JPH10107090A - Tape with adhesive for TAB and semiconductor device - Google Patents

Tape with adhesive for TAB and semiconductor device

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JPH10107090A
JPH10107090A JP8255936A JP25593696A JPH10107090A JP H10107090 A JPH10107090 A JP H10107090A JP 8255936 A JP8255936 A JP 8255936A JP 25593696 A JP25593696 A JP 25593696A JP H10107090 A JPH10107090 A JP H10107090A
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JP
Japan
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adhesive
tape
tab
semiconductor device
epoxy resin
Prior art date
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Application number
JP8255936A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukitsuna Konishi
幸綱 小西
Hiroshi Hatano
拓 波多野
Shoji Kigoshi
将次 木越
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH10107090A publication Critical patent/JPH10107090A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/701Tape-automated bond [TAB] connectors

Landscapes

  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 接着性および絶縁性に優れた新規なTAB用
接着剤付きテープを得、これを使用した半導体装置の信
頼性および経済性を向上させる。 【解決手段】 有機絶縁性フィルムおよび接着剤層を有
する積層体より構成され、該接着剤層がポリアミド樹脂
およびアルキレングリコール鎖を分子内に有したエポキ
シ樹脂を必須成分として含むことを特徴とするTAB用
接着剤付きテープおよびそれを用いた半導体装置。
PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a novel TAB adhesive tape excellent in adhesiveness and insulating properties, and to improve the reliability and economy of a semiconductor device using the same. SOLUTION: A TAB comprising a laminate having an organic insulating film and an adhesive layer, wherein the adhesive layer contains a polyamide resin and an epoxy resin having an alkylene glycol chain in a molecule as essential components. Tape with adhesive and semiconductor device using the same.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路の実
装方法であるテープオートメーテッドボンディング(T
AB)方式に用いられる接着剤付きテープ(以下、TA
B用テープと称する)およびそれを用いた半導体装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a tape automated bonding (T)
AB) Tape with adhesive (hereinafter referred to as TA)
B) and a semiconductor device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常のTAB用テープは、ポリイミドフ
ィルム等の可撓性を有する有機絶縁性フィルム上に、接
着剤層および保護フィルム層として離型性を有するポリ
エステルフィルム等を積層した3層構造より構成されて
いる。
2. Description of the Related Art An ordinary TAB tape has a three-layer structure in which a flexible organic insulating film such as a polyimide film is laminated with a releasing polyester film or the like as an adhesive layer and a protective film layer. It is composed of

【0003】TAB用テープは、スプロケットおよび
デバイス孔の穿孔、銅箔との熱ラミネート、パター
ン形成(レジスト塗布、エッチング、レジスト除去)、
スズまたは金−メッキ処理などの加工工程を経てTA
Bテープ(パターンテープ)に加工される。図1にパタ
ーンテープの形状を示す。図2に本発明の半導体装置の
一態様の断面図を示す。パターンテープのインナーリー
ド部6を、半導体集積回路8の金バンプ10に熱圧着
(インナーリードボンディング)し、半導体集積回路を
搭載する。次いで、封止樹脂9による樹脂封止工程を経
て半導体装置が作成される。また、インナーリード部を
有さず、パターンテープの導体と半導体集積回路の金バ
ンプとの間をワイヤーボンディングで接続する方式も採
用されている。このような半導体装置を、一般にテープ
キャリアパッケージ(TCP)型半導体装置と称する。
最後に、TCP型半導体装置は、他の部品を搭載した回
路基板等とアウターリード7を介して接続(アウターリ
ードボンディング)され、電子機器への実装がなされ
る。
[0003] TAB tapes include sprockets and device holes, thermal lamination with copper foil, pattern formation (resist coating, etching, resist removal),
TA through processing process such as tin or gold-plating
Processed into B tape (pattern tape). FIG. 1 shows the shape of the pattern tape. FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of the semiconductor device of the present invention. The inner lead portion 6 of the pattern tape is thermocompression-bonded (inner lead bonding) to the gold bump 10 of the semiconductor integrated circuit 8 to mount the semiconductor integrated circuit. Next, a semiconductor device is manufactured through a resin sealing step using a sealing resin 9. In addition, a method in which a conductor of a pattern tape and a gold bump of a semiconductor integrated circuit are connected by wire bonding without using an inner lead portion is also adopted. Such a semiconductor device is generally called a tape carrier package (TCP) type semiconductor device.
Finally, the TCP type semiconductor device is connected to a circuit board or the like on which other components are mounted via outer leads 7 (outer lead bonding), and is mounted on an electronic device.

