JPH0962001A - 湿し水不要感光性平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は紫外線から可視光の幅広い領域の活
性光線に対して高感度の水なし平版印刷版を提供する。 【解決手段】 プライマー層、光重合性感光層およびシ
リコーンゴム層をこの順に積層してなり、該光重合性感
光層が光重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物
およびオキシムエーテル化合物を含有することを特徴と
する湿し水不要感光性平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水不要感光性平
版印刷版に関し、更に詳しくは、支持体上に、プライマ
ー層、光重合性感光層およびシリコーンゴム層をこの順
に積層してなる湿し水不要感光性平版印刷版に関する。

【０００２】

【従来技術】従来の湿し水を必要とする印刷方式は湿し
水とインキの微妙なバランスのコントロールが難しく、
インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざった
りして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、損紙の原因
となるなど、大きな問題点を有していた。それに対し
て、湿し水不要感光性平版印刷版（以後、水なし平版印
刷版と称す）は湿し水を必要としないために数多くの利
点を有する。このような湿し水を用いないで平版印刷を
行うための水なし平版印刷版に関しては例えば、特公昭
４４−２３０４２号、特公昭４６−１６０４４号、特公
昭５４−２６９２３号、特公昭５６−１４９７６号、特
公昭５６−２３１５０号、特公昭６１−５４２２２号、
特開昭５８−２１５４１１号、特開平２−１６５６１
号、特開平２−２３６５５０等において種々のものが提
案されている。その中でも支持体上に、プライマー層、
光重合性感光層およびシリコーンゴム層をこの順に塗設
し、露光により、露光部の光重合性感光層が重合硬化す
るとともに、シリコーンゴム層との接着力を強固にし、
現像において未露光部のシリコーンゴム層のみを剥離
し、画像部を形成する水なし平版印刷版が極めて優れた
性能を有している。

【０００３】一方、近年プリプレスシステムやイメージ
セッター、レーザープリンターなどの出力システムの急
激な進歩によって、コンピューター トウ プレート、コ
ンピューター トウ シリンダー等の新しい製版方法が提
案されるようになり、これらの印刷システムのための新
しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進められてい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、可視光レーザ
ーに対する十分な感度を有する印刷材料は未だ見いださ
れておらず、上記の水なし平版印刷版に関しても、４０
０ｎｍ以下の紫外光に対する感度に比較し、４００ｎｍ
以上の可視光に対する感度は著しく低い。本発明者ら
は、このような欠点のない水なし平版印刷版を提供すべ
く鋭意研究した結果、本発明を達成するに到った。

【０００５】すなわち、本発明は高感度な水なし平版印
刷版、特に紫外線から可視光の幅広い領域の活性光線に
対して高感度な水なし平版印刷版を提供することを目的
とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記、本発明の目的は下
記の構成によって達成される。すなわち、支持体上に、
プライマー層、光重合性感光層およびシリコーンゴム層
をこの順に積層してなり、該光重合性感光層が下記成分
i）およびii）を含有することを特徴とする湿し水不要
感光性平版印刷版。

【０００７】i）光重合可能なエチレン性不飽和基を有
する化合物 ii）オキシムエーテル化合物 以下に、本発明を詳しく説明する。水なし平版印刷版は
通常、印刷機にセットできる程度のたわみ性を有し、同
時に印刷時にかかる荷重に耐え得ることが必要である。
本発明で使用し得るこのような要件を備えた代表的な支
持体としては、例えばコート紙、アルミニウムのような
金属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチ
ックフィルム、ゴムあるいはそれらを複合させたものを
挙げることができ、より好ましくはアルミニウムおよび
アルミニウム含有合金（例えば、珪素、銅、マンガン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル
などの金属とアルミニウムとの合金）があげられる。

【０００８】本発明においては、支持体と感光層との間
にプライマー層を設けるものである。プライマー層とし
ては、支持体と光重合性感光層間の接着性向上、ハレー
ション防止、画像の染色や印刷特性向上のために種々の
ものを使用することができる。例えば、特開昭６０−２
２９０３号公報に開示されているような種々の感光性ポ
リマーを感光性樹脂層を積層する前に露光して硬化せし
めたもの、特開昭６２−５０７６０号公報に開示されて
いるエポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭６３−
１３３１５１号公報に開示されているゼラチンを硬膜せ
しめたもの、更に特開平３−２００９６５号公報に開示
されているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用い
たものや特開平３−２７３２４８号公報に開示されてい
るウレタン樹脂を用いたもの等を挙げることができる。
この他、ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有
効である。更に、プライマー層を柔軟化させる目的で、
前記のプライマー層中に、ガラス転移温度が室温以下で
あるポリウレタン、ポリアミド、スチレン／ブタジエン
ゴム、カルボキシ変性スチレン／ブタジエンゴム、アク
リロニトリル／ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリ
ロニトリル／ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリ
レートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素
化ポリプロピレン等のポリマーを添加しても良い。その
添加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範囲内
であれば、添加剤だけでプライマー層を形成しても良
い。また、これらのプライマー層には前記の目的に沿っ
て、染料、pH指示薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着
助剤（例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカ
ップリング剤、チタネートカップリング剤やアルミニウ
ムカップリング剤）、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉
末等の添加物を含有させることもできる。また、塗布
後、露光によって硬化させることもできる。

【０００９】一般に、プライマー層の塗布量は乾燥重量
で０.１〜２０ｇ／ｍ² の範囲が適当であり、好ましく
は１〜１０ｇ／ｍ² であり、より好ましくは１〜５ｇ／
ｍ²である。本発明における光重合性感光層は少なくと
も（i）光重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合
物、及び（ii）オキシムエーテル化合物を含有し、更に
必要に応じ（iii）フィルム形成能を有する高分子化合
物および、（iv）光重合開始剤を含むものである。

