JPH096018A

JPH096018A - 感光体用基体の洗浄法

Info

Publication number: JPH096018A
Application number: JP14868695A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Oide; 雅章大出
Original assignee: Showa Aluminum Corp
Current assignee: Altemira Co Ltd
Priority date: 1995-06-15
Filing date: 1995-06-15
Publication date: 1997-01-10
Anticipated expiration: 2019-08-04
Also published as: JP3549285B2

Abstract

(57)【要約】【目的】脱脂と切り粉除去の両者に有効で、清浄度の
高い基体を確実に得られる感光体用基体の洗浄法を目的
とする。【構成】感光体用基体１を洗浄液４に浸漬するととも
に、該洗浄液４への低周波振動の付与および超音波照射
を、同時あるいは逐次に行うことにより、前記感光体用
基体１を洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、電子写真式の複写
機、プリンタ、ファクシミリ等に用いられる感光体にお
いて、感光層を支持する感光体用基体の洗浄法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】上記のような感光体は、アルミニウム
（その合金を含む）管のような基体にＯＰＣ等の薄膜の
感光層が塗工されて形成されてなる。このような薄膜の
感光層を薄くかつ均一な厚さに塗工するためには、基体
として、素管に切削、引き抜き、しごき、研磨等の加工
を施して鏡面に仕上げたものを使用し、さらに基体表面
に付着した加工油、切り粉、粉塵等を十分に洗浄して除
去する必要がある。

【０００３】一方、基体の洗浄剤としては、従来フロン
等のハロゲン化炭化水素が多く使用されてきたが、地球
環境保護の立場から、オゾン層を破壊しない炭化水素
系、水系、準水系の洗浄剤が使用されることが多くなっ
ている。

【０００４】しかし、これらの洗浄剤は前述のハロゲン
化炭化水素に比べると洗浄力が弱いために、単に洗浄液
中に基体を浸漬するだけでなく、洗浄力を高めるべく、
キャビテーション効果を利用した超音波洗浄、ジェット
ノズルなどによる洗浄液の高圧噴射、ブラシやブレード
などによるコスリ洗浄などの種々の洗浄法が採用されて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
各洗浄法は、いずれも感光体用基体に付着した残油や切
り粉の両者をムラなく確実に除去できるものではなかっ
た。その結果、加工油が残留していると感光層塗工時に
塗工液が撥じかれてムラになり、また切り粉や粉塵が残
留したまま感光体が形成されると一様帯電時に漏電の起
点となり、いずれも画像品質が低下するという問題点が
あった。

【０００６】この発明は、前記問題点を解消することを
目的としてなされたもので、脱脂と切り粉除去の両者に
有効で、清浄度の高い基体を確実に得られる感光体用基
体の洗浄法を提供しようとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明に係る感光体用
基体の洗浄法は、前記目的を達成するために、感光体用
基体（１）を洗浄液（４）に浸漬するとともに、該洗浄
液（４）への低周波振動の付与および超音波照射を、同
時あるいは逐次に行うことにより、前記感光体用基体
（１）を洗浄することを特徴とするものである。また、
前記洗浄法において、低周波振動の周波数は１〜１００
Ｈｚが好ましく、超音波の周波数は２０〜５００ｋＨｚ
が好ましい。

【０００８】この発明の洗浄法に適用できる感光体用基
体（１）とは、感光ドラム用アルミニウム管をはじめと
する各種基体であり、形状や材質は問わない。

【０００９】この発明の洗浄法において、低周波と超音
波という周波数の全く異なる２種類の振動を用いるの
は、脱脂と切り粉除去に有効な周波数が異なるためであ
る。

【００１０】即ち、低周波は、超音波のような強い指向
性をもたず広い角度に拡がりながら伝播するため、振動
は振動源から洗浄液（４）全体に拡がって三次元的な乱
流を起こして洗浄液（４）全体を攪拌する。そのため、
基体（１）表面と接触する洗浄液は絶えず入れ替わっ
て、基体（１）表面から離脱した油分による部分的な油
分の高濃度状態を速やかに解消することにより、高い脱
脂力を発揮する。また、洗浄液（４）の攪拌効果によ
り、基体（１）と振動源とを相対的に移動させる必要が
なく、また縦横に多重配置した複数の基体（１）をもム
ラなく洗浄することができる。前記低周波振動の周波数
は、１Ｈｚ未満では洗浄力に乏しく、また１００Ｈｚを
超えても洗浄力が飽和して洗浄効率が悪くなるため、１
〜１００Ｈｚの範囲で設定することが好ましい。特に好
ましい低周波振動の周波数は１０〜６０Ｈｚである。