【0004】一方、近年の電子機器の小型・軽量化に伴
い、半導体パッケージも高密度実装化を目的に、従来の
接続端子(アウターリード)をパッケージ側面に配列し
ていたQFP(クワッド・フラット・パッケージ)、S
OP(スモール・アウトライン・パッケージ)に代わ
り、パッケージの裏面に接続端子を配列するBGA(ボ
ールグリッドアレイ)、CSP(チップスケールパッケ
ージ)、が一部用いられるようになってきた。BGA,
CSPがQFP,SOPと構造的に最も大きく異なる点
は、前者は、インターポーザーと称される基板を必要と
するのに対し、後者は金属製のリードフレームを用いる
ことにより必ずしも基板を必要としない点にある。ここ
でいうインターポーザーは、ガラスエポキシ基板やポリ
イミド等の有機絶縁性フィルムに銅箔を張り合わせたも
のが一般的に用いられる。したがって、これらBGA,
CSPなどの半導体装置にも本発明のTAB用接着剤付
きテープを使用することができ、得られたBGA,CS
Pも本発明の半導体装置に含まれる。図3および図4に
本発明の半導体装置(BGA,CSP)の一態様の断面
図を示す。
On the other hand, as electronic devices have become smaller and lighter in recent years, a semiconductor package has a QFP (quad flat flat) in which conventional connection terminals (outer leads) are arranged on the side of the package for the purpose of high-density mounting. Package), S
Instead of an OP (Small Outline Package), a BGA (Ball Grid Array), in which connection terminals are arranged on the back surface of the package, and a CSP (Chip Scale Package) have been partially used. BGA,
The point that the CSP is structurally most different from the QFP and the SOP is that the former requires a substrate called an interposer, whereas the latter does not necessarily require a substrate by using a metal lead frame. On the point. As the interposer referred to here, one obtained by bonding a copper foil to an organic insulating film such as a glass epoxy substrate or polyimide is generally used. Therefore, these BGA,
The tape with an adhesive for TAB of the present invention can be used for a semiconductor device such as a CSP, and the obtained BGA, CS
P is also included in the semiconductor device of the present invention. 3 and 4 are cross-sectional views of one embodiment of the semiconductor device (BGA, CSP) of the present invention.

【0005】上記のパッケージ形態ではいずれも最終的
にTAB用テープの接着剤層は、パッケージ内に残留す
るため、絶縁性、耐熱性、接着性が要求される。近年電
子機器の小型化、高密度化が進行するに伴い、TAB方
式における導体幅が非常に狭くなってきており、高い接
着強度および絶縁性を有する接着剤の必要性が高まって
いる。
[0005] In any of the above package forms, the adhesive layer of the TAB tape ultimately remains in the package, so that it is required to have insulation, heat resistance and adhesion. In recent years, as electronic devices have been miniaturized and densified, the conductor width in the TAB method has become extremely narrow, and the need for an adhesive having high adhesive strength and insulating properties has increased.