【００１０】成分（i）：光重合可能なエチレン性不飽
和基を有する化合物について説明する。本発明において
用いることのできる上記化合物は、通常少なくとも１個
の光重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマー、
オリゴマーまたはマクロマーであり、例えば、（Ａ）ア
ルコール類（例えば、エタノール、プロパノール、ヘキ
サノール、２−エチルヘキサノール、シクロヘキサノー
ル、グリセリン、ヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、トリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ω−メトキシポリエチレングリコー
ル等）のアクリル酸またはメタクリル酸エステル （Ｂ）アミン類（例えば、エチルアミン、ブチルアミ
ン、ベンジルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ジエチレントリアミン、キシリレンジアミ
ン、エタノールアミン、アニリン等）とアクリル酸グリ
シジル、メタクリル酸グリシジルまたはアリルグリシジ
ルとの反応生成物、（Ｃ）カルボン酸類（例えば、酢
酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル
酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン
酸等）とアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジ
ルまたはアリルグリシジルとの反応生成物、（Ｄ）アミ
ド誘導体（例えば、アクリルアミド、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、メチレンビ
スアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド等）、な
どを挙げることができる また、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３
４号、特開昭５１−３７１９３号公報に記載されている
ようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８
３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４
９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート
類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエ
ポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタ
クリレート、米国特許第４，５４０，６４９号明細書に
記載のＮ−メチロールアクリルアミド誘導体を挙げるこ
とができる。さらに、日本接着剤協会誌Vol.２０、No.
７、３００〜３０８ページ（１９８４年）等に光硬化性
モノマーおよびオリゴマーとして記載されているもの、
P.Dreyfuss & R.P.Quirk, Encycl.Polym.Sci.Eng.,7,
551 (1987), 化学工業、３８，５６（１９８７）、高分
子加工、３５，２６２（１９８６）等に記載されている
マクロマモノマーも使用することができる。ただし、こ
れらに限定されるものではなく、多官能モノマーにおい
て、不飽和基はアクリル、メタクリル、アリル、ビニル
基等が混合して存在していてもよい。また、これらは単
独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。

【００１１】本発明において用いられる有用なモノマー
としては、次のような例を挙げることができる。

【００１２】

【化１】

【００１３】

【化２】

【００１４】その使用量は光重合性感光層の総固形分重
量に対して、５重量％〜８０重量％、好ましくは２０重
量％〜７０重量％である。 成分ii）：オキシムエーテル化合物について説明する。
本発明に使用される成分ii）のオキシムエーテル化合物
は、以下の一般式〔Ｉ〕で表される化合物である。

【００１５】 （Ｒ¹）（Ｒ²）Ｃ＝Ｎ−Ｏ−Ｒ³ 〔Ｉ〕 式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は同一または異なる一価の有機
残基を表す。一般式〔Ｉ〕において、Ｒ¹及びＲ²はより
好ましくは、互いに同一または異なり、水素原子、ハロ
ゲン原子、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結
合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロ
キシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、
アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カルボキ
シラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィニ
ル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ
基、ホスホナト基、置換ホスホナト基 、シアノ基、ニ
トロ基を表し、またＲ¹とＲ²が互いに結合して、環を形
成していても良い。

【００１６】Ｒ³は置換基を有していても良く、かつ、
不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基
を表し、また、Ｒ³とＲ²が互いに結合して、環を形成し
ていても良い。次に一般式〔Ｉ〕における、Ｒ¹、Ｒ²及
びＲ³の例を以下に示す。上記置換基を有していてもよ
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基と
しては、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、アルケニル基、置換アルケニル基、アル
キニル基及び置換アルキニル基があげられる。

【００１７】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基をあ
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基をあげることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【００１８】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレ
イド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′
−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレ
イド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボキシ
ラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−ア
リールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイ
ル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト
基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル
基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキル
スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル
基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリー
ルスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスル
ファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共
役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基
（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基
基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ
₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−
アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂
（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールス
ルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙ
ｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓ
ｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−Ｓ
ｉ（Ｏａｌｌｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ
（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ₃
Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）₂）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）
₂）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ
₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基
（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以
後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスホナ
トオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−
ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノオキシ
基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホス
ホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙ
ｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキル
ホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオ
キシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基
基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基があげられる。これらの置換基における、アルキル
基の具体例としては、前述のアルキル基があげられ、ア
リール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、
クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキ
シフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベ
ンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェ
ニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチ
ルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カル
ボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エ
トキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフ
ェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホ
フェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル
基、ホスホナトフェニル基などをあげることができる。
また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロ
ペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ
−１−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例と
しては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル
基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基
等があげられる。

【００１９】上述のアシル基（Ｒ⁴ＣＯ−）としては、
Ｒ⁴が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基をあげることができる。 一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものをあげる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基をあげるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、

【００２０】

【化３】

【００２１】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等をあげること
ができる。

【００２２】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、、インデニル基、アセナブテニル基、
フルオレニル基、をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【００２３】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものをあげる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エ
チルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロ
ペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフ
ェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロ
ピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチ
ニルフェニル基、等をあげることができる。

【００２４】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては

【００２５】

【化４】

【００２６】等をあげることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。

【００２７】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、

【００２８】

【化５】

【００２９】

【化６】

【００３０】等をあげることができる。

【００３１】置換オキシ基（Ｒ⁵Ｏ−）としては、Ｒ⁵が
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリ
ールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホ
スホノオキシ基、ホスホナトオキシ基をあげる事ができ
る。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基と
しては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、ア
リール基、置換アリール基として示したものをあげる事
ができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ
⁶ＣＯ−）としては、Ｒ⁶が、前述のアルキル基、置換ア
ルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを
あげることができる。これらの置換基の中では、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールス
ルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオ
キシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、
ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ
基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエ
チルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メ
トキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モル
ホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリ
ロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキ
シ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニル
オキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニ
ルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニル
オキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナ
フチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホ
ノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。

【００３２】置換チオ基（Ｒ⁷Ｓ−）としてはＲ⁷が水素
を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好まし
い置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシル
チオ基をあげることができる。これらにおけるアルキル
基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものをあげることができ、アシルチオ基におけるアシ
ル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述のとおりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等があげられる。