【００１１】また、超音波は、キャビテーション効果に
より、主として基体（１）表面に付着した切り粉や粉塵
をたたき落とすようにしてこれらを除去するのに効果が
ある。このような超音波の周波数は、２０ｋＨｚ未満で
は、洗浄力に乏しく、また５００ｋＨｚを超えるとキャ
ビテーション効果が強すぎて基体（１）表面に損傷を与
えるため、２０〜５００ｋＨｚの範囲で設定することが
好ましい。特に好ましい超音波の周波数は２５〜１００
ｋＨｚである。

【００１２】上述した洗浄液（４）に対する低周波振動
の付与および超音波照射は、同時に行っても良く、また
これらを同一槽あるいは別の槽で逐次的に行っても良
い。どちらを採用しても総合的な洗浄力に差はないが、
同時に行う方が洗浄時間を短縮できる利点がある。ま
た、逐次的に行う場合にどちらを先に行っても良いが、
超音波照射を先に行って切り粉や粉塵を予め除去した方
が、低周波振動洗浄液の汚染を少なくし、汚染物の再付
着を少なくできるため、超音波照射を行ったのちに低周
波振動を行うことが好ましい。

【００１３】この発明の洗浄法を実施するに際しては、
低周波振動の付与方式および超音波の照射方式は限定さ
れるものではなく、各種洗浄装置を適宜組み合わせて使
用すれば良い。例えば、低周波振動を付与する装置とし
て、図１に示す振動攪拌機（５）を使用する方法を例示
できる。この振動攪拌機（５）は、モータ（６）で発生
させた振動を支柱（７）を介して洗浄液（４）に浸漬さ
せた振動羽根（８）に伝えることにより洗浄液（４）を
振動攪拌するものである。なお、この振動攪拌機（５）
では、洗浄液（４）全体の均一攪拌をより確実なものと
するために、振動源である振動羽根（８）が深さ方向に
複数個連結されている。また、超音波照射方式として
は、図２（ａ）に示す投げ込み型、（ｂ）の接着型、
（ｃ）の振動伝達子型等を例示できる。なお、図２
（ａ）（ｂ）（ｃ）において、（１０）は洗浄槽、（２
０）は被洗浄物、（３０）は振動子、（４０）は振動伝
達子、（５０）は洗浄液である。

【００１４】なお、この洗浄法で使用する洗浄剤の種類
は特に限定されず、ハロゲン化炭化水素よりも洗浄力の
弱い炭化水素系、水系、準水系の洗浄剤を使用しても良
好な洗浄効果を得ることができる。

【００１５】

【作用】この発明の洗浄法では、低周波振動が洗浄液
（４）全体を攪拌するため、基体（１）表面と接触する
洗浄液は絶えず入れ替わる。そのため、感光体用基体
（１）表面から離脱した油分による部分的な油分の高濃
度状態は速やかに解消され、主として脱脂に効果があ
る。一方、超音波照射は、キャビテーション効果により
基体（１）表面の付着物をたたき落とすのに有効である
ため、主として切り粉や粉塵を除去する効果がある。従
って、異なる周波数の振動を組み合わせることにより、
残油および切り粉や粉塵の両方を総合的に洗浄除去する
ことができる。

【００１６】また、前記洗浄法において、低周波振動の
周波数が１〜１００Ｈｚであるとき、また超音波の周波
数が２０〜５００ｋＨｚであるときに、それぞれ最も高
い洗浄効果が獲られる。

【００１７】

【実施例】次に、この発明の感光体用基体の洗浄法の具
体的実施例について説明する。

【００１８】供試体には、感光ドラム用基体として用い
られる円筒管で、ＪＩＳＡ３００３アルミニウム合金か
らなる外径３０mm×内径２８．５mm×長さ２５４mmの無
切削管（ＥＤ管）を用いた。この基体は、押出素管を引
き抜いて形成した長尺管を前記長さに切断したものであ
って、基体表面には加工油および切り粉が多数付着して
いる。

【００１９】洗浄は、トリクロロエタンまたは水系界面
活性剤のいずれかの洗浄液を用いて、後述の方法により
行った。また、いずれの方法においても、図１に示すよ
うに、感光ドラム用基体（１）は複数個を網状の台
（２）上に立設した支持棒（図示せず）に中空部を挿通
せしめて縦横複数列に立設状態に多重配置し、この状態
で洗浄液（４）中に浸漬するとともに、洗浄槽（３）へ
の出し入れを行った。