【0006】このような観点から、従来のTAB用テー
プの接着剤層にはエポキシ樹脂および/またはフェノー
ル樹脂とポリアミド樹脂の混合組成物が主として用いら
れてきた(特開平2−143447号公報、特開平3−
217035号公報等)。
[0006] From such a viewpoint, a mixed composition of an epoxy resin and / or a phenol resin and a polyamide resin has been mainly used for the adhesive layer of the conventional TAB tape (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-143447; Kaihei 3-
No. 217035).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の接着性
および絶縁性において、従来のTAB用テープは必ずし
も十分とはいえない。たとえば、導体幅が細くなるに従
い、接着強度が低下し、ボンディング等の後工程で導体
の剥離を生じ、集積回路、回路基板と接続できないこと
がある。これは接着強度の絶対値の不足と、導体と接着
剤の間へのメッキ液の侵入による実効の接着面積の減少
が主な原因である。また、高温高湿での連続した電圧印
加状態における絶縁劣化が早いので、今後実装密度が増
加し、導体間距離が短くなると絶縁耐久性の点で不安が
ある。
However, conventional TAB tapes are not always satisfactory in the above-mentioned adhesiveness and insulating properties. For example, as the conductor width becomes narrower, the adhesive strength decreases, the conductor may peel off in a later step such as bonding, and it may not be possible to connect to an integrated circuit or a circuit board. This is mainly due to a shortage of the absolute value of the adhesive strength and a decrease in the effective adhesive area due to the penetration of the plating solution between the conductor and the adhesive. In addition, since insulation degradation is rapid in a state of continuous voltage application at high temperature and high humidity, there is a concern about insulation durability if the mounting density increases and the distance between conductors becomes short in the future.

【0008】本発明はこのような問題点を解決し、接着
性および絶縁性に優れた新規なTAB用テープおよびそ
れを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve such problems and to provide a novel TAB tape having excellent adhesiveness and insulating properties and a semiconductor device using the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するためにTAB用テープの接着剤成分の化学
構造と金属に対する接着性および絶縁性との関係を鋭意
検討した結果、アルキレングリコール鎖を含むエポキシ
樹脂とポリアミド樹脂とを巧みに組み合わせることによ
り、接着性および絶縁性に優れたTAB用テープが得ら
れることを見い出し、本発明に至ったものである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present inventors have conducted intensive studies on the relationship between the chemical structure of the adhesive component of the TAB tape and the adhesiveness to metal and insulation. The present inventors have found that a TAB tape excellent in adhesiveness and insulating properties can be obtained by skillfully combining an epoxy resin containing an alkylene glycol chain and a polyamide resin, and have reached the present invention.

【0010】すなわち、本発明は、有機絶縁フィルム上
に接着剤層を有する積層体より構成され、該接着剤層が
ポリアミド(A)樹脂およびエポキシ樹脂(B)を必須
成分として含有するTAB用接着剤付きテープであっ
て、前記エポキシ樹脂(B)が、1分子内に2個以上の
エポキシ基を有しかつ下記式(1)で表される基を1個
以上有するエポキシ樹脂(b)を必須成分として含むこ
とを特徴とするTAB用接着剤付きテープおよびそれを
用いた半導体装置である。
That is, the present invention comprises a laminate having an adhesive layer on an organic insulating film, wherein the adhesive layer contains a polyamide (A) resin and an epoxy resin (B) as essential components. An epoxy resin (B), wherein the epoxy resin (B) has two or more epoxy groups in one molecule and one or more groups represented by the following formula (1). A TAB adhesive tape and a semiconductor device using the same, which are contained as an essential component.

【0011】[0011]

【化2】 (但し、RはC1 〜C12の炭化水素残基、nは1から1
2までの自然数を示す。)
Embedded image (Where R is a C 1 -C 12 hydrocarbon residue, n is 1 to 1)
Indicates a natural number up to 2. )

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明で使用するエポキシ樹脂
(b)は、1分子内に2個以上のエポキシ基を有かつ上
記式(1)で表される基を1個以上有するエポキシ樹脂
を必須成分とし含むであれば特に限定されない。例えば
上記式(1)において、Rがエチル基、プロピル基、ブ
チル基、イソプロピル基、フェニル基などを有するエポ
キシ樹脂が含まれる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The epoxy resin (b) used in the present invention is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and having one or more groups represented by the above formula (1). There is no particular limitation as long as it is included as an essential component. For example, in the above formula (1), an epoxy resin in which R has an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a phenyl group or the like is included.