【００３３】置換アミノ基（Ｒ⁸ＮＨ−，（Ｒ⁹）
（Ｒ¹⁰）Ｎ−）としては、Ｒ⁸，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素を除く
一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基
の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールア
ミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ
基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド
基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリー
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイ
ド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基があげられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述の
とおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、があげら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等があげら
れる。

【００３４】置換カルボニル基（Ｒ¹¹−ＣＯ−）として
は、Ｒ¹¹が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基があげられる。これらにおけるアルキル基、アリ
ール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、な
らびにアリール基、置換アリール基として示したものを
あげることができる。これらの内、より好ましい置換基
としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル
基、があげられ、更により好ましいものとしては、ホル
ミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにア
リーロキシカルボニル基があげられる。好ましい置換基
の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイ
ル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリル
オキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−
フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイ
ル基、モルホリノカルボニル基等があげられる。

【００３５】置換スルフィニル基（Ｒ¹²−ＳＯ−）とし
てはＲ¹²が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基があげられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものをあげることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、があげられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等があ
げられる。

【００３６】置換スルホニル基（Ｒ¹³−ＳＯ₂−）とし
ては、Ｒ¹³が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基をあげることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等があげられる。

【００３７】スルホナト基（−ＳＯ₃ ^-）は前述のとお
り、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃ
ａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられる。

【００３８】カルボキシラート基（−ＣＯ₂ ^- ）は前述
のとおり、カルボキシル基（ＣＯ₂Ｈ）の共役塩基陰イ
オン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられる。

【００３９】置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基があげられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等があ
げられる。

【００４０】ホスホナト基（−ＰＯ₃ ^2-、−ＰＯ₃Ｈ^-）
とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ
⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられる。

【００４１】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モ
ノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））の共
役塩基をあげることができる。通常は対陽イオンと共に
使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとして
は、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類
（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、
ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イ
オン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられ
る。

【００４２】次に、Ｒ¹とＲ²、Ｒ²とＲ³が互いに結合し
て環を形成する場合の例を示す。Ｒ ¹とＲ²、Ｒ²とＲ³が
互いに結合して形成する脂肪族環としては、５員環、６
員環、７員環及び８員環の脂肪族環をあげることがで
き、より好ましくは、５員環、６員環の脂肪族環をあげ
ることができる。これらは更に、これらを構成する炭素
原子上に置換基を有していても良く（置換基の例として
は、前述の置換アルキル基上の置換基をあげることがで
きる）、また、環構成炭素の一部が、ヘテロ原子（酸素
原子、硫黄原子、窒素原子等）で置換されていても良
い。また更に、この脂肪族環の一部が芳香族環の一部を
形成していても良い。

【００４３】また上記オキシムエーテル化合物はより好
ましくは以下の一般式〔II〕で表されるα−置換ケトオ
キシムエーテル化合物である。

【００４４】

【化７】

【００４５】式中、Ｒ²及びＲ³は互いに同一または異な
り、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含
んでいても良い炭化水素基、又は、ヘテロ環基を表す。
また、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合して環を形成していてもよ
い。Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵は互いに同一または異なり、水素原
子、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含
んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル
基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ
基、置換アミノ基を表す。また、Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵は互いに
結合して環を形成し、

【００４６】

【化８】

【００４７】を環の連結主鎖に含んでいても良い炭素数
２から８のアルキレン基を表す。Ｒ¹⁶は水素原子、置換
基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含んでいて
も良い炭化水素基、或いは置換カルボニル基を表す。Ｘ
は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、
ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チ
オ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カ
ルボキシラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スル
フィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホス
ホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、シアノ基、
或いはニトロ基を表す。

【００４８】上記オキシムエーテル化合物は、更に好ま
しくは以下の一般式〔III〕で表されるα−アミノケト
オキシムエーテル化合物である。

【００４９】

【化９】

【００５０】式中、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵は上記と同一
の意味を有する。Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は互いに同一または異な
り、水素原子、置換基を有していても良く、かつ、不飽
和結合を含んでいても良い炭化水素基を表す。また、Ｒ
¹⁷、Ｒ¹⁸は互いに結合して環を形成し、

【００５１】

【化１０】

【００５２】を連結主鎖に含んでいても良い炭素数２か
ら８のアルキレン基を表す。Ｒ¹⁹は水素原子、置換基を
有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水
素基、或いは置換カルボニル基を表す。さらに上記ケト
オキシムエーテルは、最も好ましくは以下の一般式〔I
V〕で表されるα−アミノケトオキシムエーテル化合物
である。

【００５３】

【化１１】

【００５４】式中、Ｒ²、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は
上記と同一の意味を有する。Ｙは置換基を有していても
良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素連結基（炭
化水素基の水素の１つを除した２価の基）を表す。Ｚは
酸第１解離でのｐＫａが０以上１６以下の酸基及びその
酸基の前駆体及びその酸基の共役塩基基、或いはその酸
基の解離する水素原子を置換基を有していても良い炭化
水素基で置き換えた基（置換酸基と称する）を表す。

【００５５】このような酸基、及び前駆体、共役塩基
基、置換酸基の中でも特に好ましい基としては、例え
ば、上述のヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト
基、置換カルボニル基、カルボキシラート基、スルホ
基、スルホナト基、スルファモイル基及びその共役塩基
基、Ｎ−アルキルスルファモイル基及びその共役塩基
基、Ｎ−アリールスルファモイル基及びその共役塩基
基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、
Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基及びその共役
塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基及び
その共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル
基及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバ
モイル基及びその共役塩基基、ホスホノ基、置換ホスホ
ノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、シアノ基、ア
ルコキシシリル基、アリーロキシシリル基、ヒドロキシ
シリル基及びその共役塩基基等を挙げることができる。

