶縁性に優れた新
規なTAB用接着剤付きテープを工業的に提供するもの
であり、本発明のTAB用接着剤付きテープによって高
密度実装用の半導体パッケージの信頼性および経済性を
向上させることができる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention industrially provides a novel tape with an adhesive agent for TAB, which is excellent in adhesiveness and insulating property. The tape with an adhesive agent for TAB of the present invention enables semiconductors for high-density mounting. The reliability and economy of the package can be improved.
【図1】本発明のTAB用接着剤付きテープを加工して
得られた、半導体集積回路搭載前のパターンテープの斜
視図。FIG. 1 is a perspective view of a pattern tape before being mounted with a semiconductor integrated circuit, which is obtained by processing a tape with an adhesive for TAB of the present invention.
【図2】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置の断面図。FIG. 2 is a sectional view of a semiconductor device using the adhesive tape for TAB of the present invention.
1 可撓性を有する絶縁性フィルム 2 接着剤 3 スプロケット孔 4 デバイス孔 5 半導体集積回路接続用の導体 6 インナーリード部 7 アウターリード部 8 半導体集積回路 9 封止樹脂 10金バンプ 11保護膜 1 Flexible Insulating Film 2 Adhesive 3 Sprocket Hole 4 Device Hole 5 Conductor for Connecting Semiconductor Integrated Circuit 6 Inner Lead Part 7 Outer Lead Part 8 Semiconductor Integrated Circuit 9 Sealing Resin 10 Gold Bump 11 Protective Film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JKQ C09J 7/02 JKQ JLE JLE H01L 21/60 311 H01L 21/60 311W 311R 23/29 23/30 B 23/31 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C09J 7/02 JKQ C09J 7/02 JKQ JLE JLE H01L 21/60 311 H01L 21/60 311W 311R 23 / 29 23/30 B 23/31
Claims (5)
接着剤層および保護フィルム層を有する積層体より構成
され、該接着剤層が(a)ポリアミド樹脂、および
(b)分子内にグリシジルアミノ基を有し、かつ少なく
とも2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を必須
成分として含むことを特徴とするTAB用接着剤付きテ
ープ。1. An organic insulating film having flexibility,
It is composed of a laminate having an adhesive layer and a protective film layer, and the adhesive layer has (a) a polyamide resin and (b) a glycidylamino group in the molecule and at least two epoxy groups. A tape with an adhesive for TAB, which contains an epoxy resin as an essential component.
第3級窒素原子を含有し、かつ該第3級窒素原子の量が
接着剤中の樹脂分100重量部に対し3×10-3〜2×
10-1モルであることを特徴とする請求項1記載のTA
B用接着剤付きテープ。2. The glycidylamino group contained in the adhesive contains a tertiary nitrogen atom, and the amount of the tertiary nitrogen atom is 3 × 10 −3 with respect to 100 parts by weight of the resin component in the adhesive. ~ 2x
TA according to claim 1, characterized in that it is 10 -1 mol.
Tape with adhesive for B.
酸を必須成分として含むことを特徴とする請求項1記載
のTAB用接着剤付きテープ。3. The adhesive tape for TAB according to claim 1, wherein the polyamide resin contains a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms as an essential component.
を特徴とする請求項1記載のTAB用接着剤付きテー
プ。4. The tape with an adhesive for TAB according to claim 1, wherein the adhesive layer contains a phenol resin.
ープを用いた半導体装置。5. A semiconductor device using the tape with an adhesive for TAB according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7213704A JPH0959573A (en) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | Tape with adhesive for TAB and semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7213704A JPH0959573A (en) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | Tape with adhesive for TAB and semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959573A true JPH0959573A (en) | 1997-03-04 |
Family
ID=16643612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7213704A Pending JPH0959573A (en) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | Tape with adhesive for TAB and semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959573A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001354938A (en) * | 2000-06-12 | 2001-12-25 | Toray Ind Inc | Adhesive composition for semiconductor device, adhesive sheet using the same, substrate for semiconductor connection, and semiconductor device |
| JP2006249415A (en) * | 2005-02-09 | 2006-09-21 | Toray Ind Inc | Adhesive composition for semiconductor device, adhesive sheet for semiconductor device using the same, substrate for semiconductor connection, and semiconductor device |
| KR100860098B1 (en) * | 2008-02-29 | 2008-09-26 | 주식회사 이녹스 | Adhesive film for semiconductor package |
| JP2010031220A (en) * | 2008-06-26 | 2010-02-12 | Toagosei Co Ltd | Adhesive composition, cover lay film using it, and flexible copper-clad laminate |
-
1995
- 1995-08-22 JP JP7213704A patent/JPH0959573A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001354938A (en) * | 2000-06-12 | 2001-12-25 | Toray Ind Inc | Adhesive composition for semiconductor device, adhesive sheet using the same, substrate for semiconductor connection, and semiconductor device |
| JP2006249415A (en) * | 2005-02-09 | 2006-09-21 | Toray Ind Inc | Adhesive composition for semiconductor device, adhesive sheet for semiconductor device using the same, substrate for semiconductor connection, and semiconductor device |
| KR100860098B1 (en) * | 2008-02-29 | 2008-09-26 | 주식회사 이녹스 | Adhesive film for semiconductor package |
| JP2010031220A (en) * | 2008-06-26 | 2010-02-12 | Toagosei Co Ltd | Adhesive composition, cover lay film using it, and flexible copper-clad laminate |
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