【0013】本発明においては、可撓性のあるアルキレ
ングリコール鎖を分子内に有したエポキシ樹脂を用いる
ことにより、接着剤層の接着性を向上させることができ
る。
In the present invention, the adhesiveness of the adhesive layer can be improved by using an epoxy resin having a flexible alkylene glycol chain in the molecule.

【0014】本発明で使用するエポキシ樹脂(b)の基
本骨格は、1分子内に2個以上のエポキシ基を有するエ
ポキシ樹脂であれば特に制限されないが、ビスフェノー
ルF、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ジヒドロ
キシナフタレン等のジグリシジルエーテル、エポキシ化
フェノールノボラック、エポキシ化クレゾールノボラッ
ク、エポキシ化トリスフェニロールメタン、エポキシ化
テトラフェニロールエタン、エポキシ化メタキシレンジ
アミン、等が挙げられる。
The basic skeleton of the epoxy resin (b) used in the present invention is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, but bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, dihydroxy Examples include diglycidyl ethers such as naphthalene, epoxidized phenol novolak, epoxidized cresol novolak, epoxidized trisphenylolmethane, epoxidized tetraphenylolethane, and epoxidized metaxylenediamine.

【0015】また本発明で使用するエポキシ樹脂(B)
は2種以上のエポキシ樹脂が含まれたものであってもよ
い。
The epoxy resin (B) used in the present invention
May contain two or more epoxy resins.

【0016】本発明で使用されるポリアミド樹脂(A)
は、種々のものが使用できる。特に、接着剤層に可撓性
を持たせ、かつ低吸水率のため絶縁性にすぐれる、炭素
数が36であるジカルボン酸(いわゆるダイマー酸)を
構成成分として含むものが好適である。ダイマー酸を含
むポリアミド樹脂は、常法によるダイマー酸とジアミン
の重縮合により得られるが、この際にダイマー酸以外の
アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等のジカルボン
酸を共重合成分として含有してもよい。ジアミン構成成
分としてはエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ピペラジン、等の公知のものが使用でき、吸湿性、
溶解性の点から2種以上の混合でもよい。
The polyamide resin (A) used in the present invention
Can be used. In particular, a material containing a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms (so-called dimer acid) as a constituent component is preferable, in which the adhesive layer has flexibility and has excellent insulating properties due to a low water absorption. Polyamide resin containing dimer acid can be obtained by polycondensation of dimer acid and diamine according to a conventional method. Is also good. Known diamine components such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, piperazine, etc. can be used,
Two or more kinds may be mixed from the viewpoint of solubility.

【0017】本発明においてエポキシ樹脂(B)とポリ
アミド樹脂(A)との配合割合は、通常ポリアミド樹脂
(A)100重量部に対してエポキシ樹脂(B)5〜1
00重量部、好ましくは20〜70重量部である。エポ
キシ樹脂(B)が5重量部未満では接着性が十分でな
い。また、100重量部を越えると絶縁性が低下するの
で好ましくない。
In the present invention, the mixing ratio of the epoxy resin (B) to the polyamide resin (A) is usually 5 to 1 for the epoxy resin (B) per 100 parts by weight of the polyamide resin (A).
00 parts by weight, preferably 20 to 70 parts by weight. If the amount of the epoxy resin (B) is less than 5 parts by weight, the adhesiveness is not sufficient. On the other hand, if it exceeds 100 parts by weight, the insulating property is undesirably reduced.

【0018】本発明において、エポキシ樹脂(B)中に
おいてエポキシ樹脂(b)は通常、20重量%以上、好
ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以
上である。エポキシ樹脂(B)中には、接着性および絶
縁性を損なわない範囲で、公知の他のエポキシ樹脂も併
用添加することができる。公知の他のエポキシ樹脂の添
加量はエポキシ樹脂(B)中において80重量%未満で
ある。
In the present invention, the epoxy resin (b) in the epoxy resin (B) is usually at least 20% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 70% by weight. In the epoxy resin (B), other known epoxy resins can also be added together as long as the adhesiveness and the insulating property are not impaired. The addition amount of other known epoxy resins is less than 80% by weight in the epoxy resin (B).