【００５６】以下、化合物例を示すが、これに制約を受
けるものではない。一般式〔II〕で表されるケトオキシ
ムエーテル化合物の好ましい具体例は

【００５７】

【化１２】

【００５８】

【化１３】

【００５９】

【化１４】

【００６０】一般式〔III〕で表されるα−アミノケト
オキシムエーテル化合物の好ましい具体例としては、

【００６１】

【化１５】

【００６２】

【化１６】

【００６３】

【化１７】

【００６４】

【化１８】

【００６５】

【化１９】

【００６６】

【化２０】

【００６７】

【化２１】

【００６８】一般式〔IV〕で表されるα−アミノケトオ
キシムエーテル化合物の好ましい具体例としては、

【００６９】

【化２２】

【００７０】

【化２３】

【００７１】

【化２４】

【００７２】

【化２５】

【００７３】

【化２６】

【００７４】

【化２７】

【００７５】

【化２８】

【００７６】

【化２９】

【００７７】

【化３０】

【００７８】

【化３１】

【００７９】等を挙げることができる。本発明の光重合
性組成物に用いられる一般式〔Ｉ〕又は一般式〔II〕、
〔III〕もしくは〔IV〕の上記オキシムエーテル化合物
は、単独、或いは２種以上を併用してもよい。また、一
般式[I] 〜[IV]の化合物は光重合性組成物の全成分に対
して、通常０．０５〜５０重量％、好ましくは０．５〜
３５重量％、更に好ましくは、１〜２５重量％の量が使
用される。この量が５０重量％より多いと塗膜形成不良
（ひびわれ）となり、０．０５重量％より少ないと硬化
不良となって好ましくない。 成分（iii）：フィルム形成能を有する高分子化合物に
ついて説明する。

【００８０】本発明において必要に応じ用いられるフィ
ルム形成能を有する高分子化合物としては、次のような
ポリマー、コポリマーがあげられる。 （１）ビニルポリマー：例えばポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメ
チルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン等、およ
びこれらのコポリマー。 （２）（メタ）アクリル酸エステルポリマーおよびアル
キル（メタ）アクリルアミドポリマー：例えばポリ（メ
タ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチ
ル、ポリ（メタ）アクリル酸アリル、ポリｔ−ブチルア
クリルアミド、ポリジアセトンアクリルアミド等、およ
びこれらのコポリマー。 （３）未加硫ゴム：例えば天然ゴム、ポリブタジエン、
ポリイソブチレン、ポリネオプレン等、およびこれらの
コポリマー。 （４）ポリエーテル：例えばポリエチレンオキシド、ポ
リプロピレンオキシド等。 （５）ポリアミド、次に示すモノマー類のコポリマー：
例えば、カプロラクタム、ラウロラクタム、ヘキサメチ
レンジアミン、４，４’−ビス−アミノシクロヘキシル
メタン、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン、イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル
酸、アジピン酸、セバシン酸等。 （６）ポリエステル：例えばテレフタル酸、アジピン酸
等とエチレングリコール、１，４−ブタンジオール等と
の縮合物。 （７）ポリウレタン：例えばヘキサメチレンジイソシア
ネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン−１，
５−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等
とエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ポリ
エステルとのポリウレタン。また、鎖延長剤としてイソ
ホロンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等を用いても
良い。

【００８１】更に、フィルム形成能を有する高分子化合
物として、側鎖に光重合可能な又は光架橋可能なオレフ
ィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物を使用す
ることができるが、これらに限定されるものではない。
また、これらは単独で用いてもよく、組み合わせで用い
てもよい。その使用量は感光層の総固形分重量に対し
て、２０重量％〜９０重量％、好ましくは３０重量％〜
８０重量％、より好ましくは３５重量％〜７０重量％で
ある。 成分（iv）：光重合開始剤系 本発明において必要に応じ用いられる光重合開始剤の代
表的な例として次のようなものをあげることができる
が、これらに限定されるものではない。

【００８２】ａ）芳香族ケトン類： 好ましい例として
は「RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNO
LOGY」J.P.FOUASSIER,J.F.RABEK(1993)、p77〜117記載
のベンゾフェノン骨格あるいはチオキサントン骨格を有
する化合物、特公昭４７−６４１６号記載のα−チオベ
ンゾフェノン化合物、特公昭４７−３９８１号記載のベ
ンゾインエーテル化合物、特公昭４７−２２３２６号記
載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭４７−２３６６
４号記載のベンゾイン誘導体、特開昭５７−３０７０４
号記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭６０−２
６４８３号記載のジアルコキシベンゾフェノン、特公昭
６０−２６４０３号、特開昭６２−８１３４５号記載の
ベンゾインエーテル類、特公平１−３４２４２号、米国
特許４，３１８，７９１号、欧州特許２８４５６４Ａ１
号記載のα−アミノベンゾフェノン類、特開平２−２１
１４５２号記載のｐ−ジ（ジメチルアミノベンゾイル）
ベンゼン類、特開昭６１−１９４０６２号記載のチオ置
換芳香族ケトン、特公平２−９５９７号記載のアシルホ
スフィンスルフィド、特公平２−９５９６号記載のアシ
ルホスフィン、特公昭６３−６１９５０号記載のチオキ
サントン類、特公昭５９−４２８６４号記載のクマリン
類を挙げることができる。

【００８３】ｂ）芳香族オニウム塩：周期律表の第V、V
IおよびVII族の元素、具体的にはＮ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、
Ｂｉ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、ＴｅまたはＩの芳香族オニウム塩
が含まれる。このような芳香族オニウム塩の例として
は、特公昭５２−１４２７７号、特公昭５２−１４２７
８号、特公昭５２−１４２７９号に記載されている化合
物を挙げることができる。

【００８４】ｃ）有機過酸化物：分子中に酸素−酸素結
合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれ
るが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサ
イド、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルハイドロパーオキ
サイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパ
ーオキシオクタノエート、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシ
イソフタレート等が挙げられる。

【００８５】d)チオ化合物：下記一般式〔Ｖ〕

【００８６】

【化３２】

【００８７】（式中、Ｒ²⁰はアルキル基、アリール基ま
たは置換アリール基を示し、Ｒ²¹は水素原子またはアル
キル基を示す。またＲ²⁰とＲ²¹は互いに結合して酸素、
硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでも
良い５員ないし７員環を形成するのに必要な非金属原子
群を示す。） ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール：特公昭４５−３７
３７７号、特公昭４４−８６５１６号記載のロフィンダ
イマー類、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’テトラフェニルビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロメチルフェニ
ル）−４，４’，５，５’テトラフェニルビイミダゾー
ル等が挙げられる。

