JPH0961617A

JPH0961617A - 液晶カラーフィルターの製造方法

Info

Publication number: JPH0961617A
Application number: JP21379395A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiko Kondo; 康彦近藤; Akihiko Nakamura; 明比古中村; Jun Nishibayashi; 純西林; Takashi Teraguchi; 隆司寺口
Original assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Priority date: 1995-08-22
Filing date: 1995-08-22
Publication date: 1997-03-07

Abstract

(57)【要約】【課題】透明着色層の微細なパターンを印刷法にて精
密に形成することができる液晶カラーフィルターの製造
方法を提供する。【解決手段】透明基板の表面および／または凹版の非
画線部の表面に樹脂コーティング膜を形成し、次いで前
記凹版の凹部にインキを充填し、この凹版の表面に前記
透明基板を圧着してインキを転移させることにより、透
明基板上に透明着色層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレー
に用いられる液晶カラーフィルターの製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ブラ
ウン管（ＣＲＴ）などに代わる表示デバイスとして用い
られている液晶ディスプレーは、液晶カラーフィルター
を用いることによってカラー表示を実現している。この
液晶カラーフィルターは、例えば図３に示すように、１
画素毎にパターン化されたレッド（Ｒ）、グリーン
（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の３色の透明着色層８が透明基板
３上に形成されたものである。

【０００３】近年、薄層トランジスタ（ＴＦＴ）やスー
パーツイストネマティック（ＳＴＮ）等の液晶駆動方式
の発達によって液晶ディスプレーの高画質化が進み、こ
れに伴って、微細な透明着色層のパターンを極めて精密
に作製することが要求されている。具体的には、４００
ｍｍ×４００ｍｍの範囲において、線幅が１０〜４０μ
ｍである微細なパターンを、設計値とのずれが約５μｍ
以内の精度でもって作製することが要求される。

【０００４】液晶カラーフィルターの製造方法として
は、前記透明着色層の作製にフォトリソグラフィー技術
を用いる方法と、印刷技術を用いる印刷法とに分類され
る。このうちフォトリソグラフィーを用いる方法は、パ
ターンに応じたレジストを透明基板上に形成し、露光し
てエッチングを施すことによりパターンを作製する方法
である。この方法によれば、微細なパターンを精密に作
製できるものの、高価なフォトレジストが多量に必要で
あり、かつレジストの塗布、乾燥、露光、現像、硬化な
どの各工程に巨額の設備が必要であるため、液晶カラー
フィルターのコストが高くなるという問題がある。

【０００５】一方、印刷法は、インキ樹脂を透明基板上
に印刷することによってパターンを作製する方法であ
る。この方法はパターンを作製するための工程が少な
く、高価な材料の消費量が少ないことから、量産性とコ
ストの面で非常に有望な方法である。種々の印刷法のう
ち微細なパターンを作製する場合は、通常、ガラス基板
や金属板からなる版を用いたオフセット印刷法が使用さ
れる。オフセット印刷法では、フォトリソグラフィー技
術を用いて版上にパターンを形成することから、微細な
パターンを非常に精密に版上に作製することができる。
具体的には、４００ｍｍ×４００ｍｍの範囲において、
線幅が１０〜４０μｍ程度のパターンを設計値とのずれ
が５μｍ以内となるように作製できる。

【０００６】しかしながら、上記版からオフセットブラ
ンケットを介して透明基板上へインキを転移させること
によってパターンに歪みが発生し、透明基板上に形成さ
れたパターンは、設計値とのずれが５０〜１００μｍに
もなる。このずれが生じる原因としては、オフセットブ
ランケットの胴径のばらつき、オフセットブランケット
の胴に付いているピニオンギヤとラックギヤの精度のば
らつき、オフセットブランケットの送り速度のばらつき
等が考えられる。

【０００７】一方、オフセットブランケットを介在させ
ず、版と透明基板とを密着させてインキを直接転移させ
る方法も提案されている。この方法を用いると、パター
ンの歪みが生じず、正確なパターン転写が可能になるも
のの、金属、ガラス、硬質フィルムなどからなる凹版
と、ガラスからなる透明基板とはいずれも硬質な部材で
あるため、両者を圧着させてもインキが転写されにくい
という問題がある。