【0019】さらに、接着剤層にノボラック型フェノー
ル樹脂、レゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂
を含有してもよく、絶縁性および熱変形等の耐熱性の向
上に効果がある。フェノール樹脂の添加量はポリアミド
樹脂100重量部に対して5〜100重量部であると好
ましい。
Further, the adhesive layer may contain a phenol resin such as a novolak type phenol resin or a resol type phenol resin, which is effective in improving insulation and heat resistance such as thermal deformation. The added amount of the phenol resin is preferably 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin.

【0020】本発明の接着剤層にエポキシ樹脂およびフ
ェノール樹脂の硬化剤および硬化促進剤を添加すること
は何等制限されない。たとえば、芳香族ポリアミン、三
フッ化ホウ素トリエチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素
のアミン錯体、2−アルキル−4−メチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−アルキルイミダゾール等のイミ
ダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸等
の有機酸、ジシアンジアミド、トリフェニルフォスフィ
ン等公知のものが使用できる。添加量はポリアミド樹脂
100重量部に対して0.1〜10重量部であると好ま
しい。
The addition of a curing agent and a curing accelerator for epoxy resin and phenolic resin to the adhesive layer of the present invention is not limited at all. For example, aromatic polyamines, amine complexes of boron trifluoride such as boron trifluoride triethylamine complex, imidazole derivatives such as 2-alkyl-4-methylimidazole and 2-phenyl-4-alkylimidazole, phthalic anhydride, trianhydride Organic acids such as melitic acid, dicyandiamide, and known compounds such as triphenylphosphine can be used. The addition amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin.

【0021】以上の成分以外に、接着剤の特性を損なわ
ない範囲で酸化防止剤、イオン捕捉剤などの有機、無機
成分を添加することは何ら制限されるものではない。
In addition to the above components, addition of organic and inorganic components such as an antioxidant and an ion scavenger is not limited as long as the properties of the adhesive are not impaired.

【0022】本発明でいう絶縁性フィルムとは例えば、
ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィ
ド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレート等の
プラスチックあるいはエポキシ樹脂含浸ガラスクロス等
の複合材料からなるフィルムが挙げられ、好ましくは厚
さ25〜125μmの可撓性を有するフィルムであり、
これらから選ばれる複数のフィルムを積層して用いても
良い。また必要に応じて、フィルム表面には加水分解、
コロナ放電、低温プラズマ、物理的粗面化、易接着コー
ティング処理等の表面処理を施すことができる。
The insulating film referred to in the present invention is, for example,
Polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyether ether ketone, aramid, polycarbonate, a film made of a composite material such as plastic or epoxy resin impregnated glass cloth such as polyarylate, preferably a thickness of 25 to 125 μm A flexible film,
A plurality of films selected from these may be laminated and used. Also, if necessary, hydrolysis,
Surface treatment such as corona discharge, low-temperature plasma, physical roughening, and easy adhesion coating treatment can be performed.

【0023】本発明では通常接着剤層上に保護フィルム
を積層する。この保護フィルム層は、銅箔を熱ラミネー
トする前に接着剤面からTAB用テープの形態を損なう
ことなく剥離できるものであれば特に限定されないが、
たとえばシリコーンあるいはフッ素化合物のコーティン
グ処理を施したポリエステルフィルム、ポリオレフィン
フィルム、およびこれらをラミネートした紙が挙げられ
る。
In the present invention, a protective film is usually laminated on the adhesive layer. This protective film layer is not particularly limited as long as it can be peeled from the adhesive surface without damaging the form of the TAB tape before the copper foil is thermally laminated.
For example, a polyester film or a polyolefin film coated with a silicone or fluorine compound, and a paper obtained by laminating the same.

【0024】次にTAB用接着剤付きテープの通常の製
造方法について説明する。
Next, a normal method for producing a tape with an adhesive for TAB will be described.