【００８８】ｆ）ケトオキシムエステル：例えば、３−
ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキ
シイミノブタン−２−オン２−アセトキシイミノ−１−
フェニルプロパン−１−オン、２−エトキシカルボニル
オキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙
げられる。 ｇ）ボレート塩：米国特許３，５６７，４５３号、同
４，３４３，８９１号、欧州特許１０９，７７２号、同
１０９，７７３号に記載されている化合物等が挙げられ
る。

【００８９】ｈ）アゾニウム塩化合物：特開昭６３−１
３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭６
３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３７号、特
公昭４６−４２３６３号に記載の化合物等が挙げられ
る。 ｉ）メタロセン化合物：特開昭５９−１５２３９６号、
特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４８４
号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号記載の
チタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５３号
記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。

【００９０】ｊ）活性エステル化合物：特特公６２−６
２２３号記載のイミドスルホネート化合物、特公昭６３
−１４３４０号、特開昭５９−１７４８３１号記載の活
性スルホネート類等が挙げられる。 ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物：若林ら著、Bul
l.Chem.Soc.Japan,４２,２９２４（１９６９）記載の化
合物、米国特許１３８８４９２号記載の化合物、特開昭
５３−１３３４２８号記載の化合物、独国特許３，３３
７，０２４号記載の化合物、F.C.Schaefer等によるJ.Or
g.Chem．２９，１５２７（１９６４）記載の化合物、特
開昭６２−５８２４１号記載の化合物、特開平５−２８
１７２８号記載の化合物、独国特許２，６４１，１００
号、独国特許３，３３３，４５０号、独国特許３，０２
１，５９０号、独国特許３，０２１，５９９号記載の化
合物等が挙げられる。

【００９１】これらのうち、好ましい例としては、ａ）
芳香族ケトン類、ｃ）有機過酸化物、ｅ）ヘキサアリー
ルビイミダゾール化合物、ｉ）メタロセン化合物、ｋ）
炭素ハロゲン結合を有する化合物を挙げることができ、
更に好ましくはａ）芳香族ケトン類、ｋ）炭素ハロゲン
結合を有する化合物を挙げることができる。本発明にお
いては、上記化合物を単独に用いても良いし、２種以上
の化合物を併用しても良い。

【００９２】更に、本発明の光重合開始系においては既
知の分校増感色素または染料を共存させることが好まし
い。好ましい分光増感色素または染料の例としては多核
芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン
等）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオ
シン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル
等）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキ
シカルブシアニン等）、メロシアニン類（例えば、メロ
シアニン、カルボメロシアニン等）、チアジン類（例え
ば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー
等）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、ク
ロロフラビン、アクリフラビン等）、フタロシアニン類
（例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン
等）、ポルフィリン類（例えば、テトラフェニルポルフ
ィリン、メタルポルフィリン等）、クロロフィル類（例
えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換ク
ロロフィル等）、アントラキノン類（例えば、アントラ
キノン等）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム
等）等が挙げられる。

【００９３】より好ましくは、特公平３７−１３０３４
号記載のスチリル系色素、特開昭６２−１４３０４４号
記載の陽イオン染料、特公昭５９−２４１４７号記載の
キノキサリニウム塩、特開昭６４−３３１０１号記載の
新メチレンブルー化合物、特開昭６４−５９７６７号記
載のアントラキノン類、特開平２−１７１４号記載のベ
ンゾキサンテン類、特開平２−２２６１４号、特開平２
−２２６１４９号記載のアクリジン類、特公昭４０−２
８４９９号記載のピリリウム塩類、特公昭４６−４２３
６３号記載のシアニン類、特開平２−６３０５３号記載
のベンゾフラン色素、特開平２−８５８５８号、特開平
２−２１６１５４号記載の共役ケトン色素、特開昭５７
−１０６０５号記載の色素、特公平２−３０３２１号記
載のアゾシンナミリデン誘導体、特開平１−２８７１０
５号記載のシアニン色素、特開昭６２−３１８４４号、
特開昭６２−３１８４８号、特開昭６２−１４３０４３
号記載のキサンテン系色素、特公昭５９−２８３２５号
記載のアミノスチリルケトン、特公昭６１−９６２１
号、特開平２−１７９６４３号、特開平２−２４４０５
０号、特公昭５９−２８３２６号、特開昭５９−８９３
０３号、特願平６−２６９０４７号記載のメロシアニン
系色素等が挙げられる。より好ましい例としては、特公
昭６１−９６２１号、特開平２−１７９６４３号、特開
平２−２４４０５０号、特公昭５９−２８６２３号、特
開昭５９−８９３０３号、特願平６−２６９０４７号記
載のメロシアニン系色素を挙げることができる。これら
は単独もしくは２種以上の併用によって好適に用いられ
る。

【００９４】更に本発明の光重合性感光層の感度を一層
向上させる、あるいは酸素による重合阻害を抑制する等
の作用を有する公知の化合物を共増感剤として加えても
良い。このような共増感剤の例としては、アミン類、例
えば、M.R.Sanderら著「Journal of Polymer Society」
第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１
８９号、特開昭５１−８２１０２号、特開昭５２−１３
４６９２号、特開昭５９−１３８２０５号、特開昭６０
−８４３０５号、特開昭６２−１８５３７号、特開昭６
４−３３１０４号、Resarch Disclosure ３３８２５号
記載の化合物等が挙げられる。

【００９５】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号、特公昭
５５−５００８０６号、特開平５−１４２７７２号記載
のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号のジスル
フィド化合物等が挙げられる。また別の例としては、ア
ミノ酸化合物（例えば、Ｎ−フェニルグリシン等）、特
公昭４８−４２９６５号記載の有機金属化合物、特公昭
５５−３４４１４号記載の水素供与体、特願平５−９１
０８９号記載のイオウ化合物、特願平５−３２１４７号
記載のリン化合物、特願平６−１９１６０５号記載のＳ
ｉ−Ｈ、Ｇｅ−Ｈ化合物等が挙げられる。