【０００８】本発明の目的は、透明着色層の微細なパタ
ーンを印刷法を用いて精密に形成できる液晶カラーフィ
ルターの製造方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、凹版の表面に
設けられた凹部にインキを充填し、次いでこの凹版の表
面に透明基板を圧着してインキを転移させることによっ
て前記透明基板上に透明着色層を形成する液晶カラーフ
ィルターの製造方法であって、前記透明基板の表面およ
び／または前記凹版の表面のうちの非画線部に樹脂コー
ティング膜が形成されているときは、凹版から透明基板
へのインキの転移がスムーズに行われ、透明着色層のパ
ターンを透明基板上に高い精度で転写できるという新た
な事実を見出し、本発明を完成するに至った。

【００１０】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法
においては、前記透明基板や凹版がたとえ金属、ガラ
ス、硬質フィルムなどの硬質材料からつくられていたと
しても、透明基板の表面あるいは凹版の非画線部の表面
が樹脂でコーティングされているため、凹版から透明基
板へのインキの転移をスムーズに行うことができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明に用いられる凹版は、その
表面に透明着色層のパターンに対応した凹部を形成した
ものである。前記凹版には、例えばソーダライムガラ
ス、ノンアルカリガラス、石英、低アルカリガラス、低
膨張ガラス、ステンレス、銅などが用いられる。なかで
も、ソーダライムガラスなどの軟質ガラスを用いるの
が、微細なパターンを高精度で再現するうえで好まし
い。

【００１２】凹部の深さは透明着色層の膜厚に大きく影
響しており、所望の膜厚に応じて、通常、１〜１０μｍ
の範囲で設定される。凹部を形成する方法としては、凹
版の基板表面にレジストを塗布し、レーザー照射などを
用いてパターンに応じてレジストを除去した後、エッチ
ングによって凹部を形成する方法が好適に用いられる。
このように、フォトリソグラフィーの技術を用いること
で、微細なパターンを高精度で基板上に形成できる。

【００１３】透明基板としては、波長４００〜７００ｎ
ｍの光に対する透過率が高いものが好ましい。例えば、
ノンアルカリガラス、ソーダライムガラス、低アルカリ
ガラス等のガラス基板や、ポリエーテル、ポリサルホ
ン、ポリアリレート等のフィルムが好適に用いられる。
本発明における樹脂コーティング膜は、透明基板の表面
と凹版の非画線部の表面との両方、あるいはいずれか一
方に形成されていればよい。

【００１４】上記樹脂コーティング膜は、凹版または透
明基板よりも硬度が低ければよく、具体的には、樹脂コ
ーティング膜の硬度が鉛筆硬度でＨ〜６Ｈであるのが好
ましい。硬度が前記範囲よりも高いときは、凹版から透
明基板へのインキの転移をスムーズにするという本発明
の効果が得られなくなるおそれがある。一方、硬度が前
記範囲よりも低いときは、樹脂コーティング膜の圧縮変
形による精度不良や透明基板の表面に傷が生じやすくな
るといった問題が起こるために好ましくない。

【００１５】樹脂コーティング膜の形成には、ディッピ
ング、スピンコート、ロールコート等の従来公知の種々
のコーティング法を用いることができる。以下、樹脂コ
ーティング膜を透明基板の表面に形成する場合、凹版の
非画線部の表面に形成する場合および透明基板の表面と
凹版の非画線部の表面との両方に形成する場合の３つに
分けて説明する。 (i) 透明基板の表面に形成する場合透明基板の表面に形成される樹脂コーティング膜の膜厚
は、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍで
ある。コーティング膜の膜厚が前記範囲を下回るとき
は、凹版から透明基板へのインキの転移をスムーズにす
るという本発明の効果が得られなくなり、インキの転写
が不十分になったり、パターンの膜厚にばらつきが生じ
るおそれがある。一方、膜厚が前記範囲を超えるとき
は、透明基板の光透過性が低下するおそれがある。ま
た、透明基板の表面の平坦性が低下するおそれもあり、
液晶ディスプレーの画像が乱れる原因となるために好ま
しくない。

【００１６】透明基板の表面に形成される樹脂コーティ
ング膜としては、十分な光透過性と耐熱性とを有する必
要がある。具体的には、樹脂コーティング膜の光透過性
としては、波長領域が４００〜７００ｎｍの光に対する
光透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上であるこ
とが要求される。また、耐熱性としては、２２０℃で１
時間加熱処理した後の光透過率の減少率が１０％以下、
好ましくは５％以下であることが要求される。