【0025】可撓性を有する絶縁性フィルムに、上記接
着剤組成物を溶剤に溶解した塗料を塗布、乾燥する。接
着剤層の膜厚は10〜25μmとなるように塗布するこ
とが好ましい。乾燥条件は、100〜200℃、1〜5
分である。溶剤は特に限定されないが、トルエン、キシ
レン、クロルベンゼン等の芳香族系とメタノール、エタ
ノール、プロパノール等のアルコール系の混合が好適で
ある。このようにして得られた積層体に保護フィルムを
ラミネートし、最後に35〜158mm程度の幅にスリ
ットする。
A coating material obtained by dissolving the above adhesive composition in a solvent is applied to a flexible insulating film and dried. It is preferable to apply the adhesive layer so that the film thickness is 10 to 25 μm. Drying conditions are 100-200 ° C, 1-5
Minutes. The solvent is not particularly limited, but a mixture of an aromatic compound such as toluene, xylene, and chlorobenzene and an alcohol compound such as methanol, ethanol, and propanol is preferable. A protective film is laminated on the thus obtained laminate, and finally slit into a width of about 35 to 158 mm.

【0026】[0026]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実
施例の説明に入る前に評価方法について述べる。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples. Before starting the description of the embodiments, an evaluation method will be described.

【0027】評価方法 (1)評価用サンプル作成方法 TAB用接着剤付きテープサンプルに18μmの電解銅
箔を、140℃、0.1MPaの条件でラミネートし
た。続いてエアオーブン中で、80℃、3時間、100
℃、5時間、150℃、5時間の順次加熱処理を行な
い、銅箔付きTAB用テープを作成した。得られた銅箔
付きTAB用テープの銅箔面に常法によりフォトレジス
ト膜形成、エッチング、レジスト剥離を行ない、接着強
度および絶縁性の評価用サンプルをそれぞれ作成した。
Evaluation method (1) Method for preparing evaluation sample An 18 μm electrolytic copper foil was laminated on a tape sample with an adhesive for TAB at 140 ° C. and 0.1 MPa. Then, in an air oven at 80 ° C for 3 hours, 100
C., 5 hours, 150.degree. C., 5 hours in order to prepare a TAB tape with copper foil. Photoresist film formation, etching, and resist peeling were performed on the copper foil surface of the obtained TAB tape with copper foil by a conventional method, and samples for evaluation of adhesive strength and insulating property were prepared.

【0028】(2)スズメッキ処理 上記(1)の方法で得られたサンプルを、ホウフッ酸系
の無電解スズメッキ液に70℃、5分浸漬処理し、0.
5μm厚のメッキを施した。
(2) Tin plating treatment The sample obtained by the above method (1) was immersed in a borofluoric acid-based electroless tin plating solution at 70 ° C for 5 minutes.
5 μm thick plating was applied.

【0029】(3)剥離強度 上記(1)および(2)の方法で得た導体幅50μmの
評価用サンプルを用いて、導体を90°方向に50mm
/min の速度で剥離し、その際の剥離力を測定した。
(3) Peeling Strength Using the evaluation sample having a conductor width of 50 μm obtained by the above methods (1) and (2), the conductor was moved 50 mm in the 90 ° direction.
/ Min, and the peeling force at that time was measured.

【0030】参考例(ポリアミド樹脂の合成) 表1に示す酸/アミンを用いて、酸/アミン反応物、消
泡剤および1%以下のリン酸触媒を加え、反応体を調製
した。この反応体を、140℃,1時間撹拌加熱後、2
05℃まで昇温し、約1.5時間撹拌した。約15mm
Hgの真空下で、0.5時間保持し、温度を低下させ
た。最後に、酸化防止剤を添加し、ポリアミド樹脂(A
1)を取り出した。
Reference Example (Synthesis of Polyamide Resin) Using an acid / amine shown in Table 1, an acid / amine reactant, an antifoaming agent and a phosphoric acid catalyst of 1% or less were added to prepare a reactant. The reactants were stirred and heated at 140 ° C. for 1 hour, and then heated for 2 hours.
The temperature was raised to 05 ° C., and the mixture was stirred for about 1.5 hours. About 15mm
Hold under Hg vacuum for 0.5 hour to reduce temperature. Finally, an antioxidant is added, and the polyamide resin (A
1) was taken out.