【００２０】［トリクロロエタン洗浄（実施例１〜３、
比較例１、３〜５、９〜１１）］２段階の浸漬洗浄とそ
の後の蒸気洗浄との合計３段階で洗浄を行った。

【００２１】第１段階では、感光ドラム用基体（１）を
４０℃の温浴中に６０秒間浸漬した。

【００２２】第２段階では、図１に示すように、室温
（２５℃）の洗浄液（４）中に浸漬するとともに、浸漬
のみ、あるいは洗浄槽（３）内に配置した振動攪拌機
（５）および超音波発振子（９）により、表１に示す周
波数の低周波振動または超音波照射、またはその両方に
より、６０秒間洗浄した。前記振動攪拌機（５）は、振
動モータ（６）で発生させた振動を、２本の支柱（７）
を介して、洗浄槽（３）の深さ方向に連結した５枚の振
動羽根（８）に伝え、洗浄液（４）に三次元的な乱流を
発生させることにより洗浄液（４）を攪拌するものであ
り、洗浄槽（３）の側面近くに配置した。また、前記超
音波発振子（９）は投げ込み型のものを使用し、これを
洗浄槽（３）底面に配置し、その真上に複数の感光ドラ
ム用基体（１）を浸漬した。

【００２３】第３段階では、６０秒間トリクロロエタン
による蒸気洗浄を行うとともに、感光ドラム用基体
（１）を乾燥させた。

【００２４】［水系洗浄（実施例４〜８、比較例２、比
較例６〜８、１２〜１４）］旭化成（株）製の界面活性
剤「エリーズＫ−１０００」の３％水溶液を洗浄液と
し、２段階の浸漬洗浄とその後の水洗の３段階で洗浄し
た。

【００２５】第１段階では、感光ドラム用基体（１）を
５０℃の温浴中に６０秒間浸漬するとともに、表１に示
す条件で、浸漬のみ、低周波振動または超音波照射、あ
るいはその両方により、６０秒間洗浄した。また、実施
例７、８では、低周波振動の付与と超音波照射とを各６
０秒間逐次的に行った。なお、洗浄装置については、上
述のトリクロロエタン洗浄に用いたものと同じであるか
ら、説明は省略する。

【００２６】第２段階では、第１段階に引き続いて同じ
５０℃の温浴中に６０秒間浸漬した。

【００２７】第３段階では、イオン交換水で３０秒間シ
ャワー水洗して洗浄液を除去した。

【００２８】次いで、上述の方法で洗浄した感光ドラム
用基体（１）を水切りした後、熱風で乾燥させた。

【００２９】このようにしてトリクロロエタンおよび水
系洗浄を行った各感光ドラム用基体について、脱脂率お
よび切り粉の除去状態について評価した。脱脂率は、基
体を墨汁水溶液中に浸漬して引き上げた際の濡れ面積率
により評価した。また、切り粉の除去状態は、残留切り
粉量を目視観察して評価した。表１にこれらの評価結果
を示す。

【００３０】

【表１】

【００３１】表１の結果から明らかなように、この発明
の方法によれば、低周波振動による攪拌と超音波照射を
同時または逐次に行うことにより、脱脂および切り粉除
去の両方に効果があることを確認できた。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように、この発明に係る感
光体用基体の洗浄方法は、感光体用基体を洗浄液に浸漬
するとともに、該洗浄液への低周波振動の付与および超
音波照射を、同時あるいは逐次に行うことにより、前記
感光体用基体を洗浄するものであるから、低周波振動に
よる脱脂と超音波照射による切り粉や粉塵の除去が組み
合わさって、高い洗浄力が得られる。その結果、比較的
洗浄力の弱い洗浄剤を使用しても清浄度の高い感光ドラ
ム用基体が得られ、ひいては基体表面に薄く均一な感光
体層の形成が可能となり、画像品質の向上を図ることが
できる。

【００３３】また、前記洗浄法において、低周波振動の
周波数を１〜１００Ｈｚにした場合や、超音波の周波数
を２０〜５００ｋＨｚに設定した場合は、特に高い洗浄
効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る感光体用基体の洗浄法の一実施
例を示す斜視図である。

【図２】（ａ）は超音波の照射方式の一例を示す断面
図、（ｂ）は他の例を示す断面図、（ｃ）はさらに他の
例を示す一部切り欠き斜視図である。

【符号の説明】

１…感光体用基体（感光ドラム用基体）４…洗浄液

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光体用基体（１）を洗浄液（４）に浸
漬するとともに、該洗浄液（４）への低周波振動の付与
および超音波照射を、同時あるいは逐次に行うことによ
り、前記感光体用基体（１）を洗浄することを特徴とす
る感光体用基体の洗浄法。
【請求項２】前記低周波振動の周波数を１〜１００Ｈ
ｚに設定して洗浄を行う請求項１に記載の感光体用基体
の洗浄法。
【請求項３】前記超音波の周波数を２０〜５００ｋＨ
ｚに設定して洗浄を行う請求項１または２に記載の感光
体用基体の洗浄法。