【００１７】上記条件を満たす樹脂としては、アクリル
樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などや、これらの
樹脂の混合物があげられ、これらのうち、凹版よりも硬
度が低いものを用いることができる。 (ii)凹版の非画線部の表面に形成する場合凹版の非画線部の表面に形成される樹脂コーティング膜
の膜厚は、通常、１〜２０μｍ、好ましくは５〜１０μ
ｍである。コーティング膜の膜厚が前記範囲を下回ると
きは、凹版から透明基板へのインキの転移をスムーズに
するという本発明の効果が得られなくなり、インキの転
写が不十分になったり、パターンの膜厚にばらつきが生
じるおそれがある。一方、膜厚が前記範囲を超えるとき
は、樹脂コーティング膜が圧縮時に変形して剪断ずれを
起こし、パターンの精度が低下するために好ましくな
い。

【００１８】樹脂コーティング膜を、凹版の非画線部の
表面すなわち凹部が形成されていない部分の表面に形成
する場合には、画線部すなわち凹部が樹脂で埋まるのを
防ぐ必要がある。従って、凹版の基板に樹脂のコーティ
ング膜を形成した後、フォトレジストの形成とエッチン
グを行なって凹部を形成すればよい。凹版の非画線部の
表面に形成されるコーティング膜としては、従来公知の
種々の樹脂のうち、透明基板よりも硬度が低いものを用
いることができる。 (iii) 透明基板の表面と凹版の非画線部の表面との両方
に形成する場合透明基板の表面および凹版の非画線部の表面に形成され
る樹脂コーティング膜の膜厚の総和が１０μｍ、好まし
くは５μｍを超えないこと以外は、前述の(i)および(i
i)と同様にして樹脂コーティング膜を形成すればよい。

【００１９】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法
としては、例えば図１に示す方法があげられる。すなわ
ち、凹版１の凹部２にインキ５を充填し〔図１(a) 〕、
透明基板３の樹脂コーティング面と凹版１の表面とを密
着させ、透明基板３の樹脂コーティング膜４が形成され
ていない面にローラ６を転がして透明基板３と凹版１と
を圧着させる〔図１(b) 〕。このようにして、透明基板
３上にインキ５が転移する〔図１(c) 〕。レッド
（Ｒ）、グリーン（Ｇ）およびブルー（Ｂ）の３色の透
明着色層を形成する場合は、３つのインキについてそれ
ぞれ上記の操作を行えばよい。透明基板３上にインキ５
を転移させた後、インキ５を加熱乾燥して硬化させ、透
明着色層が形成される。

【００２０】凹版１の凹部２にインキを充填する方法と
しては、例えばインキをドクター刃によってスキージす
る方法、スクリーン印刷を用いて所定の凹部にインキを
充填する方法、ディスペンサー（注入器）で注入する方
法、バブルジェットによって注入する方法などがあげら
れる。上記ロール６としては、例えばゴムローラ、金属
ローラ、プラスチックローラ、セラミックローラ等が用
いられる。

【００２１】図１においては、透明基板３上に樹脂コー
ティング膜４が形成されているが、かかる樹脂コーティ
ング膜は、前述のように、凹版の非画線部の表面に形成
されていてもよい。また、透明基板３と凹版１とを圧着
させる際に、透明基板３に代えて、凹版１の裏面にロー
ル６を転がしてもよい。図１(b) では、透明基板３と凹
版１とをローラ６にて圧着しているが、図２(b')に示す
ように、透明基板３および／または凹版１の裏面全面を
平面プレス７にて加圧する方法を用いることもできる。

【００２２】平面プレス７としては、従来公知の種々の
平面プレス機を使用できる。ロールおよび平面プレスに
よる圧着は、通常、５〜２０ｋｇ／ｃｍ²程度の圧力で
行われる。ロールにて加圧する場合は、ロールが透明基
板または凹版と接触している部分、すなわちニップ部の
面積からニップ内圧力を求め、この圧力が前記範囲を満
たすように調整すればよい。

【００２３】透明基板上に転写されたインキ膜を加熱乾
燥するには、透明基板が熱変形しない温度と時間、通常
１８０〜２５０℃で３０〜１８０分間、より好ましくは
２００〜２３０℃で５０〜８０分間加熱乾燥させればよ
い。透明着色層および遮光層を形成するためのインキ
は、樹脂と着色剤と溶剤とを混合した樹脂ワニスであっ
て、耐熱性、耐薬品性および耐光性に優れたものが好ま
しい。このうち、透明着色層を形成するためのインキに
は透明樹脂が用いられる。かかる透明樹脂としては、例
えばポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン
樹脂、ポリエステル−エポキシ−メラミン樹脂、紫外線
硬化型樹脂などがあげられる。遮光層を形成するための
インキには、従来公知の種々のインキ樹脂を用いること
ができる。