【0031】実施例1 参考例で得た表1に示したポリアミド樹脂(A1)(酸
価10.0)、フェノール樹脂(昭和高分子(株)製、
CKM1282)、表2に示したアルキレングリコール
鎖を含むエポキシ樹脂(b1)をそれぞれ表3の組成比
となるように配合し、ジシアンジアミド(DICY)を
添加した後、濃度20重量%となるようにメタノール/
モノクロルベンゼン混合溶媒に30℃で撹拌、混合して
接着剤溶液を作製した。この接着剤をバーコータで、厚
さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東
レ(株)製”ルミラー”)に約18μmの乾燥厚さとな
るように塗布し,100℃、1分および160℃で5分
間の乾燥を行ない、接着剤シートを作製した。さらに、
得られた接着剤シートを厚さ75μmのポリイミドフィ
ルム(宇部興産(株)製“ユーピレックス”75S)に
120℃、0.1MPaの条件でラミネートしてTAB
用接着剤付きテープを作成した。特性を表3に示す。
Example 1 A polyamide resin (A1) (acid value 10.0) shown in Table 1 and a phenol resin (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
CKM1282) and an epoxy resin (b1) containing an alkylene glycol chain shown in Table 2 were blended so as to have the composition ratios shown in Table 3, and after adding dicyandiamide (DICY), methanol was added so that the concentration became 20% by weight. /
The mixture was stirred and mixed with a monochlorobenzene mixed solvent at 30 ° C. to prepare an adhesive solution. This adhesive was applied to a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film (“Lumirror” manufactured by Toray Industries, Ltd.) using a bar coater to a dry thickness of about 18 μm, and dried at 100 ° C., 1 minute, and 160 ° C. for 5 minutes. Was performed to produce an adhesive sheet. further,
The obtained adhesive sheet was laminated on a 75 μm-thick polyimide film (“UPILEX” 75S manufactured by Ube Industries, Ltd.) at 120 ° C. and 0.1 MPa, and TAB was applied.
A tape with an adhesive was prepared. Table 3 shows the characteristics.

【0032】上記の手順で得られたTAB用接着剤付き
テープを用いて、前述の評価方法(1)および(2)と
同一の方法で半導体集積回路接続用の導体回路を形成
し、図1に示すパターンテープを得た。
Using the TAB adhesive tape obtained by the above procedure, a conductor circuit for connecting a semiconductor integrated circuit was formed in the same manner as in the above evaluation methods (1) and (2). Was obtained.

【0033】さらにこのパターンテープを用いて、45
0℃,1分の条件でインナーリードボンディングを行な
い、半導体集積回路を接続した。しかるのちに、エポキ
シ系液状封止剤(北陸塗料(株)製“チップコート”1
320−617)で樹脂封止を行ない、半導体装置を得
た。図2は得られた半導体装置の断面を示したものであ
る。
Further, using this pattern tape, 45
Inner lead bonding was performed at 0 ° C. for 1 minute to connect a semiconductor integrated circuit. After that, an epoxy-based liquid sealant ("Hitariku Paint Co., Ltd." Chipcoat "1
320-617), resin sealing was performed to obtain a semiconductor device. FIG. 2 shows a cross section of the obtained semiconductor device.

【0034】実施例2〜4および比較例1、2 実施例1と同様の方法で、それぞれ表1〜3に示した原
料および組成比で調合した接着剤を用いてTAB用接着
剤付きテープを得た。特性を表3に示す。
Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 Tapes with an adhesive for TAB were prepared in the same manner as in Example 1 by using the raw materials and adhesives prepared according to the composition ratios shown in Tables 1 to 3, respectively. Obtained. Table 3 shows the characteristics.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】[0037]

【表3】 [Table 3]