【００９６】本発明に使用される成分ii）と成分iv）の
比はii）のオキシムエーテル１重量部に対して、成分i
v）を０.０１〜５０重量部使用するのが適当であり、更
に好ましくは０．０５〜２０重量部、最も好ましくは
０.１〜１０重量部である。その他の成分について説明
する。以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくことが
好ましく、例えばハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノ
ール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロー
ル、ｔ−ブチルカテコール、４，４’−チオビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用であり、場
合によっては感光層の着色を目的として染料もしくは顔
料および焼きだし剤としてｐＨ指示薬やロイコ染料を添
加することもできる。塗布性向上のためにシリコーン系
界面活性剤、フッ素系界面活性剤を添加してもよい。更
に感光層とプライマー層との接着性を改善させるために
ジアゾ樹脂を添加してもよい。また、シリコーンゴム層
と感光層との接着性改善のために感光層中に少量のポリ
ジメチルシロキサン、メチルスチレン変性ポリジメチル
シロキサン、オレフィン変性ポリジメチルシロキサン、
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、シランカッ
プリン剤、シリコーンジアクリレート、シリコーンジメ
タクリレート等のシリコーン化合物を添加してもよい。
その他、塗膜に柔軟性を付与するための可塑剤（例え
ば、ポリエチレングリコール、燐酸トリクレジル等）、
安定剤（例えば、燐酸等）を添加してもよい。これらの
添加剤の添加量は通常全感光層組成物に対して１０重量
％以下である。場合によっては（メタ）アクリロイル基
やアリル基含有シランカップリング剤で処理した疎水性
シリカ粉末を全感光層組成物に対して５０重量％以下の
量添加してもよい。

【００９７】本発明に用いる上記の感光層組成物は、例
えば、２−メトキシエタノール、２−メトキシエチルア
セテート、プロピレングリコールメチルエチルアセテー
ト、乳酸メチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、エタノール、メチルエチルケトン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン等の適当な溶
剤の単独又はこれらの混合溶媒に溶解して、支持体上に
塗布される。その塗布重量は乾燥後の重量で０．１〜２
０ｇ／ｍ²の範囲が適当であり、好ましくは０．５〜１
０ｇ／ｍ²の範囲である。

【００９８】本発明において用いられるシリコーンゴム
層は通常、架橋を行ったシリコーンゴム層が適用され、
下記組成物Ａ、またはＢを硬化して形成した皮膜であ
る。 組成物Ａ （ａ）ジオルガノポリシロキサン （数平均分子量が３，０００〜４０，０００） １００重量部 （ｂ）縮合型架橋剤 ３〜７０重量部 （ｃ）触媒 ０．０１〜４０重量部 前記成分（ａ）のジオルガノポリシロキサンは、下記一
般式で示されるような繰り返し単位を有するポリマー
で、Ｒ¹ およびＲ² は炭素数１〜１０アルキル基、ビニ
ル基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を
有していても良い。一般的にはＲ¹ およびＲ² の６０％
以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロゲ
ン化フェニル基などであるものが好ましい。

【００９９】

【化３３】

【０１００】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。ま
た、前記成分（ａ）は、数平均分子量が３，０００〜４
０，０００であり、より好ましくは、５，０００〜３
６，０００である。成分（ｂ）としては縮合型のもので
あればいずれであってもよいが、次の一般式で示される
ようなものが好ましい。

【０１０１】 Ｒ¹m・Ｓｉ・Ｘｎ （ｍ＋ｎ＝４、ｎは２以上） ここでＲ¹ は前記Ｒ¹ と同じ意味であり、Ｘはつぎに示
すような置換基である。 Ｃｌ、Ｂｒ，Ｉなどのハロゲン Ｈ、ＯＨ、ＯＣＯＲ³ 、ＯＲ³ 、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ
（Ｒ⁴）（Ｒ⁵ ）又は−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵） などの有機置換基。

【０１０２】ここでＲ³ は炭素数１〜１０のアルキル基
および炭素数６〜２０のアリール基、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は炭素
数１〜１０のアルキル基を示す。成分（ｃ）は錫、亜
鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボン酸
塩、例えば、ラウリン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフ
テン酸鉛など、あるいは塩化白金酸等のような公知の触
媒があげられる。

【０１０３】 組成物Ｂ （ｄ）付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン 数平均分子量が３，０００〜４０，０００） １００重量部 （ｅ）オルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜１０重量部 （ｆ）付加触媒 ０．００００１〜１重量部 上記成分（ｄ）の付加反応性官能基を有するジオルガノ
ポリシロキサンとは、１分子中にケイ素原子に直接結合
したアルケニル基（より好ましくはビニル基）を少なく
とも２個有するオルガノポリシロキサン（数平均分子量
が３，０００〜４０，０００）で、アルケニル基は分子
量末端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外
の有機基としては、置換もしくは非置換の炭素数１〜１
０のアルキル基、アリール基である。また、成分（ｄ）
には水酸基を微量有することも任意である。更に成分
（ｄ）は、数平均分子量が３，０００〜４０，０００で
あり、より好ましくは、５，０００〜３６，０００であ
る。

【０１０４】成分（ｅ）としては、両末端水素基のポリ
ジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサ
ン、両末端メチル基の（メチルシロキサン）（ジメチル
シロキサン）共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両
末端トリメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末
端トリメチルシリル基のジメチルシロキサン）（メチル
シロキサン）共重合体などが例示される。

【０１０５】成分（ｆ）としては、公知のものの中から
任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白
金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金な
どが例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する
目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロキサンなど
のビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭素
三重結合含有のアルコ−ル、アセトン、メチルエチルケ
トン、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピレングリコ−ル
モノメチルエ−テルなどの架橋抑制剤を添加することも
可能である。

【０１０６】なお、シリコーンゴム層には必要に応じ
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機物
の微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップ
リング剤やアルミニウム系カップリング剤などの接着助
剤や光重合開始剤を添加しても良い。本発明におけるシ
リコーンゴム層は、厚さが小さいとインキ反撥性が低下
し、傷が入りやすい等の問題点があり、厚さが大きい場
合、現像性が悪くなるという点から、厚みとしては０.
５〜５ｇ／ｍ² が好ましく、より好ましくは１〜３ｇ／
ｍ² である。