【００２４】着色剤は、従来公知の顔料や染料のなかか
ら、耐熱性、耐光性などの特性を考慮して選択される。
透明着色層に用いられる着色剤としては、例えばレッド
（Ｒ）用インキに用いる着色剤としてジアントラキノン
系顔料（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
等）、ペリレン系顔料、縮合アゾ系顔料、キナクリドン
系顔料などが、グリーン（Ｇ）用インキに用いる着色剤
として塩素化フタロシアニン銅、臭素化フタロシアニン
銅（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６等）など
が、ブルー（Ｂ）用インキに用いる着色剤としてフタロ
シアニン銅（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：
６等）などがあげられる。

【００２５】なお、補色顔料として、レッド（Ｒ）用イ
ンキおよびグリーン（Ｇ）用インキにはビスアゾ系顔料
（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３等）を、ブ
ルー（Ｂ）用インキにはジオキサジン系顔料（例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３等）を、それぞれ
色調調整のために必要に応じて添加してもよい。上記補
色顔料は、それぞれ主顔料に対して１０〜８０重量％の
割合で添加すればよい。

【００２６】遮光層に用いられる着色剤は遮光性を考慮
して選択され、通常、カーボンブラック、酸化鉄（鉄
黒）、チタンブラックなどが用いられる。また、上記例
示の着色剤のほかに、インキ膜の印刷形状やインキ転移
量を調節するために、非常に微細な粉末の乾式シリカ粉
体や硫酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミナ、タル
ク、クレー等を体質顔料として添加することもできる。

【００２７】着色剤の添加量は、樹脂１００重量部に対
して１０〜５０重量部、好ましくは２０〜４０重量部で
ある。透明着色層および遮光層を形成するためのインキ
は低粘度であるのが好ましい。具体的には、粘度が１０
〜３００００ポアズ、好ましくは５００〜１００００ポ
アズであるのが適当である。上記範囲よりも粘度が低い
場合は、パターンのライン形状が乱れたり、エッジにヒ
ゲが発生するために好ましくない。一方、上記範囲より
も粘度が高い場合は、透明着色層および遮光層の表面の
平坦性が劣ったり、インキ転移性などの印刷適性が著し
く低下するために好ましくない。

【００２８】インキの溶剤は、従来公知の種々の溶剤を
用いることができ、印刷適性（インキ転移性など）や作
業性などを考慮して適宜選択すればよい。溶剤の添加量
は使用する樹脂などの成分の溶解性または分散性、得ら
れるインキの粘度、作業性、印刷適性などを考慮して適
宜決定すればよく、通常、インキ総量に対して５〜８０
重量％、好ましくは１５〜５０重量％程度である。

【００２９】インキを製造するには、所定量の前記熱硬
化性樹脂、着色剤、溶剤を配合した後、着色剤の分散性
を向上させるために３本ロール等を使用してベース練り
を行えばよい。なお、着色剤の分散性をさらに向上させ
るには、ベース練りの前にあらかじめプラネタリーミキ
サーなどで十分に混合しておくとよい。また、着色剤の
分散性を向上させるために、着色剤の粉体自体をボール
ミル等で微粉末化してもよく、分散剤として界面活性剤
や有機顔料誘導体等を添加してもよい。

【００３０】

【実施例】以下の実施例および比較例で使用した凹版、
透明基板および透明着色層用インキは、次のとおりであ
る。・凹版：ソーダライムガラスからなるガラス板を用い
た。なお、かかるガラス板の表面に、４００ｍｍ×４０
０ｍｍの範囲で、深さ１０μｍ、線幅１２０μｍのスト
ライプパターンからなる凹部を形成した。

【００３１】・透明基板：ソーダライムガラスを用い
た。・レッド（Ｒ）用インキ：熱硬化型ポリエステル樹脂
〔住友ゴム工業（株）製〕、透明顔料〔ジアントラキノ
ン系（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７）〕および体質
顔料（乾式シリカ）を溶剤（高級アルコール）に溶解し
たものを用いた。・グリーン（Ｇ）用インキ：透明顔料が臭素化フタロシ
アニン銅（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）であるこ
と以外は、上記レッド（Ｒ）用インキと同様である。