【0038】表3の実施例および比較例から本発明によ
り得られるTAB用接着剤付きテープは、接着性に優
れ、従って絶縁性に優れることがわかる。
From the examples and comparative examples in Table 3, it can be seen that the TAB adhesive tape obtained according to the present invention is excellent in adhesiveness and therefore excellent in insulation.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明は接着性および絶縁性に優れた新
規なTAB用接着剤付きテープおよびそれを用いた半導
体装置を工業的に提供するものであり、本発明のTAB
用接着剤付きテープによって高密度実装用の半導体装置
の信頼性および経済性を向上させることができる。
The present invention is to industrially provide a novel TAB adhesive tape having excellent adhesiveness and insulating properties and a semiconductor device using the same.
The reliability and economy of the semiconductor device for high-density mounting can be improved by the adhesive tape.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のTAB用接着剤付きテープを加工して
得られた、半導体集積回路搭載前のパターンテープの一
態様の斜視図。
FIG. 1 is a perspective view of one embodiment of a pattern tape before mounting a semiconductor integrated circuit, obtained by processing a tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【図2】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置の一態様の断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device using the tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【図3】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置(BGA)の一態様の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device (BGA) using a tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【図4】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置(CSP)の一態様の断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device (CSP) using a tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 可撓性を有する絶縁性フィルム 2,13,21 接着剤 3 スプロケット孔 4 デバイス孔 5,14,22 半導体集積回路接続用の導体 6 インナーリード部 7 アウターリード部 8,15,23 半導体集積回路 9,16,24 封止樹脂 10,17,25金バンプ 11保護膜 18,26 ハンダボール 19 補強板 27 ソルダーレジスト DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating film which has flexibility 2,13,21 Adhesive 3 Sprocket hole 4 Device hole 5,14,22 Conductor for connecting a semiconductor integrated circuit 6 Inner lead part 7 Outer lead part 8,15,23 Semiconductor integrated circuit 9, 16, 24 Sealing resin 10, 17, 25 Gold bump 11 Protective film 18, 26 Solder ball 19 Reinforcement plate 27 Solder resist

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】有機絶縁フィルム上に接着剤層を有する積
層体より構成され、該接着剤層がポリアミド樹脂(A)
およびエポキシ樹脂(B)を必須成分として含有するT
AB用接着剤付きテープであって、前記エポキシ樹脂
(B)が、1分子内に2個以上のエポキシ基を有しかつ
下記式(1)で表される基を1個以上有するエポキシ樹
脂(b)を必須成分として含むことを特徴とするTAB
用接着剤付きテープ。 【化1】 (但し、RはC1 〜C12の炭化水素残基、nは1から1
2までの自然数を示す。)
1. A laminated body having an adhesive layer on an organic insulating film, wherein the adhesive layer is made of a polyamide resin (A).
Containing epoxy resin and epoxy resin (B) as an essential component
AB adhesive tape, wherein the epoxy resin (B) has two or more epoxy groups in one molecule and one or more groups represented by the following formula (1): TAB characterized by containing b) as an essential component
Tape with adhesive. Embedded image (Where R is a C 1 -C 12 hydrocarbon residue, n is 1 to 1)
Indicates a natural number up to 2. )
【請求項2】エポキシ樹脂(B)の含有量が、ポリアミ
ド樹脂100重量部に対し、5〜100重量部であるこ
とを特徴とする請求項1記載のTAB用接着剤付きテー
プ。
2. The TAB adhesive tape according to claim 1, wherein the content of the epoxy resin (B) is 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin.
【請求項3】ポリアミド樹脂(A)が炭素数36のジカ
ルボン酸を必須構成成分として含むことを特徴とする請
求項1記載のTAB用接着剤付きテープ。
3. The tape with an adhesive for TAB according to claim 1, wherein the polyamide resin (A) contains a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms as an essential component.
【請求項4】接着剤層がフェノール樹脂を含有すること
を特徴とする請求項1記載のTAB用接着剤付きテー
プ。
4. The tape with an adhesive for TAB according to claim 1, wherein the adhesive layer contains a phenol resin.
【請求項5】請求項1〜4のいずれか記載のTAB用接
着剤付きテープを用いた半導体装置。
5. A semiconductor device using the tape with an adhesive for TAB according to claim 1.
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