【０１０７】ここに説明した水なし平版印刷版におい
て、シリコーンゴム層の上に更に種々のシリコーンゴム
層を塗工しても良い。また、感光層とシリコーンゴム層
との間の接着力を上げる目的、もしくはシリコーンゴム
層組成物中の触媒の被毒を防止する目的で、感光層とシ
リコーンゴム層との間に接着層を設けても良い。更に、
シリコーンゴム層の表面保護のために、シリコーンゴム
層上に透明なフィルム、例えばポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビリニデン、ポリビ
ニルアルコール、ポリエチレンテレフタレート、セロフ
ァン等をラミネートしたり、ポリマーのコーティングを
施しても良い。これらのフィルムは延伸して用いても良
い。また、表面にマット加工を施しても良いが、マット
加工の無いものの方が本発明では好ましい。

【０１０８】かくして得られた水なし平版印刷版の像様
露光の光源としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアークランプ、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、可視および紫外の各
種レーザーランプ、蛍光灯、タングステンランプ等が使
用できる。本発明において用いられる現像液としては水
なし平版印刷版の現像液として公知のものが使用できる
が、安全性の観点から、水または水を主成分とする水溶
性有機溶剤の水溶液が好ましい。安全性および引火性等
を考慮すると水溶性溶剤の濃度は４０重量％未満が望ま
しい。公知のものとしては、例えば脂肪族炭化水素類
（ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ”（エ
ッソ化学（株）製）あるいはガソリン、灯油等）、芳香
族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、あるいはハロ
ゲン化炭化水素（トリクレン等）に下記の極性溶媒を添
加したものや極性溶媒そのもの、 ・アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、２−エトキシエタノー
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコ
ール等） ・ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等） ・エステル類（酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等） ・その他（トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート等） また、上記有機溶剤系現像液に水を添加したり、上記有
機溶剤を界面活性剤等を用いて水に可溶化したものや、
更にその上にアルカリ剤（例えば、炭酸ナトリウム、ジ
エタノールアミン、水酸化ナトリウム等）を添加したも
のや単に水（水道水、純水、蒸留水等）等が挙げられ
る。

【０１０９】また、クリスタルバイオレット、ビクトリ
アピュアブルー、アストラゾンレッドなどの染料を現像
液に加えて、現像と同時に画像部の染色を行うことがで
きる。現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用
バットで版面をこすったり、現像液を版面に注いだ後に
水中にて現像ブラシでこするなど、公知の方法で行うこ
とができる。現像液温は任意の温度で現像できるが、好
ましくは１０℃〜５０℃である。これにより画像部のイ
ンキ反撥層が除かれ、その部分がインキ受容部となる。

【０１１０】このようにして得られた刷版は、その画像
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には、現像後に染色液で処理
される。染色液を柔らかいパッドにしみこませ、画像部
を軽くこすることにより、感光層の露出した画像部のみ
が染色され、これによりハイライト部まで現像が十分に
行われていることを確認できる。染色液としては、水溶
性の分散染料、酸性染料および塩基性染料のうちから選
ばれる１種または２種以上を水、アルコール類、ケトン
類、エーテル類などの単独または２種以上の混合液に溶
解または分散せしめたものが用いられる。染色性を向上
させるために、カルボン酸類、アミン類、界面活性剤、
染色助剤、消泡剤等を加えることも効果的である。

【０１１１】染色液により染色された刷版は、次いで水
洗し、その後乾燥することが好ましく、これにより版面
のべとつきを抑えることができ、刷版の取扱性を向上さ
せることができる。また、このように処理された刷版を
積み重ねて保管する場合には、刷版を保護するために合
紙を挿入し挟んでおくことが好ましい。

【０１１２】以上のような現像処理と染色処理、叉はそ
れに続く水洗、乾燥処理は、自動処理機で行うことが好
ましい。このような自動処理機の好ましいものは、特開
平２−２２００６１号公報に記載されている。

【０１１３】

【発明の効果】本発明の水なし平版印刷版は、紫外線か
ら可視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度であ
る。

【０１１４】

〔実施例１〜８、比較例１〜３〕

（支持体の作成）厚さ０．２４mmの圧延されたアルミニ
ウム板をまず１０重量％水酸化ナトリウム水溶液に５０
℃で６０秒間浸漬して清浄化処理したのち、水洗し、次
いで２０重量％硝酸で中和洗浄した。水洗後、0.7重量
％硝酸水溶液中で、陽極時電圧１３ボルト、陰極時電圧
６ボルトの矩形波交番波形を用いて（特開昭５２−７７
７０２号公報実施例に記載されている電源波形）２０秒
間電気化学的に砂目立てした。次いで、２５重量％水酸
化ナトリウム水溶液に５５℃でエッチング量が2.5ｇ／
ｍ² になるように処理時間を調整し処理したのち、水洗
し、２０重量％硝酸で中和洗浄した。水洗後１８重量％
硫酸水溶液中で酸化皮膜量が1.7ｇ／ｍ² になるよう液
２５℃電流密度1.5A／ｄｍ² で陽極酸化し、次いで水洗
後２重量％珪酸ナトリウム水溶液に７０℃で１分間浸漬
し、水洗、乾燥して支持体を得た。得られた支持体の平
均粗さは0.4μm（Ｒａ表示）であった。 （プライマー層の塗布）支持体上に乾燥重量で３ｇ／ｍ
² となるように、下記のプライマー層を塗布し、１３０
℃、２分間加熱し乾燥させた。

【０１１５】 ・ポリウレタン樹脂（イソホロンジイソシアネート／ポリエステル （アジピン酸／１，４−ブタンジオール／２，２−ジメチルプロ パン−１，３−ジオール）／イソホロンジアミン） １０重量部 ・ｐ−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒド との縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 ０.１重量部 ・ＭＣＦ３２３ （大日本インキ化学工業（株）製、界面活性剤） ０.０３重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート ５０重量部 ・乳酸メチル ２０重量部 ・純水 １重量部 その後、ヌアーク社製 FT261V UDNS ULTRA-PLUS FLIPTO
P PLATE MAKER 真空露光機を用いて、２０カウント露光
した。 感光層の塗布）プライマー層上に、下記組成の光重合性
感光液を、乾燥重量３ｇ／ｍ² となるように塗布し、１
００℃、１分乾燥した。