【００３２】・ブルー（Ｂ）用インキ：透明顔料がフタ
ロシアニン銅（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）で
あること以外は、上記レッド（Ｒ）用インキと同様であ
る。実施例１透明基板上にポリエステル−メラミン樹脂をロールコー
ターにてコーティングし、２２０℃で１時間加熱して厚
さ５μｍ、硬度４Ｈ（鉛筆硬度）の樹脂コーティング膜
を作製した。

【００３３】上記ポリエステル−メラミン樹脂は、日立
化成（株）製のエスペル１１０２（ポリエステル樹脂）
と住友化学（株）製のスミマールＭ１００Ｃ（メラミン
樹脂）とを重量比５０：５０でブレンドしたものであ
る。次いで、上記凹版の凹部に上記レッド（Ｒ）用イン
キを充填し、凹版の表面と透明基板の樹脂コーティング
面とを密着させ、透明基板の樹脂コーティング膜が形成
されていない面にローラを転がして透明基板と凹版とを
圧着させることにより、透明基板上にインキを転写し
た。さらに、同様にして、グリーン（Ｇ）用およびブル
ー（Ｂ）用インキを転写した。

【００３４】上記ローラにはゴムローラを用い、ニップ
部分における内圧力が１０ｋｇ／ｃｍ²となるように加
圧時の圧力を調整した。インキを転写した後、透明基板
上に形成されたインキ膜を２２０℃で１時間加熱乾燥
し、液晶カラーフィルターを得た。透明基板上に形成さ
れたパターンの精度および形状を透過型光学顕微鏡で確
認し、精密二次元座標測定器（ソキア（株）製のＳＭＩ
Ｃ−８００）を使用して印刷精度を評価した。その結
果、パターンの設計値とのずれは５μｍ以内であり、非
常に精密にパターンを形成できることがわかった。実施例２膜厚が１μｍ、硬度が６Ｈ（鉛筆硬度）であること以外
は、実施例１と同様にして、透明基板上に樹脂コーティ
ング膜を作製した。

【００３５】次いで、実施例１と同様にして液晶カラー
フィルターを作製し、印刷精度を評価した。その結果、
パターンの設計値とのずれは３μｍ以内であり、非常に
精密にパターンを形成できることがわかった。実施例３透明基板上にアクリル樹脂（日本合成ゴム（株）製のオ
プトマーＪＳＳ８３３）をロールコーターにてコーティ
ングし、２００℃で１時間加熱して硬化させ、厚さ５μ
ｍ、硬度（鉛筆硬度）３Ｈの樹脂コーティング膜を作製
した。

【００３６】次いで、実施例１と同様にして液晶カラー
フィルターを作製し、印刷精度を評価した。その結果、
パターンの設計値とのずれは５μｍ以内であり、非常に
精密にパターンを形成できることがわかった。実施例４透明基板上にエポキシ−メラミン樹脂をロールコーター
にてコーティングし、２２０℃で１時間加熱して硬化さ
せ、厚さ５μｍ、硬度（鉛筆硬度）６Ｈの樹脂コーティ
ング膜を作製した。

【００３７】上記エポキシ−メラミン樹脂は、油化シェ
ル（株）製のエピコート８２８（エポキシ樹脂）とスミ
マールＭ１００Ｃ（前出）とを重量比５０：５０でブレ
ンドしたものである。次いで、実施例１と同様の凹版を
用い、この凹版の凹部にレッド（Ｒ）用インキを充填
し、凹版の表面と透明基板の樹脂コーティング面とを密
着させ、透明基板の樹脂コーティング膜が形成されてい
ない面の全面を平面プレスにて圧接することにより、透
明基板上にインキを転写した。前記圧接時の圧力は、平
面プレス機の面内の圧力が１５ｋｇ／ｃｍ²になるよう
に調整した。

【００３８】さらに、グリーン（Ｇ）用およびブルー
（Ｂ）用インキを転写した後、実施例１と同様にしてイ
ンキ膜を加熱乾燥し、液晶カラーフィルターを得た。透
明基板上に形成されたパターンについて、実施例１と同
様にして、その印刷精度を評価した。その結果、パター
ンの設計値とのずれは３μｍ以内であり、非常に精密な
パターンを形成できることがわかった。比較例１実施例１と同様な凹版を使用し、この凹版の凹部にスキ
ージにてインキを充填した。次いで、樹脂コーティング
膜を形成していない透明基板を用いて凹版の表面を覆
い、前記透明基板の凹版と接していないほうの面の全面
にゴムローラを転がし、凹版と透明基板とを圧着させ
た。

【００３９】なお、ゴムローラのニップ内圧力は１０ｋ
ｇ／ｃｍ²になるように調整した。上記透明基板として
は、その表面に樹脂コーティング膜を形成していないほ
かは、実施例１と同様なものを使用した。凹版と透明基
板とを圧着させた結果、凹版の凹部のインキは透明基板
上に全く転移しなかった。比較例２遮光層および透明着色層の形成に、平台オフセット印刷
機による凹版オフセット印刷法を使用して、液晶カラー
フィルターを作製した。

【００４０】上記凹版オフセット印刷に用いた凹版は実
施例１と同じである。オフセットブランケットは、厚さ
０．３ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムにシリコーンゴムをコーティングし、厚さ１．０
ｍｍとしたものを用いた。遮光層および透明着色層の形
成に用いたインキおよびインキ膜を加熱乾燥する条件に
ついては、実施例１と同様である。

【００４１】遮光層および透明着色層を形成した後、実
施例１と同様にして印刷制度を評価した。その結果、パ
ターンの設計値とのずれは最大５０μｍであり、非常に
大きなずれが発生した。比較例３平版オフセット印刷法を用いたほかは、比較例１と同様
にして、液晶カラーフィルターを作製した。

【００４２】上記平版オフセット印刷に用いた平版は、
東レ（株）製の水なし平版である。オフセットブランケ
ットは、アクリロニトリルブタジエンゴムを用いた住友
ゴム工業（株）製のＳＴ８００（厚さ１．９ｍｍ）を用
いた。遮光層および透明着色層を形成した後、実施例１
と同様にして印刷制度を評価した。その結果、パターン
の設計値とのずれは最大６０μｍであり、非常に大きな
ずれが発生した。比較例４スクリーン印刷法を用いたほかは、比較例１と同様にし
て、液晶カラーフィルターを作製した。

【００４３】上記スクリーン印刷に用いたスクリーン
は、ステンレス製の４００メッシュのものである。遮光
層および透明着色層を形成した後、実施例１と同様にし
て印刷制度を評価した。その結果、パターンの設計値と
のずれは最大１２０μｍであり、非常に大きなずれが発
生した。

【００４４】前述のように、実施例１〜４の液晶カラー
フィルターは、透明着色層および遮光層の印刷精度が極
めて優れている。一方、樹脂コーティング層が形成され
ていない比較例１の場合は、凹版および透明基板の双方
とも硬質な材料からなるために、インキが転移されなか
った。また、従来より用いられている凹版オフセット印
刷、平版オフセット印刷またはスクリーン印刷を用いた
比較例２〜４の液晶カラーフィルターは、透明着色層お
よび遮光層の印刷精度が極めて低く、薄層トランジスタ
（ＴＦＴ）やスーパーツイストネマティック（ＳＴＮ）
等の極めて高品質の画質が要求される液晶には使用でき
ない。

【００４５】

【発明の効果】本発明の液晶カラーフィルターの製造方
法によれば、透明着色層および遮光層の極めて微細なパ
ターンを、印刷法を用いて精密に形成することができ
る。従って、本発明によれば、高画質の液晶ディスプレ
ーに対応可能な液晶カラーフィルターを安価で提供で
き、かつ量産することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法の一
例を示す模式図である。

【図２】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法の他
の例を示す模式図である。

【図３】液晶カラーフィルターの一例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１凹版２凹部３透明基板４樹脂コーティング膜５インキ８透明着色層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】凹版の表面に設けられた凹部にインキを充
填し、次いでこの凹版の表面に透明基板を圧着してイン
キを転移させることによって前記透明基板上に透明着色
層を形成する液晶カラーフィルターの製造方法であっ
て、前記透明基板の表面および／または前記凹版の表面
のうちの非画線部に樹脂コーティング膜が形成されてい
ることを特徴とする液晶カラーフィルターの製造方法。
【請求項２】前記透明基板の表面に形成された樹脂コー
ティング膜が、耐熱性および透明性を有する樹脂からな
る請求項１記載の液晶カラーフィルターの製造方法。
【請求項３】ロールまたは平面プレスにて前記凹版と透
明着色層とを圧着させる請求項１記載の液晶カラーフィ
ルターの製造方法。