【０１１６】 ・ポリウレタン樹脂（イソホロンジイソシアネート／ポリエステル （アジピン酸／１，４−ブタンジオール／２，２−ジメチルプロ パン−１，３−ジオール）／イソホロンジアミン） １.５重量部 ・Ｓａｒｔｏｍｅｒ ９０３５ （Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製 アクリレートモノマー） ０.３重量部 ・キシリレンジアミン１モル／グリシジルメタクリレート ４モルの付加物（多官能モノマー） １.２重量部 ・ポリエチレングリコール ４００ （和光純薬（株）製）０.０５重量部 ・表−１記載の光重合開始剤系 ・ＭＣＦ３２３ （大日本インキ化学工業（株）製、界面活性剤） ０.０３重量部 ・メチルエチルケトン １０重量部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ２５重量部（ シリコーンゴム層（インキ反撥層）の塗布） 上記光重合性感光層上に、下記のシリコーンゴム組成液
を乾燥重量２ｇ／ｍ²になるよう塗布し、１４０℃、２
分間乾燥した。

【０１１７】 ・α,ω-ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度 約７００） ９重量部 ・ (CH３)３-Si-O-(SiH(CH３)-O)８-Si(CH３)３ ０.５重量部 ・ポリジ メチルシロキサン（重合度 約８,０００） ０.５重量部 ・オレフィン -塩化白金酸 ０.２重量部 ・抑制剤（CH C C(CH３)２Si(CH３)３) ０.３重量部 ・アイソパーＧ（エ ッソ化学（株）製） １４０重量部 上記のようにして得 られたシリコーンゴム層の表面に厚さ６μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルムをラミネートし、水なし平
版印刷版を得た。

【０１１８】感光性試験は可視光により行った。可視光
としては、キセノンランプを光源とし、ケンコー光学フ
ィルターＢＰ−４９を通して得た単色光を用いた。感光
測定には富士ＰＳステップガイド（富士写真フイルム
（株）製、初段の透過光学濃度が0.05で順次0.15増えて
いき１５段まであるステップタブレット）を使用して行
った。感光膜面部の照度が0.0132mW/cm２で１５秒露光
した時のＰＳステップガイドのクリアー段数（現像後、
シリコーンゴム層が完全に残っている段数）で示した。
この数字が大きいほど高感度であることを示す。

【０１１９】その後、１００℃で１分間加熱を行い、ラ
ミネートフィルムを剥し、直ちに下記現像処理を行っ
た。 （現像処理）プレートを４０℃の温水に浸漬しつつ現像
パッドによりこすって、未露光部のシリコーンゴム層を
除去した。引き続き、下記組成の染色液にて染色し、感
度を評価した。

【０１２０】 （染色液） ・クリスタルバイオレット ０.１重量部 ・ジエチレングリコールモノエチルエーテル １５重量部 ・純水 ８５重量部

【０１２１】

【表１】

【０１２２】表−１から明らかなように、本発明のオキ
シムエーテル化合物を含有した水なし平版印刷版はオキ
シムエーテル化合物を含有しないものに比べ、高感度で
ある。〔実施例９〜１５、比較例４〜５〕 （感光層の塗布）実施例１〜８までと同様に作成したプ
ライマー層上に、下記組成の光重合性感光液を、乾燥重
量３ｇ／ｍ² となるように塗布し、１００℃、１分乾燥
した。

【０１２３】 ・ポリウレタン樹脂（イソホロンジイソシアネート／ポリエステル （アジピン酸／１，４−ブタンジオール／２，２−ジメチルプロ パン−１，３−ジオール）／イソホロンジアミン １.５重量部 ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ０.３重量部 ・キシリレンジアミン１モル／グリシジルメタクリレート ４モルの付加物（多官能モノマー） １.２重量部 ・表−２記載の光重合開始剤系 ・ＭＣＦ３２３ （大日本インキ化学工業（株）製、界面活性剤） ０.０３重量部 ・メチルエチルケトン １０重量部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ２５重量部（ シリコーンゴム層（インキ反撥層）の塗布） 上記光重合性感光層上に、下記のシリコーンゴム組成液
を乾燥重量２ｇ／ｍ²になるよう塗布し、１４０℃、２
分間乾燥した。

【０１２４】 ・両末端に水酸基を有するポリジメチルシロキサン （重合度 約７００） ９重量部 ・メチルトリアセトキシシラン ０.３重量部 ・ トリメトキシシリルプロピル−３，５−ジアリル イソシアヌレート ０.３重量部 ・ジブチル錫ジオクタノエート ０.０３重量部 ・ アイソパーＧ（エッソ化学（株）製） １６０重量部 上 記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に厚さ
６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムをラミネ
ートし、水無し平版印刷版を得た。実施例１〜８と同様
に露光を行った後、１００℃で１分間加熱を行い、ラミ
ネートフィルムを剥し、直ちに下記現像処理を行った。

【０１２５】（現像処理）プレートを３５℃のポリプロ
ピレングリコールに３０秒間浸漬した後、水洗しつつ現
像パッドによりこすって、未露光部のシリコーンゴム層
を除去した。引き続き、下記組成の染色液にて染色し、
感度を評価した。 （染色液） ・クリスタルバイオレット ０.１重量部 ・ジエチレングリコールモノエチルエーテル １５重量部 ・純水 ８５重量部

【０１２６】

【表２】

【０１２７】表−２から明らかなように、本発明のオキ
シムエーテル化合物を含有した水無し平版印刷版はオキ
シムエーテル化合物を含有しないものに比べ、高感度で
ある。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に、プライマー層、光重合性感光
   層およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなり、該
   光重合性感光層が下記成分 i）およびii）を含有するこ
   とを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版。 i）光重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物 ii）オキシムエーテル化合物